JP2004523610A - 低光学損失ポリマー - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
本発明は、重合させて低光損失を示す物質を形成させることが可能なフッ素化化合物および、重合性フッ素化化合物から作製される平面導波路デバイスに関する。
【背景技術】
【0002】
ポリマー材料を用いて、光スイッチ、可変減衰器および可変グレーティングのような平面導波路デバイスを作製することについては公知である。ポリマーからの導波路デバイスは一般に、低屈折率の下部クラッド層、高屈折率のコア層、それに低屈折率の上部クラッド層で構成される。
【0003】
ポリマー材料からの導波路部品を作製するための典型的な方法では、基板の表面の上に液状重合性組成物を付着させ、次いでその付着させたコーティングを重合させることを含む。フッ素化したアクリレート液状モノマーは、無溶媒という利点を有し、複屈折が非常に少ない低損失の導波路構造を提供することができる。しかしながら、このタイプの従来の重合性コーティング組成物には一般に、いくつかの欠点がある。典型的な組成物が持っている大きな欠点は、重合させた物質の屈折率が通常、シリカより実質的に低いことである。その結果、平面光学デバイスのポリマー導波路の屈折率と、導波路に接続される光学ファイバーのシリカ導波路との間で、ミスマッチが生じることになる。この屈折率でのミスマッチがあると、導波路の間の界面でのカップリングロスが大きくなり、また導波路と繊維の界面での案内光学信号(guiding optical signal)の好ましくない反射につながりかねない。平面光学成分に使用される典型的なポリマーが比較的低い屈折率となる原因は、フッ素化モノマーを使用することにある。このフッ素化モノマーは、ポリマー光学材料中の炭素−水素結合の体積密度を下げ、それによってこれらの炭素−水素結合の振動モードにともなう吸収損失を減少させる目的で使用することができる。したがって、シリカ光学ファイバーとポリマー導波路との間でのカップリングロスは、フッ素化モノマーの濃度を低下させることによって減少させることが可能であるが、そうなると吸収損失が大きくなることになって望ましくない。したがって、重合することによって、吸収損失を増大させることなく、シリカの屈折率により近い屈折率を有する光学成分を形成するような、重合性のコーティング組成物を提供することが望ましい。
【0004】
重合性の光学成分を形成するために使用される従来のコーティング組成物が持っているまた別の欠点は、そのような組成物の粘度が、典型的には100センチポアズ未満と低くて好ましくないということである。このように粘度が低いと、スピンコーティングによって塗布することが可能な単一層の厚みに制約が生じる。さらに、材料の粘度が非常に低い場合には、基板またはそれより前にスピンコーティングした層の表面に沿ったり、および/または表面から流れてしまうことも多く、その結果コーティングの厚みが不均一となる。これは望ましいことではない。その理由は、厚みが不均一な層でできた平面導波路では、光の損失が増大したり、その他望ましくない光学的挙動を示すからである。したがって、平面導波路デバイスを作製するためには、比較的粘度が高い重合性組成物が望ましい。
【0005】
平面導波路デバイスを作製するために使用されてきた従来の重合性組成物にともなう他の問題は、そのような組成物で典型的に使用される低分子量のモノマーが、かなりの揮発性を示し、特に組成物を真空に暴露した際の揮発性が高いことである。平面導波路デバイスを作製するために使用される典型的な重合性組成物はモノマーブレンドであり、そのブレンド中の各種のモノマーはそれぞれ異なった相対揮発度を有している。その結果、各種モノマー成分の濃度が、加工工程の間、たとえばスピンコーティングや重合の間に変化してしまう可能性がある。平面導波路デバイスを作製する際に付着させる層は比較的薄いので(たとえば、典型的には約2〜10ミクロン)、モノマー成分の相対揮発度が異なるために組成が変化するようなことがあると、かなり深刻な状況となり、重合させた材料の屈折率を調節することが極めて困難となる可能性がある。重合の際の酸素を排除するために、真空中または窒素雰囲気中でコーティング組成物を重合させるのが、望ましいことが多い。そのような場合は、揮発性が比較的低い場合でさえも、プロセスをコントロールして所望の屈折率を達成するのに必要な組成をコーティングに維持させることが、特に困難となってしまう。揮発性のモノマーはまた、近接転写プロセス(露光のステップの間、マスクと基板との間に距離をおくフォトリソグラフィープロセス)で使用するときにも、揮発性のモノマーが転写の間にマスクを曇らせるために、その性能にも悪影響をおよぼす。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
したがって、粘度がより好適な範囲にあり揮発性が低い、平面導波路デバイスを作製するための重合性組成物で、重合させた時に光吸収損失が低く、その屈折率がシリカ製の光学ファイバーの屈折率により近いような導波路材料が形成できるようなものが得られれば、非常に好ましい。より具体的には、選択された範囲の粘度、低揮発性を示し、重合させて光学ファイバーの屈折率により近い屈折率を有する材料が形成できるフッ素化重合性化合物を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、ポリマー製の導波路を作製するために使用される従来の組成物に付随していた問題点を克服する、フッ素化化合物を提供する。より詳しくは、本発明は、重合させた時に、吸収損失を低く抑えながら、シリカ製の導波路の屈折率により近い屈折率を示すような材料が形成されるようなフッ素化化合物を提供する。このフッ素化化合物は、粘度がより高く、均一の厚みで比較的厚い層を作製するのに適したコーティング組成物においても、使用できる。本発明のフッ素化化合物はさらに、揮発性が比較的低いコーティング組成物を調製するのにも使用することが可能で、これにより、所望の屈折率を有するデバイスを作製することががより容易に調節できるようになり、近接転写での問題も解決できる。
【0008】
