JP2004358969A5 - - Google Patents
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- エンボス加工用材料層の上に離型膜を配置するステップと、
前記離型膜が配置された前記エンボス加工用材料層をインプリントするステップとから構成され、
前記離型膜はパーフルオロポリエーテルを含むポリマー膜であることを特徴とするレジスト膜の製造方法。 - エンボス加工用材料層の上に離型膜を配置するステップと、および
前記離型膜が配置された前記エンボス加工用材料層をインプリントするステップとから
構成され、
インプリントするステップは、ナノメートル寸法の凸部分と凹部分からなるパターンを有するスタンパを用いて、ディスクリートなトラック記録パターンを形成するインプリント方法。 - エンボス加工用材料層の上に離型膜を配置するステップと、
前記離型膜が配置された前記エンボス加工用材料層をインプリントするステップとから構成され、
インプリントするステップは、ナノメートル寸法の凸部分と凹部分からなるパターンを有するスタンパを用いて、ディスクリートなトラック記録パターンを形成し、且つ
前記離型膜はパーフルオロポリエーテル・ポリマーを含むディスクリート・トラック記録ディスクの製造方法。 - ディスクのエンボス加工可能な層上にディスクリート・トラック記録パターンを生成する手段、および
前記エンボス加工可能な層から前記生成手段への材料の転移を防止する手段
を備え、前記防止手段が前記エンボス加工可能な層上に配置され、
前記防止手段は低エネルギーで低摩擦の膜を含む装置。 - ベース構造体と、
前記ベース構造体上に配置されたエンボス加工用材料層と、
前記エンボス加工用材料層上に配置された離型膜とから構成され、
前記エンボス加工用材料層と前記離型膜は、それにインプリントされたディスクリート・トラック記録パターンを有し、且つ
前記離型膜はパーフルオロポリエーテル・ポリマーを含むことを特徴とする装置。 - ベース構造体と、
前記ベース構造体上に配置されたエンボス加工用材料層と、
前記エンボス加工用材料層上に配置された離型膜とから構成され、
前記離型膜はパーフルオロポリエーテル・ポリマーを含むことを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US45564503A | 2003-06-04 | 2003-06-04 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004358969A JP2004358969A (ja) | 2004-12-24 |
JP2004358969A5 true JP2004358969A5 (ja) | 2007-07-12 |
JP4454394B2 JP4454394B2 (ja) | 2010-04-21 |
Family
ID=33510418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004167339A Expired - Fee Related JP4454394B2 (ja) | 2003-06-04 | 2004-06-04 | ナノ・インプリント・リソグラフィ用の潤滑性付与レジスト膜 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4454394B2 (ja) |
DE (1) | DE102004027124A1 (ja) |
MY (1) | MY146088A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008083506A1 (en) * | 2007-01-08 | 2008-07-17 | Singulus Technologies Ag | Method and apparatus for ensuring quality in storage media production |
JP5161310B2 (ja) * | 2007-09-06 | 2013-03-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 成形型を形成する方法及び前記成形型を使用して物品を形成する方法 |
JP7288247B2 (ja) * | 2018-12-07 | 2023-06-07 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド及びその作製方法 |
DE102019106081B4 (de) * | 2019-03-11 | 2024-05-08 | Joanneum Research Forschungsgesellschaft Mbh | Oligomere Hexafluorpropylenoxidderivate |
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2004
- 2004-06-03 DE DE102004027124A patent/DE102004027124A1/de not_active Withdrawn
- 2004-06-03 MY MYPI20042131A patent/MY146088A/en unknown
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