JP2004537400A - 超純粋な化学薬品を送達するための集積ブロック、化学薬品送達システムおよび方法 - Google Patents

超純粋な化学薬品を送達するための集積ブロック、化学薬品送達システムおよび方法 Download PDF

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直之 中本
幸伸 西川
デュルフィー、エルブ・イー
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Abstract

超純粋な化学薬品を使用場所または他の集積ブロックに送達するための集積ブロック、化学薬品送達システムおよび方法を提供する。さらに特に、集積ブロックは、再供給容器ブロック、加圧ガスブロック、パージガスブロック、廃棄物回収ブロック、真空ブロック、溶媒供給ブロック、脱気ブロック、制御ブロックおよびろ過ブロックを備える。種々の集積ブロックが、定められた用途のために特に適した化学薬品送達システムから選択され得る。化学薬品送達システムは典型的に、一つまたはそれ以上の集積ブロックのみならず、化学薬品容器ブロック、化学薬品送達ブロックおよび化学薬品容器ブロックと化学薬品送達ブロックとライン上にある使用場所を含む。本発明は、超純粋な化学薬品を収容する化学薬品容器を化学薬品送達ブロックに接続し、および使用場所に超純粋な化学薬品を導入することにより、化学薬品容器からの超純粋な化学薬品を使用場所に送達するための方法に関する。上記方法は、また、一つまたはそれ以上の集積ブロックを含有し得る。本発明の化学薬品送達システムおよび方法は、種々の応用に用いられ得る。特に、本発明は、電子加工、光ファイバ製造もしくは半導体製造において使用され得る。

Description

【発明の分野】
【0001】
本発明は、超純粋な化学薬品を化学薬品容器から使用場所まで送達するための集積ブロック、化学薬品送達システムおよび方法に関する。特に本発明は、超純粋な化学薬品を半導体ツールや光ファイバ製造プロセスツールのような製造プロセスツールに送達するための化学薬品送達システム及び方法に関する。
【発明の背景】
【0002】
化学前駆体は集積回路や光ファイバー製品の製造プロセスにおいて膜を成長させるために使用される。これらの化学前駆体は通常非常に高い純度レベルを有し、化学薬品送達システムにより化学薬品容器から使用場所に供給される。これらの試薬は、送達ラインとその連結ポイントが適切にパージされ、浄化されていないと、たやすく汚染される。汚染物質には周囲空気、粒状物質および水分が含まれる。汚染物質には、また、化学前駆体と周囲空気もしくは水分との反応生成物も含まれ得る。汚染物質は、送達ラインが適切に保護されていないと、周囲空気から送達ライン中に拡散し得る。どのような汚染物質でも製品の収率を著しく低下させる。例えば、粒状不純物は堆積される膜の誘電性を変えてしまい、導電性の連結部をショートさせてしまう。
【0003】
ほとんどの化学前駆体は化学気相成長法の前に、液相状態でツールに送達される。TEOS(テトラエチルオルトシリケート)またはTiCl4のようないくつかの化学薬品は、室温条件で液相状態にある。またPET(タンタルペンタエトキシド)、TDMAT(テトラキス-ジメチルアミノチタン)のようないくつかの化学薬品は、低温では固相状態にあり、高温では液相状態にある。多くの場合、BST(バリウム/ストロンチウム/チタン酸塩)のような固相状態にある化学薬品は、送達前に、適切な溶媒に溶解させている。安定した連続する化学薬品の送達のために、通常、直列か並列の二つの容器が送達に用いられている。空の容器は他方の容器がなお使われている間に充填された容器と交換でき得る。この空の容器の交換過程において、残留した化学薬品がシステムを汚染し、あるいはシステム中にまき散らないように、ライン内やジョイントに残留した化学薬品は浄化しなければならない。これらの化学薬品は、しばしば非常に有毒であるか、あるいは火災の原因や爆発の危険があるので、これらの化学薬品にさらすことは制限すべきである。残留化学薬品を浄化するもう一つの理由は、前に述べた化学前駆体の残留物が空気や水分と反応するということである。その反応生成物は、送達システム、さらには送達される化学薬品を汚染する。いくつかの化学薬品は空気や水分と反応して、除去するのが非常に困難な固体を生成する。この場合、送達ラインは閉塞され、送達の停止をもたらす。
【0004】
それゆえに、化学薬品コンテナと送達ラインのジョイントが遮断されたとき、ラインは周囲の汚染物質の侵入から保護しなくてはならない。そのような侵入物からラインを保護する方法は、故障したジョイントから不活性ガスを流出させて、開口を保護するというものである。よって、保護用不活性ガスを送達システムに設けなければならない。化学薬品容器を交換した後、化学薬品容器とのジョイントを含むラインに汚染物質が存在していないことを確実にするために、ラインを不活性ガス、真空、および場合によって液状溶媒で交互に浄化し、パージしなければならない。
【0005】
化学薬品は、通常、マニホルドを介して不活性ガスで加圧することにより送達される。パージガスと液状溶媒がシステムのパージに必要なとき、通常異なった設計のマニホルドが用いられる。送達システムの設計や操作は化学薬品の性質によって変わる。操作者は異なるデザインや操作方法を有する様々な送達システムを扱わなければならない。その結果、多数の化学前駆体の送達システムを製造に使うことは、コスト効果的でない。さらに、送達システムのマニホルドから化学薬品容器を切り離した後の開いたジョイントをあけるために流すガスのような必要な機能を、を適切に配置できないか、または完全に省いてしまうことがある。
【0006】
2つ、あるいは多数の並列に配置された容器については、2つまたはそれ以上の容器を交互に使用することは、確かに、プロセスツールの化学薬品の要求を満たす。送達マニホルドとその対応する制御は単一で変えうる容器システムよりさらに複雑になると認識されてきた。さらにパージガスと液状溶媒を供給するために多数の設備が必要となる。その結果、このような送達システムにはバルブや連結継手のようなさらに多くの部品が必要になる。加えて、空の容器を交換する際にさらに多くのジョイントを遮断することが必要となるため、送達システムの汚染の機会が増加する。
【0007】
化学薬品はろ過しなければ、幾分高濃度で粒子を含有し得る。これらの粒子は化学薬品製造過程、化学薬品充填、輸送により生じ得る。粒子は汚染物質であり、適切に化学薬品送達システムの機能を保ち、結果IPと光ファイバ製品の高い収率を維持するのために化学薬品から取り除かなければならない。化学薬品から粒子を取り除く必要がありながら、化学前駆体送達システム中にろ過設備を組み込むための適切な設計が欠如しているために、現在それを行う十分な方法がない。
【0008】
大部分の化学薬品送達システムにおいて、ヘリウムなどの比較的高価な不活性ガスが加圧ガスとして用いられる。多くの現存する化学薬品送達システムでは、マニホルドの連結部内の残留化学薬品は加圧ガスと同じガス源によりパージされている。加圧ガスは高価であるため、パージの目的でこのようなガスを使用することは操作のコストを増加させる。また、周囲空気へのヘリウムガスの漏れは他の操作手順に関する操作上の懸念を誘発することがある。例えば、化学薬品送達システム、もしくは他の類似の物質供給システムは時々ヘリウムの漏れをチェックする必要がある。周囲の化学薬品システムのパージからの予期せぬ高い濃度は、漏れチェック操作を誤らせるであろう。
【0009】
従って、当該技術分野において必要とされるものは、化学前駆体を化学薬品容器から使用場所まで送達するために設計された集積ブロックおよび化学薬品送達システムである。使用場所は好ましくは化学気相フィルム成長のためのツールである。加えて、化学薬品送達システムは簡単に他の機能ブロックを加える順応性を有する。よって、必要とされているものは、様々な化学薬品送達の要求に応じて、基本の送達システムに加えることのできる集積ブロックである。本発明はこれらの要求に答えるものである。
【概要】
【0010】
本発明は化学薬品送達のために使用される集積ブロック、化学薬品送達方法、並びに異なる化学薬品の送達およびシステム洗浄を目的とする様々な集積ブロックを備える汎用もしくは基本化学薬品送達システムに関するものである。好ましくは、本発明は、化学前駆体を化学薬品容器から化学気相フィルム成長用のツールのような使用場所まで送達し、他方で他の機能ブロックを容易に加える融通性を有した化学薬品送達システムを提供する。
【0011】
特に本発明はパージのために溶媒を供給する溶媒供給ブロック、パージのためにガスを供給するパージガスブロック、化学薬品送達システムから化学薬品廃棄物を受容する廃棄物回収ブロック、化学薬品の流れと質を確保するために化学薬品中の溶存ガスを除去する脱気ブロック、化学薬品から粒子を除去するろ過ブロック、および自動制御のために信号を受け取り、伝送するために必要なコンピュータシステムもしくはPLCからなる制御ブロックに関する。それぞれのブロックは、様々な化学薬品送達の要求に応じて基本送達システムに加えることができる。
【0012】
このようなシステムを用いて、例えば、高蒸気圧の化学薬品の化学薬品送達が基本のシステムによって低いコストで達成できる。溶媒フラッシュ洗浄のような、どのように特別な要求のある化学薬品送達も、溶媒供給ブロックを基本送達システムに加えることで行うことができる。基本送達システムへの追加としての多くのほかの集積ブロックを、廃棄物化学薬品回収、化学薬品ろ過、脱気などの他の目的によって、加えることができる。異なる集積ブロックのどのような追加も基本システムおよび他の機能ブロックの全体の設計を変更させることはない。個々のブロックは化学薬品送達の要求に対し、独立して機能することができる。
【0013】
一つの側面において、本発明は、超純粋な化学薬品を液状化学薬品容器から半導体もしくは光ファイバ製造プロセスにおける使用場所まで送達するための化学薬品送達システムに連結可能な集積ブロックに関し、この集積ブロックは、超純粋な化学薬品を収容するための化学薬品容器ブロック、容器に再供給するための再供給容器、圧力を提供するための加圧ガスブロック、化学薬品もしくは汚染物質をパージするためのパージブロック、廃棄物を回収するための廃棄物回収ブロック、真空を作り出すための真空ブロック、溶媒を供給するための溶媒供給ブロック、化学薬品を脱気するための脱気ブロック、化学薬品をろ過するためのろ過ブロックもしくはそれらの組み合わせであり、これら集積ブロックは予め組み立てられている。
【0014】
化学薬品ブロックは、(i)加圧ガス供給源に取り付けるために適合する第1の化学薬品容器連結ジョイント、(ii)密封化学薬品容器、(iii)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の化学薬品容器連結ジョイント、(iv)上記密封容器に加圧ガスを送達するための、上記第1の化学薬品容器連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された化学薬品容器導入導管、(v)超純粋な化学薬品を使用場所、もしくは集積ブロックに送達するために、上記密封化学薬品容器と上記第2の化学薬品容器連結ジョイントの間に接続された化学薬品容器送達導管、(vi)上記化学薬品容器導入導管と上記化学薬品容器送達導管の間に接続された化学薬品容器バイパス導管、(vii)任意に、上記化学薬品容器導入導管あるいは上記化学薬品送達導管とライン上に接続された化学薬品排出導管、(viii)上記密封化学薬品容器の中のレベルを監視するための化学薬品容器レベルインジケータを備える。上記化学薬品容器導入導管は、上記密封容器を取り外すために適合する第1の化学薬品容器ジョイント、および上記第1の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された第1の隔離弁を備え、および上記化学薬品容器送達導管は、第1の端が密封化学薬品容器内部に延びる化学薬品容器浸漬チューブ、上記第2の化学薬品容器連結ジョイントと上記密封化学薬品容器の間に接続された第2の化学薬品容器隔離弁、および上記第2の化学薬品容器連結ジョイントと密封化学薬品容器の間に接続された上記密封化学薬品容器を取り外すために適合する第2の化学薬品容器ジョイントを備える。上記化学薬品排出導管は、第5の化学薬品容器連結ジョイント、および上記第5の化学薬品容器連結ジョイントと上記化学薬品容器導入導管あるいは上記化学薬品容器送達導管とライン上に接続された化学薬品容器制御弁を備える。
【0015】
再供給容器ブロックは、(i)集積ブロックに取り付けるために適合する第1の再供給容器連結ジョイント、(ii)密封再供給容器、(iii)超純粋な化学薬品を上記密封再供給容器に送達するための、上記第1の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された再供給容器化学薬品導入導管、(iv)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の再供給容器連結ジョイント、(v)上記密封再供給容器に加圧ガスを送達するための、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続されたガス導管 、(vi)集積ブロックに取り付けるために適合する第3の再供給容器連結ジョイント、(vii)化学薬品を使用場所もしくは集積ブロックに送達するための、上記第3の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された再供給容器化学薬品送達導管、および(viii)上記密封再供給容器内のレベルを監視するための再供給容器レベルモニタを備える。上記再供給容器化学薬品導入導管は、上記第1の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器制御弁、上記第1の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器ジョイント、および上記第1の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器隔離弁を備える。上記ガス導管は、集積ブロックに取り付けるために適合する、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第4の再供給容器連結ジョイント、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続されたニードル弁、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第2の制御弁、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第2の再供給容器ジョイント、および上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第2の再供給容器隔離弁を備える。上記再供給容器化学薬品送達導管は、上記第3の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された第3の再供給容器制御弁、上記密封容器を取り外すために適合する、上記第3の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された第3の再供給容器ジョイント、上記第3の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第3の再供給容器隔離弁、上記第3の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第4の再供給容器隔離弁、上記第3の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続されたポート、および第1の端が上記密封再供給容器内に延びており上記再供給容器化学薬品送達導管のライン上にある浸漬チューブを備える。
【0016】
加圧ガスブロックは、(i)不活性ガスを受容するために適合する第1の加圧ガスブロック連結ジョイント、(ii)少なくとも一つの加圧ガス導管、(iii)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロック隔離弁、(iv)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックレギュレータ、(v)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックフィルタ、(vi)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された第1の加圧ガスブロック圧力センサ、および(vii)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックチェック弁を備える。上記少なくとも一つの加圧ガスブロックガス導管は、集積ブロックに取り付けるために適合する第2の加圧ガスブロック連結ジョイント、上記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記チェック弁の間に任意に接続された加圧ガスブロックニードル弁、上記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックチェック弁の間に接続された加圧ガスブロック制御弁、および上記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックチェック弁の間に接続された第2の加圧ガスブロック圧力センサを備える。
【0017】
パージガスブロックは、(i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1のパージガス連結ジョイント、(ii)少なくとも一つのパージガス導管、(iii)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガス隔離弁、(iv)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続された圧力レギュレータ、(v)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガスフィルタ、(vi)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガス制御弁、(vii)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガスチェック弁、(viii)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガス圧力センサ、および(ix)上記パージガス制御弁の周りに接続されたパージガス流量絞りオリフィスを備える。上記パージガス導管は、第2のパージガス集積ブロックに接続させるために適合する少なくとも一つの第2のパージガス連結ジョイント、および上記第1のパージガス連結ジョイントと上記第2のパージガス連結ジョイントの間に接続された少なくとも一つのパージガス制御弁を備える。