本発明の一態様によれば、このフッ素化化合物は、少なくとも1つのフッ素化アルキレンまたはアルキレンエーテル部分、および少なくとも2つの末端アクリレート部分を有している。各末端アクリレート部分は、フッ素化アルキレンまたはフッ素化エーテルの1つ以上の部分に、エステル(−CO2−)結合基によって結合している。
【0009】
本発明はまた、このフッ素化化合物を含む重合性組成物および、そのような組成物から作製する平面導波路デバイスにも関する。
【0010】
本発明のさらなる特徴と利点については、以下の詳細な説明において言及するが、当業者には本明細書の記載からも明らかであろうし、また、以下の記載にさらに特許請求の範囲および添付の図面を加えて、本発明を実施することにより理解されることであろう。
【0011】
以下の記載は本発明を説明するための例示にすぎず、特許請求の範囲において定義されるような本発明の性質と特徴を理解させるために、概括的に説明しようとしたものであることは、理解されたい。添付の図面は本発明の理解をさらに促進するためのものであり、本明細書に取り入れ、その一部を構成しているものである。この図面は本発明の各種の特徴と実施態様を示しており、その説明と合わせることにより、本発明の原理と作用を説明するのに役立つであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
本発明のフッ素化化合物は、多官能高分子であり、多官能有機酸たとえばジカルボン酸とポリオールたとえばジオールとのエステル化反応によって、調製することができる。このエステル化反応生成物では一般的に、そのポリオールおよびポリカルボン酸は数はいくつでもよい。たとえば、1つのジオールと2つのジカルボン酸からの反応生成物は、適当な条件下(たとえば、反応濃度、温度など)では高収率で調整することができる。あるいは、ジオールと二酸の単位を交互に含む、一般的に所望の長さのオリゴマー鎖を形成させようとすると、適切な手法を用いてもよい。さらに、3官能、4官能およびそれ以上の多官能ポリオールおよびポリカルボン酸を用いて、分岐構造を提供することもできる。これらのエステル化反応生成物の末端は、ヒドロキシル基であってもカルボン酸基であってもよい。ヒドロキシル末端の反応生成物は、カルボキシル官能基を有するアクリレートと反応させることができる。好適なカルボキシル官能基を有するアクリレートとしては、アクリル酸、メタクリル酸、カルボン酸基(−COOH)を含むアクリル酸エステル、カルボン酸基を含むメタクリル酸エステル、さらには、対応する酸クロリド(−COCl基を有する化合物)などが挙げられる。カルボン酸末端を有するポリオール−ポリカルボン酸反応生成物は、ヒドロキシ官能基を有するアクリレート、たとえばアクリル酸ヒドロキシエチル(HEA)と反応させることができる。
【0013】
好適なポリカルボン酸の例を挙げれば、クロレンド二酸、イソフタル酸、テトラクロロフタル酸、テトラブロモフタル酸、ピロメリット酸、各種のペルフルオロアルキル酸たとえば、一般式HO2C(CF2)nCO2Hで表される酸、ベンゼントリカルボン酸および各種のアルキルジカルボン酸で一般式(CH2)n(CO2H)2で表されるもの(コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸およびフマル酸など)、フタル酸、テレフタル酸、テトラフルオロフタル酸、ベンゼンテトラカルボン酸、エタントリカルボン酸、プロパントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、およびシクロヘキサンヘキサカルボン酸などが挙げられる。酸よりもむしろ、対応する酸クロリドが使用できる。たとえば、所望の反応生成物を多官能の酸クロリド(たとえばイソフタロイルジクロリド)を適当なポリオールと反応させることによって得ることができる。
【0014】
好適なポリオールの例を挙げれば、オクタフルオロヘキサンジオール、ドデカフルオロオクタンジオール、ヘキサデカフルオロデカンジオール、さらには、各種フッ素化ジオールでアウジモント社(Ausimont S.P.A.)から入手可能なものであり、その商品名がフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)、フルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)Dおよびフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D1000で、一般的な構造がOCH2CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CH2OHであるものである。フルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)Dが約2000の分子量を有し、フルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D1000が約1000の分子量を有する。好適なポリオールのその他の例としては、以下の構造のフッ素化ジオールが挙げられる:HOCH2(CF2OCF2)xCH2OH、式中xは整数である。具体例としては、フッ素化トリエチレングリコール(x=2)および、フッ素化テトラエチレングリコール(x=3)がある。このタイプのフッ素化ジオールは、エクスフルオル・リサーチ社(Exfluor Research Corp.)から市販されている。
【0015】
本発明によれば、ヒドロキシル末端のエステルと反応させて重合性フッ素化化合物を形成させることが可能なアクリレートの例としては、アクリル酸およびメタクリル酸、さらには対応する酸クロリド(たとえばアクリロイルクロリド)などが挙げられる。本発明によれば、カルボン酸またはカルボン酸クロリド末端基と反応させて重合性フッ素化化合物を形成させることが可能な好適なアクリレートの例としては、アクリル酸ヒドロキシエチルが挙げられる。
【0016】
