JP2004537058A

JP2004537058A - 光学系、特に対物レンズ光学系を測定するためのシステム

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Publication number: JP2004537058A
Application number: JP2003517671A
Authority: JP
Inventors: アレクサンダー・コール; フーベルト・ホルダラー; ヴェルナー・ラング; ハルトムート・ブランデンブルク; ヨハネス・ラウ; ベルンハルト・ゲルリッヒ; アーミン・ショーパッハ
Original assignee: カールツァイスエスエムテーアーゲー
Priority date: 2001-07-26
Filing date: 2002-07-20
Publication date: 2004-12-09
Also published as: DE10136388A1; WO2003012548A3; WO2003012548A2; US20080100930A1; US20040257675A1

Abstract

光学系、特に対物レンズ光学系を測定するためのシステムであって、該システムは、測定装置を有し、該測定装置には、少なくとも位置特定のための測定部が設けられるとともに、少なくとも角度特定のための測定部が設けられ、このとき、前記位置を特定する測定部と前記角度を特定する測定部に対して、少なくとも一つの共通の基準参照面が設けられている。接触式の測定システムには、計測テーブルと、少なくとも一つの測定部を備えた測定ヘッドとが設けられ、前記光学的な測定システムは、光源と、ビーム成形のためのシステムと、結像のためのシステムと、少なくとも一つの光学測定ヘッドとを備えている。前記共通の基準は、前記計測テーブルの表面によって、又は前記測定対象の構成部材ないし構成グループそのものによって、又は追加の参照部材によって形成されている。

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学系、特に対物レンズ光学系を測定するためのシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体リソグラフィにおいて対物レンズ光学系を組み立てる場合には特に、対物レンズ光学系の部材は、位置座標においてだけでなく角度座標においても、互いに高い絶対精度で調整されなければならない。
【０００３】
これに対してよく知られているのは、例えば接触式の測定プローブを持った接触式測定ヘッドと、計測テーブルとを有する測量器具ないし測定装置である。こういった測量器具は、例えばポータル型ないしポスト型の測定装置として構成されており、自由に選べる一つの参照点を基準にして、高い精度で絶対位置を特定することができる。しかしながら問題なのは、正確な位置特定に加えて、さらにまだ正確な角度位置を把握しなければならない場合である。例えばＨデザイン（H-Design）の対物レンズ光学系等の場合に言えるように、対物レンズ光学系において複数の光軸が存在するときには、さらなる困難に突き当たる。この種の対物レンズ光学系は、それぞれが自らの「副軸（Unterachse）」を光軸として持つような多くの副グループ／下位グループ（Untergruppe）から組み立てられており、このとき、個々の軸線は、角度においてだけでなく、各副グループの中心をも基準にして、所定の距離の位置に非常に高い精度で相互に設置されなければならない。特に、各光軸は、非常に正確に配置されなければならない。
【０００４】
従来技術一般に関しては、特許文献１としての米国特許第６１９５２１３号明細書を参照されたい。
【特許文献１】
米国特許第６１９５２１３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、上述した類の構成部材を測定するためのシステムであって、複数の部材ないし副グループから組み立てられた構成部材を位置ならびに角度に関して非常に正確に調整するシステムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この課題は、本発明により、請求項１の特徴部分に記載の構成により解決される。
【０００７】
