JP2004507034A - 薄いシャドウマスクのエッチング中に磁気組立体を利用する方法 - Google Patents

薄いシャドウマスクのエッチング中に磁気組立体を利用する方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2004507034A
JP2004507034A JP2001503199A JP2001503199A JP2004507034A JP 2004507034 A JP2004507034 A JP 2004507034A JP 2001503199 A JP2001503199 A JP 2001503199A JP 2001503199 A JP2001503199 A JP 2001503199A JP 2004507034 A JP2004507034 A JP 2004507034A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal sheet
magnetic assembly
etching
acid
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001503199A
Other languages
English (en)
Inventor
エシュルマン,クレイグ クレイ
ウェッツェル,チャールズ マイケル
マッコイ,ランダール ユージーン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Thomson Licensing SAS
Original Assignee
Thomson Licensing SAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Thomson Licensing SAS filed Critical Thomson Licensing SAS
Publication of JP2004507034A publication Critical patent/JP2004507034A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

カラー受像管用のシャドウマスクを形成するために薄い金属シート(32)中にアパーチャ(44)をエッチングする改善された方法では、金属シートは一方の主表面上に第1の耐酸性ステンシル(38)、他方の主表面上に第2の耐酸性ステンシル(40)を有する。少なくとも一方のステンシルは、予定されるアパーチの位置に開口部(42)を有する。改善された方法は、平坦な磁気組立体(30)で金属シートを磁気的に保持する段階、及び、金属シートを磁気的に保持して磁気組立体をエッチングチャンバ(12)の中で移動させる段階を有する。磁気組立体は、耐酸性板(34)上で支持される磁性体層(36)を有する。

