JP2004503743A - 微細構造化された温度センサ - Google Patents
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Abstract
微細構造化された本発明による温度センサ(5)、特に赤外線センサは、支持体(12)と、該支持体(12)に位置する少なくとも1つの熱電対(20)とを有している。さらに、該熱電対(20)は第1の材料(13)と第2の材料(14)とを有している。両材料(13,14)は、少なくとも点で少なくとも1つの熱接点(10,11)を互いに形成している。さらに、本発明によれば、第1の材料(13)および/または第2の材料(14)が、少なくとも部分的にメアンダ形のまたは波形の導体路(15,16)の形で形成されていて、支持体(12)に案内されている。これに加えて、このような形式で同じく有利に構造化された導体路(15,16)を備えた微細構造化された温度センサ(5)では、第1の材料(13)が、白金であるかまたはアルミニウムであり、第2の材料(14)が、ドーピングされたかまたはドーピングされていないポリシリコンゲルマニウムであることが提案される。
Description
【0001】
背景技術
本発明は、独立請求項の上位概念部に記載した形式の微細構造化された温度センサ、特に赤外線センサに関する。
【0002】
たとえばセキュリティ技術、設備技術または家具技術で使用されるような既知の赤外線センサは物体の温度を、この物体から放出された赤外放射に基づき測定する。この場合、基本的には、いわゆる焦電センサ、ボロメトリックセンサならびに熱電センサが識別される。
【0003】
熱電センサの事例では、この熱電センサを薄膜技術において、たとえばポリイミドフィルムに実現することが知られている。さらに、シリコン技術に基づく微細構造化された温度センサもすでに知られている。
【0004】
したがって、ドイツ連邦共和国特許出願第19932308.9号明細書には、温度センサを、少なくとも十分に片持ち式の薄膜に配置されたサーモパイルの形で製作することが提案されている。この場合、このサーモパイルの熱接点は交互に「熱い」熱接点と「冷たい」熱接点との形で形成されていて、相応のコンタクトパイルと共に支持体に結合されており、そのうえ、電気的に制御可能でもある。さらに、ドイツ連邦共和国特許出願第19932308.9号明細書には、十分に片持ち式の薄膜の表面に延びる熱電対を導体路の形で実現することが提案されている。この導体路は交互に第1の材料と第2の材料とから形成されるので、両材料が互いに接触する領域には熱接点が形成されている。この場合、第1の材料はアルミニウムであるのに対して、第2の材料としてはポリシリコンが使用される。
【0005】
ドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書には、たとえば犠牲層技術または別のエッチング法により、まず薄い片持ち式の薄膜をシリコン基板に形成することによって、赤外線センサの形の微細構造化された温度センサを形成することが提案されている。薄膜は小さな熱伝導率に基づき、この薄膜の下側に位置する基板から熱的に分離されているので、薄膜は赤外放射の入射時に基板よりも強く加熱される。その後、薄膜には、微細構造化された多数のセンサ素子もしくは熱電対が位置している。これらのセンサ素子もしくは熱電対は、薄膜の中心と基板との間の温度差を、この温度差に比例する電気信号に熱電的に変換する。片持ち式の薄膜に導体路の形で実現された熱電対のためには、ドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書によれば、白金/ポリシリコン、アルミニウム/ポリシリコンまたはp型ドーピングされたポリシリコン/n型ドーピングされたポリシリコンの材料組合せが使用される。この場合、とりわけバルクマイクロマシニングに使用されるポリシリコン/アルミニウムの材料組合せは、この材料組合せがCMOSに適合可能であるという利点を有している。
【0006】
さらに、熱電対のための材料として金、アンチモン、ビスマスおよびテルル化鉛を使用できることが知られている。この場合、金はバルクマイクロマシニングのためにも適している。
【0007】
本発明の課題は、微細構造化された既知の温度センサに比べて温度が高い場合の感度および安定性に関して改善された微細構造化された温度センサを実現することである。