本発明に包含されるその他の重合性フッ素化化合物には、カーボネートのアクリレート誘導体が挙げられる。このタイプの化合物の例としては、ポリオールを、複数のクロロホーメート(−OCOCl)基を有する化合物を反応させて、調製することができる。反応物はカーボネート(−OCO2−)結合によって結合されてカーボネート反応生成物が得られる。この反応生成物は、ヒドロキシル末端にすることもクロロホーメート末端にすることもできるし、また、直鎖状あるいは分岐状のいずれにすることもできる。得られたカーボネート反応生成物は、アクリレートと反応させて、カーボネートのアクリレート誘導体とする。好適なクロロホーメート化合物としては、ヘキサフルオロビスフェノールAビスクロロホーメート、テトラブロモヘキサフルオロビスフェノールAビスクロロホーメート、およびプロパンビスクロロホーメートなどが挙げられる。好適なポリオールの例としては、先に列挙したものがある。その他の好適なポリオールには、ヘキサフルオロビスフェノールAが挙げられる。
【0017】
ヒドロキシル−末端のカーボネートと反応させることができるアクリレートの例としては、カルボン酸官能基を有するアクリレートたとえば、アクリル酸、メタクリル酸や、それらに対応する酸クロリドが挙げられる。クロロホーメート末端のカーボネートと反応させることができるアクリレートの例としては、ヒドロキシル官能基を有するアクリレートたとえば、アクリル酸ヒドロキシエチルおよびメタクリル酸ジヒドロキシプロピルなどが挙げられる。
【0018】
フッ素化ポリオールから合成した重合性のフッ素化ポリエステルアクリレートは一般式:
【0019】
【化1】
【0020】
式中、
Bdは式R−(CO2−)2で表される部分であり、
B1および各B2は独立して一般式R−(CO2−)iで表される部分であり、
ここでiは2〜6の整数であり、各Rは独立して場合によりハロゲン化されていてもよい芳香族または脂肪族部分であり、
n、m、Lは整数であり、Lとmのうちの少なくとも1つは0より大きく、gおよびhは0〜10の整数であり、
Aは式CY2=C(X)−CO2−で示され、
ここでYはHまたはDであり、XはH、D、F、ClまたはCH3であり、
Wは式:
【0021】
【化2】
【0022】
のうちの1つを示し、ここで
rは2より大きいかまたは2に等しい整数であり、
各Rfは独立して式:−CH2(CF2)tCH2−、−CH2CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2CH2−、−CH2CH2OCH2CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2CH2OCH2CH2−、または−CH2CF(CF3)O(CF2)4O[CF(CF3)CF2O]pCF(CF3)CH2−の1つを示し、
ここでk、p、qおよびtは整数であり、qは場合によりゼロであってもよい、
で示される。
【0023】
Bd、B1およびB2の例は、先に述べたポリカルボン酸および対応する酸クロリドから選択することができる。Rf基は対応するフッ素化ジオールから導入される。使用可能な好適なフッ素化ポリオールの例は、先に挙げたものである。
【0024】
フッ素化二酸から調製される重合性のフッ素化ポリエステルアクリレートは一般式:
(A)r−D1−(Rf−((Dd−Rf)g−D2−(A)u)t
式中、
各Ddは独立して一般構造R−(CH2O−)2を有する部分であり、
ここで各Rは独立して場合によりハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族部分であり、
D1および各D2は独立して一般構造R’−(CH2O−)iを有する部分であり、
ここで各R’は独立して場合によりハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族部分であり、iは2〜6の整数であり、
Aは式CY2=C(X)−C(O)−を示し、
ここでYはHまたはDであり、XはH、D、F、ClまたはCH3であり、
各Rfは独立して式:−(O)C−(CF2)n−C(O)−、−(O)C−CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2−C(O)−または−(O)C−CF(CF3)O(CF2)4O[CF(CF3)CF2O]pCF(CF3)−C(O)−の1つを示し、
ここでg、n、p、q、r、uおよびtは整数であり、rおよびtのうちの少なくとも1つは正の整数であり、qは場合によりゼロであってもよい、で示される。Dd、D1およびD2の例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、カテコール、ヒドロキノンおよびテトラフルオロヒドロキノンから誘導されるものがある。D1およびD2の例には、グリセリン、ブタントリオール、スクロース、ペンタエリスリトール、ピロガロールおよびフロログルシノールがある。Rf基は、ポリカルボン酸または対応する酸クロリドから誘導される。例を挙げれば、テトラフルオロコハク酸、ヘキサフルオログルタル酸、オクタフルオロアジピン酸、ドデカフルオロスベリン酸、テトラデカフルオロアゼライン酸およびフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)C(アウジモント(Ausimont)社から入手可能)などがある。フルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)Cは次の構造を有している、
HO2C−CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2−CO2H
その他の例では、以下の構造のフッ素化した二酸および対応する酸クロリドがある:HO2C(CF2OCF2)xCO2H、式中xは整数である。具体例を挙げれば、ペルフルオロ−3,6−ジオキサオクタン−l,8−二酸(x=2)およびペルフルオロ−3,6,9−トリオキサウンデカン−1,11−二酸(x=3)などがある。このタイプのフッ素化二酸は、エクスフルオル・リサーチ社(Exfluor Research Corp.)から市販されている。
【0025】
フッ素化ジオールから作ったカーボネートのアクリレート誘導体は一般式:
【0026】