【0018】
廃棄物回収ブロックは、(i)少なくとも一つの集積ブロックから廃棄物を受容するために適合する第1の廃棄物回収連結ジョイント、(ii)密封廃棄物回収容器、(iii)上記密封廃棄物回収容器と上記第1の廃棄物回収連結ジョイントの間に接続された廃棄物回収導入導管、(iv)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の廃棄物回収連結ジョイント、(v)上記密封廃棄物回収容器と上記第2の廃棄物回収連結ジョイントの間に接続された廃棄物排出導管、(vi)上記廃棄物導入導管と上記廃棄物排出導管の間に接続された第1の廃棄物回収制御弁、および(vii)上記密封廃棄物回収容器内のレベルを監視するための廃棄物回収レベルインジケータを備える。上記廃棄物導入導管は、上記第1の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収制御弁、上記第1の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第1の廃棄物回収容器ジョイント、および上記第1の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第1の廃棄物回収隔離弁を備える。上記廃棄物排出導管は、上記第2の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収隔離弁、上記第2の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収容器ジョイント、および上記第2の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第3の廃棄物回収制御弁を備える。
【0019】
真空ブロックは、(i)真空発生器、(ii)上記真空発生器とライン上にある第1の真空ブロック制御弁、および(iii)上記真空発生器とライン上にある、真空を提供するために適合する少なくとも一つの真空導管を備える。上記真空導管は、少なくとも一つの集積ブロックに取り付けるために適合する真空ブロック連結ジョイント、および上記連結ジョイントと上記真空発生器の間に接続された第2の真空ブロック制御弁を備える。
【0020】
溶媒供給ブロックは、(i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1の溶媒供給連結ジョイント、(ii)密封溶液供給容器、(iii)上記第1の溶媒供給連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された加圧溶媒供給ガス導入導管、(iv)第2の集積ブロックに接続させるために適合する第2の溶媒供給連結ジョイント、(v)上記第2の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された溶媒供給送達導出導管、(vi)上記溶媒供給加圧ガス導入導管と上記溶媒供給送達導出導管の間に接続された溶媒供給制御弁、および(vii)上記密封容器内のレベルを監視するための溶媒供給レベルインジケータを備える。上記加圧ガス導入導管は、上記第1の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された第1の溶媒供給容器ジョイント、上記第1の溶媒供給連結ジョイントと上記密封溶媒供給容器の間に接続された第2の制御溶媒供給弁、および上記第1の溶媒供給連結ジョイントと上記密封溶媒供給容器の間に接続された第1の溶媒供給隔離弁を備える。上記溶媒供給送達導出導管は、一端が上記密封容器内部に延びる溶媒供給浸漬チューブ、上記密封溶媒供給容器と上記第2溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第2の溶媒供給隔離弁、上記密封溶媒供給容器と上記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第2の溶媒供給容器ジョイント、上記密封溶媒供給容器と上記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第3の溶媒供給制御弁、および上記密封溶媒供給容器と上記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第4の溶媒供給制御弁を備える。
【0021】
脱気ブロックは、(i)集積ブロックに取り付けるために適合する第1の脱気ブロック連結ジョイント、(ii)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の脱気ブロック連結ジョイント、(iii)第1の脱気ブロック隔離弁を備え、上記第1の脱気ブロック連結ジョイントと上記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック化学薬品導入導管、(iv)上記第1の脱気ブロック連結ジョイントと上記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された膜カートリッジ、(v)第2の脱気ブロック隔離弁を備え、上記第1の脱気ブロック連結ジョイントと上記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック化学薬品導出導管、および(vi)上記膜カートリッジと上記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック制御弁を備える。
【0022】
ろ過ブロックは、(i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1のろ過ブロック連結ジョイント、(ii)第2の集積ブロックに接続させるために適合する第2のろ過ブロック連結ジョイント、および(iii)上記第1のろ過ブロック連結ジョイントと上記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された、少なくとも一つのろ過導管を備える。上記ろ過導管は、上記第1のろ過ブロック連結ジョイントと上記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された第1のろ過ブロック隔離弁、上記第1のろ過ブロック連結ジョイントと上記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続されたフィルタ、および上記第1のろ過ブロック連結ジョイントと上記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された第2のろ過ブロック隔離弁を備える。
【0023】
本発明の好ましい側面において、上記使用場所は気化器もしくは化学気相成長用のツールである。
【0024】
本発明の好ましい他の側面において、上記集積ブロックは、超純粋な化学薬品を使用場所もしくは第2の集積ブロックに送達するための化学薬品容器ブロック、化学薬品容器ブロックから化学薬品を受容し、化学薬品を使用場所もしくは第2の集積ブロックへ送達するための再供給容器ブロック、加圧ガスブロック、パージガスブロック、廃棄物回収ブロック、一つもしくはそれ以上の集積ブロックに真空を提供するための真空ブロック、溶媒供給ブロック、超純粋な化学薬品中の溶存ガスを除去するための脱気ブロック、または超純粋な化学薬品から粒子を除去するためのろ過ブロックである。
【0025】
本発明の好ましい他の側面において、上記集積ブロックは、加圧ガスブロックであり、集積ブロックに取り付けるため適合する第3の加圧ガス連結ジョイントおよび、上記第2の連結ジョイントと上記チェック弁の間に接続された第2の加圧ガス制御弁を備えた追加のガス導管をさらに備える。
【0026】
本発明の好ましい他の側面において、上記集積ブロックは真空ブロックであり、上記真空発生器は、ベンチュリもしくは真空ポンプである。
【0027】
さらに他の好ましい側面において、本発明は、超純粋な化学薬品を化学薬品容器から使用場所まで送達するための化学薬品送達システムに関し、(i)前述した化学薬品容器、(ii)上記化学薬品容器ブロックとライン上にある化学薬品送達ブロック、(iii)上記化学薬品容器ブロックおよび上記化学薬品送達ブロックとライン上にある使用場所を備える。上記化学薬品送達ブロックは、化学薬品および、または溶媒を送達するあらゆるブロックであり得る。好ましくは、上記化学薬品送達ブロックは、前述した加圧ガスブロックである。
【0028】
好ましい側面において、上記化学薬品送達システムは少なくとも一つの集積ブロックをさらに備える。上記少なくとも一つの集積ブロックは、再供給容器ブロック、加圧ガスブロック、パージガスブロック、廃棄物回収ブロック、真空ブロック、溶媒供給ブロック、脱気ブロックまたはろ過ブロックから選ばれ得る。
【0029】
好ましい側面において、上記化学薬品送達システムの使用場所は、気化器、製造プロセスツール、電子加工ツール、光ファイバ製造ツールもしくは半導体プロセスツールである。
【0030】
好ましい側面において、本発明は、超純粋な化学薬品を収容するための予め組み立てられた化学薬品容器ブロック、容器に再供給するための予め組み立てられた再供給容器ブロック、圧力を供給するための予め組み立てられた加圧ガスブロック、化学薬品をパージするための予め組み立てられたパージガスブロック、廃棄物を回収するための予め組み立てられた廃棄物回収ブロック、真空を作り出すための予め組み立てられた真空ブロック、溶媒を供給するための予め組み立てられた溶媒供給ブロック、化学薬品を脱気するための予め組み立てられた脱気ブロックおよび化学薬品をろ過するための予め組み立てられたろ過ブロックを備える、超純粋な化学薬品を溶液化学薬品容器から半導体もしくは光ファイバ製造プロセスにおける使用場所に送達するための化学薬品送達システムに関する。
【0031】
予め組み立てられた化学薬品容器ブロックは、(i)加圧ガス供給源に取り付けるために適合する第1の化学薬品容器連結ジョイント、(ii)密封化学薬品容器、(iii)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の化学薬品容器連結ジョイント、(iv)上記密封化学薬品容器に加圧ガスを送達するための、上記第1の化学薬品容器連結ジョイントと上記密封化学薬品容器の間に接続された化学薬品容器導入導管、(v)超純粋な化学薬品を使用場所あるいは集積ブロックに送達するための、上記密封化学薬品容器と上記第2の化学薬品容器連結ジョイント間に接続された化学薬品容器送達導管、(vi)上記化学薬品容器導入導管と上記化学薬品容器送達導管の間に接続された化学薬品容器バイパス導管、(vii)任意に、上記化学薬品容器導入導管もしくは上記化学薬品容器送達導管とライン上で接続された化学薬品容器排出導管、および(viii)上記密封化学薬品容器内のレベルを監視するための化学薬品容器レベルインジケータを備える。上記化学薬品容器導入導管は、上記密封容器を取り外すために適合する第1の化学薬品容器ジョイント、および上記第1の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された第1の化学薬品容器隔離弁を備える。上記化学薬品送達導管は、上記密封化学薬品容器内に第1の端が延びる化学薬品容器浸漬チューブ、上記第2の化学薬品容器連結ジョイントと上記密封化学薬品容器の間に接続された第2の化学薬品容器隔離弁、および上記密封化学薬品容器を取り外すために適合する、上記第2の化学薬品容器連結ジョイントと上記密封化学薬品容器の間に接続された第2の化学薬品容器ジョイントを備える。上記化学薬品容器排出導管は、第5の化学薬品容器連結ジョイント、および上記第5の化学薬品容器連結ジョイントと上記化学薬品容器導入導管または上記化学薬品容器送達導管とライン上に接続された化学薬品容器制御弁を備える。
【0032】
予め組み立てられた再供給ブロックは、(i)集積ブロックに取り付けるために適合する第1の再供給容器連結ジョイント、(ii)密封再供給容器、(iii)超純粋な化学薬品を上記密封再供給容器に送達するための、上記第1の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された再供給容器化学薬品導入導管、(iv)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の再供給容器連結ジョイント、(v)加圧ガスを上記密封再供給容器に送達するための、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続されたガス導管、(vi)集積ブロックに取り付けるために適合する第3の再供給容器連結ジョイント、(vii)化学薬品を使用場所もしくは集積ブロックに送達するための、上記第3の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された再供給容器化学薬品送達導管、および(viii)上記密封再供給容器内のレベルを監視するための再供給容器レベルモニタを備える。上記の予め組み立てられた再供給容器化学薬品導入導管は、上記第1の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器制御弁、上記第1の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器ジョイント、および上記第1の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器隔離弁を備える。上記の予め組み立てられたガス導管は、集積ブロックに取り付けるために適合し、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第4の再供給容器連結ジョイント、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続されたニードル弁、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第2の制御弁、上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第2の再供給容器ジョイント、および上記第2の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第2の再供給容器隔離弁を備える。上記再供給容器化学薬品送達導管は、上記第3の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された第3の再供給容器制御弁、上記密封容器を取り外すために適合し、上記第3の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された第3の再供給容器ジョイント、上記第3の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第3の再供給容器隔離弁、上記第3の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続された第4の再供給容器隔離弁、上記第3の再供給容器連結ジョイントと上記密封再供給容器の間に接続されたポート、および第1の端が上記密封再供給容器内部に延びる、上記再供給容器化学薬品送達導管とライン上にある浸漬チューブを備える。
【0033】
予め組み立てられた加圧ガスブロックは、(i)不活性ガスを受容するために適合する第1の加圧ガスブロック連結ジョイント、(ii)少なくとも一つの加圧ガスブロックガス導管、(iii)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロック隔離弁、(iv)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックレギュレータ、(v)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックフィルタ、(vi)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された第1の加圧ガスブロック圧力センサ、および(vii)上記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックチェック弁を備える。上記少なくとも一つの加圧ガスブロックガス導管は、集積ブロックに取り付けるために適合する第2の加圧ガスブロック連結ジョイント、上記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記チェック弁の間に任意に接続された加圧ガスブロックニードル弁、上記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックチェック弁の間に接続された加圧ガスブロック制御弁、および上記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと上記加圧ガスブロックチェック弁の間に接続された第2の加圧ガスブロック圧力センサを備える。
【0034】
予め組み立てられたパージガスブロックは、(i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1のパージガス連結ジョイント、(ii)少なくとも一つのパージガス導管、(iii)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガス隔離弁、(iv)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続された圧力レギュレータ、(v)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガスフィルタ、(vi)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガス制御弁、(vii)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガスチェック弁、(viii)上記第1のパージガス連結ジョイントと上記パージガス導管の間に接続されたパージガス圧力センサ、および(ix)上記パージガス制御弁の周りに接続されたパージガス流量絞りオリフィスを備える。上記パージガス導管は、第2のパージガス集積ブロックに接続させるために適合する少なくとも一つの第2のパージガス連結ジョイント、および上記第1のパージガス連結ジョイントと上記第2のパージガス連結ジョイントの間に接続された少なくとも一つのパージガス制御弁を備える。
