JP2004331349A - In-line type vacuum processing device - Google Patents

In-line type vacuum processing device Download PDF

Info

Publication number
JP2004331349A
JP2004331349A JP2003131989A JP2003131989A JP2004331349A JP 2004331349 A JP2004331349 A JP 2004331349A JP 2003131989 A JP2003131989 A JP 2003131989A JP 2003131989 A JP2003131989 A JP 2003131989A JP 2004331349 A JP2004331349 A JP 2004331349A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
transport
article
roller
vacuum processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003131989A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Binsei Jo
旻生 徐
Toshiyuki Koizumi
敏行 小泉
Yukio Masuda
行男 増田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP2003131989A priority Critical patent/JP2004331349A/en
Publication of JP2004331349A publication Critical patent/JP2004331349A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an in-line type vacuum processing device capable of eliminating the use of any carrier and performing the transport with an object in an erected position. <P>SOLUTION: The in-line type vacuum processing device to transport a glass board G inside a vacuum space is equipped with a plurality of feed rollers 67 arranged in the transporting direction, a plurality of upper follower rollers 37 in at least one row arranged in the transporting direction for supporting the upper part of the glass board G transported in the erected position in inclination to the vertical direction, a plurality of lower follower rollers 52 in at least one row arranged in the transporting direction for supporting the lower part of the board G, and a motor 55 to rotate the feed rollers 67 synchronously, whereby the transport is conducted in such a condition that the bottom edge is placed on the peripheral side faces of the feed rollers 67 and that one surface of the board G is supported on the peripheral side faces of the upper 37 and lower follower rollers 52. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はインライン式真空処理装置に関し、特別には板状物品、例えばプラズマディスプレイ用のガラス基板を搬送し、処理するインライン式真空処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
下記[特許文献1]には、液晶パネルを構成するガラス基板等の基板に対して所定の処理を行うために、この基板を水平搬送する基板の搬送装置が開示されている。しかしながら、このようなディスプレイ用のガラス基板は厚さが2mm以下で、面積が1m×1m以上になるものが用いられるようになってきたため、撓みやすく、損傷を受けやすい。また相当な面積を有するガラス基板であるから、工場で大量に処理する場合、大きな敷地や床面積を必要とする。
【0003】
他方、下記[特許文献2]では、縦型のキャリアに複数枚のガラス基板を立てた姿勢で取り付けてインライン式真空処理をしている。上記公報とは異なり水平搬送ではないので、撓みの問題はない。しかしながらガラス基板に所定の処理、すなわちこの公報ではスパッタリング処理をした後は、次のガラス基板をとりつけるべくキャリアを回収しなければならない。装置が大型化する。
【0004】
次に下記[特許文献3]では、『図8に示すように、基台20’に取付けられた搬送台30’にモータ31’、このモータ31’により駆動される原動ローラ32’及び従動ローラ33’、支持ローラ34’及び浮上ユニット35’を取付けてなる。前記浮上ユニット35’は、前記ガラス基板1’を非接触で支持するもので、図9に示すように、圧力ケース350に気体351を送り込み、その気体351が搬送面36’に臨む多孔質体352を通過することにより、この多孔質体352と縦姿のガラス基板1’間に気体膜353を形成させ、この気体膜353でガラス基板1’を支持し浮上させるようになっている。この浮上ユニット35’は、搬送するガラス基板1’の寸法により、その配置位置、配置個数等を決定することができる。即ち、この搬送装置2’は、ガラス基板1’のサイズの変動にも対処することができる。前記従動ローラ33’及び支持ローラ34’は、ガラス基板1’の下端に接触するように、搬送台30’の搬送面36’に等間隔に配置されているが、これら複数の支持ローラ34’に変えて、1つの支持ローラ34’と従動ローラ33’間にベルト等を掛け渡して、ガラス基板1’を移動させるようにしてもよい。前記搬送面36’、即ち、ガラス基板1’の搬送角度は、若干、傾斜させることが好ましい。ガラス基板1’を垂直に立てると、搬送が不安定になるからである。前記基台20’に対し搬送台30’を着脱自在に構成することにより、搬送台30’のみを差換えたり、搬送できるようにしてもよい。』技術が開示されている。
【0005】
このような装置では、確かにキャリアを不要とするので上記公報で述べたようにガラス基板に所定の処理を施した後に、キャリアを回収するという操作がなくなり、またキャリアを回収するためのスペースも必要としない。しかしながら、ガラス基板を気体膜で支持しながら搬送するのであるが、図9に示すような装置が多数必要となりこのような装置は相当なコストを必要とすると考えられる。多孔板から空気を噴出するのであるが搬送方向に沿って並んだこれらの装置と基板間の気体膜が均一な厚さで形成されることは特に真空中では難しいと考えられる。この場合にはガラス基板の前端部、後端部の間に存在する気体の膜の不均一によりガラス基板を均一に円滑に搬送することは難しいと考えられる。
【0006】
また、以上の装置は大気中で用いられるのであるが、大気中で多孔質から気体を噴出させる場合は安定してガラス基板を搬送するであろうが、真空室においては常時真空室内を何らかの排気手段により排気しているので、安定に気体の膜を形成できるかどうか疑問である。
【0007】
【特許文献1】
特開平10−265018号公報
【特許文献2】