本発明による解決手段の核心は、これまでのように、幾何学的な値、従って長さや角度、つまりは位置と方位、を測定するのに、接触式の測定システムか光学的な測定システムかのどちらか一方を手にするのではなく、本発明により、２つの独立した測定システムを設けて、これらのシステムの双方が互いに独立して機能するにもかかわらず、共通の測定基準を参照するようにするという点にある。
【０００８】
とは言うものの、別構成として、２つの異なる測定基準を作り、次にこれら２つの部分基準を共通の計算上の全体基準にまとめることも可能である。言い換えれば、２つのゼロ点を用意して、次にこれら両方のゼロ点を互いに照応させ、これにより、計算上の全体基準を設けるようにするのである。これは、例えば、各々座標原点を一つの球から取ってくる互いに独立して動作する２つの測定プローブを用いて行うことができる。
【０００９】
このようにして、ｘ、ｙ、及びｚ方向における座標系と、３つの立体角とで、全体で６自由度の基準が与えられている。
【００１０】
本発明により、正確な位置特定のための測量器具を、例えばオートコリメーション望遠鏡ないし干渉計等の光学的な測定システムと組み合わせることで（このとき、２つの測定システムは、同じ基準面を持つ、すなわち、同じ基準を参照している）、構成部材を、位置の特定に関してだけでなく角度の特定に関しても正確に測定することができ、次いで正確に組み立てることができる。
【００１１】
これによって特に、２つの測定システムを同時に、順番に、あるいはまた交互に入れ替えて用いることができ、しかもこのとき、測定対象の構成部材の位置を変える必要がない。
【００１２】
これら２つの測定方法は、最適に関連し合って互いに補い合っている。これは、例えば接触式の測定プローブを持った測定部が、主として長さ、平面度、及び形状を測るのに対して、光学的な測定システムは、とりわけ角度ならびに角度位置を測るためである。測定部ならびに接触式の測定プローブを有する機械的な測定システムに関しては、周知の測定装置を用いることができる。
【００１３】
光学的な測定システムは、接触式の測定システムに比べてかなり正確なので、これにより、測定システム全体がより正確に動作可能になる。角度位置は、０．０５角度秒まで正確に検出することができる。接触式の測定精度は、対応する装置のデータから得ることが出来る。
【００１４】
光学的な測定用の構造は、例えばしっかりと測定装置に固定する等して、きちんと組み立てた構成にすることができる。
【００１５】
本発明の好ましい実施形態においては、計測テーブルの表面によって、同一ないし共通の参照面が形成される。
【００１６】
共通の参照面として計測テーブルの表面を用いる代わりに、例えば計測テーブル上に載置された個別の構造部材も勿論用いることができる。この場合には、上記構造部材の面が基準として用いられる。このためには、一般に御影石から構成されている計測テーブルの表面より表面がもっと精密なセラミック製の構造が例えば適している。このような場合には、載置されたセラミック製構造体が基準であり、この構造体の面に対して構成部材が測定され、ないし調整され、これに加えて、該部材が例えば然るべく取り付けられる。
【００１７】
これに代えて、何らかの他の参照部材を設けることもできる。例えば、測定対象の構成部材に関して「０」を取るために測定システムが当接する球の配置構成ないし立方体等である。このように、測定対象の構造体と並んで事実上一つの座標系を与えることができ、この座標系に対して、次にこの座標系と比較しながら測定対象の構成部材が測定される。
【００１８】
その際、構成上極めて有利な本発明の実施形態において、計測テーブル内には、測定対象の構造体の領域において、計測穴が設けられ、この穴を介して、測定光線が直接的、あるいは、ミラーないしプリズム等の光線偏向部によって間接的に導かれ、その結果、光線が参照面（基準面）ならびに計測面に達するようになっている。測定装置内にフライス切削したり穴あけしたりする代わりに、必要ならば、光学的な測量器具を装置上に（フランジ）固定することも勿論可能である。
【００１９】
本発明のさらなる好ましい実施形態においては、２つのフレーム構造体を正確に接合するために、互いに参照点を利用することができる。この場合、下側のフレーム構造体の中心合わせ鍔部／肩部に参照点を設けることができ、その一方で、第２の参照点を前記第１の参照点に対して合わせるべくして、フレーム構造体内、好ましくはプリズムの先端に設ける。
【００２０】