【0035】
予め組み立てられた廃棄物回収ブロックは、(i)少なくとも一つの集積ブロックから廃棄物を受容するために適合する第1の廃棄物回収連結ジョイント、(ii)密封廃棄物回収容器、(iii)上記密封廃棄物回収容器と上記第1の廃棄物回収連結ジョイントの間に接続された廃棄物回収導入導管、(iv)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の廃棄物回収連結ジョイント、(v)上記密封廃棄物回収容器と上記第2の廃棄物回収連結ジョイントの間に接続された廃棄物排出導管、(vi)上記廃棄物導入導管と上記廃棄物排出導管の間に接続された第1の廃棄物回収制御弁、および(vii)上記密封廃棄物回収容器内のレベルを監視するための廃棄物回収レベルインジケータを備える。上記廃棄物導入導管は、上記第1の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収制御弁、上記第1の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第1の廃棄物回収容器ジョイント、および上記第1の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第1の廃棄物回収隔離弁を備える。上記廃棄物排出導管は、上記第2の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収隔離弁、上記第2の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収容器ジョイント、および上記第2の廃棄物回収連結ジョイントと上記密封廃棄物回収容器の間に接続された第3の廃棄物回収制御弁を備える。
【0036】
予め組み立てられた真空ブロックは、(i)真空発生器、(ii)上記真空発生器とライン上にある第1の真空ブロック制御弁、および(iii)真空を提供するために適合し、真空発生器と同じライン上にある少なくとも一つの真空導管を備える。上記真空導管は、少なくとも一つの集積ブロックに取り付けるために適合する真空ブロック連結ジョイント、および上記連結ジョイントと上記真空発生器の間に接続された第2の真空ブロック制御弁を備える。
【0037】
予め組み立てられた溶媒供給ブロックは、(i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1の溶媒供給連結ジョイント、(ii)密封溶媒供給容器、(iii)上記第1の溶媒供給連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された加圧溶媒供給ガス導入導管、(iv)第2の集積ブロックに接続させるために適合する第2の溶媒供給連結ジョイント、(v)上記第2の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された溶媒供給送達導出導管、(vi)上記溶媒供給加圧ガス導入導管と上記溶媒供給送達導出導管の間に接続された溶媒供給制御弁、および(vii)密封容器内のレベルを監視するための溶媒供給レベルインジケータを備える。上記加圧ガス導入導管は、上記第1の連結ジョイントと上記密封容器の間に接続された第1の溶媒供給容器ジョイント、上記第1の溶媒供給連結ジョイントと上記密封溶媒供給容器の間に接続された第2の制御溶媒供給弁、および上記第1の溶媒供給連結ジョイントと上記密封溶媒供給容器の間に接続された第1の溶媒供給隔離弁を備える。上記溶媒供給送達導出導管は、上記密封容器内部に一端が延びる溶媒供給浸漬チューブ、上記密封溶媒供給容器と上記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第2の溶媒供給隔離弁、上記密封溶媒供給容器と上記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第2の溶媒供給容器ジョイント、上記密封溶媒供給容器と上記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第3の溶媒供給制御弁、および上記密封溶媒供給容器と上記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第4の溶媒供給制御弁を備える。
【0038】
予め組み立てられた脱気ブロックは、(i)集積ブロックに取り付けるために適合する第1の脱気ブロック連結ジョイント、(ii)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の脱気ブロック連結ジョイント、(iii)第1の脱気ブロック隔離弁を備え、上記第1の脱気ブロック連結ジョイントと上記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック化学薬品導入導管、(iv)上記第1の脱気ブロック連結ジョイントと上記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された膜カートリッジ、(v)第2の脱気ブロック隔離弁を備え、上記第1の脱気ブロック連結ジョイントと上記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック化学薬品導出導管、および(vi)上記膜カートリッジと上記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック制御弁を備える。
【0039】
予め組み立てられたろ過ブロックは、(i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1のろ過ブロック連結ジョイント、(ii)第2の集積ブロックに接続させるために適合する第2のろ過ブロック連結ジョイント、および(iii)上記第1のろ過ブロック連結ジョイントと上記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された、少なくとも一つのろ過導管を備える。上記ろ過導管は、上記第1のろ過ブロック連結ジョイントと上記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された第1のろ過ブロック隔離弁、上記第1のろ過ブロック連結ジョイントと上記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続されたフィルタ、および上記第1のろ過ブロック連結ジョイントと上記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された第2のろ過ブロック隔離弁を備える。
【0040】
好ましい側面において、化学薬品送達システムの使用場所は、気化器、製造プロセスツール、電子加工ツール、光ファイバ製造ツールもしくは半導体プロセスツールである。
【0041】
さらに他の側面において、本発明は、超純粋な化学薬品を使用場所に送達するための方法に関し、この方法は、(i)超純粋な化学薬品を収容する化学薬品容器ブロックを、化学薬品送達ブロックに接続させ、および(ii)超純粋な化学薬品を使用場所へ導入することを包含する。上記方法は、少なくとも一つの集積ブロックを上記化学薬品送達システムに接続することをさらに含み得る。上記集積ブロックは、再供給容器ブロック、加圧ガスブロック、パージガスブロック、廃棄物回収ブロック、真空ブロック、溶媒供給ブロック、脱気ブロック、制御ブロックもしくはろ過ブロックから選択され得る。好ましくは、上記集積ブロックは、溶媒供給ブロックもしくは再供給容器ブロックであり、超純粋な化学薬品を使用場所に導入する前に集積ブロックへ溶媒を送達する工程をさらに含み得る。溶媒は、好ましくは、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、イソプロパノール/テトラヒドロフラン混合物、テトラグリム、キシレン、トルエン、ブチルアセテート、ベンゾニトリル、エタノール、ヘキサン、オクタンもしくはこれらの混合物からなる群の中から選択され得る。
【0042】
好ましい側面において、これらの方法の使用場所は、気化器、製造プロセスツール、電子加工ツール、光ファイバ製造ツールもしくは半導体プロセスツールである。
【0043】
本発明の集積ブロック、システムおよび方法により使用する好ましい超純粋な化学薬品は、テトラメチルシラン、ジメチルジメトキシシラン、ビス(ヘキサフルオロアセチルアセトネート)銅(II)、ヘキサフルオロアセチルアセトネートテトラメチルビニルシラン銅(II)、トリイソブチルアルミニウム、トリメチルアミンアラン、トリエチルアミンアラン、ジメチルエチルアミンアラン、ビス(トリメチルアミン)アラン、ジメチルアルミニウムヒドリド、四塩化チタン、テトラキスジメチルアミノチタン(TDMAT)、テトラ-キスジエチルアミノタンタル(Ta(Net)4)、ペンタ-キスジエチルアミノタンタル(Ta(Net))、五塩化タンタル(TaCl5)、タングステンヘキソカルボニル(W(CO)6)、ビスジピバロイルメタナートバリウム(Ba(DPM)2)、ビスジピバロイルメタナートストロンチウム(Sr(DPM)2)、ビス-イソプロポキシビスジピバロイルメタナートチタンTi(l-OC3H7)2DPM2、トリメチルアルミニウム(TMA)、テトラキスジメチルアミノジルコニウム(Zr(NME))、テトラキスジエチルアミノジルコニウム(Zr(Net)4)、ジルコニウムt-ブトキシド(Zr(t-OBu)4)、テトラキスジエチルアミノハフニウム(Hf(Net))、テトラキスジメチルアミノハフニウム(Hf(NME)4)、ハフニウムt-ブトキシド(Hf(t-Obu)4)、トリヘキサフルオロアセチルアセテート白金(Pt(Hfa)3)、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウム(EtCp2Ru)、アセチルアセテートイリジウム(Ir(Acac))、ジピバロイルメタン化合物、アルコキシド化合物、ビスジピバロイルメタナート鉛(Pb(DPM)2)、ビスジピバロイルメタナートジルコニウム(Zr(DPM)4)、トリメチルビスマス(BiMe3)、テトラエチルオルトシリケート(TEOS)、タンタルペンタエトキシド(Ta(OEt)5)、テトラメチルシクロテトラシロキサン(TMCTS)、ビス(第三ブチルアミノ)シラン(BTBAS)、リン酸トリメチル(TMPO)、ホウ酸トリメチル(TMB)、またはホスホン酸トリメチル(TMPI)を含むがこれらに限定されるものではない。
【0044】
本発明の他の目的および側面は、ここに添付した明細書、図面および特許請求の範囲の説明により、当業者にとり明確になるであろう。
【0045】
本発明の目的および利点は、添付した図面に関連した次に述べるその好ましい態様の詳細な説明から明確になるであろう。
【詳細な説明】
【0046】
本発明は、超純粋な化学薬品を送達するための化学薬品送達システムおよび方法に関する。特に本発明は、超純粋な化学薬品を一つもしくはそれ以上の化学薬品容器から、半導体や光ファイバ製造プロセスツールのような使用場所まで送達する化学薬品送達システムおよび方法に関する。
【0047】
「超純粋な化学薬品」もしくは「化学前駆体」は化学気相成長法のような様々な用途に使用される。様々な化学前駆体は集積回路の化学気相成長および光ファイバの製造のような他の製造プロセスにおいて使用されている。化学前駆体はそれらが金属配線、バリヤー金属膜、ゲート膜、酸化膜および層間絶縁膜用のものを含み、例えばトリメチルシラン、テトラメチルシラン、もしくはジメチルジメトキシシラン、ビス(ヘキサフルオロアセチルアセトネート)銅(II)、ヘキサフルオロアセチルアセトネートテトラメチルビニルシラン銅(II)、トリイソブチルアルミニウム、トリメチルアミンアラン、トリエチルアミンアラン、ジメチルエチルアミンアラン、ビス(トリメチルアミン)アランもしくはジメチルアルミニウムヒドリド、四塩化チタン、テトラキスジメチルアミノチタン(TDMAT)、テトラ-もしくはペンタ-キスジエチルアミノタンタル(Ta(Net)4/Ta(Net)5)、五塩化タンタル(TaCl5)、もしくはタングステンヘキソカルボニル(W(CO)6)、ビスジピバロイルメタナートバリウム(Ba(DPM)2)、ビスジピバロイルメタナートストロンチウム(Sr(DPM))、ビス-イソプロポキシビスジピバロイルメタナートチタンTi(l-OC3H7)2DPM2、トリメチルアルミニウム(TMA)、テトラキスジメチルアミノジルコニウム(Zr(NME)4)、テトラキスジエチルアミノジルコニウム(Zr(Net)4)、ジルコニウムt-ブトキシド(Zr(t-Obu)4)、テトラキスジエチルアミノハフニウム(Hf(Net)4)、テトラキスジメチルアミノハフニウム(Hf(NME)4)、ハフニウムt-ブトキシド(Hf(t-Obu)4)、トリヘキサフルオロアセチルアセテート白金(Pt(Hfa)3)、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウム(EtCp2Ru)、アセチルアセテートイリジウム(Ir(Acac))、他のジピバロイルメタンおよびアルコキシド化合物、ビスジピバロイルメタナート鉛(Pb(DPM)2)、ビスジピバロイルメタナートジルコニウム(Zr(DPM)4)、トリメチルビスマス(BiMe3)、またはテトラエチルオルトシリケート(TEOS)、タンタルペンタエトキシド(Ta(OEt)5)、テトラメチルシクロテトラシロキサン(TMCTS)、ビス(第三ブチルアミノ)シラン(BTBAS)、リン酸トリメチル(TMPO)、ホウ酸トリメチル(TMB)、もしくはホスホン酸トリメチル(TMPI)を含む。
【0048】
基板上に薄膜を成長させるために使用される化学前駆体は、室温、常圧下で通常液相状態もしくは固相状態のいずれかにあり、いくつかは室温条件下では気相にあるが、高圧もしくは低温では液相状態に変化する。
【0049】
液相状態の化学前駆体は、通常CVD成長のための化学薬品蒸気を生じるために直接的に利用される。固相状態にある前駆体は通常、まず液体を形成するために溶媒中に溶解したのちに、化学薬品蒸気を生じさせるために使用される。このような溶液を調製するために用いる溶媒は、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、イソプロパノール/テトラヒドロフラン混合物、テトラグリム、キシレン、トルエン、ブチルアセテート、ベンゾニトリル等を含む。個々の前駆体のための個々の溶媒は、当業者によって、前駆体の物理的および化学的性質に基づいて選ぶことができる。同様に個々のケースに基づいて、通常液相状態にある前駆体はフィルム成長に使用する前に溶液を作るために溶媒と混合することができる。化学前駆体の溶液は、供給源容器ブロックから使用者のツールに直接的に、もしくは一連の化学送達ブロックを介して供給される。
【0050】
各集積ブロックは、独立しているものであって、ブロックの様々な組み合わせの送達システムにおいて独立に機能する。本発明の一つの態様は、化学送達の異なる要求に応じて種々の集積ブロックを用いる化学送達システムおよび方法に関する。化学薬品送達システムは、図1〜図7に示すように様々な送達要求に基づいて種々の化学薬品送達ブロックを用いて容易に構築される。
【0051】
例えば、基本送達システムは加圧ガスブロックと化学薬品容器ブロックの組み合わせであり得る。加圧ガスブロック、化学薬品容器ブロックおよび溶媒供給ブロックの組み合わせは、溶媒洗浄とパージを必要とする化学薬品のための、別の好ましい送達システムであり得る。ろ過ブロックおよび脱気ブロックのいずれかを送達システムのために、加圧ブロックおよび化学薬品容器ブロックと組み合せることができる。
【0052】
一つの側面において、本発明は、超純粋な化学薬品を使用の場所もしくは集積ブロックに送達するための化学薬品容器ブロックに関する。化学薬品容器ブロックの好ましい態様が図8に示されている。容器75は、好ましくは円筒形形状で、その頂部と底部で閉じている。弁79、チューブ81および連結ジョイント83を有するガス導入導管77が、容器75の中に加圧ガスを導入するために、容器に取り付けられている。弁79は、好ましくはスウェージロック(Swagelok)(シカゴ、イリノイ)製のもののような一つの孔が制御用である三孔弁(three-port valve)である。制御孔は、容器に流入し、流出する流れを制御するために容器側にあることが好ましい。化学薬品導出導管93は、容器75に取り付けられており、底の近くまで容器の内部に延びている。この導管93は、弁91、チューブ89および他の化学薬品送達ブロックとの連結のための連結ジョイント87を有する。弁91は三孔弁79と同じであるか、もしくは標準の二方向が制御用である三方弁(three-way valve)であり得る。制御弁97を有するバイパス導管85は、弁79の一つの孔と弁91の一つの孔に接続することにより、ガス導入導管77および化学薬品導出導管93と接続する。もし三方弁が弁91として用いられたときは、その一つの制御路は容器内部に浸漬しているチューブの一部と接続するように容器側にあるべきであり、もう一方の制御路はバイパス導管85に接続されるようにバイパス導管側にあるべきである。この場合は、制御弁97は三方弁91の制御路により置き換えられる。連結ジョイント83および87は、雄または雌VCR継手であるか、もしくは他のブロックに溶接するためのチューブの先端であり得る。制御弁107および連結ジョイント109を有する排出導管105が、容器75の圧力を解放し、およびシステムのパージと浄化から生じる化学薬品廃棄物を排出するために、三孔弁79の他の孔に接続されたチューブの一部に接続されている。導管105は同様の機能のために、チューブ89を介して化学薬品導出導管93に接続させることができる。レベルモニタ95が容器の内部の化学薬品量を監視するために使用される。レベルモニタは通常、取り外し可能に容器75の底に取り付けられている重量計であり得る。超音波レベルセンサおよび光レベルセンサのような他のタイプのレベルセンサも同様に用いられ得る。光レベルセンサを用いた場合、センサは、光を通す窓を有する容器側に設置すべきである。容器75は1リットルから200リットル以上の容積を有し得、ステンレス鋼、テフロン、ポリエチレン、ガラス及び石英などを含む、取り扱う化学薬品に適合した材料により作ることができる。必要な場合、容器はジョイント99および101においてマニホルドの他の部分から分離される。容器に一番近いチューブを有するバルブ79、91、および97は常に容器に取り付けるべきである。