特開平5−171441号公報
【特許文献3】
特開2002−308422公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、上記公報と同様にガラス基板を表面処理するのに立てた姿勢で撓みを少なくして、これによる損傷を無くし更に低コストでガラス基板を安定に搬送することができるインライン式真空処理装置を提供する事を課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
以上の課題は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の上部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の上側従動ローラと、前記板状物品の下部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の下側従動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する駆動源と具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記上側従動ローラ及び前記下側従動ローラの周側面に前記板状物品の一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【0010】
又は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の上部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の上側駆動ローラと、前記板状物品の下部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の下側駆動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する第1駆動源と前記複数個の上側駆動ローラを同期して回転駆動する第2駆動源と、前記複数個の下側駆動ローラを同期して回転駆動する第3駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記上側駆動ローラ及び前記下側駆動ローラの周側面に前記板状物品の一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【0011】
又は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも2列の複数個の従動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記従動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【0012】
又は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも2列の複数個の駆動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する第1駆動源と、前記複数個の駆動ローラを同期して回転駆動する第2駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記駆動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【0013】
又は、板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも2列の複数個の駆動ローラと、前記複数個の駆動ローラを同期して回転駆動する駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記駆動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら前記搬送ローラを従動させて搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置によって解決される。
【0014】
以上いずれの構成のインライン式真空処理装置によっても板状物品、特にガラス基板を立てた姿勢で低コストで損傷無く搬送することができる。装置占有面積を極力小さくすることができる。
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態によるインライン式真空処理装置について、図面を参照して説明する。
【0015】
図1はインライン式真空処理装置10の全体を示すものであるが、左方から順に、仕込室12、処理室14及び取出室16から成っている。各室内には本発明にかかわる搬送機18が設けられている。これら搬送機18は同一の構成を有する。その詳細は後述するが、これらによりガラス基板Gが矢印A方向に搬送される。入り口、各室間及び出口にはそれぞれゲートバルブ20、22、24、26が開閉自在に公知のようにして設けられている。処理されるガラス基板Gはゲートバルブ20を開けて矢印B方向から導入される。所定の処理、本発明の実施の形態によればスパッタリング処理が処理室14で行われた後、取出室16からゲートバルブ26を開けて矢印C方向に大気中へと取り出される。
【0016】
まず仕込室12の詳細について説明する。
その真空室を形成する仕込室本体30は図3に示すように断面形状は長方形であり左壁部31、右壁部32、これらを一体化する上壁部33及び下壁部34から成っている。
【0017】
上壁部33には図2、図4に明示されるように等間隔で7個の真空シールベアリング35が固定されており、上回転軸36はこれに回転自在に支持されている。また、上回転軸36の下端部は左側壁部31にに固定された軸受部材100に軸受けされている真空シールベアリング35からの突出端部にはプーリ38が固定されている。
【0018】
一方、仕込室本体30の外方には第1モータ40が配設され、その回転軸の先端部にはプーリ39が固定されており、これと各プーリ38との間には図4に明示されるようにガイドローラ44を介してベルト41が巻かれている。また、図4に明示されるようにプーリ38、38間のベルト41’部分を押圧するようにテンション装置43のローラ42が配設されている。上回転軸36には図示するような間隔をおいてこの回転軸36に同心的に環状体37(以下、上ローラとも呼ぶ)が固定される。これは回転軸36の増径部として構成してもよい。
【0019】
図3に示すように、下壁部34には上方の真空シールベアリング35と対向して、すなわち同じ間隔で真空シールベアリング50が取り付けられている。その下回転軸51の該真空シールベアリング50からの突出部にプーリ53が固定されている。仕込室本体12の下壁部34の下方の外方に第2モータ55が配設されており、この回転軸56はギアボックス57に結合されていて、このギアボックス57の第1の出力軸58にはプーリ59が固定されており、このプーリ59と上述プーリ53との間にベルト54が巻装されている。
【0020】
また下回転軸51には上述の上ローラ37と同型の下ローラ52が一体的に固定されている。これは回転軸51の増径部として形成されていてもよい。またギアボックス57の第2の出力軸60の先端部にはプーリ61が取り付けられており、これと図2に示すようにガイドローラ63との間に図2に明示するように波型でベルト62が巻装されている。さらに、左側壁部31の下方には等間隔で搬送ローラ用真空シールベアリング65が取り付けられており、この仕込室12に突出する回転軸の先端部には上ローラ37、下ローラ52の径より大きな搬送ローラ67が固定されている。
【0021】
他方、大気側に突出している部分にはプーリ68が取り付けられており、これはガイドローラ63と隣接する真空シールベアリング65の回転軸に固定されたプーリ68との間に、ベルト62が巻装されている。
【0022】
図2に明示されるように、上壁部35の上部には特に図4で明示されるように一対のシリンダ70a、70bが取り付けられており、これらの駆動ロッドにはラック71a、71bが固定されている。これらラック71a、71bはピニオン72a、72bに係合している。これらピニオン72a、72bの中心には回動軸73a、73bが固定されており、これらは図2に明示されるように、ゲート74a、74bが取り付けられている。