【化3】
【0027】
式中、
各Edは独立して一般構造R−(OCO2−)2を有する部分であり、
ここで各Rは独立して場合によりハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族部分であり、
E1および各E2は独立して一般構造R’−(OCO2−)iを有する部分であり、
ここで各R’は独立して場合によりハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族部分であり、iは2〜6の整数、
n、mおよびLは整数であり、Lおよびmのうちの少なくとも1つは0より大きく、
gおよびhは0〜10の整数であり、kは正の整数であり、
Aは一般式CY2=C(X)−CO2−を示し、
ここでYはHまたはDであり、XはH、D、F、ClまたはCH3であり、
各Wは独立して式:
【0028】
【化4】
【0029】
の1つを示し、ここで
rは2より大きいかまたは2に等しい整数であり、
各Rfは独立して式:−CH2(CF2)tCH2−、−CH2CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2CH2−、−CH2CH2OCH2CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2CH2OCH2CH2−、または−CH2CF(CF3)O(CF2)4O[CF(CF3)CF2O]pCF(CF3)CH2−のうちの1つを示し、
ここでp、qおよびtは整数であり、qは場合によりゼロであってもよい、
で示される。
【0030】
これらのタイプのポリカーボネートは、脂肪族または芳香族クロロホーメートを先に述べたフッ素化アルキルまたはフッ素化エーテルジオールと反応させ、ついでアクリレートを形成させることにより誘導することができる。これらのクロロホーメートの例を挙げれば、フェニレンビスクロロホーメート、ビスフェノールAビスクロロホーメート、ヘキサフルオロビスフェノールAビスクロロホーメート、ヘキサンビスクロロホーメート、トリプロピレングリコールビスクロロホーメート、クロレンドビスクロロホーメート、およびトリメチロールプロパントリクロロホーメートなどが挙げられる。
【0031】
このタイプのポリカーボネートはさらに、フッ素化アルキルジオールまたはフッ素化エーテルジオールをホスゲンと反応させ、対応するクロロホーメートを生成させることによって誘導することもできる。これらのクロロホーメートは次いで脂肪族または芳香族ポリオールと反応させてポリカーボネートとし、それをさらにアクリレート化する。このようにして生成させることができる好適なクロロホーメートは、オクタフルオロヘキサンビスクロロホーメート、ドデカフルオロオクタンビスクロロホーメート、ヘキサデカフルオロデカンビスクロロホーメート、および、アウジモント(Ausimont)社からのフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D、フルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D1000およびフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)Eから合成したビスクロロホーメート、それに、エクスフルオル(Exfluor)社からのフッ素化トリエチレングリコールおよびフッ素化テトラエチレングリコールからのビスクロロホーメートなどが挙げられる。
【0032】
好適な脂肪族または芳香族ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、カテコール、ヒドロキノン、およびテトラフルオロヒドロキノン、グリセリン、ブタントリオール、スクロース、ペンタエリスリトール、ピロガロール、およびフロログルシノール、クロレンドジオールなどが挙げられる。
【0033】
本発明の重合性フッ素化化合物(すなわち、フッ素化ポリエステルアクリレートおよびカーボネートのアクリレート誘導体)は、典型的には、約1,000〜約10,000、好ましくは約2,000〜6,000の分子量を有する。そのような化合物はマクロマーまたは高分子量モノマーとみなしてよい。本発明のマクロマーは、ポリマー製の光学成分を調製するのに従来から使用されていた組成物中のモノマーよりは、はるかに高い粘度を有している。典型的には、本発明のマクロマーの粘度は(ASTM 1343−93にしたがって25℃で、ギルモント落球式粘度計により測定)、少なくとも100センチポアズから数千センチポアズ(たとえば、5,000センチポアズ)までである。
【0034】
本発明のフッ素化アクリレートモノマーは、重合性組成物、たとえば紫外線照射により重合するような重合性組成物を調製するのに有用である。そのような組成物は、本発明のモノマーを好適な光開始剤と組合せることによって調製することができる。この光開始剤は通常の量で使用すればよく、典型的には、組成物の重量の約0.5重量%〜約5重量%である。この重合性組成物には溶媒を含まないのが好ましい(すなわち、この組成物は本質的に重合性化合物(モノマー)および光開始剤だけからなる)。高粘度、高屈折率および低揮発性という好ましい効果を達成するためには、この組成物には本発明のフッ素化モノマーを重量で、好ましくは少なくとも1%、より好ましくは少なくとも5%または10%、さらにより好ましくは少なくとも20%含む必要がある。組成物中のモノマーの100%までを、本発明によるフッ素化ポリエステルアクリレートおよび/またはフッ素化カーボネートのアクリレート誘導体とすることができる。しかしながら、本発明の重合性組成物には、従来の分子量のより低いモノマー(単官能および多官能モノマーを含めて)を含んでいてもよい。
【0035】
