JP2004358969A5 - - Google Patents

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  1. エンボス加工用材料層の上に離型膜を配置するステップと、
    前記離型膜が配置された前記エンボス加工用材料層をインプリントするステップとから構成され、
    前記離型膜はパーフルオロポリエーテルを含むポリマー膜であることを特徴とするレジスト膜の製造方法。
  2. エンボス加工用材料層の上に離型膜を配置するステップと、および
    前記離型膜が配置された前記エンボス加工用材料層をインプリントするステップとから
    構成され、
    インプリントするステップは、ナノメートル寸法の凸部分と凹部分からなるパターンを有するスタンパを用いて、ディスクリートなトラック記録パターンを形成するインプリント方法。
  3. エンボス加工用材料層の上に離型膜を配置するステップと、
    前記離型膜が配置された前記エンボス加工用材料層をインプリントするステップとから構成され、
    インプリントするステップは、ナノメートル寸法の凸部分と凹部分からなるパターンを有するスタンパを用いて、ディスクリートなトラック記録パターンを形成し、且つ
    前記離型膜はパーフルオロポリエーテル・ポリマーを含むディスクリート・トラック記録ディスクの製造方法。
  4. ディスクのエンボス加工可能な層上にディスクリート・トラック記録パターンを生成する手段、および
    前記エンボス加工可能な層から前記生成手段への材料の転移を防止する手段
    を備え、前記防止手段が前記エンボス加工可能な層上に配置され、
    前記防止手段は低エネルギーで低摩擦の膜を含む装置。
  5. ベース構造体と、
    前記ベース構造体上に配置されたエンボス加工用材料層と、
    前記エンボス加工用材料層上に配置された離型膜とから構成され、
    前記エンボス加工用材料層と前記離型膜は、それにインプリントされたディスクリート・トラック記録パターンを有し、且つ
    前記離型膜はパーフルオロポリエーテル・ポリマーを含むことを特徴とする装置。
  6. ベース構造体と、
    前記ベース構造体上に配置されたエンボス加工用材料層と、
    前記エンボス加工用材料層上に配置された離型膜とから構成され、
    前記離型膜はパーフルオロポリエーテル・ポリマーを含むことを特徴とする装置。
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