【0023】
図3に明示されるように、仕込室本体30内には一対のヒータ75a、75bがそれぞれ、取り付けブロックa、bを介して左側壁部31、右側壁部32に固定されている。
【0024】
特に図3に明示されるように、左側壁部31には発光側センサ装置76が固定されており、これから投射される光線Lを受ける受光側センサ装置77は右側壁部32に固定されている。光線Lはやはり図3に明示されるように垂直に対して約30°傾斜している。これにより、搬送されるガラス基板Gに対して図示するような角度で入光するのであるが、ガラス基板面はある程度の反射率を有する反射面でありこの角度で投射されることにより、反射光が直角である場合よりも大きくなりこれによって光線Lを受けない場合とガラス基板Gによってその光路をと交叉する場合とで、勿論、透過光が大部分であるが光の受光側センサ装置77の受光レベルに大きな差をつけることができる。
【0025】
発光側センサ装置76も受光側センサ装置77も3つのセンサ76a、76b、76cおよび77a、77b、77cから成るのであるが、76a、77aはガラス基板Gの先端部の到来を検知する働きをし、第2の発光側センサ76b、77bもやはり先端部の到来を検知する働きをするのであるが、前者の検知によりガラス基板Gの搬送速度を低に切替える。また、後者のセンサ76b、77bによってストップ指令を駆動源に与える。
【0026】
この後、慣性により僅かに搬送されるのであるが、その停止位置が第3の発光側センサ76cと受光側センサ77cとにより確かにガラス基板Gの先端部がこの位置ににあることを確認する。ここで停止する。
【0027】
次に、仕込室12に連接するスパッタ室14について説明する。
このスパッタ室14でガラス基板Gの他方の面上に所定の材質の膜が形成されるのであるが、図1に明示されるような位置にスパッタ装置Sが配設されている。このターゲット部に対向してヒータ80が部材cにより左側壁部に固定されている。ガラス基板Gを搬送する機構は、仕込室12と同一である。したがって、対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【0028】
本発明の実施の形態では、いわゆる連続成膜が行われ、ガラス基板Gは連続的に搬送され、この途上において全面にスパッタ膜が形成される。なお、図示せずともこの取出室16側には仕込室12と同様な発光側センサ装置及び受光側センサ装置が同様な配置で設けられている。
【0029】
また、スパッタ室14内には図7に明示されるように、搬送ローラ67の周面に向かってガス流を噴出させるように取り付け部材84の上壁部にガス噴出体86が設けられており、さらにこの外方にはカバー部材82が設けられている。
【0030】
スパッタ室14の下流側には取出室16が連接しているが、この内部にも上流側の仕込室12、スパッタ室14と同様な搬送機構18が設けられている。なお、この取出室16内には仕込室12、スパッタ室14に設けられたヒータは設けられていない。しかし、その先端部分には上流側の仕込室12、スパッタ室14と同様に発光側センサ装置及び受光側センサ装置が同様な配置で設けられている。なお、仕込室本体30は垂直線に対し、5度、図3において右方へと傾いている。他室も同様である。
【0031】
以上、本発明の実施の形態によるインライン式真空処理装置の構成について説明したが、次にこの作用について説明する。
【0032】
本発明の実施の形態によるインライン式真空処理装置の使用にあたっては、まず図4に明示される一対のテンション装置43を操作して図4に明示されるように巻装されているベルト41の張力を円滑に各ローラを駆動し、スリップを生じさせないように調整される。また、ヒータ75a、75b、80に電源が投入され、仕込室12、スパッタ室14の室内は加熱される。仕込室12の入口側ゲートバルブ20を開けるべく、図4において左方のシリンダ70aが駆動され、ラック71aを往動させてピニオン72aを回転させ、これに固定された回動軸73aを図4において反時計方向に回動させ、ゲート板74aを開ける。
大気中から液晶ディスプレイ用のガラス基板Gが搬入される。仕込室12に設けられている各モータが駆動されている。したがって、ガラス基板Gの先端部が搬送ローラ67の周面上に載置され、かつガラス基板Gの背面側が上ローラ37及び下ローラ52に支持されることにより、これらローラ37、52、67の回転により直ちにガラス基板Gは仕込室12内へと送りこまれる。ガラス基板Gの先端部が発光側センサ装置76及び受光側センサ装置77のそれぞれのセンサ部76a、77aへ至ると、それまでの受光レベルが光路Lが図示するように斜めになっていることにより大きなレベル差を生じて到来を検知する。この検知信号により、モータの回転数を低下させる、すなわちスロー搬送に切り替えられる。
【0033】
次に第2の発光側センサ部76b、受光側センサ部77bに先端部が至ると、モータにストップ指令が出される。これにより、ガラス基板Gは停止に向かうのであるがその慣性により発光側センサ部76c、受光側センサ部77cをやや通過したところで完全に停止する。よって、ガラス基板Gの先端部が発光側センサ部76c、受光側センサ部77c上、又は僅か通過して停止していることを確認する。
【0034】
仕込室12の出口側ゲートバルブ22は、今閉じているが入口側ゲートバルブ20も以上の位置確認をした後、シリンダ70aを複動させ、ラック71aも複動させピニオン72aを反時計方向に回動させて入口側ゲートバルブ20を閉じる。よって、仕込室12内はシールされた閉空間となり、所定の温度に加熱される。
【0035】
今、次のスパッタ室14内にはガラス基板Gは存在していないとする。仕込室12の出口側ゲートバルブ26はシリンダ70bの駆動によりラック71bが右方へと移動し、これに係合するピニオン72bは時計方向に回動し、これに固定された回動軸73bが時計方向に回動することにより出口側ゲートバルブ22が開かれる。なお、図では真空排気系は図示しなかったが、閉空間となった仕込室12は所定の減圧度まで排気されているものとする。
【0036】
次のスパッタ室14も同様に閉空間で排気されており、ゲートバルブ22(仕込室22とスパッタ室14とで兼用)を開けることにより仕込室12の真空室とスパッタ室14の真空室とは連通する。スパッタ室14の搬送機構18の搬送ローラ67、上ローラ37及び下ローラ52も駆動されており、ゲートバルブ22の開放と同時にガラス基板Gはスパッタ室14へと送り込まれる。
【0037】
スパッタ室14内のスパッタ装置Sは公知のように構成されているが、ターゲット板Tからプラズマによってたたき出された原子又は分子、すなわち成膜されるべき材質の原子、あるいは分子が矢印で示されるように飛び出しており、ガラス基板Gの片面に当り、ここで成膜されていく。
【0038】
本発明の実施の形態では、連続成膜が採用されるので、そのまま所定の速度で搬送され、この搬送途上、先端部から後端部にわたって全面に成膜される。センサ装置部に至ると仕込室12と同様にセンサ部76a、77aでスロー搬送とされ、センサ部76b、77bでモータに停止指令が与えられセンサ部76c、77c間の光路L上、もしくはこれを僅かに通過したところで先端部が停止する。
【0039】
なお、図2及び図3で明示するように発光側センサ装置76の各センサ部76a、76b、76c及びこれらに対向する受光側センサ装置77の各センサ部77a、77b、77cは図3に示すように、斜め方向に対向して配設される。この斜め方向は本発明の実施の形態では30゜としたが、以下の理由により真空とガラス基板Gと真空との境界面において全反射角となるようにすることが望ましい。一般に、透明体から空気中へと光を通過させるときには、その境界面である反射角においては全て透明体側に反射する。これは光伝送の原理であるが、このような全反射角に設定するとガラス基板Gが相対向する発光側センサ装置76と受光側センサ装置77との間の光路Lを遮ったときに、遮る前の受光側センサ装置77の受光レベルより大幅に低下させることができ、そのガラス基板の先端部の到来を確実に検知することができる。なお、本発明の実施の形態では、上方を発光側センサ装置76、下方を発光側センサ装置77としたが、逆にしてもよい。
【0040】
