JP2004519851A - プロセス制御モジュールを有する半導体ウェハ - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数のチップを有しており、これらのチップのうち所与の数のチップのそれぞれが複数の隣接する露光領域の1つに位置すると共に、半導体ウェハの所与の領域にそれぞれ配されたプロセス制御モジュールを有する当該半導体ウェハに関する。
【0002】
【従来の技術】
このような半導体ウェハは、さまざまな形で市場に出ており、従って、知られている。
【0003】
このような既知の半導体ウェハの種々の形態では、それぞれにプロセス制御モジュールが位置する所与の領域が、所謂アライメントマーカを含む所謂ドロップイン領域により形成される。上記アライメントマーカは、基準又は位置決め構造体であり、これによって、半導体ウェハの組み立て中に半導体ウェハが露光マスクに対してアライメントされ得る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
この種々の形態は、半導体ウェハ当たり非常に少数のプロセス制御モジュール、すなわちわずか2又は3のプロセス制御モジュールしか存在しないという不利益を有している。これは、少数のプロセス制御モジュールの結果、これらのプロセス制御モジュールは、プロセス制御モジュールからかなり遠くにある半導体ウェハの場所では、欠陥を検出又は認識することができないという欠点を有している。
【0005】
既知の半導体ウェハの他の変形例は、多数のプロセス制御モジュールを有しているが、これらのプロセス制御モジュールが、行及び列に配されたチップ間に延在する所謂ダイシング経路(path)に配されている。ダイシング経路内にプロセス制御モジュールが存在するため、プロセス制御モジュールを収容するようにダイシング経路をかなり幅広にする必要がある。この結果、ダイシング経路が不要に幅広であり、これは、スペースの浪費である。このようなダイシング経路の場所に配されたプロセス制御モジュールに関して、特許文献US5,990,488A号公報、すなわち図2に示した半導体ウェハの変形例も参照され得る。
【0006】
既知の半導体ウェハの更に他の変形例では、半導体ウェハの各チップの領域にプロセス制御モジュールが設けられている。実際には、このような変形例は、チップが広い領域のチップである場合にのみ考慮されることが可能であり、そのため、各チップが分離したプロセス制御モジュールを有することが有効性をより少なくしている。
【0007】
本発明の目的は、既知の半導体ウェハの既知の種々の形態の制限及び欠点を回避し、改善された半導体ウェハを実現することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明による半導体ウェハは、以下に規定されるように特徴付けられ得るよう、本発明に従う特徴を有している。
【0009】
すなわち、複数のチップを有しており、これらのチップのうち所与の数のチップのそれぞれが複数の隣接する露光領域の1つに位置すると共に、半導体ウェハの所与の領域にそれぞれ配されたプロセス制御モジュールを有する当該半導体ウェハであって、所与の領域は露光領域により形成され、各プロセス制御モジュールは少なくとも1つのチップの代わりである半導体ウェハであるという特徴を有している。
【0010】
本発明による特徴の提供するために、一方では、半導体ウェハの不適切な組み立て領域に関する最大の検出精度を保証するための最大数のプロセス制御モジュールと、他方では、チップの組み立てのために利用可能な最小の半導体ウェハ領域を損なわないようにするための最小数のプロセス制御モジュールとの間において、満足の行く折衷案(compromise)が達成される。他の利点は、非常に小さなチップを伴う大きな半導体ウェハの場合、すなわち、大まかに言うと、例えば200mmの径を有する半導体ウェハ、2.0mm2未満のチップ領域を有するチップの場合に得られる。これは、個々の露光領域が、非常に容易に、すなわち肉眼でさえも認識され得るからであり、これは、提供されるプロセス制御モジュールを利用して特定のチップを見つけることを容易にする。これは、手作業又は視覚的に行われる半導体ウェハの検査に際して有用であるだけではなく、特に半導体ウェハに設けられるチップの自動式の他の処理に際しても有用である。これは、自動式の他の処理の間、露光領域に設けられたプロセス制御モジュールが、半導体ウェハの個々のチップの操作(manipulation)のための装置、例えば所謂ピックアンドピレイス(pick−and place)装置の位置決めのために荒い格子の一種として用いられることが可能であり、そののち、上記装置が、他の位置決め手段を利用して以前に近づいた(approach)露光領域内において位置決めされ得るからである。これは、半導体ウェハからのチップの誤った除去が排除され得ることを、非常に信頼性高く確実にする。
【0011】
本発明による半導体ウェハでは、プロセス制御モジュールが露光領域全ての少なくとも25%のそれぞれに存在し、プロセス制御モジュールが互いに等しい距離に配される場合に非常に有利であることが分かった。このような形態は、プロセス制御モジュールに関してかなり少量のスペースが必要とされる場合に所望の結果をもたらし、それにもかかわらず、欠陥のある又は不完全な半導体ウェハの組み立て領域の検出に関して、高い検出信頼性を保証するので、テストを行うときに有利であることが分かった。