【0008】
発明の利点
微細構造化された本発明による温度センサは公知先行技術に比べて、支持体に位置する導体路の構造および/または熱電対のための材料の特殊な選択によって、微細構造化された温度センサのための従来の製作法を著しく変更する必要なしに、高められた感温性が達成されるという利点を有している。特に本発明によれば、熱電対の、形成される導体路のレイアウトおよび/またはこの導体路を析出するために使用される材料しか変更されない。
【0009】
さらに、有利には、熱電対のための材料の選択、すなわち、白金またはアルミニウムと、ドーピングされたかまたはドーピングされていないポリシリコンとの材料組合せによって、製作された微細構造化された温度センサが、著しく高められた温度安定性を既知の温度センサに対して有していることが達成される。この既知の温度センサでは、たとえばアルミニウムがポリシリコンと共に熱電対のための材料として使用される。
【0010】
さらに、いまや、熱電対のための材料の選択によって、温度が200℃よりも大きい場合に、しばしば熱電対材料としてポリシリコンとアルミニウムとが使用されたセンサの場合のような、獲得された微細構造化された温度センサのマイグレーション効果ひいては安定性問題が発生することを回避することができる。
【0011】
さらに、従来頻繁に使用されたアルミニウムは極めて良好な熱伝導体である。このことは、アルミニウムによって製作された熱電対の熱電的な効果が比較的低いことを意味している。これに対して、白金は、一方では400℃までの温度で使用可能であり、他方ではアルミニウムに比べて因子3だけ低い熱伝導率を有している。さらに、ドーピングされたかまたはドーピングされていない多結晶シリコンゲルマニウムも多結晶シリコンに比べて因子3〜8だけ低い熱伝導率を示しており、したがって、製作された熱電対の熱電的な効果も同じく著しく高められる。
【0012】
本発明の有利な改良形は、従属請求項に記載の手段から得られる。
【0013】
したがって、特に支持体の表面に設けられた微細構造化された導体路の新規のメアンダ形のまたは波形のレイアウトと、熱電対のための特殊な前記材料との組合せによって、温度センサの特に高い感度向上と特に良好な温度安定性とが達成される。
【0014】
さらに、有利には、微細構造化された温度センサ、たとえば赤外線センサの使用に応じて、熱電対のための前記材料が互いに組合せ可能である。この場合、半導体材料はp型ドーピングすることができるかまたはn型ドーピングすることができる。
【0015】
微細構造化された温度センサでは、いわゆる「熱い」接点と「冷たい」接点との間の温度差が、測定可能な電圧に熱電的に変換されるので、「冷たい」箇所は一定の温度に保たれなければならないかまたはこの温度は「熱い」接点の温度に比べて既知でなければならないかもしくは報知されていなければならない。通常、このためには、従来では、いわゆる「サーミスタ」がハイブリッド技術において熱電対のための支持体に組み込まれる。なぜならば、使用される材料であるアルミニウムとポリシリコンとが、この基準温度を規定するためにはしばしば十分敏感でないからである。
【0016】
いま、これに関連して、さらに有利には、熱電的な材料として白金が使用されると、抵抗性のある高精度の温度測定素子を相応の導体路もしくは給電線路と同じ製作ステップでシリコンチップにもしくは熱電対を支持する支持体に組み込むことが可能となるかもしくは析出することが可能となる。したがって、付加的なサーミスタは不要となる。
【0017】
さらに、導体路が、支持体に延びるメアンダ形のまたは波形の導体路の形で形成されていることによって、より低い内部抵抗を備えた導体路だけをメアンダとして形成することが可能となる。なぜならば、高い電気抵抗を備えた材料の場合には、メアンダ形状もしくは波形状によって雑音電圧が高められるからである。
【0018】
さらに、強調したいことは、メアンダ形のもしくは波形の導体路は、相並んで延びるように形成することもできるし、少なくとも部分的にオーバラップしてまたは互いに重なり合って延びるように形成することもできるということである。この場合、導体路は、たとえば酸素から成る適切な絶縁層によって電気的に絶縁された状態で互いに分離されていなければならない。十分に面が提供されている限り、一般的には、導体路を相並んで案内することが有利である。