次に、スパッタ室14の出口側ゲートバルブ24が上述と同様にして開放され、既にその閉空間が排気されている取出室16へと同様な搬送機構18により導入される。取出室16に於いても、仕込室12、スパッタ室14と同様な発光側センサ装置及び受光側センサ装置が設けられ、その所定の位置で既に成膜されたガラス基板Gは停止される。これとともに、又はこの直前にスパッタ室14の出口側ゲートバルブ24は閉じられている。次いで、出口側ゲートバルブ26が開放され成膜されたガラス基板Gは大気中へと搬出される。
【0041】
次に、ガラス基板Gがスパッタ室14内に導入されるが、仕込室12内では上述したように閉空間となった真空室で所定の温度に加熱されたガラス基板Gが待機しており、上述と同様に仕込室12の出口側ゲートバルブ22が開放されスパッタ室14と連接する。ガラス基板Gはスパッタ室14内に導入されて、先のガラス基板Gと同様な成膜作用を受ける。所定の成膜後はゲートバルブ24を開けて取出室16内へ導出され、ついで取出室16のゲートバルブ26は開放されて大気中へと搬出される。以下上述と同様である。
【0042】
本発明の実施の形態によれば、上ローラ37及び下ローラ52はそれぞれ独立したモータ45、55で同回転数で回転すべく図示しない制御回路で制御されている。また、搬送ローラ67もギアボックス57を介してモータ55で駆動されており、搬送ローラ67の径と上ローラ37及び下ローラ52の径に反比例した速度で駆動される。よって、これら上ローラ37及び下ローラ52及び搬送ローラ67は同じ周速度で同期して回転している。したがって、ガラス基板Gは背面においても下縁部においても積極的にローラ駆動されるので、これらローラ37、52、67とガラス基板Gとの間の摩擦力が大きい場合でも確実に所望の速度で下流側へと搬送することができる。
【0043】
なお、図7においてスパッタ室14内の搬送ローラ67の周面の近傍上方にはガス噴出体86が設けられており、ここから矢印で示すようにガスhが噴出している。ガラス基板Gの下縁と搬送ローラ67の周面との間には常に摩擦力が働いているので、粉塵gが周面に取り付く。これをガス流により取り除くようにしている。図示しない排気系の吸込により、粉塵gは舞い上がることなく、下方へと流れていく。
【0044】
また、以上本発明の実施の形態では、従来技術で述べたようなキャリアを用いていないので、ガラス基板に成膜を施したのち、キャリアを初期位置に戻すという操作は不要であり、装置全体を小型化することができる。
【0045】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【0046】
例えば、以上の本発明の実施の形態では通常のインライン式真空処理装置の仕込室、処理室としてのスパッタ室、及び取出室全てに本発明に関わる搬送機構を用いたが、これらどれか一つに用いるようにしても本発明の効果を得ることができる。
【0047】
また以上の本発明の実施の形態では、上ローラ37、下ローラ52及び搬送ローラ67、全てを独立したモータ(下ローラ52と搬送ローラ67とはギアボックス57を介して同一のモータ55で駆動されるが)により同期して同周速度で駆動したが、ガラス基板Gと、上ローラ37、下ローラ52の周面との摩擦力が小さい場合には搬送ローラ67のみを駆動ローラとし、上ローラ37、下ローラ52は従動ローラとしてもよい。この場合には、図2〜図5で明示されるベルト巻装
部分は無しとすることができる。勿論、これらを駆動するモータも省略することができ、装置全体はより簡略化することができる。
【0048】
また、上ローラ37及び下ローラ52を本発明の実施の形態で述べたように駆動ローラとし、搬送ローラ67を従動ローラとしてもよい。もちろん、この場合には搬送ローラ駆動用の駆動源は省略される。
【0049】
また、以上の本発明の実施の形態では下ローラ52は搬送ローラ64の近辺に、即ち仕込室の下方部分に一個設けたが(他室でも同じ)、これはガラス基板を垂直に対し5度傾けた傾斜の立てた姿勢で搬送するのであるが、この下縁部を安定に支持させる働きをしている。そして、上ローラ37は図2に示すようなピッチで4個設けられているが、これは処理すべきガラス基板の高さが変わった場合にそれぞれを安定に支持しうるためである。また、上述の発明の実施の形態では上回転軸56、下回転軸51とをそれぞれ上方及び下方から突出させて別体としているが、これらは上下貫通させて一本の回転軸としてこれらに所望のピッチでローラを取付けるようにしてもよい。この場合にもこれらを従動ローラとし、搬送ローラを駆動ローラとし、あるいは、逆に搬送ローラを従動ローラとし、上下ローラを駆動ローラとしてもよい。あるいは、すべてローラを駆動ローラとしてもよい。
【0050】
また、本発明の実施の形態では、板状物品としてガラス基板を説明したが、勿論、板状物品はこれに限ることなく、ガラス基板にしても典型的にはフラットパネルディスプレイとしてのLCD(液晶ディスプレイ)に用いられるガラス基板などがあるが、その他PDP(プラズマディスプレイ)、EL(電界発光ディスプレイ)、FED(電界放射ディスプレイ)用のガラス基板、フラットCRT等のガラス基板にも適用可能であり、要するに如何なる材質であれ、平板状のものであればよい。また、フラットパネルの材質はガラス以外の材料、例えばプラスチック等の合成樹脂、シリコン等などの半導体でもよい。
また以上の表面処理装置としては、スパッタ装置が説明されたが、勿論、表面処理装置はこれに限られることなく、その他一般の成膜装置、また表面処理装置としても考えられる露光装置、現像装置、検査装置、あるいは洗浄装置などに適用してもよい。
【発明の効果】
以上述べたように、本発明のインライン式真空処理装置によれば、従来必要としていたキャリアを不要とするので、装置全体を小型化することができ、またガラス基板は立てた状態で搬送するので特に面積が大きい場合は、水平搬送では撓みの問題があったが、このような問題はいっさい無く何らガラス基板を損傷させることなく処理前、処理中、処理後の薄いガラス基板を搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態によるインライン式真空処理装置の一部破断正面図である。
【図2】本発明の実施の形態における仕込室の部分破断正面図である。
【図3】図2における[3]―[3]線方向断面図である。
【図4】仕込室の平面図である。
【図5】図2における[5]―[5]線方向断面図である。
【図6】仕込室とスパッター室との関連を示す部分断面斜視図である。
【図7】スパッター室における要部の拡大断面図である。
【図8】従来例によるガラス基板の搬送装置の側面図である。
【図9】同装置の部分拡大断面図である。
【符号の説明】
30 仕込室室本体
35 真空シールベアリング
37 上ローラ
40 モータ
50 真空シールベアリング
52 下ローラ
55 モータ
57 ギアボックス
58 第1出力軸
60 第2出力軸
61 プーリ
62 ベルト
63 ガイドローラ
65 真空シールベアリング
66 回転軸
67 搬送ローラ
68 プーリ
69 ベルト
73a、73b 回動軸
76a、76b、76c 発光側センサ部
77a、77b、77c 受光側センサ部
S スパッタ装置
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an inline vacuum processing apparatus, and more particularly to an inline vacuum processing apparatus that transports and processes a plate-like article, for example, a glass substrate for a plasma display.
[0002]
[Prior art]