【0053】
別の側面において、本発明は、化学薬品容器ブロックから化学薬品を受容し、化学薬品を使用場所もしくは集積ブロックへ送達するための再供給容器ブロックに関する。再供給容器ブロックは超純粋な化学薬品の連続した送達をもたらすために使用することができる。図9は再供給容器ブロック111の好ましい様態である。円筒形の容器113は、化学薬品容器ブロック1から化学薬品を受容し、使用者のツールまで送達するために二つの端部が封止されている。隔離弁117、ジョイント119、チューブ121、制御弁123および連結ジョイント125を有する化学薬品導入導管115が、化学薬品容器ブロック1からの化学薬品を容器113に再充填するために、容器113に取り付けられている。隔離弁153、ジョイント151、チューブ129および連結ジョイント127を有するガス導管155が、加圧ガスのために容器に取り付けられている。制御弁131、ニードル弁133および連結ジョイント135を有する導管137が、容器113から加圧ガスを排出させるためにチューブ129に接続されている。ニードル弁133は排出流を調節するために使用される。連結ジョイント135は、設備排出ラインもしくは他の化学薬品送達ブロックに接続させることができる。容器の底近くまで延びている、容器113内の浸漬チューブを有する導管157が、化学薬品を導出するために容器に取り付けられている。隔離弁149が、隔離の目的のために導管157に組み込まれており、制御弁161が、化学薬品の流れを制御するために組み込まれている。任意に、隔離弁143およびキャップされた試料採取ポートを有する短い導管145が、チューブ163を介して導管157に接続されている。必要ならば、ポート141から試料を取り出すために隔離弁143を開くことができる。レベルモニタ159が容器113に取り付けられている。このレベルモニタは図8のモニタ95と同様のものであり得る。容器は必要なときに、ジョイント119、151および147において分離することにより、取り外すことができる。しかしながら、通常の操作では、そのマニホルドを有する再供給容器113は、修理の必要がない限り、化学薬品送達システムの中に固定されている。
【0054】
別の側面において、本発明は、加圧ガスを一つもしくはそれ以上の集積ブロックに供給するために使用される加圧ガスブロックに関する。図10は加圧ガスブロック165の好ましい態様である。加圧ガスは、10psiから150psi、通常約100psiの圧力の不活性ガスであり得る。不活性ガスは、ヘリウム、窒素およびアルゴンを含み得る。多くの場合、幅広い範囲の化学薬品に不溶であり、CVD成長プロセスでの汚染物質ではないことから、ヘリウムが使用される。不活性ガス供給源は、バルク屋内ガス供給システムもしくは専用のガスキャビネットであり得る。ガス導管191が、連結ジョイント193によりガス供給源に接続されている。この連結ジョイントは、通常のVCR継手等、もしくはガス供給ラインに溶接されるチューブ解放端であり得る。導管の隔離弁189が、ガス供給源から導管を隔離するために使用される。レギュレータ187が、好ましい圧力に不活性ガスの圧力を調節するために使用される。フィルタ185は、不活性ガスの中の粒子を除去するために、導管中にあるのが好ましい。フィルタは0.05μmほどの小ささの孔をもつ金属および膜状のタイプであり、好ましくは、孔のサイズが0.1μmの焼結ステンレス鋼金属フィルタである。圧力センサ183は、レギュレータの後の不活性ガス圧を監視する。圧力センサは、ミリポア社(Millipore Corporation)(ベンフォード、MA)製のSPTもしくはHPTシリーズ圧力トランスジューサ、あるいはIPSシリーズ圧力スイッチであり得る。チェック弁179が、ガスライン中へのあらゆる流体の逆流を防ぐために使用される。圧力解放弁197が、過度の圧力から導管を保護するために、導管191に取り付けられている。もし、圧力レギュレータの故障、もしくはレギュレータが必要以上の高い圧力設定に調節ミスをされた場合、圧力解放弁197が、高圧を解放するために自動的に開く。圧力解放弁197は、一端にキャップ199を有する三孔手動弁のような隔離弁と置き換えることができる。この形態は、必要なときに高圧のヘリウムガスが利用できるために、操作者にとって好都合である。化学薬品容器ブロックへ高圧不活性ガスを流すための、チューブ175、制御弁173、圧力トランスジューサ171および連結ジョイント167を有する少なくとも一つの導管177がある。導管177と同じ構成の、破線で囲まれたさらなる導管201および203が、図9の再供給容器ブロック111および図14の溶媒供給ブロック339に高圧の不活性ガスを供給するために、導管177と並列にあり得る。制御弁209を有するもう一つの導管125が、導管191に、導管177と並列に共に接続され得る。この導管125からの高圧不活性ガスは、パージのために、図8の化学薬品導出導管89に直接導入できる。ニードル弁205、207および213が、導管201、203、および125のそれぞれで使用される。ニードル弁205、207および213は、それぞれのブロックで使用する不活性ガス圧を調節するために使用される。連結ジョイント167、221、215および211は、VCR継手および他のジョイントに溶接されるチューブ開口のような継手であり得る。
【0055】
別の側面において、本発明は、化学薬品ラインをパージし、周囲の汚染物質からいずれものライン開口部を保護するために、化学薬品送達システム中にガスを供給するため使用され得るパージガスブロックに関する。パージガスブロック223の好ましい態様が図11に示されている。パージガス供給源は、加圧ガスのための不活性ガスと同じであり得る。さらに好ましいパージガスは、窒素のような低コストの不活性ガスである。導管237は、連結ジョイント225、隔離弁227、チューブ229、圧力レギュレータ231、フィルタ233、圧力センサ235、制御弁239およびチェック弁243を有する。圧力解放弁257が、導管内の高圧を解放するために、チューブ255を介して導管237に取り付けられている。図10の圧力解放弁197のように、圧力解放弁257は、一端にキャップ261を有する三孔手動弁のような隔離弁に置き換えることができる。もし、どの他の場所にも高圧不活性パージガスを流す意図がないのであれば、当然、弁257を有する導管255はすべて除くことができる。流量絞りオリフィス265を有する短い分岐263が、たとえ制御弁239が閉じている場合でもパージガス流の遅い流れを可能にするため、弁239に導管237と並列に取り付けられている。この遅い流れは、空気の侵入から開口を保護するために、他の化学薬品送達ブロックのすべての開口から不活性ガスを流出させることを可能にする。制御弁239とオリフィス265を有する短い分岐ライン263は、アプテック(APTech)(ナパ、カリフォルニア)社製のリーク弁に置き換えることができる。リーク弁は、弁239とオリフィス265の組み合わせとまったく同じように機能する。制御弁247および連結ジョイント275を有する少なくとも一つの導管245が、化学薬品容器ブロック1にパージガスを導入するために、導管237に接続されている。他の導管267が溶媒供給ブロックにパージガスを流すために、導管245と共に接続させることができる。分岐導管249が、化学薬品容器75が分離されている際に、図8の開いたジョイント99にパージガスを流すために、導管245に接続され得る。
【0056】
一つの側面において、本発明は、送達システムのパージおよび浄化プロセスからの化学薬品廃棄物を回収するための廃棄物回収ブロックにさらに関する。図12は廃棄物回収ブロック277の好ましい態様である。廃棄物回収ブロックは、システムの浄化およびパージプロセスからの化学薬品および溶媒廃棄物を回収するために使用できる。化学薬品と相容性の材料(ステンレス鋼、テフロン、ポリエチレンなど)からなる容器293は、化学薬品容器ブロックおよび化学薬品再供給ブロックのようなほかの化学薬品送達ブロックから化学薬品廃棄物を受容する。廃棄物導入導管291が、パージおよび浄化が行われるブロックのライン(図8の連結ジョイント109など)に接続している。化学薬品廃棄物は、チューブ281、制御弁283および分離弁289を通って容器293に流入する。もう一つの導管315が、一端で容器293に取り付けられており、他端で連結ジョイント303により排出ラインもしくは真空ブロックに接続されている。容器は、隔離弁313および制御弁307を開くことで空にすることができる。制御弁297を有するバイパスライン295が、ライン281および305を介して廃棄物導入導管291および排出導管315に接続している。化学薬品容器ブロック1を排出もしくは真空にすることが必要になったときには、バイパス導管295の制御弁297は開かれ、制御弁283および307は閉じられ得る。レベルモニタ317が、容器内の廃棄物化学薬品量を監視するために、廃棄物容器293に取り付けられている。レベルモニタは、図8および9に示したものと同じである。ひとたび容器が一杯になると、隔離弁289および313は閉じられ、容器は交換のためにジョイント287および311で分離され得る。
【0057】
さらに他の側面において、本発明は、送達ラインの中に化学薬品を導入する前に、送達ラインのより良好なパージおよびガスの除去を提供するための真空ブロックに関する。あらゆる適した真空発生器が使用され得る。例えば真空発生器は、ベンチュリもしくは真空ポンプのいずれかであり得る。真空を作りだすための真空ブロック319の例が、図13に示されている。ベンチュリが使用されたときは、高圧の清浄乾燥空気(CDA)もしくは窒素が、操作に必要である。CDAもしくは窒素は、導管321を介して、対応する供給源からベンチュリに供給される。導管中の制御弁323は、CDAもしくは窒素ガスの制御のために使用される。ライン335は、一端で真空発生器337に、他端で排出ラインに接続している。導管327は、真空発生器と真空が必要とされるブロックとを連通させるための真空ラインである。連結ジョイント333は、図12の連結ジョイント303において廃棄物回収ブロックのような他の化学薬品送達ブロックに真空導管を連結するために使用される。連結ジョイント333は、VCR継手等、または溶接接続用のチューブ片の末端開口であり得る。
【0058】
さらに他の側面において、本発明は、化学薬品容器の交換プロセス中に、低蒸気圧化学薬品をパージするために溶媒を供給するための溶媒供給ブロックに関する。溶媒供給ブロックの好ましい態様は、図14に示されている。溶媒容器316は、化学薬品容器ブロック1および図9の再供給ブロック111中の化学薬品のためのものと同様の形状を有し得る。容器は100ミリリットルから200リットルまでの容積を有し得る。好ましい溶媒容器は、1リットルから10リットルまでの容積を有し得る。溶媒は、通常不活性ガスにより加圧することにより、システムパージのために溶媒フラッシュが必要な化学薬品容器ブロックのようなブロックに供給される。加圧ガス導入導管359が、一端で溶媒容器に、他端で連結ジョイント343により不活性加圧ガスブロックに接続されている。制御弁349を有するライン347が、排出のためのチューブ353を介して導管359に接続されている。連結ジョイント351を有する他端を排出ラインに接続することができる。溶媒供給のための溶媒導出導管367は、容器の底に近い場所まで容器内部に延びている浸漬チューブ365、ライン373、ライン375および制御弁377を有する。溶媒導出導管367が、連結ジョイント379により化学薬品容器ブロックに接続され得る。溶媒送達導管は、必要なときに、使用者ツールのようなあらゆる場所に溶媒を送達するために、連結ジョイント379に共に接続されることができる。ライン383は、図11のパージガスブロックからのパージガス用である。制御弁393を有するバイパスライン341が、一端でチューブ387を介してパージライン383に、他端でチューブ345を介して加圧ガス導入導管359に接続している。溶媒容器を交換するプロセスにおいて、パージガスは、ライン375および373をパージするために、導管367に導入される。パージガスは、ジョイント371および355が切り離されている時に、制御弁393および385を開くことにより、ライン開口を保護するために使用される。化学薬品容器のためのものと同様のレベルモニタ363が、容器内部の溶媒量を監視するために使用される。ひとたび容器が空になると、ジョイント355および371を切り離すことで交換され得る。化学薬品送達ライン中に残留する化学薬品をパージし浄化するための溶媒は、化学前駆体および溶媒の物理的および化学的性質に基づいて選択され得る。例えば、タンタルペンタエトキシド(Ta(OEt)5)は容易にエタノールに溶解し、そのエタノールも容易にラインから除去され、かつ浄化される。それゆえエタノールは、タンタルペンタエトキシドの送達ラインをパージし浄化するために選択され得る。ヘキサン、オクタンおよび前駆体化学薬品溶液を調整するための前述したような他の溶媒は、種々の前駆体化学薬品残留物を浄化するために用いられ得る。
【0059】
さらに他の側面において、本発明は、必要なときに、不要な溶存ガスおよび粒状不純物を除去するために使用される脱気ブロックおよびろ過ブロックに関する。脱気ブロック395の好ましい態様が、図15に示されている。脱気ブロックは、化学薬品中の溶存ガスを除去するために使用される。化学薬品中の溶存ガスは、通常、膜カートリッジにより除去される。化学薬品は、膜カートリッジの一側から流入し、溶存ガスは濃度勾配もしくは圧力差あるいはその両方のいずれかにより、膜媒体を通って他側へと拡散する。図15のハウジングを有する膜カートリッジ405は脱気のために使用され得る。化学薬品は、隔離弁409を有する導管407を介してカートリッジハウジングの中に導入され、化学薬品導出導管415から使用者ツールに流出する。もう一つの導管403が、真空もしくは排出のために、膜カートリッジに他側で接続されている。制御弁401は、真空もしくは排出の制御目的で使用される。膜カートリッジが交換される必要のあるときは、隔離弁409および417は手動で閉じられ、制御弁401も閉じられる。化学薬品導入導管407が、化学薬品容器ブロックおよび化学薬品再供給ブロックのような化学薬品送達ブロックに連結ジョイント413により接続されている。連結ジョイント419は、使用者ツールに至る下流の化学薬品ラインに接続している。連結ジョイントはまた、VCR継手もしくは溶接接続のためのチューブ端開口のような継手であり得る。化学薬品パージライン(図示せず)は、カートリッジを交換する前および取り付けた後にカートリッジハウジングから化学薬品をパージするために必要とされ得る。
【0060】
図16は、化学薬品中の粒子を除去するために化学薬品ライン中に接続され得るろ過ブロック421である。二つのフィルタは、一つを使用しもう一方をスペアとして、好ましくは並列にある。図16のように、フィルタ429並びにこのフィルタの前後に取り付けた二つの隔離弁433および427を有する導管435が、化学薬品のろ過のために使用される。並列で、フィルタ447並びに二つの隔離弁443および449を有するもう一つの導管441が、上流側で化学薬品ライン439に、下流側で化学薬品ライン453に、共に接続されている。代わりとして、隔離弁433および443は三方弁として組み合わせることができ、隔離弁427および449も同様に三方弁であり得る。フィルタが交換されるとき、フィルタの前後のろ過導管の隔離弁は閉じられ、同時に対応する隔離弁を開くことにより、もう一方のフィルタがろ過のために使用される。ろ過導管中の化学薬品を浄化するためのガスおよび溶媒パージが、フィルタが交換される必要のある際に多くの化学薬品に対して必要である。パージガス、溶媒および廃棄物ライン(図示せず)が必要とされ得る。
【0061】
本発明の集積ブロックは、化学薬品送達システムの形成に使用され得る。種々の任意のブロックを異なる要求に応じて基本システム中に加えることができる。ブロックの種々の組み合わせの送達システムにおいて各ブロックは独立しており、独自に機能する。また、自動制御のために各ブロックの構成部からの信号を受け取り、構成部に信号を伝送するためのコンピュータもしくはPLCシステムによる制御ブロックを含めることが、様々な用途に有益である。
【0062】
図1に示される一つの好ましい態様において、基本化学薬品送達システムは,化学薬品容器ブロック1、再供給容器ブロック7、加圧ガスブロック15およびコントロールブロック23からなる。化学薬品供給源および関連したマニホルドを有する化学薬品容器ブロック1は、連結部3を介して化学薬品を再供給容器ブロック7に供給する。化学薬品は、再供給容器ブロック7から連結ライン9を介して製造ツールに送達される。図示されていないが、当然ながら、連結ラインを介して化学薬品容器ブロック1から化学薬品は製造ツールに供給され得る。加圧ガスブロック15は、送達のため容器から化学薬品を押し出すために、高圧不活性ガスを化学薬品容器ブロック1および再供給容器ブロック7へ供給する。ブロック15は、それぞれ連結17および19を介してブロック1および7に接続している。ブロック1および7の化学薬品容器は、連結5および11を介して排気ライン13に容器から加圧ガスを排気することにより減圧され得る。連結ライン21はブロック15が過圧下にある場合の高圧力解放のためのものである。すべての連結は、VCR継手、あるいは両端に継手を有するチューブ小片、もしくは溶接連結のための開放両端を有するチューブのようないずれかの標準的な継手であり得る。自動制御ブロック23が、化学薬品送達システムの自動操作のため信号を受け取り伝送するために、連結ライン25、27および29を介して、ブロック1、7および15と連通している。
【0063】
図2は、化学薬品容器ブロック1に不活性パージガスを供給するためのパージガスブロック33を有する他の基本化学薬品送達システムを示す。パージガスは、加圧ガスと同じ、または異なる不活性ガス(ヘリウム、窒素、アルゴンなど)であり得る。ブロック33は、連結35を介してブロック1にパージガスを供給する。必要なときに、圧力を解放するための高圧ガス排出連結37がある。自動制御ブロック23は、自動制御のために連結31を介してパージガスブロック33に連通している。パージガスは、残留化学薬品の除去および空気の侵入からあらゆるラインの開口を保護するために、化学薬品容器の交換プロセス中、化学薬品ブロック1に供給される。