【0019】
さらに、いまや、波もしくはメアンダの数を変化させることによって、獲得された微細構造化された温度センサの感度を変化させるかもしくは向上させることも簡単に可能となる。この場合、有利には、導体路の長さが増加するにつれて導体路の熱抵抗が増加する。すなわち、メアンダ形の導体路の熱抵抗は適宜な直線の熱抵抗よりも大きく設定されている。
【0020】
実施例の説明
以下に、本発明の実施例を図面につき詳しく説明する。
【0021】
本発明は、本実施例において、まずドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書にすでに提案されているような赤外線センサから出発する。しかし、ドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書に提案された赤外線センサは2つの点で変更される。
【0022】
詳しくは、すでにドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書に提案されているように、まず基板としての良熱伝導性の材料、たとえばシリコン(ケイ素)に劣熱伝導性の材料、たとえば酸素、窒素または両材料の化合物から成る、少なくとも十分に片持ち式(freitragend)の薄膜が形成される。この場合、主として、被着させたい熱電対20のための支持体12として働く少なくとも十分に片持ち式の薄膜が、二酸化ケイ素、窒化ケイ素または多孔性のシリコンから成っていると有利である。
【0023】
その後、支持体12の表面には、十字形にまたは星形に配置された直列接続された多数の熱電対20が形成される。この場合、ただ1つの熱電対20しか示されていない図1によれば、支持体12に、まず、第1の材料13がメアンダ形の第1の導体路15の形で析出され、次いで、第2の材料14が同じくメアンダ形の第2の導体路16の形の析出される。この場合、第1の導体路15と第2の導体路16とは、図1に示したように、少なくとも十分平行に相並んで延びている。
【0024】
さらに、第1の材料13と第2の材料14とは第1の熱接点10と第2の熱接点11との領域で接触しており、さらに、熱電対20にまで延びる給電線路17が設けられている。この給電線路17は第2の導体路16に類似して形成されかつ被着されているので、熱電対20は給電線路17を介して電気的に自体公知の形式で電子的な構成素子(図示せず)に接続することができるかもしくは制御することができる。
【0025】
さらに、図1に示したように、第1の熱接点10は第1の温度T1にさらされており、第2の熱接点11は第2の温度T2にさらされている。この場合、温度T2は、微細構造化された温度センサ5によって検出したいかもしくは測定したい実際の温度であるのに対して、温度T1は少なくともほぼ一定に保たれるかまたは付加的な測定装置によって選択的に規定可能である。この場合、第1の熱接点10(「冷たい」熱接点)の温度T1は、第2の熱接点11(「熱い」熱接点)の、測定したい温度T2に対する基準温度として働く。
【0026】
その他の点では、導体路14,15および給電線路17の幅が20nm〜200μmの間、有利には1μm〜20μmの間に寸法設定されている。導体路14,15および給電線路17の厚さは10nm〜10μm、有利には100nm〜2μmに寸法設定されている。第1の導体路15もしくは第2の導体路16の形成ならびに両導体路15,16のメアンダ形の構造化および給電線路17の形成は、たとえば公知の形式でPECVD(Physically Enhanced Chemical Vapour Deposition)またはLPCVD(Low Pressure Chemical Vapour Deposition)による各材料13,14のスパッタリングまたは蒸着によって行われる。
【0027】
具体的には、本実施例では、第1の材料13は、3〜8W/Kmの熱伝導率を備えたn型ドーピングされたポリシリコンゲルマニウムである。第2の材料14は、本実施例では、70W/Kmの熱伝導率を備えた白金である。さらに、給電線路17もそれぞれ第2の導体路16に類似して白金導体路の形で形成されているので、それぞれ白金/ポリシリコンゲルマニウムの材料組合せによって形成された2つの熱接点10,11が得られる。
【0028】