The following Patent Document 1 discloses a substrate transport device that horizontally transports a substrate such as a glass substrate constituting a liquid crystal panel in order to perform a predetermined process on the substrate. However, since such a glass substrate for a display having a thickness of 2 mm or less and an area of 1 m × 1 m or more has been used, it is easily bent and easily damaged. Further, since a glass substrate has a considerable area, a large site and floor area are required when processing a large amount in a factory.
[0003]
On the other hand, in [Patent Document 2] described below, a plurality of glass substrates are attached to a vertical carrier in an upright position, and inline vacuum processing is performed. Unlike the above-mentioned publication, there is no problem of bending since it is not horizontal conveyance. However, after performing a predetermined process on the glass substrate, that is, a sputtering process in this publication, it is necessary to collect the carrier in order to mount the next glass substrate. The device becomes larger.
[0004]
Next, in [Patent Document 3] described below, "as shown in FIG. 8, a motor 31 'is mounted on a carrier 30' attached to a base 20 ', and a driving roller 32' and a driven roller 33 ', a support roller 34' and a floating unit 35 'are attached. The floating unit 35 ′ supports the glass substrate 1 ′ in a non-contact manner. As shown in FIG. 9, the floating unit 35 ′ sends a gas 351 to a pressure case 350, and the gas 351 faces a transport surface 36 ′. By passing through the 352, a gas film 353 is formed between the porous body 352 and the vertical glass substrate 1 ', and the gas substrate 353 supports and floats the glass substrate 1'. The position and number of the floating units 35 'can be determined by the dimensions of the glass substrate 1' to be conveyed. That is, the transfer device 2 'can cope with a change in the size of the glass substrate 1'. The driven roller 33 'and the support roller 34' are arranged at equal intervals on the transfer surface 36 'of the transfer table 30' so as to contact the lower end of the glass substrate 1 '. Alternatively, a belt or the like may be stretched between one support roller 34 'and the driven roller 33' to move the glass substrate 1 '. It is preferable that the transfer angle of the transfer surface 36 ', that is, the transfer angle of the glass substrate 1' is slightly inclined. This is because if the glass substrate 1 ′ is set up vertically, the conveyance becomes unstable. By configuring the transfer table 30 ′ to be detachable from the base 20 ′, only the transfer table 30 ′ may be replaced or transferred. The technology has been disclosed.
[0005]
In such an apparatus, since the carrier is certainly unnecessary, the operation of collecting the carrier after performing the predetermined processing on the glass substrate as described in the above publication is eliminated, and the space for collecting the carrier is also reduced. do not need. However, while the glass substrate is transported while being supported by a gas film, many devices as shown in FIG. 9 are required, and such a device is considered to require a considerable cost. Although air is ejected from the perforated plate, it is considered difficult to form a uniform thickness of a gas film between these devices and the substrate arranged in the transport direction, particularly in a vacuum. In this case, it is considered difficult to transport the glass substrate uniformly and smoothly due to unevenness of the gas film existing between the front end and the rear end of the glass substrate.
[0006]
In addition, the above-mentioned apparatus is used in the atmosphere, but when a gas is ejected from a porous material in the atmosphere, the glass substrate will be stably transported. It is questionable whether a gas film can be formed stably because the gas is exhausted by the means.
