JP2004509988A - 水性分散液中の制御されたラジカル重合方法 - Google Patents

水性分散液中の制御されたラジカル重合方法 Download PDF

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Abstract

【課題】水性分散液中の制御されたラジカル重合方法を提供する。
【解決手段】本発明のラジカル重合方法は、水とモノマーとの間のlog p (対数中、pはオクタノール中と水中とのニトロキシル基の分配係数である。)により測定されたところの水とモノマー間の定義された分配平衡を有する選択されたニトロキシル基の存在下、水性分散液中で制御されたラジカル重合を行う。本発明の方法にて、マルチ−ブロックコポリマーを製造することが可能である。本発明の方法により製造されたポリマーは、接着剤、洗剤、分散剤、乳化剤、界面活性剤、消泡剤、接着促進剤、腐食防止剤、粘度改良剤、潤滑剤、レオロジー改良剤、粘着付与剤等の種々の用途に用いることができる。

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水とモノマーとの間のlog p (対数中、pはオクタノール中と水中とのニトロキシル基の分配係数である。)により測定されたところの水とモノマー間の定義された分配平衡を有する選択されたニトロキシル基の存在下での、水性分散液中の制御されたラジカル重合方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
最初はモノマーそして重合後はポリマーが分散される連続的な分散相として水を使用する重合方法は、ポリマーを製造(水性分散重合)するために広く使用される。主に、水及び水不溶性モノマー、乳化剤及び/又は保護コロイド及び適する開始剤系は、モノマー膨張ミセル系(monomer swollen micellar system) 又は安定化されたモノマー液滴を作る周知の方法により混合される。
【0003】
特に興味あることは、通常、水溶性開始剤系が使用される乳化重合である。
【0004】
モノマーは水相に実質的に不溶性であり、そしてその中で微細に分布された液滴を形成する。例えば、ドデシル硫酸ナトリウムのような分散剤の添加は、このような安定な液滴及びミセルを得るため多くの場合に必要である。分散剤の例は、例えば、1975年にヴァインハイムの化学出版社から出版された“ウルマン工業化学大辞典”の第4版第10巻第449頁に記載されている。
【0005】
この分野の現況にて、幾つかの変形、例えば乳化剤なしの乳化重合,ミニ乳化重合及びミクロ乳化重合が知られている。これらの変形は、特に分子量,ポリマー粒径及びそれらの分布において異なるポリマー生成物を与える乳化剤及び開始剤の種類と量の変化を特徴とする。
【0006】
ラジカル重合方法により製造されるポリマー又はコポリマーは本質的に、広い分子量分布又は、通常、ほぼ4よりも大きい多分散性を有している。これに対する一つの理由は、大部分のフリーラジカル開始剤は数分ないし多時間の範囲の比較的長い半減期を有し、従って、ポリマー鎖は同時に全て開始されず、そして開始剤は重合過程の間何時でも種々の長さの成長する鎖を提供するということである。他の理由は、フリーラジカル法における成長鎖は、共に不可逆性の鎖末端停止反応過程である結合及び不均化として知られる方法で互いに反応し得るということである。そうすることにより、異なる長さの鎖は反応過程の異なる時に末端停止され、非常に小さいものから非常に大きいものまで広範に変動するポリマー鎖からなり、従って広い多分散性を有する樹脂を生じさせる。フリーラジカル重合方法が狭い分子量分布を作るために使用される時、全てのポリマー鎖はほぼ同時に開始されなければならず、そして結合過程又は不均化過程による成長ポリマー鎖の末端停止は避けられなければならない。
【0007】
多分散性を減少させ且つ慣用のラジカル重合の不利益を避けるための方法は、1986年4月8日に発行されたアメリカ合衆国特許第4581429号の明細書においてソロモン(Solomon) らにより既に述べられており、ここでは、短鎖又はブロックコポリマー及びグラフトコポリマーを包含する、オリゴマー状ホモポリマー及びコポリマーを製造するためにポリマー鎖の成長を制御するフリーラジカル重合方法が開示されている。この方法は、式(一部分を示す)R’R”N−O−X(式中、Xは、不飽和モノマーを重合させることが可能なフリーラジカル種を表わす。)を有する開始剤を用いる。この反応は典型的には、低い転換率を有する。特に言及される、ラジカルR’R”N−O・群は、1,1,3,3−テトラエチルイソインドリン,1,1,3,3−テトラプロピルイソインドリン,2,2,6,6−テトラメチルピペリジン,2,2,5,5−テトラメチルピロリジン又はジ第三ブチルアミンから誘導される。
【0008】
国際特許願第99/00426号の明細書中で、ニトロキシル基の存在下におけるエチレン性不飽和モノマーの乳化重合が詳細に述べられており、モノマー液滴は500nm以下の寸法を有すると指摘している。
【0009】
最近、ヨーロッパ特許第970973号の明細書中で、安定なフリーラジカルの存在下における乳化重合が述べられており、安定なフリーラジカルの水への溶解度は25℃で少なくとも0.1g/Lであると指摘している。加えて、国際特許願第99/11674号の明細書中で、水性媒体へのニトロキシル基のモル溶解度の要求は、25℃で1bar において、少なくとも10−6mol /kg及び最も好ましくは少なくとも10−1mol /kgであると述べられている。
【0010】
本発明において、ニトロキシル基の最も重要な性質は水への良好な溶解度ではなく、ニトロキシル基のlog p 値に反映されるように、むしろ水とモノマーとの間の分配平衡であることが見出された。水への溶解度とモノマー液滴への溶解度との間の正しい釣り合いは、多分散性,重合速度及び収率の面での有効性に強く影響する。
【0011】
分配係数log p (オクタノール/水)は、例えば、化学物質の環境に対する影響を計る際に広く使用されるパラメーターである。その計算は、ダブリュ.エム.メイラン(W.M.Meylan),ピー.エイチ.ハワード(P.H.Howard)により、1995年のジャーナル・オブ・ファーマシューティカル・サイエンシズの第84号第83〜92頁に述べられている。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の一つの目的は、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーの水性分散液中でのフリーラジカル重合によるオリゴマー,コオリゴマー,ポリマー又はコポリマー(ブロック又はランダム)の製造方法であって、
分散相中にモノマーを有する水性分散液を形成し、そして