図1に示した本実施例に対して選択的に、第1の導体路15と第2の導体路16とが部分的にまたは完全に互いに重なり合って延びていて、熱接点10,11を除いて互いに電気的に絶縁された状態で案内されていてもよい。この事例では、電気的な絶縁は、両導体路15,16の間に設けられた電気的に絶縁性の酸化中間層によって保証される。
【0029】
さらに、当然ながら、2つの熱接点10,11の代わりに複数の熱接点が設けられていてもよい。これらの熱接点はサーモチェーン(Thermokette)またはサーモパイルのように配置されている。この場合、少なくとも2つの熱接点は互いに異なる温度にさらされている。
【0030】
本発明の変化実施例では、第1実施例の改良形において、第1の温度T1を規定するために付加的な測定装置の一部が導体路の形で支持体12に付加的に形成されるかもしくは組み込まれる。この場合、これによって、第1の熱接点10の領域における支持体12の表面への慣用のサーミスタの組込みを不要にすることができる。
【0031】
詳しくは、この場合、測定装置は、白金から成る付加的な基準導体路が第1の熱接点10の周辺に測定装置の敏感な構成部分として設けられていることによって実現されている。基準導体路は相応の給電線路を介して、基準導体路の、温度に関連した電気抵抗を規定するための自体公知の評価手段に同じく接続されている。この場合、基準導体路は、たとえば給電線路17または第2の導体路16に類似して形成されている。
【0032】
しかし、選択的に測定装置は、第2の導体路16または給電線路17の一区分が基準導体路として使用され、導体路のこの部分の、温度に関連した電気抵抗を規定するための相応の評価手段に接続されていることによっても実現することができる。
【0033】
温度T1を測定するかもしくは監視するための、支持体12への付加的な基準導体路の組込み可能性もしくは支持体12での基準導体路としての第2の導体路16または給電線路17の一部の使用可能性は、抵抗性のある高精度の温度測定に対する白金の適性から得られる。
【0034】
図1に示した熱電対20の構造および機能および温度センサ5のさらなる構造に対するさらなる詳細に関しては、ドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書に示されている。このドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書では、温度センサ5が、熱電対20の導体路15,16の特殊なレイアウトと、熱電対20のための材料の特殊な選択とを除いて赤外線センサの形で記載されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】
支持体の表面に相並んで延びる被着された導体路の形で形成されたただ1つの熱電対を示す図である。
【符号の説明】
5 温度センサ、 10 熱接点、 11 熱接点、 12 支持体、 13 材料、 14 材料、 15 導体路、 16 導体路、 17 給電線路、 20 熱電対、 T1 温度、 T2 温度
背景技術
本発明は、独立請求項の上位概念部に記載した形式の微細構造化された温度センサ、特に赤外線センサに関する。
【0002】
たとえばセキュリティ技術、設備技術または家具技術で使用されるような既知の赤外線センサは物体の温度を、この物体から放出された赤外放射に基づき測定する。この場合、基本的には、いわゆる焦電センサ、ボロメトリックセンサならびに熱電センサが識別される。
【0003】
熱電センサの事例では、この熱電センサを薄膜技術において、たとえばポリイミドフィルムに実現することが知られている。さらに、シリコン技術に基づく微細構造化された温度センサもすでに知られている。
【0004】
したがって、ドイツ連邦共和国特許出願第19932308.9号明細書には、温度センサを、少なくとも十分に片持ち式の薄膜に配置されたサーモパイルの形で製作することが提案されている。この場合、このサーモパイルの熱接点は交互に「熱い」熱接点と「冷たい」熱接点との形で形成されていて、相応のコンタクトパイルと共に支持体に結合されており、そのうえ、電気的に制御可能でもある。さらに、ドイツ連邦共和国特許出願第19932308.9号明細書には、十分に片持ち式の薄膜の表面に延びる熱電対を導体路の形で実現することが提案されている。この導体路は交互に第1の材料と第2の材料とから形成されるので、両材料が互いに接触する領域には熱接点が形成されている。この場合、第1の材料はアルミニウムであるのに対して、第2の材料としてはポリシリコンが使用される。