本発明の組成物は、平面導波路デバイスを作製するのに有用である。平面導波路デバイスの例を概略図として図1に示した。デバイス10は、基板12(たとえばシリコンウェーハなどでよい)、下部クラッド層14、コア層16および上部クラッド層18で構成されている。典型的にはコア層16がパターン層で、これによって導波路回路が決まる。典型的には、クラッド層の14と18がコア層16を囲み、クラッド層はコア層16の屈折率よりも低い屈折率を有する。フッ素化ポリエステルアクリレート、および/またはカーボネートのフッ素化アクリレート誘導体を含む本発明の重合性組成物は、層14、16および18のいずれかまたは全部を作製するのに使用することができる。本発明の材料を用いて、他の導波路構造を作製することも可能で、そのようなものには、レイズドリブ(raised−rib)、ストリップローディッド(strip−loaded)およびスラブ導波路などがある。当業者のよく知るところであるが、適当なレベルのフッ素化をしたり他の官能基を有するモノマーを選択することによって、所望の屈折率を得ることが可能である。たとえば、フッ素化のレベルを高くすると屈折率は低下するが、一方で、塩素含有部分、臭素含有部分、フェニル基含有部分を含むモノマーでは屈折率が上昇する。一般には、複数のモノマーをブレンドすることで、所望のどのような屈折率でも提供することができる。
【0036】
下部クラッド層14は、本発明の組成物から形成することが可能であるが、それには、基板12の上にその組成物をスピンコーティングし、次いでたとえば組成物を紫外線照射に暴露することによって重合させる。本発明の組成物を使用した層16は、組成物をスピンコーティングすることで調製でき、それを重合させて、やや高い屈折率を有する透明な物質を形成させる。層16をたとえばスピンコーティングにより塗布してから、いくつかフォトリソグラフィおよびエッチング技術のどれかを使用して、ある層16にパターンを付与することもできる。そのようなフォトリソグラフィ技術には、接触、投影(projection)、近接リソグラフィーが挙げられる。そのようなエッチング技術としては、溶媒または湿式化学エッチング、反応性イオンエッチング(RIE)、電子線およびイオンミリング(ion milling)などが挙げられる。次いで、下部クラッド層14を形成させるのに使用したのと同様の組成物を、パターン化したコア層16の上に塗布し、重合させて上部クラッド層18を形成させる。
【0037】
実施例
以下の実施例により本発明の特定の実施態様を説明するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
【0038】
測定
以下にリストアップされる材料のそれぞれについて、合成後に以下の基準を用いて、導波路を作製するのに適しているかどうかを決定した。
【0039】
吸光度
これらの材料は、1550ナノメートルの光に対してはかなり高い透過度が得られる必要がある。この性質を確認するために、液状の材料を1cmの石英製キュベットに入れた。ケーリー5(Cary 5)分光光度計を、空気中で1550ナノメートルでの吸光度をゼロに設定した。次いで試料を分光光度計に挿入し、この波長での吸光度を測定した。キュベット中の試料の吸光度が0.080未満であるのが好ましい。その吸光度が0.060未満であればより好ましい。その吸光度が0.050未満であれば最も好ましい。1550ナノメートルにおける吸光度測定値を損失の測定値に転換させるには、1550ナノメートルにおける液の屈折率を使用したフレネル反射の補正を行うことによって可能となる。次の表は、与えられた屈折率でのフレネル反射により予測されるベースライン吸光度を示している。
【0040】
【表1】
【0041】
損失測定値へは、次式にしたがって換算することができる。
損失(dB/cm)=10*(測定吸光度−ベースライン吸光度)
【0042】
これらのタイプの材料での液での損失測定は、それらの導波路としての損失によく対応しているので、導光路での損失は容易に推測することができる。平均ベースライン吸光度の値として0.030を用いると、先の計算に基づいたこれらの材料の損失が0.50dB/cm未満であるのが好ましい。損失が0.30dB/cm未満であれば、より好ましい。損失が0.20dB/cm未満であれば、最も好ましい。長い距離を要求される苛酷な用途では、損失が0.15dB/cm未満であるのが最も好ましい。
【0043】
密度
密度の測定にはミゼット・ウェイト・パー・ガロン・カップ(midget weight−per−gallon cup)(BYK−ガードナー社(BYK−Gardener、米国))を使用したが、測定法は機器メーカーのマニュアルにしたがった。ポンド/ガロンとして得られる数値を、g/cm3に換算した。
【0044】
粘度
モノマーの粘度は25℃で、ASTM 1343−93にしたがって、ギルモント落球式粘度計(Gilmont falling ball viscometer)を用いて測定した。上述のようにして測定した密度を用いて、センチストロークスの読みを、センチポアズに換算した。典型的には、粘度の高いモノマーほど、スピンコーティング特性が向上する。
【0045】
屈折率
試料を2%のフッ素化光開始剤(下記参照)と混合して、0.1ミクロンのフィルターで濾過した。次いで、試料約1mLをスピンコーターのチャックに固定したシリコンウェーハの上に載せた。次いで、シリコンウェーハの上の未硬化の材料が5〜7ミクロンの間の厚みとするのに充分な速度で、試料にスピンをかけた。組立品を次いで、窒素パージボックス中に移した。大量の窒素の流れを用いて2分間試料をパージした。次いで試料を、オリエル(Oriel)モデル81173型UV照射器を用いて、10ミリワット/cm2の紫外光を180秒間当てて硬化させた。反応が完全に進行するように、高い照射量を用いた。完全に硬化させたフィルムの屈折率を次いで測定したが、それにはメトリコン(Metricon)2010プリズムカップリング装置を使用し、測定法は機器メーカーのマニュアルにしたがった。測定はすべて、1550ナノメートルのレーザーを使用して行った。
【0046】
フィルムの均質性
屈折率測定のために調製した試料を、次いで単色光源に対して角度をもたせて置くことにより、目視検査した。試料について、視覚的な判断でその均質性と欠陥の数(ピンホール、オレンジピール、ゲル粒子など)を判定した。
【0047】
フッ素化光開始剤
通常のほとんどの光開始剤は、高度にフッ素化された物質には溶解しないので、フッ素化した部分を含む光開始剤を使用することが必要である。