a)少なくとも1種の安定な遊離ニトロキシル基であって、−0.5ないし7.5のlog p (オクタノール/水)を有し、且つ次式(A),(B),(C),(D),(E),(F),(G),(H)又は(I):
【化3】
Figure 2004509988
【化4】
Figure 2004509988
(式中、
Rは水素原子、中断されていない又は1個若しくはそれより多くの酸素原子により中断された炭素原子数1ないし18のアルキル基、シアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル基、2個ないし18個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸の一価基、7個ないし15個の炭素原子を有する脂環式カルボン酸の一価基又は3個ないし5個の炭素原子を有するα,β−不飽和カルボン酸の一価基或いは7個ないし15個の炭素原子を有する芳香族カルボン酸の一価基を表わし、
101 は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、炭素原子数7又は8のアルアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルカノイル基、炭素原子数3ないし5のアルケノイル基又はベンゾイル基を表わし、
102 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、非置換又はシアノ基,カルボニル基若しくはカルバミド基により置換された炭素原子数2ないし8のアルケニル基を表わすか、或いはグリシジル基、式−CH CH(OH)−Z又は式−CO−Z又は式−CONH−Z(これらの式中、Zは水素原子、メチル基又はフェニル基を表わす。)で表わされる基を表わし、
は水素原子を表わし、そして
は水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そして
及びG はメチル基を表わし、そして
及びG はエチル基又はプロピル基を表わすか、又は
及びG はメチル基を表わし、そして
及びG はエチル基又はプロピル基を表わし、
,R ,R 及びR は互いに独立して炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数3ないし18のアルキニル基;OH基,ハロゲン原子又は基−O−C(O)−R により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数3ないし18のアルキニル基;少なくとも1個の酸素原子及び/又はNR 基により中断された炭素原子数2ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基又は炭素原子数6ないし10のアリール基を表わし、或いはR とR 及び/又はR とR とは結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基を形成し、
,R 及びR は独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基又は炭素原子数6ないし10のアリール基を表わし、
は水素原子、OH基、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数3ないし18のアルキニル基;1個又はそれより多くのOH基,ハロゲン原子又は基−O−C(O)−R により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数3ないし18のアルキニル基;少なくとも1個の酸素原子及び/又はNR 基により中断された炭素原子数2ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基又は炭素原子数6ないし10のアリール基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数5ないし10のヘテロアリール基、−C(O)−炭素原子数1ないし18のアルキル基、−O−炭素原子数1ないし18のアルキル基又は−COO−炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、そして
,R10,R11及びR12は独立して水素原子、フェニル基又は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わす。)で表わされる化合物からなる基から選択される少なくとも1個の安定した遊離ニトロキシル基、並びに
b)フリーラジカル開始剤
の存在下で高められた温度でモノマー又はモノマー/オリゴマーを(共)重合することからなる方法である。
【0013】
種々の置換基におけるアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってよい。1個ないし18個の炭素原子を含有するアルキル基の例はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、2−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、2−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基及びオクタデシル基である。
【0014】
3個ないし18個の炭素原子を持つアルケニル基は、例えば、プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、イソブテニル基、n−2,4−ペンタジエニル基、3−メチル−2−ブテニル基、n−2−オクテニル基、n−2−ドデセニル基、イソドデセニル基、オレイル基、n−2−オクタデセニル基又はn−4−オクタデセニル基のような直鎖状又は分岐鎖状の基である。好ましいのは3個ないし12個の炭素原子、特に好ましいのは3個ないし6個の炭素原子を持つアルケニル基である。
【0015】
3個ないし18個の炭素原子を持つアルキニル基は、例えば、プロピニル基(−CH ≡CH)、2−ブチニル基、3−ブチニル基、n−2−オクチニル基又はn−2−オクタデシニル基のような直鎖状又は分岐鎖状の基である。好ましいものは3個ないし12個、特に好ましくは3個ないし6個の炭素原子を持つアルキニル基である。
【0016】
ヒドロキシ置換されたアルキル基の例は、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基又はヒドロキシヘキシル基である。
【0017】
ハロゲン置換されたアルキル基の例は、ジクロロプロピル基、モノブロモブチル基又はトリクロロヘキシル基である。
【0018】