２つのフレーム構造体を互いに正確に接合するために、このようにして参照点を用いることができる。このとき、下側のフレーム構造体の中心合わせ鍔部／肩部には、参照点を設けることができ、その一方で、第２の参照点を前記第１の参照点に対して合わせるべくして、フレーム構造体内、好ましくはプリズムの先端に設ける。
【００２１】
下側のフレーム構造体上で上側のフレーム構造体を精密調整のために軽く動かせるようにするために、空気軸受を設けることができる。
【００２２】
動かすこと自体に関しては、好ましくは圧電素子を設けることができる。とは言え、下側のフレーム構造体上で上側のフレーム構造体を移動させるための他の装置も勿論可能である。
【００２３】
好ましい発展形態ならびに実施形態は、残りの下位請求項から読み取れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下に、本発明の実施形態を図面に基づき原理的に説明する。
【００２５】
測定装置は、周知の構造のポータル測定装置１から概ね構成されている。この測定装置は、御影石ブロックの計測テーブル２を備えている。この計測テーブル２は、下側の部分に横穴４を有した垂直な計測穴３を備えている。上記横穴４の終端部には、オートコリメーション望遠鏡５ないし干渉計がフランジ接続され固定されている。計測穴３が横穴４に出会う地点には、偏向ミラー６が設けられている。計測テーブル２の表面上に、計測穴３上方に設置することができる平面ミラー（不図示）とともに上記偏向ミラー６を用いることで、参照面７としての計測テーブル２の表面に対してオートコリメーション望遠鏡５（もしくは干渉計）を校正することができる。このようにして、オートコリメーション望遠鏡５によって測定すべき面を、計測面７に常に絶対的に照合させることができる。このための前提条件として、計測テーブル２の御影石表面の平面度が要求される精度に適っていることが必要である。
【００２６】
オートコリメーション望遠鏡５ないし干渉計を通して、光学測定ヘッド（例えばＣＣＤカメラ）と組み合わせることで結像が実現される。光学測定ヘッドの代わりに、場合によっては、光学センサを用いることができる。
【００２７】
図２から分かるように、組み立て対象の対物レンズ光学系は、上側のフレーム構造体８と下側のフレーム構造体９とに分けられる。
【００２８】
対物レンズ光学系の光学部材を一体に組み立てるために、ないし組み込むために、先ずはじめに、上側のフレーム構造体８が計測テーブル２上に載置される。フレーム構造体８の下面は、同じく参照面２２として用いられ、平面度に関して、計測テーブル２の参照面７に対するものと同じ要求に適合させられている。上側のフレーム構造体８には、プリズム１０が組み込まれると同時に、平面ミラー１１が側方にフランジ付けされ固定される。次に、補助面としてのプリズム１０の下面が、オートコリメーション望遠鏡５（もしくは干渉計）によってアライメントされる（ここで、図１中の光路ａを参照されたい）。この補助面は、光学系製造時において、前側の面に対して然るべき角精度を有して設けられる。このようにして、プリズム１０は、水平面内において、然るべき精度でアライメントされる。
【００２９】
続いて、平面ミラー１１とプリズム１０がオートコリメーション望遠鏡５によってアライメントされる（光路ｂ参照）。このとき留意すべきなのは、オートコリメーション望遠鏡５から出る光線が平面ミラー１１によって自分自身に跳ね返されることである。このようにして、参照面７ならびにフランジ付け面を基準にしたプリズム１０の光学的作用面、ないし、まださらに平面ミラー１１のフランジ付け面が然るべき精度でアライメントされる。
【００３０】
さて、ポータル測定装置の測定ヘッド１２は、プリズム１０の先端からの平面ミラー１１までの距離を把握するために用いられる。これに対しては、良く知られているように、測定ヘッド１２の接触式の測定部１３（taktiles Messglied）が用いられる。測定部１３を用いて測定するために、測定ヘッド１２は、計測テーブルの表面上で然るべく位置がずらされる。距離が合っていない場合には、距離が補正され、その際、上述した項目がそれに応じて繰り返される。加えて、参照面７までのプリズム１０の距離が補正され、同じく必要とあらば変更され、その際、同じく前述の項目が繰り返される。
【００３１】