【0048】
フッ素化光開始剤の例は、米国特許第5,391,587号明細書および再発行米国特許第35,060号明細書に見い出すことができる。米国特許第5,391,587号明細書によれば、次の構造をもつフッ素化光開始剤が製造された。
【0049】
【化5】
【0050】
この物質を合成するために、23.8g(0.1モル)のイルガキュア(Irgacure)2959(チバ・アディティブズ(Ciba Additives))を冷却器および機械的撹拌器付きの三つ口フラスコに添加した。次いで50g(0.12モル)のペルフルオロオクタン酸クロリド(ランカスター・シンセシス(Lancaster Synthesis))を添加して、その混合物を撹拌しながら70℃で2時間加熱した。1時間ごとにIRスペクトルを測定して、3450cm−1のOHピークと1780cm−1のカルボキシルピークの間の正味の吸光度の比が一定になるまで続けた。ついで試料をロータリーエバポレーターにかけて、85℃で過剰のペルフルオロオクタン酸クロリドを除去した。最終的に得られた反応生成物はワックス状の固形物で、その融点は約40℃であった。
【比較例A】
【0051】
CH2=CHCO2CH2CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CH2O2CCH=CH2
(分子量約1100)
【0052】
三つ口フラスコに冷却器と機械的撹拌棒を取り付けた。500g(0.5モル)のフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D1000(アウジモント(Ausimont)社、米国)と共に、100g(1.1モル)のアクリロイルクロリドおよび0.5gのブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)をフラスコに添加した。この混合物を激しく撹拌すると発熱して70℃にまで温度が上がった。4時間後に、過剰のアクリロイルクロリドを真空でロータリーエバポレーターを用いてストリッピングして、清浄な三つ口フラスコに戻した。氷水で冷却しながら、82g(0.81モル)のトリエチルアミンを徐々に添加した。直ぐに白色の沈殿物が生成した。この反応を一夜続けた。翌日、この物質を等量の水で3回洗浄した。得られた物質は低粘度の液体で、やや黄色を帯びていた。試験結果は、次のとおりである。
【0053】
【表2】
【0054】
この物質の損失値は、吸光度の測定値が低いことからも判るように非常に良好であったが、そのコーティング性能は非常に悪かった。粘度が16センチポアズしかなく、この物質はシリコンウェーハの表面ではじき(dewet)を生じる傾向がある。その結果、コーティングの不均一性が多く見られた。この理由から、この物質はそれ自体導波路を作製するのには適しているものではなかった。
【比較例B】
【0055】
CH2=CHCO2CH2CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CH2O2CCH=CH2
(分子量約2100)
【0056】
三つ口フラスコに冷却器と機械的撹拌棒を取り付けた。1000g(0.5モル)のフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D(分子量2000、アウジモント(Ausimont)社、米国)と共に、100g(1.1モル)のアクリロイルクロリドおよび1.0gのブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)をフラスコに入れた。この混合物を激しく撹拌すると発熱して70℃にまで温度が上がった。4時間後に、過剰のアクリロイルクロリドを真空でロータリーエバポレーターを用いてストリッピングして、清浄な三つ口フラスコに戻した。氷水で冷却しながら、82g(0.81モル)のトリエチルアミンを徐々に添加した。直ぐに白色の沈殿物が生成した。この反応を一夜続けた。翌日、この物質を等量のメタノールで3回洗浄した。得られた物質は低粘度の液体で、やや黄色を帯びていた。試験結果は、次のとおりである。
【0057】
【表3】
【0058】
この材料の損失値は、吸光度の測定値が低いことからも判るように非常に良好であったが、そのコーティング性能はやはりよくなかった。粘度が43センチポアズしかなく、この材料ではまだシリコンウェーハの表面ではじき(dewet)を生じる傾向がある。その結果、コーティングの不均一性が目立った。この理由から、この物質はそれ自体導波路を作製するのには適していなかった。
【実施例1】
【0059】
【化6】
【0060】
式中RFは、CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2で、分子量は1000のものであった。この物質は以下のようにして製造した:三つ口フラスコに、冷却器と機械的撹拌棒とを取り付けた。125g(0.125モル)のフルオロリンク(FLUOROLINK、登録商標)D1000と共に、12.8g(0.063モル)のイソフタロイルジクロリド(アルドリッチ(Aldrich)社)および0.15gのブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)をフラスコに添加した。この混合物を50℃に加熱して、すべての成分を溶解させた。次いで、氷浴を用いて温度が50〜70℃の間に維持されるよう冷却しながら、29g(0.29モル)のトリエチルアミンを滴下した。直ぐに白色の沈殿物が生成した。氷浴を用いて温度が依然として50〜70℃の間に維持されるよう冷却しながら、13.4gのアクリロイルクロリド(0.15モル)を滴下した。2時間後に、この物質を等量のメタノールで3回洗浄してから、真空下で70℃で1時間、ロータリーエバポレーターにかけた。試験結果は、次のとおりである。
【0061】
【表4】
【実施例2】
【0062】
【化7】
【0063】