【0064】
化学薬品廃棄物は、化学薬品容器あるいはいずれかのラインがパージおよび浄化される必要がある際に生じ得る。化学薬品廃棄物は、廃棄物ラインを介して設備廃棄物処理センタに送られ得る。多くの場合、化学前駆体廃棄物は、特別に処理される必要がある。よって、化学薬品は、処理あるいは最終廃棄のために別個に集められなければならない。図3のように、化学薬品廃棄物ブロック39は、送達システムから化学薬品廃棄物を集めるために使用される。化学薬品廃棄物ブロック39が、連結部5を介して化学薬品容器ブロック1に、および連結40を介して自動制御ブロック23に接続されている。ブロック39も、連結41を介して排出ライン13に接続されている。ブロック1からの排出は、化学薬品廃棄物のための同じ連結5あるいは排出ライン13に加えられた連結(図示せず)のいずれかにより、廃棄物ブロックを介して移動し得る。
【0065】
図4は、真空ブロック45を使用する化学薬品送達システムの他の好ましい態様を示す。システムパージプロセスにおいて真空は、パージを促進し、送達ライン中に化学薬品を導入する前に、化学薬品送達ライン中に残存するパージガスおよび加圧ガスのようなガス状の残留物を除去するために必要である。図4のように、真空ブロック45が、排気ライン13、連結11および連結41により廃棄物回収ブロック39および再供給容器ブロック7に接続され得る。真空ブロックからの排出は、連結47により排出ラインに接続され得る。真空ブロック45は、連結43により自動制御ブロック23とも連通している。代りのシステムにおいて、廃棄物回収ブロック39は、送達システムから除かれ得る。よって、真空ブロック45は、化学薬品容器ブロック1および化学薬品再供給容器ブロック7に直接連結される。当然ながら、化学薬品再供給容器は、真空ブロックに接続されることなく排気ラインに直接接続され得る。
【0066】
図5は、溶媒供給ブロック51を有する化学薬品送達システムの好ましい態様を示す。溶媒は、化学薬品供給源容器の交換プロセスの間、化学薬品容器ブロック1の送達マニホルドをフラッシングするために要求される。例えば、化学薬品供給源容器が交換されることを必要としている際に、エタノールが、送達マニホルド内の残留したタンタルペンタエトキシドをフラッシングし、浄化するために使用される。溶媒は、通常、化学前駆体用のものと類似の容器に収容され、圧力をかけて化学薬品容器ブロックに供給される。溶媒供給ブロック51は、連結57により加圧ガスブロック15に接続されている。溶媒容器内の溶媒は、連結53を介して溶媒を供給するために、ブロック15からの加圧ガスにより加圧される。空の容器が交換を必要とする際に、溶媒供給ライン中の残留溶媒は、浄化されおよびパージされなければならない。パージガスが、浄化およびパージのために、パージガスブロック33から連結49を介して溶媒供給ブロック51に供給される。溶媒供給ブロック51は、制御のために連結59を介して自動制御ブロック23と連通している。連結55が、溶媒供給ブロック51内を真空にし、圧力を解放するため、ブロック51を真空ブロック45あるいは排出ラインに接続するために使用される。溶媒供給ブロックが化学薬品送達システム中に使用される際は、廃棄物回収ブロックおよび真空ブロックがあることが好ましいが、溶媒供給ブロックは、図1に示される基本送達システム中に付け加えることができる。廃棄物回収ブロックおよび真空ブロックの機能は、いくつかの場合においては必要ではなく、あるいは現場での同様の性能により置き換えることができる。
他のオプションとして、脱気ブロック63は図6に示されるように、送達される化学薬品中の溶存ガスを除去するために使用され得る。ヘリウムおよび窒素のようなガスは、化学薬品製造および送達プロセス中に、化学前駆体中に溶存し得る。多くの化学薬品送達の場合において、マスフローコントローラが、化学薬品の流量を監視および制御するために取り付けられている。送達化学薬品中のあらゆる溶存ガスが、局所的な圧変化の際に気泡になり得る。気泡はマスーフローコントローラの湿った表面に付着し、マスフローコントローラの不調をもたらすという確率が高い。溶存ガスは、さらに、化学気相成長用ツール内の化学前駆体の気化に悪影響を及ぼし得る。溶存ガスにより、化学蒸気濃度は一定に保持されず、蒸気はまた汚染され得る。化学薬品再供給ブロック7もしくは化学薬品容器ブロック1からの化学薬品は、溶存ガスを除去するために連結9を介して脱気ブロック63に移動する。脱気後、化学薬品は、連結65を介してブロック63から使用者ツールに流出する。膜型脱気ユニットを使用した際は、真空もしくはストリッピングガスが必要とされる。図6のように、ブロック63は、連結67により真空ブロック45に接続され得る。
【0067】
図7は、ろ過ブロック69のさらなるオプションを有する化学薬品送達システムの他の好ましい態様を示す。ろ過ブロックは、化学前駆体中の粒状不純物を除去するために使用される。化学薬品容器ブロック1もしくは化学薬品再供給ブロック7、あるいは脱気ブロック63のいずれかからの化学薬品は、ろ過ブロック69に流入し得る。図7のように、化学薬品は、脱気ブロック63から連結65を介してろ過ブロック内に導入される。ブロック69はまた、連結73を介して自動制御ブロック23に連通し得る。当然ながら、ろ過ブロック69は、化学送達ブロックのあらゆる異なる組み合わせに使用され得る。例えば、ろ過ブロックは、化学薬品のろ過の目的で図1に示す基本送達システムの中に付け加えることができる。
【0068】
どの化学薬品送達ブロックも、独立した機能のためのすべての構成部材を有することが好ましい。ひとたびブロックが化学薬品送達のために接続されると、連結は標準の継手および溶接によるような簡潔な方法で完了する。どのブロックにも弁のような、いかなる部品も取り除きまたは付け加えることはない。図8〜16は、図1〜7に関して述べたもののような各機能ブロックの好ましい態様である。
【0069】
上記の異なる化学薬品送達ブロックを用いて、化学前駆体送達システムは、各ブロックを単に連結することによって種々の送達要求のために作られ得る。図17は、図8の化学薬品容器ブロック1、図10の加圧ガスブロック165、図9の化学薬品再供給ブロック111および自動制御ブロック23を有する好ましい基本送達システムである。化学薬品容器ブロックは、ポイント455および457において加圧ガスブロックに接続されている。連結ポイントは、ひとつの手段により切り離すことのできる物理的なジョイントではある必要はない。その代り、これは、化学薬品を送達する上で特別の機能のために、一体的で均一の導管を形成するように、二つのブロックを互いに連結することを意味する。よって、隔離弁79、圧力センサ171および制御弁173を有する化学薬品容器75のためのガス導入導管が形成される。同様に、ニードル弁213、制御弁209およびもう一つの制御弁91を有するパージガス導管が、化学薬品送達ラインを加圧ガス供給源からの不活性ガスでパージするために形成される。化学薬品再供給ブロックは、隔離弁153、圧力センサ217、制御弁127およびニードル弁207を有するガス導入導管を形成するために、連結ポイント461において加圧ガスブロックに接続されている。化学薬品再供給導管は、隔離弁117、制御弁123および隔離弁91からなる。化学薬品は、制御弁161を有する化学薬品導管を通って再供給容器113から使用者ツールに送達される。化学薬品試料は、ハンド弁143を開いて送達ラインから採取することができる。当然ながら、化学薬品は、連結ポイント459と139の間にバイパスライン(図示せず)を加えることにより、化学薬品容器ブロックから使用者ツールに直接送達させ得る。ひとたび化学薬品のレベルがあらかじめ設定した低レベルまで下がると、制御ブロックは再供給容器内に化学薬品を再供給するために、レベルモニタ159から信号を受け取り、制御弁123を開くための信号を伝送する。ひとたび化学薬品のレベルが高レベルまで到達すると、制御弁123は同様の方法で閉じられる。再供給プロセスの間、化学薬品は再供給容器113から使用者ツールに絶えず送達される。再供給容器内部の加圧ガスの圧力は、制御弁131の自動開閉により均衡を保たれている。ニードル弁もしくは圧力制御弁133は、急なガス圧の変化を回避するために、放出ガス流を制限するために使用される。化学薬品容器75が空になると、自動制御ブロックは容器を交換のために操作者にアラームを伝送する。制御弁107は、容器内部の圧力を解放するために自動的に開けられる。制御弁123より前のライン中にある残留化学薬品は、不活性ガス制御弁209を開くことにより、化学薬品容器に押し戻される。隔離弁79と91が操作者により手動で閉じられた後に、容器は交換のために、ジョイント99および101において分離され得る。分離前、制御弁173および209は、隔離弁79と91への不活性ガスの流出を可能にするために開かれ得る。分離の際に、不活性ガスは、空気中の汚染物質の侵入から開口を保護するため、ジョイント99および101から流出し得る。
【0070】
図18に示されるような他の好ましい態様において、パージガスブロックが図17の態様に加えられる。パージガスブロックは、ポイント455および457において、化学薬品容器に接続している。化学薬品ラインがパージされる必要がある際に、制御弁247は、化学薬品ラインへの不活性パージガスの流入を可能にするために開く。パージガスはそれから、図8のバイパスライン85に開いているブロック弁91を通って流入し、排出制御弁107を通って排出される。ジョイント99および101から化学薬品容器が分離される前に、パージガスは制御弁247と251を開くことにより、化学薬品ラインおよびガス導入導管に導入され得る。パージガスブロックの制御弁239は、閉じられ得る。化学薬品容器が分離されたあと、パージガスは周囲空気を排除するために分離ジョイント99および101から連続的に流出する。バイパスオリフィス265は、化学薬品ライン中に空気を拡散させるようには遅くなく、そして大量の不活性ガスが無駄になるほど速くない流速で不活性ガスがジョイントから流出することを可能にする。
【0071】
図19は、任意の廃棄物回収ブロックを有する好ましい化学薬品送達システムである。化学薬品容器ブロックは、ポイント463において廃棄物回収ブロックに接続され、図12の廃棄物回収ブロックの連結ジョイント279が、ポイント465において排出ラインに接続されている。化学薬品容器が排出される必要のある際に、制御弁107と制御弁297が、排出ラインにあらゆるガスが排出されることを可能にするために開かれる。化学薬品中の残留化学薬品をパージする場合、制御弁107、制御弁307および制御弁283が開かれる。化学薬品廃棄物は、弁247を開くことによる高圧パージガスもしくは、制御弁209を開くことによる加圧ガスのいずれかにより、廃棄物容器に化学薬品ラインから加圧され押し出され得る。ひとたび廃棄物容器が一杯になると、制御弁283および307は閉じられる。操作者は手動で隔離弁289および313を閉じ、交換のためにジョイント287および311から容器を分離する。空の廃棄物容器は連続操作のために、ジョイントに再連結され得る。
【0072】
図20は真空ブロックを有する好ましい態様である。図13の真空ブロックは、ポイント463において化学薬品容器ブロックに接続され得る。化学薬品ラインが浄化およびパージされる必要がある際に、真空が提供される。例えば、化学薬品ラインは、化学薬品容器が送達マニホルドにジョイント99および101において接続されたあと、パージガスおよび真空でパージし、もしくは不純物からラインを浄化する必要がある。化学薬品ラインは、制御弁247を開いてパージガスを化学薬品ラインから隔離弁91を介してバイパスライン85、制御弁107、制御弁297および排出へと流すことによってパージガスによりパージされ得る。ラインは、真空制御弁329を開くことにより真空にされ得る。このとき、制御弁247および297は閉じられている。ラインはこの種の循環法で50回まで、もしくは必要ならばそれ以上の回数パージされ得る。ラインは最後のパージ段階で真空にされる。隔離弁91は、送達もしくは再供給容器に再供給するために、化学薬品が化学薬品ライン中に流入することを可能にするため容器側に開かれ得る。
図21は、システムの浄化およびパージのために液体溶媒を供給するための任意の溶媒供給ブロックを有する、好ましい態様である。溶媒供給ブロックは、パージのために化学薬品ラインに溶媒を供給するため、ポイント467において化学薬品容器ブロックに接続されている。溶媒供給ブロックは、溶媒容器への加圧ガスのためにポイント471において加圧ガスブロックに接続されている。溶媒供給ブロックは、さらに、パージガスのためにポイント469において、パージガスブロックに接続され得る。溶媒供給ブロックの排出ラインは、ポイント473において排出ラインに接続されている。通常の操作において、溶媒容器は、溶媒送達のために加圧される。パージのために溶媒が要求される際には、制御弁377が制御ブロック23からの信号により自動的に開かれる。溶解した残留化学薬品を有する液体溶媒は、隔離弁91、制御弁107および制御弁307を介して、廃棄物回収容器293中に流入する。溶媒容器が空もしくは溶媒レベルがその低いレベルまで達した際に、自動制御ブロックは、溶媒容器を交換し溶媒制御弁377を閉じるために操作者に警告する。加圧ガス制御弁219は、自動制御ブロック23により自動的に閉められる。排出制御弁349が、それから溶媒容器の内部の圧力を放出するために同様に自動的に開かれる。加圧ガスあるいはパージガスのいずれかが、制御弁377と385および隔離弁369間の導管内部の溶媒を容器の中に押し戻すために溶媒導管に供給され得る。ライン浄化のためにパージガスが使用される際に、パージガスブロック中の制御弁269、制御弁385および隔離弁369が開く。ライン浄化のために加圧ガスが使用される際は、隔離弁357は閉じられ、バイパス弁393、制御弁385および隔離弁369は開く。ラインの浄化後、パージガスは、ガス導入導管および溶媒導出導管中に供給される。溶媒容器は、そののち隔離弁357と369が閉じられている間に、ジョイント355および371により分離される。パージガスはその後、周囲汚染物質を排除するために、開いたジョイントから流れ出す。
【0073】
図22は、化学薬品中の溶存ガスを除去するための脱気ブロックを有する化学薬品送達システムの好ましい態様である。示される通り、脱気ブロックは、ポイント139において再供給ブロックに、およびポイント477において真空ブロックに接続されている。再供給容器からの化学薬品は、膜カートリッジ405を通って使用者ツールまで流れる。脱気ブロックの前の制御弁161およびブロックの後の制御弁417は、化学薬品が要求されない、あるいは脱気ブロックが修理されるべきならば閉じられ得る。真空ライン中の制御弁401は、真空のために開かれ、または修繕の目的で閉じられ得る。脱気ブロックは、また、脱気するために、再供給ブロックの前に化学薬品容器ブロックに接続させられ得る。
【0074】
図23は、ろ過ブロックを有する化学薬品送達システムの好ましい態様である。このブロックは、ポイント18において、化学薬品ライン中の脱気ブロックに接続される。一つのフィルタでろ過の要求は十分満たしているが、図のように並列に設置された二つのフィルタを有することが好ましい。通常操作において、一つのフィルタが使用され他方はスペアであり得る。一定時間後フィルタが交換される際に、フィルタの前および後ろの隔離弁は、操作者により手動で閉じられる。必要ならばパージガスおよび溶液溶媒を導入することで、フィルタ内部の化学薬品をパージすることができる。新しいフィルタを設置したあと、フィルタおよび連結は、ライン中に化学薬品を導入する前に浄化およびパージされるべきである。
【0075】
本発明をその具体的な態様を参照して詳細に述べられたが、当業者にとって、かつ添付した特許請求の範囲を逸脱することなく種々の変形および変更を行うことができ、均等物を採用することができることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【0076】
【図1】基本ブロックを有する化学薬品送達システムの概略図。
【図2】パージガスブロックを有する基本化学薬品送達システムの概略図。
【図3】パージガスおよび廃棄物回収ブロックを有する化学薬品送達システムの概略図。
【図4】パージガス、廃棄物回収および真空ブロックを有する化学薬品送達システムの概略図。
【図5】パージガス、廃棄物回収、真空および溶媒供給ブロックを有する化学薬品送達システムの概略図。
【図6】パージガス、廃棄物回収、真空、溶媒供給および脱気ブロックを有する化学薬品送達システムの概略図。
【図7】パージガス、廃棄物回収、真空、溶媒供給、脱気およびろ過ブロックを有する化学薬品送達システムの概略図。
【図8】化学薬品容器ブロックの概略図。
【図9】再供給容器ブロックの概略図。
【図10】加圧ガス供給ブロックの概略図。
【図11】パージガス供給ブロックの概略図。
【図12】廃棄物回収容器ブロックの概略図。
【図13】真空ブロックの概略図。
【図14】溶媒供給ブロックの概略図。
【図15】脱気ブロックの概略図。
【図16】ろ過ブロックの概略図。
【図17】基本化学薬品送達システム中の異なるブロックの相互接続の概略図。
【図18】パージガスを伴う化学薬品送達システム中の異なるブロックの相互接続の概略図。
【図19】パージガスおよび廃棄物回収ブロックを有する化学薬品送達システム中の異なるブロックの相互接続の概略図。
【図20】パージガス、廃棄物回収および真空ブロックを有する化学薬品送達システム中の異なるブロックの相互接続の概略図。
【図21】パージガス、廃棄物回収、真空および溶媒供給ブロックを有する化学薬品送達システム中の異なるブロックの相互接続の概略図。
【図22】パージガス、廃棄物回収、真空、溶媒供給および脱気ブロックを有する化学薬品送達システム中の異なるブロックの相互接続の概略図。
【図23】パージガス、廃棄物回収、真空、溶媒供給、脱気およびろ過ブロックを有する化学薬品送達システム中の異なるブロックの相互接続の概略図。

Claims (37)

  1. 超純粋な化学薬品を液状化学薬品容器から半導体または光ファイバ製造プロセスにおける使用場所まで超純粋な化学薬品を送達するための化学薬品送達システムに接続できる集積ブロックであって、前記集積ブロックは、超純粋な化学薬品を収容するための化学薬品容器ブロック、容器に再供給するための再供給容器ブロック、圧力を供給するための加圧ガスブロック、化学薬品をパージするためのパージガスブロック、廃棄物を回収するための廃棄物回収ブロック、真空を作り出すための真空ブロック、溶媒を供給するための溶媒供給ブロック、化学薬品の脱気のための脱気ブロック、化学薬品のろ過のためのろ過ブロックまたはそれらの組み合わせであり、前記集積ブロックは予め組み立てられており、