【0005】
ドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書には、たとえば犠牲層技術または別のエッチング法により、まず薄い片持ち式の薄膜をシリコン基板に形成することによって、赤外線センサの形の微細構造化された温度センサを形成することが提案されている。薄膜は小さな熱伝導率に基づき、この薄膜の下側に位置する基板から熱的に分離されているので、薄膜は赤外放射の入射時に基板よりも強く加熱される。その後、薄膜には、微細構造化された多数のセンサ素子もしくは熱電対が位置している。これらのセンサ素子もしくは熱電対は、薄膜の中心と基板との間の温度差を、この温度差に比例する電気信号に熱電的に変換する。片持ち式の薄膜に導体路の形で実現された熱電対のためには、ドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書によれば、白金/ポリシリコン、アルミニウム/ポリシリコンまたはp型ドーピングされたポリシリコン/n型ドーピングされたポリシリコンの材料組合せが使用される。この場合、とりわけバルクマイクロマシニングに使用されるポリシリコン/アルミニウムの材料組合せは、この材料組合せがCMOSに適合可能であるという利点を有している。
【0006】
さらに、熱電対のための材料として金、アンチモン、ビスマスおよびテルル化鉛を使用できることが知られている。この場合、金はバルクマイクロマシニングのためにも適している。
【0007】
本発明の課題は、微細構造化された既知の温度センサに比べて温度が高い場合の感度および安定性に関して改善された微細構造化された温度センサを実現することである。
【0008】
発明の利点
微細構造化された本発明による温度センサは公知先行技術に比べて、支持体に位置する導体路の構造および/または熱電対のための材料の特殊な選択によって、微細構造化された温度センサのための従来の製作法を著しく変更する必要なしに、高められた感温性が達成されるという利点を有している。特に本発明によれば、熱電対の、形成される導体路のレイアウトおよび/またはこの導体路を析出するために使用される材料しか変更されない。
【0009】
さらに、有利には、熱電対のための材料の選択、すなわち、白金またはアルミニウムと、ドーピングされたかまたはドーピングされていないポリシリコンとの材料組合せによって、製作された微細構造化された温度センサが、著しく高められた温度安定性を既知の温度センサに対して有していることが達成される。この既知の温度センサでは、たとえばアルミニウムがポリシリコンと共に熱電対のための材料として使用される。
【0010】
さらに、いまや、熱電対のための材料の選択によって、温度が200℃よりも大きい場合に、しばしば熱電対材料としてポリシリコンとアルミニウムとが使用されたセンサの場合のような、獲得された微細構造化された温度センサのマイグレーション効果ひいては安定性問題が発生することを回避することができる。
【0011】
さらに、従来頻繁に使用されたアルミニウムは極めて良好な熱伝導体である。このことは、アルミニウムによって製作された熱電対の熱電的な効果が比較的低いことを意味している。これに対して、白金は、一方では400℃までの温度で使用可能であり、他方ではアルミニウムに比べて因子3だけ低い熱伝導率を有している。さらに、ドーピングされたかまたはドーピングされていない多結晶シリコンゲルマニウムも多結晶シリコンに比べて因子3〜8だけ低い熱伝導率を示しており、したがって、製作された熱電対の熱電的な効果も同じく著しく高められる。
【0012】
本発明の有利な改良形は、従属請求項に記載の手段から得られる。
【0013】
したがって、特に支持体の表面に設けられた微細構造化された導体路の新規のメアンダ形のまたは波形のレイアウトと、熱電対のための特殊な前記材料との組合せによって、温度センサの特に高い感度向上と特に良好な温度安定性とが達成される。
【0014】
さらに、有利には、微細構造化された温度センサ、たとえば赤外線センサの使用に応じて、熱電対のための前記材料が互いに組合せ可能である。この場合、半導体材料はp型ドーピングすることができるかまたはn型ドーピングすることができる。
【0015】