次に、平面ミラー１４が上側のフレーム構造体８上に載置される。平面ミラー１４は、オートコリメーション望遠鏡（もしくは干渉計）を用いて、角度に関して参照面７に対してアライメントされる（光路ｃ参照）。対物レンズ光学系を組み立てる際には、平面ミラー１４は、レンズないしレンズ群１４′に置き換えることができる。最後に、測定ヘッド１２を用いて、プリズム１０の先端までの平面ミラー１４の距離が再度チェックされる。もし、距離が合っていない場合には、距離が補正され、その際、先述した工程が繰り返される。
【００３２】
これらの測定ステップを終えると、フレーム構造体内部の部材、特に、レンズを有するミラー群に後から置き換えることも勿論できる平面ミラー１１が、位置に関してはプリズム１０の先端に、そして、角度に関しては参照面７に、精度に応じて絶対的にアライメントされた状態になっている。同時に、プリズム１０の高さも、参照面７を基準にして絶対的に調整されている。明らかに分かるように、上で記した測定システムを用いると、測定すべき構造の部材、つまり今の場合、上側のフレーム構造体８を、位置においてだけでなく角度においても、同一の測定装置に関して高い精度で絶対的に測定ないし調整することができる。
【００３３】
周知のように、測定対象の構造体、今の場合上側のフレーム構造体８は、一つないし複数の接触式の測定部１３を然るべく接触させることのできる相応の参照鍔部／肩部（Referenzbuende）（不図示）を有している。
【００３４】
上記の新しい測定システムは、接触式のシステムと光学的なシステムとから組み合わされた測定技術であるが、これら両方の測定システムに対する共通の参照面７に特徴があり、これにより、２つの方法による測定結果を直接比較することができ、互いに組み合わせることができる。このように、従来技術の場合のように、必然的に校正エラーを生じさせてしまうような、所定の測定のために一つの加工品を２つの測定場所の間で行ったり来たりさせることはもはや不要である。
【００３５】
本発明に係るシステムのさらなる長所は、両方の測定システムを並行に働かせて、２つの測定場所の間での輸送時間ならびに移し替えの時間を全て無くすことで、時間の節約にもなるという点である。
【００３６】
参照面７としての計測テーブル２の表面を両方の測定システムに対して使うことで、システマティックな校正エラーが生じ得ない。
【００３７】
有利なのは、測定装置１を組み立て場所ならびに調整場所として拡張することである。測定装置１上において、測定対象の構造体ないし該構造体の部材に関する補正を行うことができ、従って、参照面もしくは参照点を基準にした校正や照合が２つの測定システムにおいて失われないようにしながら、該当する部材の位置ならびに角度における然るべき変化を直ぐにでも特定ないし測定することができる。２つの測定システムを用いることを含めて、組み立てならびに調整工程は、繰り返し行うことができ、しかもこのとき測定装置を新たに校正する必要がない。
【００３８】
下側のフレーム構造体９に屈折型の部材１７を組み込むために、参照面７を有する計測テーブル２上に該フレーム構造体９が載置される。組み立て対象の対物レンズ光学系の屈折型部材１７は、さらに下側のフレーム構造体９の穴に挿入され、その際、屈折型部材１７の一部が計測穴３の中にまで達する（図４参照）。
【００３９】
以下に、部材が上側のフレーム構造体８と下側のフレーム構造体９とに組み込まれている対物レンズ光学系の組み立てについて述べる。このとき、個々の構成部材の位置と角度が然るべく正確に合っていることが前提となる。このために、下側のフレーム構造体９の上面に、さらなる基線もしくは参照面１５が設けられる。参照面１５は、従って、２つのフレーム構造体８，９が一つに組み合わされる個所に存在する。このとき、組み立ては、同じく測定装置１上で行うことができる。ここで、上で説明したように、上側のフレーム構造体８内の光学的な構成部材は、参照面２２に対して、そして位置に関してはプリズム１０の先端に対して照合されている。このように、上側のフレーム構造体８を下側のフレーム構造体９上に載置することによって、そして、上側のフレーム構造体８をずらして移動させることによって、２つの対物レンズ光学系の部材の参照点を互いに必要な精度で調整することができる。上側のフレーム構造体８に組み込まれた構成部材に対しては、参照点１６としてプリズムの先端が用いられ、下側のフレーム構造体９に組み込まれた対物レンズ光学系の屈折型部材１７に対しては、屈折型部材１７の主フランジ部もしくは中心合わせ肩部１９（Zentrierbund）上の参照点１８が用いられる。