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-10-265018
[Patent Document 2]
JP-A-5-171441
[Patent Document 3]
JP-A-2002-308422
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above-mentioned problem, and reduces bending in an upright position for surface treatment of a glass substrate as in the above publication, eliminates damage due to this, and stably transports the glass substrate at low cost. It is an object of the present invention to provide an in-line type vacuum processing apparatus capable of performing the above-described processing.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The above problem is solved in an in-line vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, in which a plurality of transport rollers arranged along the transport direction and a transport in an upright posture with respect to the vertical direction. A plurality of upper driven rollers arranged in the transport direction to support an upper portion of the plate-shaped article, and arranged along the transport direction to support a lower portion of the plate-shaped article. At least one row of a plurality of lower driven rollers, and a drive source for rotating and driving the plurality of transport rollers in synchronization, a lower edge is placed on a peripheral side surface of the transport rollers, and the upper driven rollers and The problem is solved by an in-line vacuum processing apparatus characterized in that the plate-like article is conveyed while supporting one surface of the plate-like article on a peripheral side surface of a lower driven roller.
[0010]
Or, in an inline vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, a plurality of transport rollers arranged along the transport direction, and transported in an upright position with respect to the vertical direction. At least one row of a plurality of upper drive rollers arranged along the transport direction to support the upper part of the plate-like article, and at least one row arranged along the transport direction to support the lower part of the plate-like article A plurality of lower drive rollers, a first drive source for synchronously rotating the plurality of transport rollers and a second drive source for synchronously rotating the plurality of upper drive rollers; A third driving source for rotating and driving the lower driving rollers in synchronization with each other, placing a lower edge on the peripheral side surface of the transport roller, and placing the plate on the peripheral side surfaces of the upper driving roller and the lower driving roller. One side of the article It is solved by an inline vacuum processing apparatus being characterized in that so as to be conveyed while supported.
[0011]
Or, in an inline vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, a plurality of transport rollers arranged along the transport direction, and transported in an upright position with respect to the vertical direction. A plurality of driven rollers arranged in at least two rows along the transport direction to support one surface of the plate-like article, and a drive source for synchronously rotating the plurality of transport rollers. A lower edge is placed on a peripheral side surface of the transport roller, and the one side of the plate-like article is transported while being supported on the peripheral side surface of the driven roller, thereby solving the problem by an in-line vacuum processing apparatus. Is done.
[0012]
Or, in an inline vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, a plurality of transport rollers arranged along the transport direction, and transported in an upright position with respect to the vertical direction. At least two rows of a plurality of drive rollers arranged along the transport direction to support one surface of the plate-like article, and a first drive source that synchronously drives the plurality of transport rollers to rotate. A second drive source that drives the plurality of drive rollers to rotate in synchronization with each other, a lower edge is placed on a peripheral side surface of the transport roller, and the one surface of the plate-shaped article is disposed on a peripheral side surface of the drive roller. The problem is solved by an in-line vacuum processing apparatus characterized in that the wafer is transported while being supported.
[0013]
Or, in an inline vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, a plurality of transport rollers arranged along the transport direction, and transported in an upright position with respect to the vertical direction. A plurality of drive rollers arranged in the transport direction to support one surface of the plate-shaped article; and a drive source for synchronously rotating the plurality of drive rollers. The lower edge is placed on the peripheral side surface of the transport roller, and the transport roller is driven and transported while supporting the one surface of the plate-like article on the peripheral side surface of the drive roller. It is solved by an in-line vacuum processing device.
[0014]
With any of the above-described in-line vacuum processing apparatuses, a plate-shaped article, in particular, a glass substrate can be conveyed in a standing position at low cost without damage. The area occupied by the device can be minimized.
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, an inline vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0015]
FIG. 1 shows the entire in-line type vacuum processing apparatus 10, which comprises a charging chamber 12, a processing chamber 14, and an unloading chamber 16 in order from the left. Each room is provided with a transporter 18 according to the present invention. These transporters 18 have the same configuration. Although the details will be described later, the glass substrate G is transported in the direction of arrow A by these. Gate valves 20, 22, 24, and 26 are provided at the entrance, between the chambers, and at the exit, respectively, so as to be openable and closable in a known manner. The glass substrate G to be processed is introduced from the direction of arrow B by opening the gate valve 20. After a predetermined process, that is, a sputtering process according to the embodiment of the present invention, is performed in the processing chamber 14, the gate valve 26 is opened from the extraction chamber 16 to be taken out into the atmosphere in the direction of arrow C.
[0016]
First, the details of the preparation room 12 will be described.
The charging chamber main body 30 forming the vacuum chamber has a rectangular cross section as shown in FIG. 3, and includes a left wall portion 31, a right wall portion 32, an upper wall portion 33 and a lower wall portion 34 which integrate these components. I have.
[0017]
As shown in FIGS. 2 and 4, seven vacuum seal bearings 35 are fixed to the upper wall portion 33 at equal intervals, and the upper rotation shaft 36 is rotatably supported by the vacuum seal bearings 35. A pulley 38 is fixed to a lower end of the upper rotary shaft 36 at a protruding end from the vacuum seal bearing 35 which is supported by a bearing member 100 fixed to the left side wall 31.
[0018]
On the other hand, a first motor 40 is disposed outside the main body 30 of the charging chamber, and a pulley 39 is fixed to a tip end of a rotating shaft thereof. The belt 41 is wound via a guide roller 44 so as to be rotated. Further, as clearly shown in FIG. 4, a roller 42 of the tension device 43 is disposed so as to press the belt 41 'between the pulleys 38, 38. An annular body 37 (hereinafter, also referred to as an upper roller) is fixed concentrically to the upper rotating shaft 36 at intervals as shown in the drawing. This may be configured as a diameter increasing portion of the rotating shaft 36.