少なくとも1個の酸素原子により中断された炭素原子数2ないし18のアルキル基は、例えば、−CH −CH −O−CH −CH 、−CH −CH −O−CH 又は−CH −CH −O−CH −CH −CH −O−CH −CH である。それは好ましくは、ポリエチレングリコールから誘導される。一般的な記載は−((CH −O) −H/CH (式中、aは1ないし6の数を表わし、そしてbは2ないし10の数を表わす。)である。
【0019】
少なくとも1個のNR 基により中断された炭素原子数2ないし18のアルキル基は、一般的に−((CH −NR −H/CH (式中、a,b及びR は、上記において定義されたものと同じ意味を表わす。)のように記載され得る。
【0020】
炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基は典型的には、シクロプロピル基、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基又はトリメチルシクロヘキシル基である。
【0021】
炭素原子数6ないし10のアリール基は、例えば、フェニル基又はナフチル基であるが、しかしまた、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換されたフェニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子又はニトロ基で置換されたフェニル基も含まれる。アルキル基で置換されたフェニル基の例は、エチルベンゼン基、トルエン基、キシレン基及びその異性体基、メシチレン基又はイソプロピルベンゼン基である。ハロゲン原子で置換されたフェニル基の例は、例えば、ジクロロベンゼン基又はブロモベンゼン基である。
【0022】
アルコキシ置換基は典型的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基及びそれらの対応する異性体基である。
【0023】
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基はベンジル基、フェニルエチル基又はフェニルプロピル基である。
【0024】
炭素原子数5ないし10のヘテロアリール基は、例えば、ピロール基、ピラゾール基、イミダゾール基、2,4−ジメチルピロール基、1−メチルピロール基、チオフェン基、フラン基、フルフラール基、インドール基、クマロン基、オキサゾール基、チアゾール基、イソキサゾール基、イソチアゾール基、トリアゾール基、ピリジン基、α−ピコリン基、ピリダジン基、ピラジン基又はピリミジン基である。
【0025】
Rがカルボン酸の一価基を表わす場合、それは、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレロイル基、カプロイル基、ステアロイル基、ラウロイル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基、シンナモイル基又はβ−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル基である。
【0026】
炭素原子数1ないし18のアルカノイル基は、例えば、ホルミル基、プロピオニル基、ブチリル基、オクタノイル基、ドデカノイル基、しかし好ましくはアセチル基であり、そして炭素原子数3ないし5のアルケノイル基は特にアクリロイル基である。
【0027】
上記化合物及びその製造方法は、英国特許第2335190号及び英国特許第2342649号の各明細書に記載されている。
【0028】
好ましい方法は、前記式(A),(B)及び(C)中、
Rが水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、シアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル基、脂肪族カルボン酸の一価基を表わし、
101 が炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数7又は8のアルアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルカノイル基、炭素原子数3ないし5のアルケノイル基又はベンゾイル基を表わし、
102 が炭素原子数1ないし18のアルキル基、グリシジル基、式−CH CH(OH)−Z又は式−CO−Z(これらの式中、Zは水素原子、メチル基又はフェニル基を表わす。)で表わされる基を表わす方法である。
【0029】
別の好ましい方法は、前記式(D),(E),(F),(G),(H)及び(I)中、R ,R ,R 及びR の少なくとも二つはエチル基、プロピル基又はブチル基を表わし、そして残りはメチル基を表わすか、或いはR とR 又はR とR とが結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数5又は6のシクロアルキル基を形成し、そして残りの置換基はエチル基、プロピル基又はブチル基を表わす方法である。
【0030】
とりわけ特に適する化合物を下記表に示す。
【表1】
Figure 2004509988
【表2】
Figure 2004509988
【表3】
Figure 2004509988
【表4】
Figure 2004509988
【表5】
Figure 2004509988
【0031】
好ましくは、log p は0ないし5、そしてより好ましくは1ないし5である。
【0032】
好ましくは、成分b)のフリーラジカル開始剤はビス−アゾ化合物、過酸化物又は過酸化水素である。
【0033】
とりわけ好ましいラジカル源は2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス(イソブチルアミド)ジハイドレート、2−フェニルアゾ−2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロパン)、2,2’−アゾビス(N,N−ジメチレンイソブチラミジン)、遊離塩基又は塩化水素、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル]プロピオンアミド}又は2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、アセチルシクロヘキサンスルホニルペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカルボネート、第三アミルペルネオデカノエート、第三ブチルペルネオデカノエート、第三ブチルペルピバレート、第三アミルペルピバレート、ビス(2,4’−ジクロロベンゾイル)ペルオキシド、ジイソノナノイルペルオキシド、ジデカノイルペルオキシド、ジオクタノイルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