【００４０】
２つのフレーム構造体８，９は、セラミックから構成できることが好ましい。同じ事が、主フランジ部ないし中心合わせ肩部１９に対しても当てはまる。上記中心合わせ肩部１９の中心ないし参照点１８は、構成部材群（Baugruppe）の中心を形成する。この中心は、測定ヘッド１２を相応にずらして動かす際に、接触式の測定部１３を用いて、計測テーブル２を基準にして割り出される。このようにして構成部材群の中心が見つけ出されたら、予め計測穴３内での測定のために挿入された屈折型部材１７の上方に、上側のフレーム構造体８が設置される。ここで、このフレーム構造体８の中では既に他の対物レンズ光学系部材が位置合わせ、角度合わせされた状態で組み立てられている。また、このとき、上側のフレーム構造体８は、下側のフレーム構造体９の上に載置される。
【００４１】
正確な調整のために、上側のフレーム構造体８の参照面２２は、参照点１６が参照点１８（に対して、もしくは）を基準にして、予め計算で求められた位置に正確に来るまで、下側のフレーム構造体の参照面１５上で然るべくずらされて移動させられる。
【００４２】
２つの構成部材において光軸が参照面７，２２に対して垂直に合わせられていたおかげで、光軸合わせが失われることもなく参照面１５に沿ってずらすことができるという点が重要である。
【００４３】
下側のフレーム構造体９上に上側のフレーム構造体８を載置した後、まだ必要なのは、２つの参照点１６，１８を互いに揃えることだけである。そのために、上側のフレーム構造体８は、許容範囲に達するまで、然るべく下側のフレーム構造体９上でずらして動かされる。
【００４４】
この場合、決定的な意味を持っているのは、先に行われた基準合わせないし調整を変えることなく、下側のフレーム構造体９の参照面１５上で上側のフレーム構造体８をずらして動かせるように、計測テーブル２の参照面７に対する照合がなされるという点である。また、このために前提となるのは、その際に予め角度が設定されているということである。参照点１６，１８を互いに合わせるために、下側のフレーム構造体９上で上側のフレーム構造体８の位置をずらす際に、角度はもはや変更されない。その結果、それらの光軸も正確に合っていることをこのことは意味している。
【００４５】
２つの構成部材、すなわち、上側のフレーム構造体８と下側のフレーム構造体９から、対物レンズ光学系を一つに組み立てる代わりに、さらに多くの副グループに分けることも、本発明の枠組みの中で勿論可能である。
【００４６】
基本的には、３つの参照平面ないし参照面が存在する。すなわち、参照面７として計測テーブル２の表面、上側のフレーム構造体８の下面側の参照面２２、及び下側のフレーム構造体９の上面上の参照面１５である。計測テーブル２の参照面７は、このとき、基準面としての役割を果たす。
【００４７】
測定装置１によって距離ｂ_１およびｂ_２が特定される一方で、オートコリメーション望遠鏡５上方の光学的な測定システムを用いて、角度位置がチェックされ、調整される。
【００４８】
計測テーブル２上で対物レンズ光学系の上側部材と下側部材を一体に組み立てる代わりに、別の場所で組み立てを行うことも勿論できる。
【００４９】
２つの参照点１６，１８を互いに正確に調整した後、２つの対物レンズ光学系部材が接合、つまり上側のフレーム構造体８が下側のフレーム構造体９に接合され、これにより対物レンズ光学系が構成される。この接合は、ネジ止め等、任意のやり方で行うことができる。
【００５０】
図５のように、上側のフレーム構造体８を下側のフレーム構造体９につなぎ合わせる際に、参照面１５上で動かすとき、非常に正確かつ摩擦無く動かすことができるように、２つの部材の間に、空気軸受２０によるエアクッションが形成されてもよい。図５には、空気軸受２０が単に概略的にのみ示されている。このようにして、上側部材、つまりフレーム構造体８は、非常に滑らかに（摩擦無く）下側のフレーム構造体９上で移動させることができる。センサならびにアクチュエータ、例えばピエゾマニプレータ２１等を用いれば、上側のフレーム構造体８を正確に調整することができる。組み立ての際には、ピエゾマニプレータ２１のコンピュータ支援制御用の入力信号として、参照点１６を持つプリズム１０の先端に接触する測定部１３の信号を用いることができる。