    前記化学薬品容器ブロックは、
    (i)加圧ガス供給源に取り付けるために適合する第1の化学薬品容器連結ジョイント、
    (ii)密封化学薬品容器、
    (iii)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の化学薬品容器連結ジョイント、
    (iv)前記密封化学薬品容器に加圧ガスを送達するための、前記第1の化学薬品容器連結ジョイントと前記密封化学薬品容器の間に接続された化学薬品容器導入導管、
    (v)使用場所または集積ブロックに超純粋な化学薬品を送達するための、前記密封化学薬品容器と前記第2の化学薬品容器連結ジョイントの間に接続された化学薬品容器送達導管、
    (vi)前記化学薬品容器導入導管と前記化学薬品容器送達導管の間に接続された化学薬品容器バイパス導管、
    (vii)任意に、前記化学薬品容器導入導管または前記化学薬品容器送達導管とライン上に接続された化学薬品容器排出導管および、
    (viii)前記密封化学薬品容器内のレベルを監視するための化学薬品容器レベルインジケータ
    を備え、
    前記化学薬品容器導入導管は、
    前記密封容器を取り外すために適合する第1の化学薬品容器ジョイント、および
    前記第1の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された第1の化学薬品容器隔離弁
    を備え、および
    前記化学薬品容器送達導管は、
    前記密封化学薬品容器内部に延びる第1の端を有する化学薬品容器浸漬チューブ、
    前記第2の化学薬品容器連結ジョイントと前記密封化学薬品容器の間に接続された第2の化学薬品容器隔離弁、および
    前記密封化学薬品容器を取り外すために適合する、前記第2の化学薬品容器連結ジョイントと前記密封化学薬品容器の間に接続された第2の化学薬品容器ジョイント
    を備え、および
    前記化学薬品容器排出導管は
    第5の化学薬品容器連結ジョイント、および
    前記第5の化学薬品容器連結ジョイントと前記化学薬品容器導出導管または前記化学薬品容器送達導管とライン上に接続された化学薬品容器制御弁
    を備え、
    前記再供給容器ブロックは、
    (i)集積ブロックに取り付けるために適合する第1の再供給容器連結ジョイント、
    (ii)密封再供給容器、
    (iii)前記密封再供給容器に超純粋な化学薬品を送達するための、前記第1の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された再供給容器化学薬品導入導管、
    (iv)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の再供給容器連結ジョイント、
    (v)前記密封再供給容器内に加圧ガスを送達するための、前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続されたガス導管、
    (vi)集積ブロックに取り付けるために適合する第3の再供給容器連結ジョイント、
    (vii)使用場所または集積ブロックに化学薬品を送達するための、前記第3の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された再供給容器化学薬品送達導管、および
    (viii)前記密封再供給容器内のレベルを監視するための再供給容器レベルインジケータ
    を備え、
    前記再供給容器化学薬品導入導管は、
    前記第1の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器制御弁、
    前記第1の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器ジョイント、および
    前記第1の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器隔離弁
    を備え、
    前記ガス導管は、
    集積ブロックに取り付けるために適合し、前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第4の再供給容器連結ジョイント、
    前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続されたニードル弁、
    前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第2の制御弁、
    前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第2の再供給容器ジョイント、および
    前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第2の再供給容器隔離弁
    を備え、および
    前記再供給容器化学薬品送達導管は、
    前記第3の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された第3の再供給容器制御弁、
    前記密封容器を取り外すために適合し、前記第3の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された第3の再供給容器ジョイント、
    前記第3の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第3の 再供給容器隔離弁、
    前記第3の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第4の再供給容器隔離弁、
    前記第3の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続されたポート、および
    前記密封再供給容器内部に延びる第1の端を有し、前記再供給容器化学薬品送達導管とライン上にある浸漬チューブ
    を備え、
    前記加圧ガスブロックは、
    (i)不活性ガスを受容するために適合する第1の加圧ガスブロック連結ジョイント、
    (ii)少なくとも一つの加圧ガスブロックガス導管、
    (iii)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロック隔離弁、
    (iv)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックレギュレータ、
    (v)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックフィルタ、
    (vi)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された第1の加圧ガスブロック圧力センサ、および
    (vii)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックチェック弁
    を備え、および
    前記少なくとも一つの加圧ガスブロックガス導管は、
    集積ブロックに取り付けるために適合する第2の加圧ガスブロック連結ジョイント、
    前記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記チェック弁の間に任意に接続された加圧ガスブロックニードル弁、
    前記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックチェック弁の間に接続された加圧ガスブロック制御弁、および
    前記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックチェック弁の間に接続された第2の加圧ガスブロック圧力センサ
    を備え、
    前記パージガスブロックは、
    (i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1のパージガス連結ジョイント、
    (ii)少なくとも一つのパージガス導管、
    (iii)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガス隔離弁、
    (iv)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続された圧力レギュレータ、
    (v)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガスフィルタ、
    (vi)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガス制御弁、
    (vii)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガスチェック弁、
    (viii)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガス圧力センサ、および
    (ix)前記パージガス制御弁の周りに接続されたパージガス流量絞りオリフィス
    を備え、および
    前記パージガス導管は、
    第2のパージガス集積ブロックに接続させるために適合する少なくとも一つの第2のパージガス連結ジョイント、および
    前記第1のパージガス連結ジョイントと前記第2のパージガス連結ジョイントの間に接続された、少なくとも一つのパージガス制御弁
    を備え、
    前記廃棄物回収ブロックは、
    (i)少なくとも一つの集積ブロックから廃棄物を受容するために適合する第1の廃棄物回収連結ジョイント、
    (ii)密封廃棄物回収容器、
    (iii)前記密封廃棄物回収容器と前記第1の廃棄物回収連結ジョイントの間に接続された廃棄物回収導入導管、
    (iv)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の廃棄物回収連結ジョイント、
    (v)前記密封廃棄物回収容器と前記第2の廃棄物回収連結ジョイントの間に接続された廃棄物排出導管、
    (vi)前記廃棄物導入導管と前記廃棄物排出導管の間に接続された第1の廃棄物回収制御弁、および
    (vii)前記密封廃棄物回収容器内のレベルを監視するための廃棄物回収レベルインジケータ
    を備え、および
    前記廃棄物導入導管は、
    前記第1の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収制御弁、
    前記第1の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第1の廃棄物回収容器ジョイント、および
    前記第1の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第1の廃棄物回収隔離弁
    を備え、および
    前記廃棄物排出導管は、
    前記第2の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収隔離弁、
    前記第2の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収容器ジョイント、および
    前記第2の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第3の廃棄物回収制御弁
    を備え、
    前記真空ブロックは、
    (i)真空発生器、
    (ii)前記真空発生器とライン上にある第1の真空ブロック制御弁、および
    (iii)真空を提供するために適合し、真空発生器とライン上にある少なくとも一つの真空導管
    を備え、および
    前記真空導管は、
    少なくとも一つの集積ブロックに取り付けるために適合する真空ブロック連結ジョイント、および
    前記連結ジョイントと前記真空発生器の間に接続された第2の真空ブロック制御弁
    を備え、
    前記溶媒供給ブロックは、
    (i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1の溶媒供給連結ジョイント、
    (ii)密封溶媒供給容器、
    (iii)前記第1の溶媒供給連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された加圧溶媒供給ガス導入導管、
    (iv)第2の集積ブロックに接続させるために適合する第2の溶媒供給連結ジョイント、
    (v)前記第2の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された溶媒供給送達導出導管、
    (vi)前記溶媒供給加圧ガス導入導管と前記溶媒供給送達導出導管の間に接続された溶媒供給制御弁、および
    (vii)前記密封容器内のレベルを監視するための溶媒供給レベルインジケータ
    を備え、
    前記加圧ガス導入導管は、
    前記第1の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された第1の溶媒供給容器ジョイント、
    前記第1の溶媒供給連結ジョイントと前記密封溶媒供給容器の間に接続された第2の制御溶媒供給弁、および
    前記第1の溶媒供給連結ジョイントと前記密封溶媒供給容器の間に接続された第1の溶媒供給隔離弁
    を備え、および
    前記溶媒供給送達導出導管は、
    前記密封容器内部に延びる一端を有する溶媒供給浸漬チューブ、
    前記密封溶媒供給容器と前記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第2の溶媒供給隔離弁、
    前記密封溶媒供給容器と前記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第2の溶媒供給容器ジョイント、
    前記密封溶媒供給容器と前記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第3の溶媒供給制御弁、および
    前記密封溶媒供給容器と前記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第4の溶媒供給制御弁
    を備え、
    前記脱気ブロックは、
    (i)集積ブロックに取り付けるために適合する第1の脱気ブロック連結ジョイント、
    (ii)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の脱気ブロック連結ジョイント、
    (iii)第1の脱気ブロック隔離弁を備え、前記第1の脱気ブロック連結ジョイントと前記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック化学薬品導入導管、
    (iv)前記第1の脱気ブロック連結ジョイントと前記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された膜カートリッジ、
    (v)第2の脱気ブロック隔離弁を備え、前記第1の脱気ブロック連結ジョイントと前記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック化学薬品導出導管、および
    (vi)前記膜カートリッジと前記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック制御弁
    を備え、および
    前記ろ過ブロックは、
    (i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1のろ過ブロック連結ジョイント、
    (ii)第2の集積ブロックに接続させるために適合する第2のろ過ブロック連結ジョイント、および
    (iii)前記第1のろ過ブロック連結ジョイントと前記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された少なくとも一つのろ過導管
    を備え、
    前記ろ過導管は、
    前記第1のろ過ブロック連結ジョイントと前記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された第1のろ過ブロック隔離弁、
    前記第1のろ過ブロック連結ジョイントと前記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続されたフィルタ、および
    前記第1のろ過ブロック連結ジョイントと前記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された第2のろ過ブロック隔離弁
    を備える集積ブロック。
  2. 前記使用場所が気化器である請求項1に記載の集積ブロック。
  3. 前記集積ブロックが、超純粋な化学薬品を使用場所または第2の集積ブロックに送達するための化学薬品容器ブロックである請求項1に記載の集積ブロック。
  4. 前記集積ブロックが、化学薬品容器から化学薬品を受容し、化学薬品を使用場所または第2の集積ブロックに送達するための再供給容器ブロックである請求項1に記載の集積ブロック。
  5. 前記集積ブロックが、加圧ガスブロックである請求項1に記載の集積ブロック。
  6. 集積ブロックに取り付けられるために適合する第3の加圧ガス連結ジョイント、および
    前記第2の連結ジョイントと前記チェック弁の間に接続された第2の加圧ガス制御弁を備える追加のガス導管をさらに備える請求項5に記載の集積ブロック。
  7. 前記集積ブロックが、パージガスブロックである請求項1に記載の集積ブロック。
  8. 前記集積ブロックが、廃棄物回収ブロックである請求項1に記載の集積ブロック。
  9. 前記集積ブロックが、一つまたはそれ以上の集積ブロックに真空を提供する真空ブロックである請求項1に記載の集積ブロック。
  10. 前記真空発生器が、ベンチュリまたは真空ポンプである請求項9に記載の集積ブロック。
  11. 前記集積ブロックが、溶媒供給ブロックである請求項1に記載の集積ブロック。