、ビス(2−メチルベンゾイル)ペルオキシド、二コハク酸ペルオキシド、ジアセチルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、第三ブチル−ペル2−エチルヘキサノエート、ビス(4−クロロベンゾイル)ペルオキシド、第三ブチルペルイソブチレート、第三ブチルペルマレイネート、1,1−ビス(第三ブチルペルオキシ)−3,5,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(第三ブチルペルオキシ)シクロヘキサン、第三ブチルペルオキシイソプロピルカルボネート、第三ブチルペルイソノナオエート、2,5−ジメチルヘキサン2,5−ジベンゾエート、第三ブチルペルアセテート、第三アミルペルベンゾエート、第三ブチルペルベンゾエート、2,2−ビス(第三ブチルペルオキシ)ブタン、2,2−ビス(第三ブチルペルオキシ)プロパン、ジクミルペルオキシド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジ第三ブチルペルオキシド、3−第三ブチルペルオキシ3−フェニルフタリド、ジ第三アミルペルオキシド、α,α’−ビス(第三ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、3,5−ビス(第三ブチルペルオキシ)−3,5−ジメチル−1,2−ジオキソラン、ジ第三ブチルペルオキシド、2,5−ジメチルヘキシン−2,5−ジ第三ブチルペルオキシド、3,3,6,6,9,9−ヘキサメチル−1,2,4,5−テトラオキサシクロノナン、p−メンタンヒドロペルオキシド、ピナンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンモノ−α−ヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド又は第三ブチルヒドロペルオキシドである。
【0034】
前記フリーラジカル開始剤は、好ましくは、20℃で少なくとも1g/Lの水への溶解度を有する。
【0035】
最も好ましいものは下記の化合物であり、これらは全て市販されている。
【表6】
Figure 2004509988
【0036】
Fe化合物又はCo化合物をペルオキソ塩又はビスルフィット塩若しくはヒドロスルフィット塩と組み合わせて使用することも可能である。これらの組み合わせはレドックス系として知られている。
【0037】
好ましくは、エチレン性不飽和モノマーは、スチレン、置換スチレン、共役ジエン、アクロレイン、酢酸ビニル、ビニルピロリドン、ビニルイミダゾール、無水マレイン酸、(アルキル)アクリル酸無水物、(アルキル)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(アルキル)アクリルアミドからなる群から選択される。
【0038】
より好ましくは、前記エチレン性不飽和モノマーはスチレン、アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸エステル、メタクリルアミド、メタクリロニトリルからなる群から選択される。
【0039】
好ましいエチレン性不飽和モノマーは、式CH =C(R )−(C=Z)−R (式中、R は水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、R はNH 基、グリシジル基、非置換の炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、少なくとも1個の窒素原子及び/又は酸素原子により中断された炭素原子数2ないし100のアルコキシ基、或いはヒドロキシ置換された炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、非置換の炭素原子数1ないし18のアルキルアミノ基、ジ(炭素原子数1ないし18のアルキル)アミノ基、ヒドロキシ置換された炭素原子数1ないし18のアルキルアミノ基又はヒドロキシ置換されたジ(炭素原子数1ないし18のアルキル)アミノ基又は−O−CH −CH −N(CH 基を表わし、Zは酸素原子又は硫黄原子を表わす。)に一致する。
【0040】
少なくとも1個の酸素原子により中断された炭素原子数2ないし100のアルコキシ基としてのR の例は、次式:
【化5】
Figure 2004509988
(式中、R は炭素原子数1ないし25のアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし18のアルキル基により置換されたフェニル基を表わし、R は水素原子又はメチル基を表わし、そしてvは1ないし50の数である。)で表わされる基である。これらのモノマーは例えば、対応するアルコキシル化されたアルコール又はフェノールのアクリル化により非イオン性界面活性剤から誘導される。繰り返し単位はエチレンオキシド、プロピレンオキシド又は両方の混合物から誘導されてよい。
【0041】
適するアクリレートモノマー又はメタクリレートモノマーの別の例を以下に示す。
【0042】
別のアクリレートモノマーは次式:
【化6】
Figure 2004509988
【化7】
Figure 2004509988
で表わされるモノマーである。
【0043】
アクリレート以外の適するモノマーの例は次式:
【化8】
Figure 2004509988
で表わされるモノマーである。
【0044】
好ましくは、R 水素原子又はメチル基を表わし、R はNH 基、グリシジル基、非置換の又はヒドロキシ置換された炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、非置換の炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基、ヒドロキシ置換された炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基又はヒドロキシ置換されたジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基を表わし、そしてZは酸素原子を表わす。
【0045】
好ましくは水相は、全混合物に基づいて、25ないし95質量%、より好ましくは40ないし80質量%、そして最も好ましくは45ないし75質量%である。
【0046】
前記全混合物は水、少なくとも1種のモノマー、上述の調整剤及び開始剤並びに多くの場合、少なくとも1種の界面活性剤及び/又は有機溶剤を含有する。
【0047】