【００５１】
対物レンズ光学系を極めて正確に調整して位置決めするためには、フレーム構造体、つまり、上側のフレーム構造体８および下側のフレーム構造体９の外面を極度に精密に加工して仕上げ、これにより、対物レンズ光学系の副グループのための正確なインターフェース面（境界面）を作るようにすることが必要である。このとき、外面の平面、それも特に下側の外面、つまりは上側のフレーム構造体８の参照面２２の平面、ならびに参照面１５を形成するフレーム構造体９の上側の面の平面と、外側面との間の角度αも問題となる。
【００５２】
表面ラップ仕上げ／研磨等により、比較的容易に、非常に平らに、しかも極めて小さな角度許容差でフレーム構造体８，９の外面を加工処理することができる。このようにして作製された平らな干渉面（Interferenzflache）は、構成要素の中心合わせ、特に、然るべく正確に動かすことで、下側の構造体９に対して上側の構造体８を調整することを可能にする。半径方向に中心合わせする付加的なインターフェース面（境界面）は、一般的にはもはや不要である。
【００５３】
対物レンズ光学系を組み立てる一方で、ミラー群１１′も、上側のフレーム構造体８の対応するインターフェース面に沿って極めて正確に位置決めしなければならない。このために、ピエゾ素子を有する昇降式台２３が用いられる。ここで、ピエゾ素子は、電気的なパワーが加えられると、昇降式台２３の長さを極めて高い感度で変更する。ここで、昇降式台２３は、図示されぬピエゾ素子を作動させると、矢印２４によって図示された作動方向に従って、上側のフレーム構造体８の外面、つまりはインターフェース面側のミラー群１１のネジ止め固定面内で動かされるように構成されている。
【００５４】
インターフェース面は、特に当該面の平面度ならびに当該面の角度方位に関して、とりわけ正確に加工されていなければならない。このように、前もって仕上げられているために、もはや２つの角度を測定する必要はなく、あるいは、もはやこれらの角度を調整する必要はなくなる。
【００５５】
従って、昇降式台２３は、測定装置１とは別の独立した装置として形成することができ、ミラー群１１′の然るべきアライメントに用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明による測定装置の概略図である。
【図２】Ｈ型構成（H-Design）による対物レンズ光学系のための２つのフレーム構造体を示す図である。
【図３】プリズム、ミラー群、及びレンズを組み込んだ後の、図２によるフレーム構造体の上側の方の部分を示す図である。
【図４】対物レンズ光学系の屈折型部材を組み込んだ後の、図２によるフレーム構造体の下側の方の部分を示す図である。
【図５】対物レンズ光学系の上側の部材と下側の部材とを一つに組み立てた状態を示す図である。
【符号の説明】
【００５７】
１・・・ポータル型測定装置（測定装置）
２・・・計測テーブル
３・・・計測穴
４・・・横穴
５・・・オートコリメーション望遠鏡
６・・・偏向ミラー（光線偏向部）
７・・・（基準）参照面（計測テーブルの表面）
８・・・上側のフレーム構造体
９・・・下側のフレーム構造体
１０・・・プリズム
１１・・・平面ミラー
１１′・・・ミラー群（部分系）
１２・・・測定ヘッド
１３・・・接触式測定部
１４・・・平面ミラー
１５・・・参照面（構造体の参照面）
１６・・・参照点（構造体に組み込まれた部材の参照点）
１７・・・屈折型部材（光学的な部分系）
１８・・・参照点（構造体に組み込まれた部材の参照点）
１９・・・中心合わせ肩部
２０・・・空気軸受
２２・・・参照面（構造体の参照面）
２３・・・昇降式台

Claims

光学系、特に対物レンズ光学系を測定するためのシステムであって、測定装置（１）を有し、該測定装置には、少なくとも位置特定のための測定部（１３）が設けられるとともに、少なくとも角度特定のための測定部（５）が設けられ、このとき、前記位置を特定する測定部（１３）と前記角度を特定する測定部（５）に対して、少なくとも一つの共通の基準参照面が設けられているシステム。
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記位置を特定する測定部（１３）は、接触式の測定プローブを備えていることを特徴とするシステム。
請求項１または請求項２に記載のシステムにおいて、