微細構造化された温度センサでは、いわゆる「熱い」接点と「冷たい」接点との間の温度差が、測定可能な電圧に熱電的に変換されるので、「冷たい」箇所は一定の温度に保たれなければならないかまたはこの温度は「熱い」接点の温度に比べて既知でなければならないかもしくは報知されていなければならない。通常、このためには、従来では、いわゆる「サーミスタ」がハイブリッド技術において熱電対のための支持体に組み込まれる。なぜならば、使用される材料であるアルミニウムとポリシリコンとが、この基準温度を規定するためにはしばしば十分敏感でないからである。
【0016】
いま、これに関連して、さらに有利には、熱電的な材料として白金が使用されると、抵抗性のある高精度の温度測定素子を相応の導体路もしくは給電線路と同じ製作ステップでシリコンチップにもしくは熱電対を支持する支持体に組み込むことが可能となるかもしくは析出することが可能となる。したがって、付加的なサーミスタは不要となる。
【0017】
さらに、導体路が、支持体に延びるメアンダ形のまたは波形の導体路の形で形成されていることによって、より低い内部抵抗を備えた導体路だけをメアンダとして形成することが可能となる。なぜならば、高い電気抵抗を備えた材料の場合には、メアンダ形状もしくは波形状によって雑音電圧が高められるからである。
【0018】
さらに、強調したいことは、メアンダ形のもしくは波形の導体路は、相並んで延びるように形成することもできるし、少なくとも部分的にオーバラップしてまたは互いに重なり合って延びるように形成することもできるということである。この場合、導体路は、たとえば酸素から成る適切な絶縁層によって電気的に絶縁された状態で互いに分離されていなければならない。十分に面が提供されている限り、一般的には、導体路を相並んで案内することが有利である。
【0019】
さらに、いまや、波もしくはメアンダの数を変化させることによって、獲得された微細構造化された温度センサの感度を変化させるかもしくは向上させることも簡単に可能となる。この場合、有利には、導体路の長さが増加するにつれて導体路の熱抵抗が増加する。すなわち、メアンダ形の導体路の熱抵抗は適宜な直線の熱抵抗よりも大きく設定されている。
【0020】
実施例の説明
以下に、本発明の実施例を図面につき詳しく説明する。
【0021】
本発明は、本実施例において、まずドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書にすでに提案されているような赤外線センサから出発する。しかし、ドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書に提案された赤外線センサは2つの点で変更される。
【0022】
詳しくは、すでにドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書に提案されているように、まず基板としての良熱伝導性の材料、たとえばシリコン(ケイ素)に劣熱伝導性の材料、たとえば酸素、窒素または両材料の化合物から成る、少なくとも十分に片持ち式(freitragend)の薄膜が形成される。この場合、主として、被着させたい熱電対20のための支持体12として働く少なくとも十分に片持ち式の薄膜が、二酸化ケイ素、窒化ケイ素または多孔性のシリコンから成っていると有利である。
【0023】
その後、支持体12の表面には、十字形にまたは星形に配置された直列接続された多数の熱電対20が形成される。この場合、ただ1つの熱電対20しか示されていない図1によれば、支持体12に、まず、第1の材料13がメアンダ形の第1の導体路15の形で析出され、次いで、第2の材料14が同じくメアンダ形の第2の導体路16の形の析出される。この場合、第1の導体路15と第2の導体路16とは、図1に示したように、少なくとも十分平行に相並んで延びている。
【0024】
さらに、第1の材料13と第2の材料14とは第1の熱接点10と第2の熱接点11との領域で接触しており、さらに、熱電対20にまで延びる給電線路17が設けられている。この給電線路17は第2の導体路16に類似して形成されかつ被着されているので、熱電対20は給電線路17を介して電気的に自体公知の形式で電子的な構成素子(図示せず)に接続することができるかもしくは制御することができる。
【0025】