所望により、他の水混和性溶剤は通常、水分含有率に基づいて、10質量%未満であってよい。例えば、本発明において有用な補助溶剤は、脂肪族アルコール、グリコール、エーテル、グリコールエーテル、ピロリジン、N−アルキルピロリジノン、N−アルキルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、アミド、カルボン酸及びその塩、エステル、有機スルフィド、スルホキシド、スルホン、アルコール誘導体、ブチルカルビトール又はセロソルブのようなヒドロキシエチル誘導体、アミノアルコール、ケトン等、並びにそれらの誘導体及びそれらの混合物からなる群から選択されてよい。特別な例は、メタノール、エタノール、プロパノール、ジオキサン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセロール、ジプロピレングリコール、テトラヒドロフラン、及び他の水溶性又は水混和性物質、並びにそれらの混合物を包含する。
【0048】
好ましいものは、水、水アルコール混合物、水エチレングリコール混合物又は水プロピレングリコール混合物、水アセトン、水テトラヒドロフラン、或いは水ジメチルホルムアミド混合物である。
【0049】
好ましくは、得られるポリマー分散液の固体含有率は15〜60質量%である。
【0050】
好ましくは、成分a)の前記ニトロキシル基は、前記モノマー又はモノマー混合物に基づいて、0.001モル%ないし20モル%の量存在する。
【0051】
モノマー混合物の場合、平均分子量が計算される。
【0052】
好ましくは、前記フリーラジカル開始剤は、前記モノマー又はモノマー混合物に基づいて、0.001モル%ないし20モル%、より好ましくは0.1モル%ないし10モル%、そして最も好ましくは0.2モル%ないし5モル%の量存在する。
【0053】
好ましくは、フリーラジカル開始剤に対する安定な遊離ニトロキシル基のモル比は20:1ないし1:2、より好ましくは10:1ないし1:2である。
【0054】
重合のための温度は好ましくは、60℃ないし180℃、より好ましくは80℃ないし140℃、そして最も好ましくは80℃ないし110℃である。
【0055】
反応中の圧力は適用される温度に依存し、そして好ましくは0.1bar ないし20bar 、より好ましくは1bar ないし10bar である。
【0056】
反応混合物はまた、pH値を好ましくは4.5ないし9に調節し且つ維持するための緩衝剤を含有してよい。ホスフェート緩衝剤又はクエン酸緩衝剤が好ましい。
【0057】
前記方法は、ブロックコポリマーを製造するために特に有用である。
【0058】
ブロックコポリマーは、例えば、ポリスチレンとポリアクリレート(例えば、スチレン−コ−アクリレート)又はポリ(スチレン−コ−アクリレート−コ−スチレン)とのブロックコポリマーである。それらは接着剤として又はポリマーブレンド用の相溶剤として又はポリマー強化剤として有用である。ポリ(メチルメタクリレート−コ−アクリレート)ジブロックコポリマー又はポリ(メチルアクリレート−コ−アクリレート−コ−メタクリレート)トリブロックコポリマーは、被覆系用分散剤として、被覆添加剤(例えば、レオロジー剤、相溶剤、反応希釈剤)として又は被覆の際の樹脂成分(例えば、ハイソリッドペイント)として有用である。スチレン、(メタ)アクリレート及び/又はアクリロニトリルは、プラスチック、エラストマー及び接着剤のために有用である。
【0059】
更に、ブロックが極性モノマー及び非極性モノマーが交互にある本発明のブロックコポリマーは、高度に均質なポリマーブレンドを製造するための両親媒性界面活性剤又は分散剤として多くの用途で有用である。
【0060】
特に乳化重合は、特別な形態を持つポリマー粒子を造るためにとりわけ適している。例えば、コア/シェル構造は、重合中に連続的にモノマーを変化させることにより得ることができる。これらの特別な粒子は、プラスチックの耐衝撃性を改良するために有用である。しばしば、これらのコア/シェル構造物は、乳化重合中にポリマー粒子内に形成される少なくとも2種のポリマーのポリマーブレンドである。連続的なモノマー供給中に制御されたフリーラジカル重合を適用することにより、ポリマー粒子内の異種ポリマーの相溶効果を改良するブロックポリマーが形成される。更に、コア/シェル構造物は、不飽和性を含むポリマー粒子、例えばブタジエン(コ)ポリマー上に乳化重合中に異種モノマーをグラフトすることにより、合成することができる。このグラフト過程中に制御されたフリーラジカル重合を適用することにより、均質なグラフトアーム長を持つグラフトポリマー及び新規グラフトポリマーさえも入手可能である。
【0061】
従って、ブロックポリマー及びグラフトポリマーの形成は本発明の目的である。
【0062】
本発明の(コ)ポリマーは、1000ないし400000g/mol 、好ましくは2000ないし250000g/mol 、より好ましくは2000ないし200000g/mol の数平均分子量を有してよい。前記数平均分子量は、サイズ・イクスクルージョン・クロマトグラフィー(size exclusion chromatography;SEC)、マトリックス・アシステッド・レーザー・デソープション/イオナイゼーション質量分析(matrix assisted laser desorption/ionization mass spectrometry;MALDI−MS)、或いは、開始剤がモノマー(類)と容易に区別することができる基を持つ場合、NMR分光法又は他の慣用の方法により決定され得る。
【0063】
本発明のポリマー又はコポリマーは好ましくは、1.1ないし2、より好ましくは1.2ないし1.8の多分散性を有している。
【0064】
分散されたポリマー粒子の平均粒径は好ましくは、25nmないし1000nm、より好ましくは200nmないし700nmである。粒径は例えば、高速遠心により又はホトン・コレーション(photon correlation)分光法により測定され得る。
【0065】
粒径分布は単様又は二様であってよい。
【0066】
乳化重合方法自体は既知であり、そして例えば、国際特許願第99/00426号の明細書中又は国際特許願第00/50480号の明細書中に記載されている。それは、バッチ法又は連続若しくは半連続法として行い得る。
【0067】
開始剤及び/又は調整剤は例えば、反応の初期に添加し得るが、しかしながら、反応初期及び反応中に一部分ずつ又は連続して添加することも可能である。
【0068】
添加し得る適する界面活性剤又は表面活性化合物は、この分野で既知である。典型的に使用される量は、モノマー又はモノマー類に基づいて、0.01質量%ないし10質量%の範囲である。
【0069】
適する界面活性剤は、ポリビニルアルコール、澱粉、セルロース誘導体又はビニルピロリドンを含有するコポリマーのような保護コロイドである。別の例は、1961年にシュツットガルトのゲー.ティーム出版から出版された、ホウベン−ヴェイル(Houben−Weyl) 著“有機化学の方法(Methoden der Organishen Chemie)”第XIV/1 版の第411〜420頁に記載されている。