  12. 前記集積ブロックが、超純粋な化学薬品中の溶存ガスを除去するための脱気ブロックである請求項1に記載の集積ブロック。
  13. 前記集積ブロックが、超純粋な化学薬品から粒子を除去するためのろ過ブロックである請求項1に記載の集積ブロック。
  14. (i)請求項3に記載の化学薬品容器
    (ii)前記化学薬品容器ブロックとライン上にある化学薬品送達ブロック、および
    (iii)前記化学薬品容器ブロックおよび前記化学薬品送達ブロックとライン上にある使用場所
    を備える、超純粋な化学薬品を化学薬品容器から使用場所に送達するための化学薬品送達システム。
  15. 前記化学薬品送達ブロックが、請求項5に記載の加圧ガスブロックである請求項14に記載の化学薬品送達システム。
  16. 少なくとも一つの集積ブロックをさらに備える請求項14に記載の化学薬品送達システム。
  17. 前記少なくとも一つの集積ブロックが、再供給容器ブロック、加圧ガスブロック、パージガスブロック、廃棄物回収ブロック、真空ブロック、溶媒供給ブロック、脱気ブロックまたはろ過ブロックから選択される請求項16に記載の化学薬品送達システム。
  18. 前記使用場所が、気化器である請求項14に記載の化学薬品送達システム。
  19. 前記使用場所が、製造プロセスツールである請求項14に記載の化学薬品送達システム。
  20. 前記使用場所が、電子加工ツールである請求項14に記載の化学薬品送達システム。
  21. 前記使用場所が、半導体プロセスツールである請求項14に記載の化学薬品送達システム。
  22. 超純粋な化学薬品を収容するための予め組み立てられた化学薬品容器ブロック、容器に再供給するための予め組み立てられた再供給容器ブロック、圧力を提供するための予め組み立てられた加圧ガスブロック、化学薬品をパージするための予め組み立てられたパージガスブロック、廃棄物回収のための予め組み立てられた廃棄物回収ブロック、真空を作り出すための予め組み立てられた真空ブロック、溶媒を供給するための予め組み立てられた溶媒供給ブロック、化学薬品を脱気するための予め組み立てられた脱気ブロック、化学薬品をろ過するための予め組み立てられたろ過ブロックを備え、
    前記予め組み立てられた化学薬品容器ブロックは、
    (i)加圧ガス供給源に取り付けるために適合する第1の化学薬品容器連結ジョイント、
    (ii)密封化学薬品容器、
    (iii)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の化学薬品容器連結ジョイント、
    (iv)前記密封化学薬品容器に加圧ガスを送達するための、前記第1の化学薬品容器連結ジョイントと前記密封化学薬品容器の間に接続された化学薬品容器導入導管、
    (v)超純粋な化学薬品を使用場所または集積ブロックに送達するための、前記密封化学薬品容器と前記第2の化学薬品容器連結ジョイントの間に接続された化学薬品容器送達導管、
    (vi)前記化学薬品容器導入導管と前記化学薬品容器送達導管の間に接続された化学薬品容器バイパス導管、
    (vii)任意に、前記化学薬品容器導入導管もしくは前記化学薬品容器送達導管とライン上にある化学薬品容器排出導管、および
    (viii)前記密封化学薬品容器内のレベルを監視するための化学薬品容器レベルインジケータ
    を備え、
    前記化学薬品容器導入導管は、
    前記密封容器を取り外すために適合する第1の化学薬品容器ジョイント、および
    前記第1の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された第1の化学薬品容器隔離弁
    を備え、および
    前記化学薬品容器送達導管は、
    前記密封化学薬品容器の内部に延びる第1の端を有する化学薬品容器浸漬チューブ、
    前記第2の化学薬品容器連結ジョイントと前記密封化学薬品容器の間に接続された第2の化学薬品容器隔離弁、および
    前記密封化学薬品容器を取り外すために適合する、前記第2の化学薬品容器連結ジョイントと前記密封化学薬品容器の間に接続された第2の化学薬品容器ジョイント
    を備え、および
    前記化学薬品容器排出導管は、
    第5の化学薬品容器連結ジョイント、および
    前記第5の化学薬品容器連結ジョイントと前記化学薬品容器導入導管または前記化学薬品容器送達導管とライン上にある、化学薬品容器制御弁
    を備え、
    前記予め組み立てられた再供給容器ブロックは、
    (i)集積ブロックに取り付けるために適合する第1の再供給容器連結ジョイント、
    (ii)密封再供給容器、
    (iii)超純粋な化学薬品を前記密封再供給容器に送達するための、前記第1の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された再供給容器化学薬品導入導管、
    (iv)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の再供給容器連結ジョイント、
    (v)前記密封再供給容器に加圧ガスを送達するための、前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続されたガス導管、
    (vi)集積ブロックに取り付けるために適合する第3の再供給容器連結ジョイント、
    (vii)化学薬品を使用場所もしくは集積ブロックに送達するための、前記第3の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された再供給容器化学薬品送達導管、および
    (viii)前記密封再供給容器内のレベルを監視するための再供給容器レベルモニタ
    を備え、
    前記再供給容器化学薬品導入導管は、
    前記第1の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器制御弁、
    前記第1の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器ジョイント、および
    前記第1の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第1の再供給容器隔離弁
    を備え、
    前記ガス導管は、
    集積ブロックに取り付けるために適合する、前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第4の再供給容器連結ジョイント、
    前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続されたニードル弁、
    前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第2の制御弁、
    前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第2の再供給容器ジョイント、および
    前記第2の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第2の再供給容器隔離弁
    を備え、および
    前記再供給容器化学薬品送達導管は、
    前記第3の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された第3の再供給容器制御弁、
    前記密封容器を取り外すために適合する、前記第3の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された第3の再供給容器ジョイント、
    前記第3の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第3の再供給容器隔離弁、
    前記第3の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続された第4の再供給容器隔離弁、
    前記第3の再供給容器連結ジョイントと前記密封再供給容器の間に接続されたポート、および
    前記密封再供給容器内部に延びる第1の端を有し、前記再供給容器化学薬品送達導管とライン上にある浸漬チューブ
    を備え、
    前記予め組み立てられた加圧ガスブロックは、
    (i)不活性ガスを受容するために適合する第1の加圧ガスブロック連結ジョイント、
    (ii)少なくとも一つの加圧ガスブロックガス導管、
    (iii)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロック隔離弁、
    (iv)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックレギュレータ、
    (v)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックフィルタ、
    (vi)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された第1の加圧ガスブロック圧力センサ、および
    (vii)前記第1の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックガス導管の間に接続された加圧ガスブロックチェック弁
    を備え、および
    前記少なくとも一つの加圧ガスブロックガス導管は、
    集積ブロックに取り付けるために適合する第2の加圧ガスブロック連結ジョイント、
    前記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記チェック弁の間に任意に接続された加圧ガスブロックニードル弁、
    前記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックチェック弁の間に接続された加圧ガスブロック制御弁、および
    前記第2の加圧ガスブロック連結ジョイントと前記加圧ガスブロックチェック弁の間に接続された第2の加圧ガスブロック圧力センサ
    を備え、
    前記予め組み立てられたパージガスブロックは、
    (i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1のパージガス連結ジョイント、
    (ii)少なくとも一つのパージガス導管、
    (iii)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガス隔離弁、
    (iv)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続された圧力レギュレータ、
    (v)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガスフィルタ、
    (vi)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガス制御弁、
    (vii)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガスチェック弁、
    (viii)前記第1のパージガス連結ジョイントと前記パージガス導管の間に接続されたパージガス圧力センサ、および
    (ix)前記パージガス制御弁の周りに接続されたパージガス流量絞りオリフィス
    を備え、および
    前記パージガス導管は、
    第2のパージガス集積ブロックに接続させるために適合する少なくとも一つの第2のパージガス連結ジョイント、および
    前記第1のパージガス連結ジョイントと前記第2のパージガス連結ジョイントの間に接続された少なくとも一つのパージガス制御弁
    を備え、
    前記予め組み立てられた廃物回収ブロックは、
    (i)少なくとも一つの集積ブロックから廃棄物を受容するために適合する第1の廃棄物回収連結ジョイント、
    (ii)密封廃棄物回収容器、
    (iii)前記密封廃棄物回収容器と前記第1の廃棄物回収連結ジョイントの間に接続された廃棄物回収導入導管、
    (iv)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の廃棄物回収連結ジョイント、
    (v)前記密封廃棄物回収容器と前記第2の廃棄物回収連結ジョイントの間に接続された廃棄物排出導管、
    (vi)前記廃棄物導入導管と前記廃棄物排出導管の間に接続された第1の廃棄物回収制御弁、および
    (vii)前記密封廃棄物回収容器内のレベルを監視するための廃棄物回収レベルインジケータ
    を備え、および
    前記廃棄物導入導管は、
    前記第1の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収制御弁、
    前記第1の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第1の廃棄物回収容器ジョイント、および
    前記第1の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第1の廃棄物回収隔離弁
    を備え、および
    前記廃棄物排出導管は、
    前記第2の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収隔離弁、
    前記第2の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第2の廃棄物回収容器ジョイント、および
    前記第2の廃棄物回収連結ジョイントと前記密封廃棄物回収容器の間に接続された第3の廃棄物回収制御弁
    を備え、
    前記予め組み立てられた真空ブロックは、
    (i)真空発生器、
    (ii)前記真空発生器とライン上にある第1の真空ブロック制御弁、および
    (iii)真空を提供するために適合し、前記真空発生器とライン上にある少なくとも一つの真空導管
    を備え、および
    前記真空導管は、
    少なくとも一つの集積ブロックに取り付けるために適合する真空ブロック連結ジョイント、および
    前記連結ジョイントと前記真空発生器の間に接続された第2の真空ブロック制御弁
    を備え、
    前記予め組み立てられた溶媒供給ブロックは、
    (i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1の溶媒供給連結ジョイント、
    (ii)密封溶媒供給容器、
    (iii)前記第1の溶媒供給連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された加圧溶媒供給ガス導入導管、
    (iv)第2の集積ブロックに接続させるために適合する第2の溶媒供給連結ジョイント、
    (v)前記第2の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された溶媒供給送達導出導管、
    (vi)前記溶媒供給加圧ガス導入導管と前記溶媒供給送達導出導管の間に接続された溶媒供給制御弁、および
    (vii)前記密封容器内のレベルを監視するための溶媒供給レベルインジケータ
    を備え、
    前記加圧ガス導入導管は、
    前記第1の連結ジョイントと前記密封容器の間に接続された第1の溶媒供給容器ジョイント、
    前記第1の溶媒供給連結ジョイントと前記密封溶媒供給容器の間に接続された第2の制御溶媒供給弁、および
    前記第1の溶媒供給連結ジョイントと前記密封溶媒供給容器の間に接続された第1の溶媒供給隔離弁
    を備え、および
    前記溶媒供給送達導出導管は、
    前記密封容器内部に延びる一端を有する溶媒供給浸漬チューブ、
    前記密封溶媒供給容器と前記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第2の溶媒供給隔離弁、
    前記密封溶媒供給容器と前記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第2の溶媒供給容器ジョイント、
    前記密封溶媒供給容器と前記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第3の溶媒供給制御弁、および
    前記密封溶媒供給容器と前記第2の溶媒供給連結ジョイントの間に接続された第4の溶媒供給制御弁
    を備え、
    前記予め組み立てられた脱気ブロックは
    (i)集積ブロックに取り付けるために適合する第1の脱気ブロック連結ジョイント、
    (ii)集積ブロックに取り付けるために適合する第2の脱気ブロック連結ジョイント、
    (iii)第1の脱気ブロック隔離弁を備え、前記第1の脱気ブロック連結ジョイントと前記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック化学薬品導入導管、
    (iv)前記第1の脱気ブロック連結ジョイントと前記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された膜カートリッジ、
    (v)第2の脱気ブロック隔離弁を備え、前記第1の脱気ブロック連結ジョイントと前記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック化学薬品導出導管、および
    (vi)前記膜カートリッジと前記第2の脱気ブロック連結ジョイントの間に接続された脱気ブロック制御弁
    を備え、および
    前記予め組み立てられたろ過ブロックは、
    (i)第1の集積ブロックに接続させるために適合する第1のろ過ブロック連結ジョイント、
    (ii)第2の集積ブロックに接続させるために適合する第2のろ過ブロック連結ジョイント、および
    (iii)前記第1のろ過ブロック連結ジョイントと前記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された少なくとも一つのろ過導管
    を備え、
    前記ろ過導管は、
    前記第1のろ過ブロック連結ジョイントと前記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された第1のろ過ブロック隔離弁、
    前記第1のろ過ブロック連結ジョイントと前記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続されたフィルタ、および