さらに、図1に示したように、第1の熱接点10は第1の温度T1にさらされており、第2の熱接点11は第2の温度T2にさらされている。この場合、温度T2は、微細構造化された温度センサ5によって検出したいかもしくは測定したい実際の温度であるのに対して、温度T1は少なくともほぼ一定に保たれるかまたは付加的な測定装置によって選択的に規定可能である。この場合、第1の熱接点10(「冷たい」熱接点)の温度T1は、第2の熱接点11(「熱い」熱接点)の、測定したい温度T2に対する基準温度として働く。
【0026】
その他の点では、導体路14,15および給電線路17の幅が20nm〜200μmの間、有利には1μm〜20μmの間に寸法設定されている。導体路14,15および給電線路17の厚さは10nm〜10μm、有利には100nm〜2μmに寸法設定されている。第1の導体路15もしくは第2の導体路16の形成ならびに両導体路15,16のメアンダ形の構造化および給電線路17の形成は、たとえば公知の形式でPECVD(Physically Enhanced Chemical Vapour Deposition)またはLPCVD(Low Pressure Chemical Vapour Deposition)による各材料13,14のスパッタリングまたは蒸着によって行われる。
【0027】
具体的には、本実施例では、第1の材料13は、3〜8W/Kmの熱伝導率を備えたn型ドーピングされたポリシリコンゲルマニウムである。第2の材料14は、本実施例では、70W/Kmの熱伝導率を備えた白金である。さらに、給電線路17もそれぞれ第2の導体路16に類似して白金導体路の形で形成されているので、それぞれ白金/ポリシリコンゲルマニウムの材料組合せによって形成された2つの熱接点10,11が得られる。
【0028】
図1に示した本実施例に対して選択的に、第1の導体路15と第2の導体路16とが部分的にまたは完全に互いに重なり合って延びていて、熱接点10,11を除いて互いに電気的に絶縁された状態で案内されていてもよい。この事例では、電気的な絶縁は、両導体路15,16の間に設けられた電気的に絶縁性の酸化中間層によって保証される。
【0029】
さらに、当然ながら、2つの熱接点10,11の代わりに複数の熱接点が設けられていてもよい。これらの熱接点はサーモチェーン(Thermokette)またはサーモパイルのように配置されている。この場合、少なくとも2つの熱接点は互いに異なる温度にさらされている。
【0030】
本発明の変化実施例では、第1実施例の改良形において、第1の温度T1を規定するために付加的な測定装置の一部が導体路の形で支持体12に付加的に形成されるかもしくは組み込まれる。この場合、これによって、第1の熱接点10の領域における支持体12の表面への慣用のサーミスタの組込みを不要にすることができる。
【0031】
詳しくは、この場合、測定装置は、白金から成る付加的な基準導体路が第1の熱接点10の周辺に測定装置の敏感な構成部分として設けられていることによって実現されている。基準導体路は相応の給電線路を介して、基準導体路の、温度に関連した電気抵抗を規定するための自体公知の評価手段に同じく接続されている。この場合、基準導体路は、たとえば給電線路17または第2の導体路16に類似して形成されている。
【0032】
しかし、選択的に測定装置は、第2の導体路16または給電線路17の一区分が基準導体路として使用され、導体路のこの部分の、温度に関連した電気抵抗を規定するための相応の評価手段に接続されていることによっても実現することができる。
【0033】
温度T1を測定するかもしくは監視するための、支持体12への付加的な基準導体路の組込み可能性もしくは支持体12での基準導体路としての第2の導体路16または給電線路17の一部の使用可能性は、抵抗性のある高精度の温度測定に対する白金の適性から得られる。
【0034】
図1に示した熱電対20の構造および機能および温度センサ5のさらなる構造に対するさらなる詳細に関しては、ドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書に示されている。このドイツ連邦共和国特許出願第10009593.3号明細書では、温度センサ5が、熱電対20の導体路15,16の特殊なレイアウトと、熱電対20のための材料の特殊な選択とを除いて赤外線センサの形で記載されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】