【0070】
本発明において有用な典型的な界面活性剤は、非イオン性,カチオン性又はアニオン性タイプのものである。
【0071】
アニオン性界面活性剤の例は、炭素原子数12ないし18のアルキルスルホン酸,コハク酸のジアルキルエステル又はエトキシ化されたアルカノールの硫酸ハーフエステルのアルカリ塩又はアンモニウム塩である。これらの化合物は、例えばアメリカ合衆国特許第4269749号明細書から既知であり、そしてダウケミカル社製の商標名ダウファックス(Dowfax)241におけるような多くの商品がある。
【0072】
非イオン性界面活性剤は、例えば、3ないし50のエトキシ化度及び炭素原子数4ないし9の範囲内のアルキル基を持つエトキシ化されたフェノール(モノ,ジ,トリ)、エトキシ化された長鎖アルコール又はポリエチレンオキシド/ポリプロピレンオキシドブロックコポリマーのような脂肪族又は芳香脂肪族化合物である。
【0073】
乳化重合は、シード・フリー方法又はシードラテックスもまた同一場所で製造され得るシード−ラテックス方法として行い得る。このような方法は既知であり、そして例えば、ヨーロッパ特許公開第614922号公報の明細書中に、又はヨーロッパ特許公開第567812号公報の明細書中に記載されている。
【0074】
本発明はまた、新規なブロック,マルチ−ブロック,スター,グラジエント,ランダム,超分岐された及び樹枝状コポリマー、並びにグラフトコポリマーも包含する。
【0075】
本発明により製造されたポリマーは、下記の用途のために有用である。
【0076】
接着剤、洗剤、分散剤、乳化剤、界面活性剤、消泡剤、接着促進剤、腐食防止剤、粘度改良剤、潤滑剤、レオロジー改良剤、粘着付与剤、架橋剤、紙処理、水処理、電子材料、ペイント、コーティング、写真、インク材料、画像化材料、超吸収剤、化粧品、育毛製品、防腐剤、殺菌剤又はアスファルト,皮革,織布,セラミック及び材木のための変性剤。
【0077】
本発明の重合は“リビング”重合であるので、随時開始しそして一部停止することができる。更に、ポリマー生成物は、リビング物質として重合の継続を可能とする官能性アルコキシアミン基を保持している。従って、本発明の一態様において、一旦第一モノマーが開始重合段階において消費されると、次いで、第二重合段階において成長ポリマー鎖上に第二ブロックを形成するために、第二モノマーを添加することができる。それ故、マルチ−ブロックコポリマーを製造するために、同一又は異なるモノマー(類)と更なる重合を行うことが可能である。更に、これはラジカル重合なので、ブロックは本質的に如何なる順序にても製造することができる。ブロックコポリマーを製造するために制約を受けることはなく、その後の重合段階は、イオン重合の場合のように、最も不安定なポリマー中間体から最も安定なポリマー中間体へと進まなくてもよい。従って、ポリアクリロニトリル又はポリ(メタ)アクリレートブロックが第一に製造され、その後、スチレン又はブタジエンがそれに結合するなどのマルチ−ブロックコポリマーを製造することが可能である。
【0078】
下記の実施例により本発明を説明する。
【0079】
一般
ポリマーはゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)(ヒューレット・パッカードHP1090LC,カラムPSS1,長さ60cm,テトラヒドロフラン(THF)を用いる溶出,速度1mL/分,濃度THF1mL中10mgポリマー,スチレンを用いるキャリブレーションを伴う。)により特徴付けられる。
【0080】
log p は下記のプログラムを使用して計算される。
ニューヨーク13212,ノース・シラキュースのシラキュース・リサーチ・コーポレーション(Syracuse Research Corporation) 製のログコウント(LOGKOWNT)プログラム(ウィンドウズ(R)NTコンソール・アプリケーション)
【0081】
ニトロキシル
ニトロキシルは英国特許第2335190号明細書及び英国特許第2342649号明細書の記載に基づいて製造される。
【0082】
開始剤
使用される開始剤はアルドリッチ(Aldrich) 社及び和光化学社の商品である。
【0083】
乳化重合
実施例1〜10は、スチレン40g,水320g及びドデシル硫酸ナトリウム1.8gを使用して行われる。この混合物はアルゴンを用いて脱気される。
【0084】
実施例1〜10において、開始剤は和光VA086(市販のアゾ−開始剤)0.3322g又はカリウムペルオキソジスルフェート(KPS)0.3115gであり、共に付加的な水20gに溶解され、そしてアルゴンを用いて脱気される。
【0085】
付加的な水20gに溶解され又は付加的なスチレン20gに溶解され、アルゴンを用いて脱気された、下記表1に示すニトロキシル基を添加する。
【0086】
100℃における重合
100℃における重合は、還流コンデンサー,滴下ロートを備え、窒素バルーン及び撹拌機を備えた三つ口フラスコ中で行われる。
調整剤溶液及びスチレン・水混合物は、320回転/分の撹拌下、窒素雰囲気下で、前記三つ口フラスコに注入される。この混合物を45分100℃に加熱し、そして開始剤溶液を2分以内に滴下して添加する。反応混合物を23時間100℃に保持し、そして320回転/分で撹拌する。この反応混合物を冷却後、残渣を真空下で乾燥し、秤量して収量を決定する。ポリマーのキャラクタリゼーションは、テトラヒドロフラン中のポリマーの溶液から行われる。
【0087】
120℃における重合
120℃における重合は、還流コンデンサー,加圧及び真空ユニット並びに撹拌機を備えた二重壁三つ口フラスコ中で行われる。
重合は、下記の相違点以外は上述の方法と同様の方法にて行われる。
撹拌速度:600回転/分;窒素圧:5bar ;温度:120℃;及び反応時間9時間。
重合試験を下記表1に示す。
【表7】
Figure 2004509988
【表8】
Figure 2004509988
【表9】
Figure 2004509988
【0088】
結果を下記表2に示す。
【表10】
Figure 2004509988
【表11】
Figure 2004509988
【0089】
実施例B11及びB12:開始剤の変更
乳化重合は、開始剤の種類及び量を変更すること以外は一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で行われる。更に、ニトロキシル化合物番号102の量を変更する。実施例を下記表3に要約する。
【表12】
Figure 2004509988
【0090】
全ての重合は100℃にて23時間行われる。結果を下記表4に示す。
【表13】
Figure 2004509988
【0091】
比較重合試験を下記表5及び表6に示す。
【表14】
Figure 2004509988