式中RFは、CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2で、分子量は1000のものであった。この物質は以下のようにして製造した:三つ口フラスコに、冷却器と機械的撹拌棒とを取り付けた。100g(0.1モル)のフルオロリンク(FLUOROLINK、登録商標)D1000と共に、6.8g(0.0256モル)の1,3,5−ベンゼントリカルボニルトリクロリド(アルドリッチ(Aldrich)社)および0.1gのブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)をフラスコに添加した。この混合物を70℃に加熱して、すべての成分を溶解させた。1時間ごとにIRスペクトルを検査して、約3500cm−1のOHピークと約1750cm−1のカルボニルピークの間の正味の吸光度の比が一定になるまで続けた。次いで、氷浴を用いて温度が50〜70℃の間に維持されるよう冷却しながら、22g(0.158モル)のトリエチルアミンを滴下した。直ぐに白色の沈殿物が生成した。氷浴を用いて温度が依然として50〜70℃の間に維持されるよう冷却しながら、13gのアクリロイルクロリド(0.144モル)を滴下した。2時間後に、この物質を等量のメタノールで3回洗浄してから、真空下で70℃で1時間、ロータリーエバポレーターにかけた。
【0064】
この反応では、フルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D1000を過剰に使用して、鎖が伸びすぎないようにした。最終的な生成物は、上記の構造が3部と比較例Aで得られた物質1部であると考えられる。試験結果は、次のとおりである。
【0065】
【表5】
【実施例3】
【0066】
【化8】
【0067】
式中RFは、CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2で、分子量は1000のものであった。この物質は以下のようにして製造した:三つ口フラスコに、冷却器と機械的撹拌棒とを取り付けた。75.8g(0.0379モル)のフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D1000と共に、15.4g(0.0758モル)のイソフタロイルジクロリド(アルドリッチ(Aldrich)社)、8.8g(0.0758)のアクリル酸ヒドロキシエチル(アルドリッチ(Aldrich)社)および0.1gのブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)をフラスコに添加した。さらに、50mLのHFE−7200(スリーエム(3M)社製造のフッ素化溶媒)を添加した。この混合物を70℃で1時間加熱した。次いで、氷浴を用いて温度が50〜70℃の間に維持されるよう冷却しながら、16g(0.16モル)のトリエチルアミンを滴下した。直ぐに白色の沈殿物が生成した。2時間後に、この物質を等量のメタノールで3回洗浄してから、真空下で70℃で1時間ロータリーエバポレーターにかけた。試験結果は、次のとおりである。
【0068】
【表6】
【0069】
当業者には明らかなことであるが、本明細書に記載した本発明の好ましい実施態様は、添付の特許請求の範囲で規定される本発明の精神と範囲から逸脱することなく、各種の変更を加えることが可能である。
【実施例4】
【0070】
【化9】
【0071】
式中RFは、CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2で、分子量は2000のものであった。この物質は以下のようにして製造した:三つ口フラスコに、冷却器と機械的撹拌棒とを取り付けた。100g(0.05モル)のフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D2000と共に、23.2g(0.20モル)のアクリル酸ヒドロキシエチル(アルドリッチ(Aldrich)社)、27.5g(0.10モル)の1,3,5−ベンゼントリカルボン酸クロリド(アクロス(Acros)社)および0.10gのブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)をフラスコに添加した。この混合物を70℃で3時間加熱した。130mLのHFE−7200(スリーエム(3M)社製の部分フッ素化溶媒)を添加した。次いで、氷浴を用いて温度が50〜70℃の間に維持されるよう冷却しながら、30g(0.30モル)のトリエチルアミンを滴下した。直ぐに白色の沈殿物が生成した。3時間後にこの物質を等量のメタノールで3回洗浄し、0.2ミクロンで濾過を行った。濾過した物質を、真空下70℃で2時間、ロータリーエバポレーターにかけた。試験結果は、次のとおりである。
【0072】
【表7】
【実施例5】
【0073】
【化10】
【0074】
式中RFは、CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2で、分子量は1000のものであった。この物質は以下のようにして製造した:三つ口フラスコに、冷却器と機械的撹拌棒とを取り付けた。40g(0.04モル)のフルオロリンク(FLUOROLINK)(登録商標)D1000と共に、10.0g(0.023モル)の1,4,5,6,7,7−ヘキサクロロ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸クロリドおよび0.05gのブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)をフラスコに添加した。この混合物を70℃に加熱して、すべての成分を溶解させた。次いで、氷浴を用いて温度が50〜70℃の間に維持されるよう冷却しながら、12ml(0.086モル)のトリエチルアミンを滴下した。1時間反応させてから、6.5gのアクリロイルクロリド(0.07モル)を滴下したが、その間、氷浴を用いて温度を50〜70℃の範囲に保った。3時間後に、80mLのHFE−7200を添加した。この混合物を等量のメタノール/水(容積比1:5)で3回洗浄した。この物質を0.2ミクロンで濾過してから、真空下70℃で1時間ロータリーエバポレーターにかけた。試験結果は、次のとおりである。
【0075】
【表8】
【図面の簡単な説明】
【0076】