Description

【0001】
本発明は、カラー受像管用のシャドウマスクを形成するために薄い金属板にアパーチャをエッチングする方法、特に、引張シャドウマスクのエッチング中にマスク材料を磁気的に保持する磁気組立体を利用する方法に関わる。
【0002】
[発明の背景]
カラー受像管は、管のスクリーンに対して3つの電子ビームを生成し方向付ける電子銃を含む。スクリーンは、管の表面板の内表面上に位置し、3つの異なる色放射蛍光体の素子のアレイから成る。色選択電極、又は、シャドウマスクは、各電子ビームがそのビームと関連する蛍光素子だけに当たるよう銃とスクリーンとの間に介在する。シャドウマスクは、通常管の表面板の内表面にある程度並行に輪郭が合わされる、鉄又はインバーのような金属の薄いシートである。
【0003】
一つのタイプのカラー受像管では、その表面板のパネル内に引張シャドウマスクが取り付けられている。引張シャドウマスクは、複数の並行に垂直方向に延在するストランドを有する有効な孔あき部分を含む。多数の細長いアパーチャがストランドの間に位置する。電子ビームは、管の作動中、有効部分における細長いアパーチャの中を通る。
【0004】
引張シャドウマスクのその製造中の取り扱い方は、特に、マスクのストランド間でタイバー又は他の接続が無い場合、非常に難しい。例えば、従来の半球状のマスクを形成するために使用される処理によって引張シャドウマスクがエッチングされる場合、エッチング中ストランドは動き過ぎ、従って、繰り返し性の結果を得ることが非常に困難である。本発明は、引張シャドウマスクのエッチング中に生じ得る困難を克服するために磁気組立体を利用する方法を提供する。
【0005】
[発明の要約]
本発明は、カラー受像管用のシャドウマスクを形成するために薄い金属シート中にアパーチャをエッチングする改善された方法を提供する。金属シートは、一方の主表面上に第1の耐酸性ステンシル、他方の主表面上に第2の耐酸性ステンシルを有する。少なくとも一つのステンシルは、予定されるアパーチャの位置に開口部を有する。改善されたエッチング方法では、平坦な磁気組立体で金属シートを磁気的に保持する段階、及び、金属シートを上で磁気的に保持する磁気組立体をエッチングチャンバの中で移動させる段階を有する。磁気組立体は、耐酸性板上で支持される磁性体層を含む。
【0006】
[好ましい実施例の詳細な説明]
図1は、水平方向の向きの絶縁性の片10を示し、この片はエッチングチャンバ12の左から右へと移動される。エッチングチャンバ12は、入口ポート14及び出口ポート16を有する。チャンバの上部分に位置決めされるスプレーノズル20から放たれる液体エッチング液を集めるためにチャンバ12の底部分には水溜18が位置する。水溜18中のエッチング液は、ポンプ22により制御弁26を有する配管24の中を通ってノズル20が取り付けられているヘッダ28までポンピングされる。平坦な磁気組立体30をチャンバ12内の片10の上に示す。磁気組立体30の上にはシャドウマスクを生成するために使用される金属シート32がある。
【0007】
図2に示すように、磁気組立体は、絶縁性の回路板材料34であり、この回路板材料には薄い磁性体層36が接着されている。金属シート32は、一方の主表面上に上部の第1の耐酸性ステンシル38、他方の主表面上に下部の第2の耐酸ステンシル40を有する。上部ステンシル38は、完成されたシャドウマスク中の予定されるアパーチャの位置に開口部を有する。磁気組立体30及び金属シート32は、アパーチャがシートを通って完全にエッチングされることを確実にするよう、エッチングチャンバ12中で十分な時間にわたって維持される。図3は、完全なアパーチャ44が金属シート32中に形成されてエッチングチャンバ12を出た後の磁気組立体30及び金属シートを示す。
【0008】
図4に示す別の実施例では、絶縁性の片46は2つのエッチングチャンバ48及び50を通る。第2のチャンバ50の構成は、前の実施例のエッチングチャンバ12に類似する。第1のチャンバ48は、上からスプレーされる代わりに、片46の下からスプレーするスプレーノズル52を有する点で第2のチャンバ50と異なる。絶縁性の片46、並びに、第1の実施例の片10がエッチング中間断なく移動されることが好ましい。
【0009】
図5は、一方の主表面上に下部の第1の耐酸性ステンシル56、他方の主表面上に上部の第2の耐酸性ステンシル58を有する金属シート54を示す。ステンシル56及び58の両方が完成されたシャドウマスクの予定されるアパーチャの位置に開口部60及び62を夫々有する。エッチング処理の始めには、金属シート54は、薄い磁性体層68が取り付けられた絶縁性の回路板材料66を含む磁気組立体64によって、片46の底部に対して磁気的に保持されている。
【0010】
図6に示すように、第1のチャンバ48において金属シート54はその厚さの約40%の深さまで部分的なアパーチャ70がエッチングされる。磁気組立体64及び金属シート54は、第1のチャンバ48を出た後、図7に示すように、薄い磁性体層76が取り付けられた絶縁性の回路板材料74を含む第2の磁気組立体72が金属シート54の下側に対して配置される。
【0011】
次に、図8に示すように、第1の磁気組立体64が片46の上から除去され、金属シート54が磁気的に取り付けられた第2の磁気組立体72は片46の上に配置される。金属シート54は、第2の耐酸性ステンシル58を上向きにして第2のエッチングチャンバ50に入る。図9に示すように、金属シート54は、部分的なアパーチャ70までエッチングされ、それにより、最終的なアパーチャ78が形成される。エッチングに続き、耐酸性ステンシルが除去され、残留する金属シート54がシャドウマスクである。
【0012】
磁性体層36、68、及び、76は、少なくとも金属シート32及び54の面積の大きさを有する連続的な長方形であることが好ましい。或いは、磁性体層は、チャンバ中の移動方向と並行に整列される磁性の片でもよい。例えば、磁気組立体は、G−10ストリップされた回路板シートに取り付けられるエッチングチャンバ中の移動方向に対して並行な磁性の片で構成される。本例では、回路版材料は、その小さい熱膨張係数、及び、マスクを形成するために使用されるエッチング液に対するその抵抗力のために選択された。着色を回避するためにエッチング中の溶液の交換を可能にするようマスクの活性領域外に磁性の片が位置決めされることが好ましい。エッチング中に材料が動き過ぎることを防止し、マスクのストランドがもつれること或いは他のマスクの損傷が生ずる可能性を有さずにマスクを取り扱うことを可能にするために磁石がマスク材料を保持する。更に、エッチング中にマスクを定位置で保持し、エッチング機器によるマスクとの如何なる接触も防止するために追加の磁石部材が金属シートの上で使用され得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】新規の方法の第1の実施例を実施するために使用され得る装置を示す図である。
【図2】新規の方法の第1の実施例を実施するための異なる段における磁気組立体及び金属シートの断面図である。
【図3】新規の方法の第1の実施例を実施するための異なる段における磁気組立体及び金属シートの断面図である。
【図4】新規の方法の第2の実施例を実施するために使用され得る装置を示す図である。
【図5】新規の方法の第2の実施例を実施するための異なる段における2つの磁気組立体及び金属シートの断面図である。
【図6】新規の方法の第2の実施例を実施するための異なる段における2つの磁気組立体及び金属シートの断面図である。
【図7】新規の方法の第2の実施例を実施するための異なる段における2つの磁気組立体及び金属シートの断面図である。
【図8】新規の方法の第2の実施例を実施するための異なる段における2つの磁気組立体及び金属シートの断面図である。
【図9】新規の方法の第2の実施例を実施するための異なる段における2つの磁気組立体及び金属シートの断面図である。