[0019]
As shown in FIG. 3, a vacuum seal bearing 50 is attached to the lower wall portion 34 so as to face the upper vacuum seal bearing 35, that is, at the same interval. A pulley 53 is fixed to a protruding portion of the lower rotating shaft 51 from the vacuum seal bearing 50. A second motor 55 is disposed outside and below the lower wall portion 34 of the charging chamber main body 12, and the rotating shaft 56 is connected to a gear box 57, and a first output shaft of the gear box 57 is provided. A pulley 59 is fixed to 58, and a belt 54 is wound between the pulley 59 and the pulley 53.
[0020]
A lower roller 52 of the same type as the above-described upper roller 37 is integrally fixed to the lower rotating shaft 51. This may be formed as a diameter increasing portion of the rotating shaft 51. A pulley 61 is attached to a tip end of a second output shaft 60 of the gear box 57, and a corrugated belt is provided between the pulley 61 and a guide roller 63 as shown in FIG. 62 are wound. Further, vacuum seal bearings 65 for conveying rollers are attached below the left side wall 31 at equal intervals, and the tip of the rotating shaft protruding into the charging chamber 12 has a diameter smaller than that of the upper roller 37 and the lower roller 52. A large transport roller 67 is fixed.
[0021]
On the other hand, a pulley 68 is attached to a portion protruding toward the atmosphere, and a belt 62 is wound between the guide roller 63 and the pulley 68 fixed to the rotating shaft of the adjacent vacuum seal bearing 65. Have been.
[0022]
As clearly shown in FIG. 2, a pair of cylinders 70a and 70b are mounted on the upper portion of the upper wall portion 35, as shown in FIG. 4, and racks 71a and 71b are fixed to these drive rods. Have been. These racks 71a, 71b are engaged with pinions 72a, 72b. Rotating shafts 73a and 73b are fixed to the centers of these pinions 72a and 72b, and gates 74a and 74b are attached to these, as clearly shown in FIG.
[0023]
As shown in FIG. 3, a pair of heaters 75a and 75b are fixed to the left side wall 31 and the right side wall 32 via the mounting blocks a and b, respectively, in the charging chamber main body 30.
[0024]
In particular, as clearly shown in FIG. 3, the light emitting side sensor device 76 is fixed to the left side wall portion 31, and the light receiving side sensor device 77 that receives the light beam L projected therefrom is fixed to the right side wall portion 32. . Light ray L is also inclined about 30 ° with respect to the vertical, as also clearly shown in FIG. As a result, light enters the glass substrate G to be conveyed at an angle as shown in the figure. However, the glass substrate surface is a reflection surface having a certain degree of reflectivity, and is projected at this angle to produce reflected light. Is larger than the right angle, the light beam L is not received thereby, and the light path intersects the light path by the glass substrate G. A large difference can be provided in the light receiving level.
[0025]
Both the light emitting side sensor device 76 and the light receiving side sensor device 77 are composed of three sensors 76a, 76b, 76c and 77a, 77b, 77c. The sensors 76a, 77a function to detect the arrival of the tip of the glass substrate G. The second light emitting side sensors 76b and 77b also function to detect the arrival of the tip, but switch the transport speed of the glass substrate G to a low speed by the former detection. A stop command is given to the drive source by the latter sensors 76b and 77b.
[0026]
Thereafter, the sheet is slightly conveyed by inertia. The stop position is confirmed by the third light-emitting sensor 76c and the light-receiving sensor 77c to make sure that the tip of the glass substrate G is at this position. . Stop here.
[0027]
Next, the sputter chamber 14 connected to the preparation chamber 12 will be described.
A film of a predetermined material is formed on the other surface of the glass substrate G in the sputtering chamber 14, and a sputtering device S is provided at a position as shown in FIG. A heater 80 is fixed to the left side wall by a member c so as to face the target portion. The mechanism for transporting the glass substrate G is the same as the charging chamber 12. Therefore, corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
[0028]
In the embodiment of the present invention, so-called continuous film formation is performed, the glass substrate G is continuously transferred, and a sputtered film is formed on the entire surface in the process. Although not shown, a light-emitting side sensor device and a light-receiving side sensor device similar to those in the charging chamber 12 are provided in a similar arrangement on the unloading chamber 16 side.
[0029]
As shown in FIG. 7, a gas ejector 86 is provided in the upper wall of the mounting member 84 in the sputter chamber 14 so as to eject a gas flow toward the peripheral surface of the transport roller 67. Further, a cover member 82 is provided outside this.
[0030]
An unloading chamber 16 is connected to the downstream side of the sputtering chamber 14, and a transfer mechanism 18 similar to the upstream charging chamber 12 and the sputtering chamber 14 is provided inside the unloading chamber 16. In addition, the heater provided in the preparation chamber 12 and the sputtering chamber 14 is not provided in the extraction chamber 16. However, a light-emitting side sensor device and a light-receiving side sensor device are provided at the tip portion in the same arrangement as the upstream charging chamber 12 and the sputtering chamber 14. The brewing chamber main body 30 is inclined rightward in FIG. 3 by 5 degrees with respect to the vertical line. The same applies to other rooms.
[0031]
The configuration of the in-line vacuum processing apparatus according to the embodiment of the present invention has been described above. Next, this operation will be described.
[0032]
In using the inline vacuum processing apparatus according to the embodiment of the present invention, first, a pair of tension devices 43 shown in FIG. 4 are operated to operate the tension of the belt 41 wound as shown in FIG. Is adjusted so that each roller is driven smoothly and slip does not occur. Further, power is supplied to the heaters 75a, 75b, and 80, and the interiors of the preparation chamber 12 and the sputtering chamber 14 are heated. In order to open the inlet-side gate valve 20 of the charging chamber 12, the left cylinder 70a in FIG. 4 is driven to move the rack 71a forward and rotate the pinion 72a, and the rotating shaft 73a fixed to this is moved to the position shown in FIG. , The gate plate 74a is opened.