    前記第1のろ過ブロック連結ジョイントと前記第2のろ過ブロック連結ジョイントの間に接続された第2のろ過ブロック隔離弁
    を備える、超純粋な化学薬品を液状化学薬品容器から半導体または光ファイバ製造ツールにおける使用場所に送達するための化学薬品送達システム。
  23. 前記使用場所が、気化器である請求項22に記載の化学薬品送達システム。
  24. 前記使用場所が、製造プロセスツールである請求項22に記載の化学薬品送達システム。
  25. 前記使用場所が、電子加工ツールである請求項22に記載の化学薬品送達システム。
  26. 前記使用場所が、半導体プロセスツールである請求項22に記載の化学薬品送達システム。
  27. 超純粋な化学薬品を使用場所に送達するための方法であって、
    (i)超純粋な化学薬品を受容する化学薬品容器ブロックを化学薬品送達ブロックに接続し、および
    (ii)超純粋な化学薬品を使用場所に導入する
    ことを包含する方法。
  28. 前記化学薬品送達システムに少なくとも一つの集積ブロックを接続することをさらに含む請求項27に記載の方法。
  29. 前記集積ブロックが、再供給容器ブロック、加圧ガスブロック、パージガスブロック、廃棄物回収ブロック、真空ブロック、溶媒供給ブロック、脱気ブロック、制御ブロックまたはろ過ブロックから選択される請求項27に記載の方法。
  30. 前記集積ブロックが、溶媒供給ブロックまたは再供給ブロックであり、超純粋な化学薬品を使用場所に導入する前に溶媒を集積ブロックに送達する工程を含む請求項27に記載の方法。
  31. 溶媒が、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、イソプロパノール/テトラヒドロフラン混合物、テトラグリム、キシレン、トルエン、ブチルアセテート、ベンゾニトリル、ヘキサン、オクタンまたはそれらの混合物からなる群の中から選択される、請求項27に記載の方法。
  32. 前記使用場所が、気化器である請求項27に記載の方法。
  33. 前記使用場所が、製造プロセスツールである請求項27に記載の方法。
  34. 前記使用場所が、電子加工ツールである請求項27に記載の方法。
  35. 前記使用場所が、光ファイバ製造ツールである請求項27に記載の方法。
  36. 前記使用場所が、半導体プロセスツールである請求項27に記載の方法。
  37. 前記超純粋な化学薬品が、テトラメチルシラン、ジメチルジメトキシシラン、ビス(ヘキサフルオロアセチルアセトネート)銅(II)、ヘキサフルオロアセチルアセトネートテトラメチルビニルシラン銅(II)、トリイソブチルアルミニウム、トリメチルアミンアラン、トリエチルアミンアラン、ジメチルエチルアミンアラン、ビス(トリメチルアミン)アラン、ジメチルアルミニウムヒドリド、四塩化チタン、テトラキスジメチルアミノチタン(TDMAT)、テトラ-キスジエチルアミノタンタル(Ta(Net)4)、ペンタ-キスジエチルアミノタンタル(Ta(Net)5)、五塩化タンタル(TaCl5)、タングステンヘキサカルボニル(W(CO)6)、ビスジピバロイルメタナートバリウム(Ba(DPM)2)、ビスジピバロイルメタナートストロンチウム(Sr(DPM)2)、ビス-イソプロポキシビスジピバロイルメタナートチタンTi(l-OC3H7)2DPM2、トリメチルアルミニウム(TMA)、テトラキスジメチルアミノジルコニウム(Zr(NME)4)、テトラキスジエチルアミノジルコニウム(Zr(Net)4)、ジルコニウムt-ブトキシド(Zr(t-OBu)4)、テトラキスジエチルアミノハフニウム(Hf(Net)4)、テトラキスジメチルアミノハフニウム(Hf(NME)4)、ハフニウムt-ブトキシド(Hf(t-Obu)4)、トリヘキサフルオロアセチルアセテート白金(Pt(Hfa)3)、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウム(EtCp2Ru)、アセチルアセテートイリジウム(Ir(Acac))、ジピバロイルメタン化合物、アルコキシド化合物、ビスジピバロイルメタナート鉛(Pb(DPM)2)、ビスジピバロイルメタナートジルコニウム(Zr(DPM)4)、トリメチルビスマス(BiMe3)、テトラエチルオルトシリケート(TEOS)、タンタルペンタエトキシド(Ta(OEt)5)、テトラメチルシクロテトラシロキサン(TMCTS)、ビス(第三ブチルアミノ)シラン(BTBAS)、リン酸トリメチル(TMPO)、ホウ酸トリメチル(TMB)またはホスホン酸トリメチル(TMPI)から選択される請求項27に記載の方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006319060A (ja) * 2005-05-11 2006-11-24 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude 配管のクリーニング方法
US10551004B2 (en) 2011-05-28 2020-02-04 Entegris, Inc. Refillable ampoule with purge capability

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070007879A1 (en) * 2005-07-11 2007-01-11 Bergman Thomas J Jr Low vapor pressure gas delivery system and apparatus
US7625197B2 (en) * 2005-09-12 2009-12-01 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Devices and processes for performing degassing operations
US20090263566A1 (en) * 2005-09-21 2009-10-22 Tadahiro Ohmi Reduced Pressure Deposition Apparatus and Reduced Pressure Deposition Method
WO2007045509A1 (en) * 2005-10-21 2007-04-26 Lonza Ag Mass flow rate control system
US20070175392A1 (en) * 2006-01-27 2007-08-02 American Air Liquide, Inc. Multiple precursor dispensing apparatus
JP5145667B2 (ja) * 2006-08-03 2013-02-20 トヨタ自動車株式会社 水素供給装置
US20090280080A1 (en) * 2008-05-09 2009-11-12 Lavay Carter Aryl silicone polyester resins as hair glossers
IT1393250B1 (it) * 2009-03-03 2012-04-12 Air Liquide Italia S P A Metodo ed impianto per refrigerare e/o movimentare fluidi mediante l'uso di gas criogenici liquefatti
WO2011024651A1 (ja) * 2009-08-31 2011-03-03 独立行政法人石油天然ガス・金属鉱物資源機構 スラリー調製方法、スラリー調製装置、炭化水素合成反応装置、及び炭化水素合成反応システム
US8414684B2 (en) * 2010-06-01 2013-04-09 Dionex Corporation High pressure degas assembly for chromatography system and method
FR2969994B1 (fr) * 2011-01-05 2013-02-08 Hypred Dispositif de raccordement d'une cuve de stockage a une alimentation et procede de gestion d'un tel raccordement
FR2976260B1 (fr) * 2011-06-09 2013-07-05 Air Liquide Procede de conditionnement de melanges no/n2 avec etapes de purge et rincage gazeux prealable
FR2976258B1 (fr) 2011-06-09 2014-09-05 Air Liquide Installation de conditionnement de no a debitmetres massiques
US8927059B2 (en) * 2011-11-08 2015-01-06 Applied Materials, Inc. Deposition of metal films using alane-based precursors
US9238865B2 (en) 2012-02-06 2016-01-19 Asm Ip Holding B.V. Multiple vapor sources for vapor deposition
US20150153003A1 (en) * 2013-09-17 2015-06-04 J. W. Randolph Miller Nitric oxide cylinder filling apparatus and method
JP5999073B2 (ja) * 2013-11-20 2016-09-28 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体
US20150321859A1 (en) * 2014-05-06 2015-11-12 Air Liquide Large Industries U.S. Lp Method And Apparatus For Providing Over-Pressure Protection For An Underground Storage Cavern
CN109477216A (zh) * 2016-03-28 2019-03-15 应用材料公司 去除气体管线内的沉积后残余的前驱物的设备和方法
US10184496B2 (en) * 2016-12-06 2019-01-22 Airgas, Inc. Automatic pressure and vacuum clearing skid method
KR101965805B1 (ko) * 2017-04-17 2019-04-04 한밭대학교 산학협력단 열 응답성을 향상시킨 캐니스터
KR101959244B1 (ko) * 2017-08-03 2019-03-18 전연자 수도배관 세척방법
US10353404B1 (en) * 2017-12-22 2019-07-16 Lincoln Industrial Corporation Fluid dispenser and evacuator
US10351413B1 (en) 2017-12-22 2019-07-16 Lincoln Industrial Corporation Fluid dispenser having pressure regulator
US10351414B1 (en) * 2017-12-22 2019-07-16 Lincoln Industrial Corporation Fluid handling device having valve
CN108506730A (zh) * 2018-05-09 2018-09-07 苏州卫鹏机电科技有限公司 一种供气系统及其供气方法
CN109353983A (zh) * 2018-10-18 2019-02-19 江阴江化微电子材料股份有限公司 一种化学品槽车的移动式自动充填装置
AU2020285721A1 (en) 2019-05-28 2022-01-06 Illumina, Inc. Two-phase flushing systems and methods
US11788190B2 (en) 2019-07-05 2023-10-17 Asm Ip Holding B.V. Liquid vaporizer
US11946136B2 (en) 2019-09-20 2024-04-02 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing device
US11596983B2 (en) * 2020-05-27 2023-03-07 Viavi Solutions Inc. Monitoring solvent in a fiber cleaning device
CN112032393B (zh) * 2020-07-20 2022-11-18 黄友耐 一种液化气专用阀
KR102379062B1 (ko) * 2020-09-25 2022-03-28 대우조선해양 주식회사 선박의 저장탱크 온도 조절 시스템 및 방법
CN115254815A (zh) * 2022-06-28 2022-11-01 上海至纯系统集成有限公司 一种液态前驱体供液设备

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2614338B2 (ja) 1990-01-11 1997-05-28 株式会社東芝 液体ソース容器
US5148945B1 (en) * 1990-09-17 1996-07-02 Applied Chemical Solutions Apparatus and method for the transfer and delivery of high purity chemicals
US5460297A (en) * 1992-03-05 1995-10-24 Abcc/Tech Corp. Paint tinting apparatus
US5360139A (en) * 1993-01-22 1994-11-01 Hydra Rig, Inc. Liquified natural gas fueling facility
US5359787A (en) 1993-04-16 1994-11-01 Air Products And Chemicals, Inc. High purity bulk chemical delivery system
US5878793A (en) * 1993-04-28 1999-03-09 Siegele; Stephen H. Refillable ampule and method re same
US5607002A (en) 1993-04-28 1997-03-04 Advanced Delivery & Chemical Systems, Inc. Chemical refill system for high purity chemicals
US5465766A (en) 1993-04-28 1995-11-14 Advanced Delivery & Chemical Systems, Inc. Chemical refill system for high purity chemicals
US5950693A (en) * 1993-04-28 1999-09-14 Advanced Delivery & Chemical Systems, Ltd. Bulk chemical delivery system
US5964254A (en) 1997-07-11 1999-10-12 Advanced Delivery & Chemical Systems, Ltd. Delivery system and manifold
US6199599B1 (en) 1997-07-11 2001-03-13 Advanced Delivery & Chemical Systems Ltd. Chemical delivery system having purge system utilizing multiple purge techniques
US6258170B1 (en) * 1997-09-11 2001-07-10 Applied Materials, Inc. Vaporization and deposition apparatus
US5964230A (en) 1997-10-06 1999-10-12 Air Products And Chemicals, Inc. Solvent purge mechanism
FR2782506B1 (fr) * 1998-08-18 2000-09-22 Labeille Ets Dispositif et procede de distribution de suspension abrasive pour le polissage mecanique de substrat
US6168048B1 (en) * 1998-09-22 2001-01-02 American Air Liquide, Inc. Methods and systems for distributing liquid chemicals
US6217659B1 (en) 1998-10-16 2001-04-17 Air Products And Chemical, Inc. Dynamic blending gas delivery system and method
US6264064B1 (en) * 1999-10-14 2001-07-24 Air Products And Chemicals, Inc. Chemical delivery system with ultrasonic fluid sensors

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006319060A (ja) * 2005-05-11 2006-11-24 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude 配管のクリーニング方法
US10551004B2 (en) 2011-05-28 2020-02-04 Entegris, Inc. Refillable ampoule with purge capability

Also Published As

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