支持体の表面に相並んで延びる被着された導体路の形で形成されたただ1つの熱電対を示す図である。
【符号の説明】
5 温度センサ、 10 熱接点、 11 熱接点、 12 支持体、 13 材料、 14 材料、 15 導体路、 16 導体路、 17 給電線路、 20 熱電対、 T1 温度、 T2 温度
Claims (12)
- 微細構造化された温度センサ、特に赤外線センサであって、支持体と、該支持体に位置する少なくとも1つの熱電対とが設けられており、該熱電対が、第1の材料と第2の材料とを有しており、両材料が、少なくとも点で少なくとも1つの熱接点を互いに形成している形式のものにおいて、第1の材料(13)および/または第2の材料(14)が、少なくとも部分的にメアンダ形のまたは波形の導体路(15,16)の形で形成されていて、支持体(12)に案内されていることを特徴とする、微細構造化された温度センサ。
- 第1の材料(13)と第2の材料(14)とが、少なくとも十分に相並んで延びる、熱接点(10,11)を除いて互いに電気的に絶縁された導体路(15,16)の形でまたは少なくとも部分的に互いに重なり合って延びる、熱接点(10,11)を除いて互いに電気的に絶縁された導体路(15,16)の形で案内されている、請求項1記載の温度センサ。
- 熱電対(20)が、複数の熱接点(10,11)を有しており、該熱接点(10,11)が、サーモチェーンまたはサーモパイルのように配置されており、少なくとも2つの熱接点(10,11)が、それぞれ異なる温度(T1,T2)にさらされている、請求項1または2記載の温度センサ。
- 検出したいまたは測定したい第2の温度(T2)にさらされた第2の熱接点(11)と、少なくともほぼ一定に保たれたまたは一定の第1の温度(T1)にさらされた第1の熱接点(10)とが設けられており、さらに、第1の温度(T1)が、付加的な測定装置によって規定可能であることが特に提案されている、請求項3記載の温度センサ。
- 前記測定装置が、一方の導体路(15;16)または1つの給電線路(17)の、第1の熱接点(10)の周辺に位置する部分または敏感な構成部分としての、第1の熱接点(10)の周辺に位置する基準導体路ならびに導体路(15;16)、給電線路(17)または基準導体路の部分の、温度に関連した電気抵抗を規定するための評価手段を有している、請求項4記載の温度センサ。
- 第1の材料(13)および/または第2の材料(14)が、小さな熱伝導率を備えた材料である、請求項1から5までのいずれか1項記載の温度センサ。
- 第1の材料(13)と第2の材料(14)とが、白金、金、テルル化鉛、アルミニウム、チタン、ポリシリコン、ドーピングされたポリシリコン、ポリシリコンゲルマニウムまたはドーピングされたポリシリコンゲルマニウムのグループから選択されている、請求項1から6までのいずれか1項記載の温度センサ。
- 第2の材料(14)が、白金であり、第1の材料(13)が、ドーピングされたかまたはドーピングされていないポリシリコンゲルマニウムである、請求項7記載の温度センサ。
- 導体路(15;16)、給電線路(17)または基準導体路の部分が、白金導体路である、請求項5または8記載の温度センサ。
- 微細構造化された温度センサ、特に赤外線センサであって、支持体と、該支持体に位置する少なくとも1つの熱電対とが設けられており、該熱電対が、第1の材料と第2の材料とを有しており、両材料が、少なくとも点で少なくとも1つの熱接点を互いに形成している形式のものにおいて、第2の材料(14)が、白金であるかまたはアルミニウムであり、第1の材料(13)が、ドーピングされたかまたはドーピングされていないポリシリコンゲルマニウムであることを特徴とする、微細構造化された温度センサ。
- 第1の材料(13)および/または第2の材料(14)が、少なくとも部分的にメアンダ形のまたは波形の導体路(15,16)の形で形成されていて、支持体(12)に案内されている請求項10記載の温度センサ。
- 熱電対(20)が、複数の熱接点(10,11)を有しており、該熱接点(10,11)が、サーモチェーンまたはサーモパイルのように配置されており、少なくとも2つの熱接点(10,11)が、それぞれ異なる温度(T1,T2)にさらされている、請求項10または11記載の温度センサ。
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