比較例の結果を下記表6に示す。
【表15】
Figure 2004509988
比較例から、PDは充分に2を越え、基本的に重合の抑制は存在しないことは明らかである。
【0092】
実施例B13:n−ブチルアクリレートの乳化重合
下記の製剤は、一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で、100℃にて23時間乳化重合される。
n−ブチルアクリレート60g
水344g
ドデシル硫酸ナトリウム1.8g
カリウムペルオキソジスルフェート(KPS)0.2537g
化合物番号102:0.5099g
収率:6%
GPC−結果:  Mn:820g/mol
Mw:930g/mol
PD:1.1
【0093】
実施例B14:n−ブチルアクリレートと商標名ゾニル (Zonyl) TA−Mとの乳化共重合
下記の製剤は、一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で、120℃にて9時間乳化重合される。
n−ブチルアクリレート40g
ゾニーTA−M(市販のフルオロアクリレート組成物;CAS RN 132324−93−7)20g
水340g
ドデシル硫酸ナトリウム1.8g
VA086:0.1080g
化合物番号103:0.1587g
収率:34%
GPC−結果:  Mn:15,200g/mol
Mw:17,500g/mol
PD:1.2
【0094】
実施例B15:スチレンとアクリロニトリルとの乳化共重合
下記の製剤は、一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で、100℃にて23時間乳化重合される。
スチレン60g
アクリロニトリル20g
水320g
ドデシル硫酸ナトリウム1.8g
カリウムペルオキソジスルフェート(KPS)0.5169g
化合物番号102,0.6413g
【0095】
アクリロニトリルは、開始剤の添加30分後に添加される。
収率:52%
GPC−結果:  Mn:17,300g/mol
Mw:24,500g/mol
PD:1.4
【0096】
実施例B16:PS−マクロ開始剤とスチレンとの再開始
実施例B5の生成物2.5gをスチレン25mLに溶解する。この溶液をアルゴンを用いてパージし、そして130℃にて24時間加熱する。生成物をメタノール中で沈殿させ、そして乾燥させる。
収率:90%
GPC−結果:  Mn:47,000g/mol
Mw:60,000g/mol
PD:1.3
【0097】
実施例B17:ポリスチレン−ブロック−n−ブチルアクリレートの合成
実施例B5の生成物5gをn−ブチルアクリレート25gに溶解する。この溶液をアルゴンを用いてパージし、そして145℃にて24時間加熱する。生成物をメタノール中で沈殿させ、そして乾燥させる。
収率:14%
GPC−結果:  Mn:13,000g/mol
Mw:16,500g/mol
PD:1.3
【0098】
実施例B18:PS−マクロ開始剤とスチレンとの再開始
実施例B9の生成物5gをスチレン50mLに溶解する。この溶液をアルゴンを用いてパージし、そして130℃にて24時間加熱する。生成物をメタノール中で沈殿させ、そして乾燥させる。
収率:77%
GPC−結果:  Mn:69,000g/mol
Mw:99,400g/mol
PD:1.4
【0099】
実施例B19:ポリスチレン−ブロック−n−ブチルアクリレートの合成
実施例B9の生成物5gをn−ブチルアクリレート25gに溶解する。この溶液をアルゴンを用いてパージし、そして145℃にて24時間加熱する。生成物をメタノール中で沈殿させ、そして乾燥させる。
収率:38%
GPC−結果:  Mn:24,500g/mol
Mw:34,600g/mol
PD:1.4
【0100】
実施例B20:エマルジョン中でのポリスチレン−ブロック−n−ブチルアクリレートの合成(1ポット)
下記の製剤は、一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で、100℃にて36時間乳化重合される。
スチレン60g
水340g
ドデシル硫酸ナトリウム1.8g
カリウムペルオキソジスルフェート(KPS)0.3122g
化合物番号102:0.6211g
【0101】
36時間後、試料を採取し、そしてその分子量分布を測定する。
GPC−結果:  Mn:17,900g/mol
Mw:23,600g/mol
PD:1.3
【0102】
15分以内にn−ブチルアクリレート60gを滴下して添加した後、100℃にて更に60時間、乳化重合を持続する。前述の一般的な方法に基づいて生成物を取り出す。
【0103】
全体転換率:63%
GPC−結果:  Mn:25,000g/mol
Mw:32,400g/mol
PD:1.3
このブロックポリマーは H−NMR(CDCl 溶液)により分析され、下記のコモノマー組成を示した。
第一ブロック:  スチレン100mol %
第二ブロック:  n−ブチルアクリレート69mol %,スチレン31mol %

Claims (12)

  1. 少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーの水性分散液中でのフリーラジカル重合によるオリゴマー,コオリゴマー,ポリマー又はコポリマー(ブロック又はランダム)の製造方法であって、
    分散相中にモノマーを有する水性分散液を形成し、そして
    a)少なくとも1種の安定な遊離ニトロキシル基であって、−0.5ないし7.5のlog p (オクタノール/水)を有し、且つ次式(A),(B),(C),(D),(E),(F),(G),(H)又は(I):
    Figure 2004509988
    Figure 2004509988
    (式中、
    Rは水素原子、中断されていない又は1個若しくはそれより多くの酸素原子により中断された炭素原子数1ないし18のアルキル基、シアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル基、2個ないし18個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸の一価基、7個ないし15個の炭素原子を有する脂環式カルボン酸の一価基又は3個ないし5個の炭素原子を有するα,β−不飽和カルボン酸の一価基或いは7個ないし15個の炭素原子を有する芳香族カルボン酸の一価基を表わし、
    101 は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、炭素原子数7又は8のアルアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルカノイル基、炭素原子数3ないし5のアルケノイル基又はベンゾイル基を表わし、