【図1】本発明の平面導波路デバイスの実施例の概略断面図である。
Claims (14)
- 重合性化合物を含んでなる組成物であって、重合性化合物が、
少なくとも1つのフッ素化アルキレンまたはアルキレンエーテル部分、および、
少なくとも2つの末端アクリレート部分を含んでなり、
各末端アクリレート部分がエステル結合基によってフッ素化アルキレンまたはフッ素化アルキレンエーテル部分の1つに結合されている組成物。 - 重合性化合物が一般式:
各Bdは独立して一般構造R−(CO2−)2を有する部分であり、
各Rは場合によりハロゲン化されていてもよい芳香族または脂肪族基であり、
B1および各B2は独立して一般構造R’−(CO2−)iを有する部分であり、
ここで各iは独立して2〜6の整数であり、各R’は独立して場合によりハロゲン化されていてもよい芳香族または脂肪族基であり、
n、mおよびLは整数であり、Lおよびmのうちの少なくとも1つは0より大きく、各gおよびhは独立して0〜10の整数であり、
各Aは独立して式CY2=C(X)−CO2−で示され、
ここでYはHまたはDであり、XはH、D、F、ClまたはCH3であり、
各Wは独立して式:
rは2より大きいかまたは2に等しい整数であり、
Rfは独立して式:−CH2(CF2)tCH2−、−CH2CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2CH2−、−CH2CH2OCH2CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2CH2OCH2CH2−、または−CH2CF(CF3)O(CF2)4O[CF(CF3)CF2O]pCF(CF3)CH2−の1つを示し、
ここでk、p、qおよびtが整数であり、qは場合によりゼロであってもよい、
で示される請求項1に記載の組成物。 - 重合性化合物が一般式:
(A)r−D1−(Rf−((Dd−Rf)g)−D2−(A)u)t
式中、
各Ddは独立して一般構造R−(CH2O−)2を有する部分であり、
ここで各Rは独立して場合によりハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族部分であり、
D1および各D2は独立して一般構造R’−(CH2O−)iを有する部分であり、
ここで各R’は独立して場合によりハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族部分であり、iは2〜6の整数であり、
Aは式CY2=C(X)−C(O)−を示し、
ここでYはHまたはDであり、XはH、D、F、ClまたはCH3であり、
各Rfは独立して式:−(O)C−(CF2)n−C(O)−、−(O)C−CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2−C(O)−または−(O)C−CF(CF3)O(CF2)4O[CF(CF3)CF2O]pCF(CF3)−C(O)−の1つを示し、
ここでg、n、p、q、r、uおよびtが整数であり、rおよびtのうちの少なくとも1つは正の整数であり、qは場合によりゼロであってもよい、
で示される請求項1に記載の組成物。 - Rが一般式−(CF2OCF2)x−で示され、ここでxは整数である、請求項3に記載の組成物。
- 重合性化合物が一般式:
各Edは独立して一般構造R−(OCO2−)2を有する部分であり、
ここで各Rが独立して場合によりハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族部分であり、
E1および各E2は独立して一般構造R’−(OCO2−)iを有する部分であり、
ここで各R’は独立して場合によりハロゲン化されていてもよい脂肪族または芳香族部分であり、iは2〜6の整数であり、
n、mおよびLは整数であり、Lまたはmのうちの少なくとも1つは正の整数であり、
gおよびhは0〜10の整数であり、kは正の整数であり、
Aは式CY2=C(X)−CO2−を示し、
ここでYはHまたはDであり、XはH、D、F、ClまたはCH3であり、
各Wは独立して式:
rは2より大きいかまたは2に等しい整数であり、
各Rfは式:−CH2(CF2)tCH2−、−CH2(CF2O−(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2CH2−、−CH2CH2OCH2CF2O−[(CF2CF2O)p−(CF2O)q]−CF2CH2OCH2CH2−、−CH2CF(CF3)O(CF2)4O[CF(CF3)CF2O]pCF(CF3)CH2−の1つを示し、
ここでp、qおよびtは整数であり、qが場合によりゼロであってもよい、
で示される請求項1に記載の組成物。 - 重合性化合物が約1,000〜約10,000の分子量を有する請求項1に記載の組成物。
- 重合性化合物が約2,000〜約6,000の分子量を有する請求項1に記載の組成物。
- 重合性化合物が100センチポアズより大きい25℃における粘度を有する請求項1に記載の組成物。
- 光開始剤をさらに含んでなる請求項1に記載の組成物。
- 光開始剤が約0.5%〜約5%の量で存在し、重合性化合物が約1%〜約99.5%の量で存在する請求項9に記載の組成物。
- 重合性化合物が少なくとも5%の量で存在する請求項1に記載の組成物。
- 重合性化合物が少なくとも10%の量で存在する請求項1に記載の組成物。
- 重合性化合物が少なくとも20%の量で存在する請求項1に記載の組成物。
- 下部クラッド層と、
パターン化されたコア層と、
上部クラッド層
を含んでなり、下部クラッド層および上部クラッド層がパターン化されたコア層の屈折率よりも低い屈折率を有し、下部クラッド層および上部クラッド層がパターン化されたコア層を取り囲む平面導波路デバイスであって、
下部クラッド層、パターン化されたコア層および上部クラッド層の少なくとも1つが、請求項1〜13のいずれか一項に記載の組成物を重合させることによって形成されるポリマーまたはコポリマーである平面導波路デバイス。
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