Claims (8)

  1. カラー受像管用のシャドウマスクを形成するために薄い金属シート(32,54)中にアパーチャ(44,78)をエッチングし、
    上記金属シートが、一方の主表面上に第1の耐酸性ステンシル(38,56)、他方の主表面上に第2の耐酸性ステンシル(40,58)を有し、上記ステンシルの少なくとも一方が上記金属シート中でアパーチャが予定される位置に開口部(42,60,62)を有する方法であって、
    耐酸性板(34,66,74)上で支持される磁性体層(36,68,76)を有する平坦な磁気組立体(30,64,72)で上記金属シート(32,54)を磁気的に保持する段階と、
    上記組立体が上記金属シートを磁気的に保持して上記磁気組立体をエッチングチャンバ(12,48,50)の中で移動させる段階とを有する方法。
  2. 上記ステンシルの一方(38)だけが上記金属シート(32)中のアパーチャ(44)の予定される上記位置に開口部(42)を有し、
    上記金属シートは上記開口部を上向きにして上記ステンシルと方向付けられる請求項1記載の方法。
  3. 上記金属シート(32)、は上記シートの上側からだけ上記チャンバ(12)中でエッチングされる請求項2記載の方法。
  4. 上記磁性体層(36,68,76)は、上記金属シート(32,54)の面積と少なくとも同じ大きさの面積の連続的な長方形である請求項1記載の方法。
  5. 上記磁性体層(36,68,76)は、上記チャンバ(12,48,50)を移動する方向と並行に整列された磁性の片を有する請求項1記載の方法。
  6. 上記第1の耐酸性ステンシル(56)及び上記第2の耐酸性ステンシル(58)の両方が上記シート(54)中の予定されるアパーチャ(78)の上記位置に開口部(60,62)を有する請求項1記載の方法。
  7. 上記エッチングチャンバ(48)は、絶縁性の片(46)を中で通し、
    上記金属シート(54)は、上記第1の耐酸性ステンシル(56)を下向きにして上記絶縁性の片の下に配置され、
    上記磁気組立体(64)は、上記金属シートを上記絶縁性の片に対して磁気的に保持するために上記磁性体層(68)を下向きにして上記絶縁性の片の上に配置され、
    上記絶縁性の片は、上記磁気組立体及び上記金属シートを有して上記エッチングチャンバの中で移動され、
    上記金属シートは、下側から部分的にエッチングされる請求項6記載の方法。
  8. 上記部分的にエッチングされた金属シート(54)は第2の磁気組立体に移され、上記第2の磁気組立体(72)によって磁気的に保持され、
    上記第2の磁気組立体は、上記金属シート上の上記第2の耐酸性ステンシル(58)を上向きにして上記絶縁性の片(46)の上に移され、
    上記第2の組立体及び金属シートは、上記第2のエッチングチャンバ(50)の中に通され、
    上記金属シート中に上記アパーチャ(78)をエッチングすることが完了される請求項7記載の方法。
JP2001503199A 1999-06-11 2000-06-07 薄いシャドウマスクのエッチング中に磁気組立体を利用する方法 Withdrawn JP2004507034A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US33069799A 1999-06-11 1999-06-11
PCT/US2000/015601 WO2000077815A1 (en) 1999-06-11 2000-06-07 Method utilizing a magnetic assembly during etching thin shadow masks

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004507034A true JP2004507034A (ja) 2004-03-04

Family

ID=23290921

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001503199A Withdrawn JP2004507034A (ja) 1999-06-11 2000-06-07 薄いシャドウマスクのエッチング中に磁気組立体を利用する方法

Country Status (12)