    102 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、非置換又はシアノ基,カルボニル基若しくはカルバミド基により置換された炭素原子数2ないし8のアルケニル基を表わすか、或いはグリシジル基、式−CH CH(OH)−Z又は式−CO−Z又は式−CONH−Z(これらの式中、Zは水素原子、メチル基又はフェニル基を表わす。)で表わされる基を表わし、
    は水素原子を表わし、そして
    は水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そして
    及びG はメチル基を表わし、そして
    及びG はエチル基又はプロピル基を表わすか、又は
    及びG はメチル基を表わし、そして
    及びG はエチル基又はプロピル基を表わし、
    ,R ,R 及びR は互いに独立して炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数3ないし18のアルキニル基;OH基,ハロゲン原子又は基−O−C(O)−R により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数3ないし18のアルキニル基;少なくとも1個の酸素原子及び/又はNR 基により中断された炭素原子数2ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基又は炭素原子数6ないし10のアリール基を表わし、或いはR とR 及び/又はR とR とは結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基を形成し、
    ,R 及びR は独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基又は炭素原子数6ないし10のアリール基を表わし、
    は水素原子、OH基、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数3ないし18のアルキニル基;1個又はそれより多くのOH基,ハロゲン原子又は基−O−C(O)−R により置換された炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数3ないし18のアルキニル基;少なくとも1個の酸素原子及び/又はNR 基により中断された炭素原子数2ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基又は炭素原子数6ないし10のアリール基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数5ないし10のヘテロアリール基、−C(O)−炭素原子数1ないし18のアルキル基、−O−炭素原子数1ないし18のアルキル基又は−COO−炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わし、そして
    ,R10,R11及びR12は独立して水素原子、フェニル基又は炭素原子数1ないし18のアルキル基を表わす。)で表わされる化合物からなる基から選択される少なくとも1個の安定した遊離ニトロキシル基、並びに
    b)フリーラジカル開始剤
    の存在下で高められた温度でモノマー又はモノマー/オリゴマーを(共)重合することからなる方法。
  2. 前記式(A),(B)及び(C)中、
    Rが水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、シアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル基、脂肪族カルボン酸の一価基を表わし、
    101 が炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数7又は8のアルアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルカノイル基、炭素原子数3ないし5のアルケノイル基又はベンゾイル基を表わし、
    102 が炭素原子数1ないし18のアルキル基、グリシジル基、式−CH CH(OH)−Z又は式−CO−Z(これらの式中、Zは水素原子、メチル基又はフェニル基を表わす。)で表わされる基を表わす請求項1記載の方法。
  3. 前記式(D),(E),(F),(G),(H)及び(I)中、R ,R ,R 及びR の少なくとも二つはエチル基、プロピル基又はブチル基を表わし、そして残りはメチル基を表わし、或いはR とR 又はR とR とが結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数5又は6のシクロアルキル基を形成し、そして残りの置換基はエチル基、プロピル基又はブチル基を表わす請求項1記載の方法。
  4. 成分b)の前記フリーラジカル開始剤がビス−アゾ化合物、過酸化物又は過酸化水素である請求項1記載の方法。
  5. 成分a)の前記ニトロキシル基が、前記モノマー又はモノマー混合物に基づいて、0.001モル%ないし20モル%の量存在する請求項1記載の方法。
  6. 前記フリーラジカル開始剤が、前記モノマー又はモノマー混合物に基づいて、0.01モル%ないし20モル%の量存在する請求項1記載の方法。
  7. フリーラジカル開始剤に対する安定な遊離ニトロキシル基のモル比が20:1ないし1:2である請求項1記載の方法。
  8. 重合のための温度が60℃ないし180℃である請求項1記載の方法。
  9. 反応中の圧力が0.1bar ないし20bar である請求項1記載の方法。
  10. 前記エチレン性不飽和モノマーがスチレン、置換スチレン、共役ジエン、アクロレイン、酢酸ビニル、ビニルピロリドン、ビニルイミダゾール、無水マレイン酸、(アルキル)アクリル酸無水物、(アルキル)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(アルキル)アクリルアミドからなる群から選択される請求項1記載の方法。
  11. 前記エチレン性不飽和モノマーがスチレン、アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸エステル、メタクリルアミド、メタクリロニトリルからなる群から選択される請求項10記載の方法。
  12. 形成されたポリマーがブロックコポリマー又はグラフトコポリマーである請求項1記載の方法。
JP2002529169A 2000-09-25 2001-09-18 水性分散液中の制御されたラジカル重合方法 Pending JP2004509988A (ja)

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