前記角度を特定する測定部は、オートコリメーション望遠鏡（５）ないし干渉計を備えていることを特徴とするシステム。
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のシステムにおいて、
前記接触式の測定システムには、計測テーブル（２）と、少なくとも一つの測定部（１３）を備えた測定ヘッド（１２）とが設けられ、前記光学的な測定システムは、光源と、ビーム成形のためのシステムと、結像のためのシステムと、少なくとも一つの光学測定ヘッドとを備えていることを特徴とするシステム。
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のシステムにおいて、
前記共通の基準は、前記計測テーブルの表面（２）によって、又は前記測定対象の構成部材ないし構成グループそのものによって、又は追加の参照部材によって形成されていることを特徴とするシステム。
請求項４に記載のシステムにおいて、
前記計測テーブル（２）の前記測定対象の構造体（８，９）の部分には、計測穴（３）が設けられ、該計測穴を介して、前記測定光線が直接的に、あるいは、光線偏向部（６）を介して間接的に導かれるように設けられていることを特徴とするシステム。
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のシステムにおいて、
対物レンズ光学系の場合に、当該対物レンズ光学系の構成グループとして少なくとも２つのフレーム構造体（８，９）が形成されていることを特徴とするシステム。
請求項７に記載のシステムにおいて、
下側のフレーム構造体（９）には、参照面（１５）が設けられ、該参照面上に、前記対物レンズ光学系（１９）の屈折型部材（１７）等の光学的な部分系が載置され、該部分系には、中心合わせ肩部（１９）等の少なくとも一つの参照面が設けられていることを特徴とするシステム。
請求項８に記載のシステムにおいて、
前記部分系の前記参照面は、参照点（１８）を形成し、該参照点が、前記上側のフレーム構造体（８）内の参照点（１６）に対して調整されるように構成されていることを特徴とするシステム。
請求項９に記載のシステムにおいて、
前記上側のフレーム構造体（８）内の前記参照点（１６）は、プリズム（１０）の先端によって形成されていることを特徴とするシステム。
請求項７から請求項１０のいずれか１項に記載のシステムにおいて、
前記下側のフレーム構造体（９）上で前記上側のフレーム構造体（８）を動かすために、空気軸受（２０）が設けられていることを特徴とするシステム。
請求項７から請求項１１のいずれか１項に記載のシステムにおいて、
前記下側のフレーム構造体（９）上で前記上側のフレーム構造体（８）を動かすために、微調整部材、とりわけ圧電素子ないしローレンツモータないし調整ネジないしそれに類似のもの（２１）が設けられていることを特徴とするシステム。
請求項７から請求項１２のいずれか１項に記載のシステムにおいて、
前記２つのフレーム構造体（８，９）のインターフェース面が外側にある面によって形成されていることを特徴とするシステム。
請求項１３に記載のシステムにおいて、
前記インターフェース面は、高い角精度と平面度のために、表面ラップ仕上げ／研磨、ないし研削、ないしそれに類似のものによって作製されていることを特徴とするシステム。
請求項７から請求項１４のいずれか１項に記載のシステムにおいて、
前記計測テーブル（２）には、昇降式台（２３）が設けられ、該昇降式台によって、前記上側のフレーム構造体（８）上にフランジ付けされるミラー群等の部分系（１１′）が、前記部分系（１１′）の固定面に沿って、前記上側のフレーム構造体（８）上で移動可能とされていることを特徴とするシステム。
請求項１５に記載のシステムにおいて、
前記昇降式台（２３）には、該昇降式台（２３）を調整するための圧電素子（１１）、ないしローレンツモータ、ないし調整ネジ、ないしそれに類似のものが設けられていることを特徴とするシステム。
リソグラフィによる結像工程における半導体チップの製造のために、請求項１から請求項１６のいずれか１項により組み立てられた対物レンズ光学系。
マイクロリソグラフィのための投影対物レンズ光学系において、
請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載のシステムを有していることを特徴とする投影対物レンズ光学系。