Country Link
US (1) US6562249B2 (ja)
EP (1) EP1188173B1 (ja)
JP (1) JP2004507034A (ja)
KR (1) KR20020010699A (ja)
CN (1) CN1282983C (ja)
AU (1) AU778416B2 (ja)
CA (1) CA2375996A1 (ja)
DE (1) DE60031777D1 (ja)
MX (1) MXPA01012360A (ja)
MY (1) MY124047A (ja)
TW (1) TW445397B (ja)
WO (1) WO2000077815A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106757024A (zh) * 2016-12-01 2017-05-31 辽宁融达新材料科技有限公司 一种微缝吸音板制造方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100343516C (zh) * 2003-05-20 2007-10-17 乐金电子(天津)电器有限公司 封闭型压缩机的外壳结构

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2822635A (en) * 1954-10-01 1958-02-11 Norman B Mears Apparatus and method for etching metal webs
US3959874A (en) 1974-12-20 1976-06-01 Western Electric Company, Inc. Method of forming an integrated circuit assembly
JPS56139676A (en) * 1980-04-02 1981-10-31 Toshiba Corp Method and apparatus for etching metal sheet
JPS60200440A (ja) * 1984-03-23 1985-10-09 Toshiba Corp シヤドウマスクの製造装置
FR2668091A1 (fr) * 1990-10-22 1992-04-24 Alcatel Telspace Dispositif de fixation de substrats sur un support pour gravure chimique de couches metalliques.
JPH0641769A (ja) * 1992-07-27 1994-02-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd エッチング装置
JP3282347B2 (ja) * 1993-09-07 2002-05-13 ソニー株式会社 エッチング法、色選別機構及びその作製方法、並びに、陰極線管
JPH11152587A (ja) * 1997-11-20 1999-06-08 Toppan Printing Co Ltd エッチング部品の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106757024A (zh) * 2016-12-01 2017-05-31 辽宁融达新材料科技有限公司 一种微缝吸音板制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
AU5869200A (en) 2001-01-02
WO2000077815A1 (en) 2000-12-21
EP1188173B1 (en) 2006-11-08
AU778416B2 (en) 2004-12-02
CA2375996A1 (en) 2000-12-21
US20020070196A1 (en) 2002-06-13
DE60031777D1 (de) 2006-12-21
CN1282983C (zh) 2006-11-01
US6562249B2 (en) 2003-05-13
EP1188173A1 (en) 2002-03-20
TW445397B (en) 2001-07-11
MXPA01012360A (es) 2002-07-09
MY124047A (en) 2006-06-30
KR20020010699A (ko) 2002-02-04
CN1399788A (zh) 2003-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3725065A (en) Method for making a kinescope comprising a color selection mask with temporary corridors
US4293376A (en) Method of producing perforated glass plate
JP2004507034A (ja) 薄いシャドウマスクのエッチング中に磁気組立体を利用する方法
US3808071A (en) Etch-back process
US6384523B1 (en) Color selection electrode, method of producing color selection electrode and cathode ray tube
US3631576A (en) Method of producing a color kinescope
US3891491A (en) Apparatus for re-etching a color cathode ray tube shadow mask
US6320304B1 (en) Aperture grille having parallel slits with larger cross-sectional area grids at a peripheral portion
WO1990010946A1 (en) Blackening of ni-based ftm shadow masks
JP3093307B2 (ja) シャドウマスクの製造方法
US7170220B2 (en) Shadow mask with slots having a front side opening with an inclined from side edge
KR200251701Y1 (ko) 컬러브라운관용 섀도우마스크
CN115305440A (zh) 一种掩膜板及其制备方法、显示面板的制备装置
JP2004071322A (ja) カラー陰極線管およびその製造方法
JP2002231131A (ja) シャドウマスクの製造方法及び製造装置
JPH06333498A (ja) シャドウマスクの製造方法
JPH06280051A (ja) シャドウマスクの製造方法
JPH02103841A (ja) シャドウマスクの製造方法
KR20010046797A (ko) 집속 렌즈를 갖는 전계 방출 표시 소자의 제조방법
JP2006114459A (ja) シャドウマスク
JP2004281111A (ja) シャドウマスクの製造方法およびシャドウマスク
JP2001229846A (ja) 展張型シャドウマスクおよびそのエッチング処理方法
JP2002093338A (ja) ブラウン管用シャドウマスク
JP2003229068A (ja) 色選別装置及びその製造方法並びに陰極線管
JP2002298748A (ja) パターン補正されたシャドウマスク

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070807