【0012】
本発明による半導体ウェハでは、プロセス制御モジュールが各露光領域に存在する場合に特に有利であることが分かった。これは、とりわけ高い検出信頼性を確実にする。
【0013】
本発明による半導体ウェハでは、更に、露光領域の全てのプロセス制御モジュールが、同じ場所にそれぞれ位置する場合に特に有利であることが分かった。この場合、露光領域の中央部が好ましい領域とみなされるべきである。これは、プロセス制御モジュールの場所の簡単な(simple)検出の観点、及びプロセス制御モジュールとの簡単な協働の観点において特に有利である。
【0014】
本発明の上述した側面及び他の側面は、以下に説明される実施の形態の例から明らかであり、この例を利用して理解されるであろう。
【0015】
【発明の実施の形態】
例として図に示された実施の形態を参照して、以下に本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではない。
【0016】
図1は、半導体ウェハ1を示している。この半導体ウェハ1は、複数のチップを有している。複数のチップのうち所与の数のチップは、隣接する複数の露光領域2の1つの中に位置している。露光領域2は、図1及び図2において、矩形として模式的に示されている。英語の専門用語では、このような露光領域2は、「reticle」(網線)と言われている。この例では、半導体ウェハ1は、2つの所謂ドロップイン領域を有しており、これらのドロップイン領域は、知られているように、半導体ウェハ1及び少なくとも1つの露光マスクの位置決めをする役割を果たす。
【0017】
半導体ウェハ1は、プロセス制御モジュールを更に備えている。プロセス制御モジュールは、それぞれ、半導体ウェハ1のある領域に配されており、図1から明らかではないが、図2において明白である。
【0018】
この半導体ウェハ1では、プロセス制御モジュールが存在する所与の領域が、露光領域2により形成される。図2では、露光領域2に存在するチップ5に対する差を示すこのようなプロセス制御モジュールが破線で示されている。図2から明らかであるように、プロセス制御モジュール4は、網線(reticle)2内にチップ5の代わりに設けられている。これは、全ての露光領域2に当てはまり、露光領域2では、プロセス制御モジュール4がチップの代わりに設けられている。図1及び図2に示した半導体ウェハ1では、各露光領域2にプロセス制御モジュール4が存在するが、これは必ずしも必要ではない。プロセス制御モジュール4は、全てのプロセス制御モジュール4が露光領域2内の同じ領域に位置するように露光領域2に設けられている。図1及び図2に示した半導体ウェハ1の例では、各図に示されているように、全てのプロセス制御モジュール4は、露光領域2の前方左角領域6に位置している。しかしながら、代替として、プロセス制御モジュール4は露光領域2の他の任意の場所、好ましくは露光領域2の中央部に位置し得るため、これは絶対に必要というわけではない。
【0019】
各露光領域2にプロセス制御モジュール4を設けることが絶対に必要というわけではないことに今一度注意されたい。露光領域の50%又は25%のみのそれぞれにプロセス制御モジュール4を設けることも可能であるが、その場合、プロセス制御モジュール4が、図1に2本の一点鎖線7,8として示されている2つの互いに垂直な座標(coordinate)方向に対して互いに等しい距離に位置する場合においても有利である。また、プロセス制御モジュール4は1つのチップ5のみの代わりに設けられる必要はなく、2つ又はそれ以上のチップ5の代わりに設けられてもよく、これは、とりわけ小さい領域のチップ5の場合に効果的であることに注意されたい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の、複数の露光領域を有する半導体ウェハを非常に模式的に示す図である。
【図2】図1の半導体ウェハの露光領域を、図1よりもかなり大きく示した図である。
Claims (4)
- 複数のチップを有しており、これらのチップのうち所与の数のチップのそれぞれが複数の隣接する露光領域の1つに位置すると共に、半導体ウェハの所与の領域にそれぞれ配されたプロセス制御モジュールを有する当該半導体ウェハであって、前記所与の領域は前記露光領域により形成され、各プロセス制御モジュールは少なくとも1つのチップの代わりである半導体ウェハ。
- プロセス制御モジュールが、前記露光領域の全ての少なくとも25%のそれぞれに存在し、前記プロセス制御モジュールが、2つの互いに垂直な座標方向に対して互いに等しい距離に位置する請求項1記載の半導体ウェハ。
- プロセス制御モジュールが各露光領域に存在する請求項2記載の半導体ウェハ。
- 前記プロセス制御モジュールの全てが、各露光領域の同じ場所にそれぞれ位置する請求項1記載の半導体ウェハ。
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