A glass substrate G for a liquid crystal display is carried in from the atmosphere. Each motor provided in the preparation room 12 is driven. Therefore, the front end of the glass substrate G is placed on the peripheral surface of the transport roller 67, and the rear side of the glass substrate G is supported by the upper roller 37 and the lower roller 52. The glass substrate G is immediately sent into the preparation chamber 12 by the rotation. When the leading end of the glass substrate G reaches the sensor units 76a and 77a of the light emitting side sensor device 76 and the light receiving side sensor device 77, the light receiving level up to that point is oblique as shown in the optical path L. The arrival is detected with a large level difference. By this detection signal, the number of rotations of the motor is reduced, that is, switching to slow conveyance is performed.
[0033]
Next, when the leading end reaches the second light emitting side sensor unit 76b and the light receiving side sensor unit 77b, a stop command is issued to the motor. As a result, the glass substrate G heads for stopping, but stops completely when it slightly passes through the light emitting side sensor section 76c and the light receiving side sensor section 77c due to its inertia. Therefore, it is confirmed that the front end of the glass substrate G is stopped on the light emitting side sensor part 76c, the light receiving side sensor part 77c, or slightly.
[0034]
The outlet-side gate valve 22 of the charging chamber 12 is now closed, but after confirming the position of the inlet-side gate valve 20 as well, the cylinder 70a is double-acted, the rack 71a is also double-acted, and the pinion 72a is moved counterclockwise. Rotate to close the inlet side gate valve 20. Therefore, the inside of the charging chamber 12 becomes a sealed closed space, and is heated to a predetermined temperature.
[0035]
Now, it is assumed that the glass substrate G does not exist in the next sputtering chamber 14. The outlet-side gate valve 26 of the charging chamber 12 moves the rack 71b rightward by driving the cylinder 70b, and the pinion 72b engaged with the rack 71b rotates clockwise, and the rotating shaft 73b fixed to this rotates the pinion 72b. By turning clockwise, the outlet side gate valve 22 is opened. Although the vacuum exhaust system is not shown in the drawing, it is assumed that the preparation chamber 12, which is a closed space, has been exhausted to a predetermined pressure reduction degree.
[0036]
Similarly, the next sputtering chamber 14 is also evacuated in a closed space, and by opening the gate valve 22 (also used as the charging chamber 22 and the sputtering chamber 14), the vacuum chamber of the charging chamber 12 and the vacuum chamber of the sputtering chamber 14 are separated. Communicate. The transport roller 67, the upper roller 37, and the lower roller 52 of the transport mechanism 18 in the sputter chamber 14 are also driven, and the glass substrate G is sent into the sputter chamber 14 simultaneously with the opening of the gate valve 22.
[0037]
The sputter device S in the sputter chamber 14 is configured in a known manner, but atoms or molecules knocked out from the target plate T by plasma, that is, atoms or molecules of a material to be formed into a film are indicated by arrows. And hits one surface of the glass substrate G, and a film is formed here.
[0038]
In the embodiment of the present invention, since continuous film formation is adopted, the film is conveyed at a predetermined speed as it is, and during this conveyance, a film is formed on the entire surface from the front end to the rear end. When reaching the sensor device section, slow conveyance is performed in the sensor sections 76a and 77a similarly to the charging chamber 12, and a stop command is given to the motor by the sensor sections 76b and 77b, and on the optical path L between the sensor sections 76c and 77c, or The tip part stops when passing slightly.
[0039]
As clearly shown in FIGS. 2 and 3, each sensor section 76a, 76b, 76c of the light emitting side sensor apparatus 76 and each sensor section 77a, 77b, 77c of the light receiving side sensor apparatus 77 opposed thereto are shown in FIG. As described above, they are disposed so as to face each other diagonally. Although this oblique direction is set to 30 ° in the embodiment of the present invention, it is desirable that the angle of total reflection be at the boundary between the vacuum, the glass substrate G, and the vacuum for the following reason. Generally, when light is transmitted from a transparent body to the air, all light is reflected toward the transparent body at a reflection angle which is a boundary surface between the transparent body and the air. This is the principle of light transmission. When the total reflection angle is set as such, when the glass substrate G blocks the optical path L between the opposing light-emitting sensor device 76 and light-receiving sensor device 77, the light is blocked. The light receiving level of the previous light receiving side sensor device 77 can be greatly reduced, and the arrival of the tip of the glass substrate can be reliably detected. In the embodiment of the present invention, the upper side is the light emitting side sensor device 76 and the lower side is the light emitting side sensor device 77, but may be reversed.
[0040]
Next, the outlet-side gate valve 24 of the sputtering chamber 14 is opened in the same manner as described above, and is introduced into the extraction chamber 16 in which the closed space has been exhausted by the same transport mechanism 18. Also in the unloading chamber 16, a light-emitting sensor device and a light-receiving sensor device similar to those of the preparation chamber 12 and the sputter chamber 14 are provided, and the glass substrate G on which a film has been formed is stopped at a predetermined position. At the same time or immediately before this, the outlet-side gate valve 24 of the sputtering chamber 14 is closed. Next, the exit side gate valve 26 is opened, and the formed glass substrate G is carried out to the atmosphere.
[0041]
Next, the glass substrate G is introduced into the sputtering chamber 14, and in the preparation chamber 12, the glass substrate G heated to a predetermined temperature in the vacuum chamber which has been closed as described above is on standby. As described above, the outlet side gate valve 22 of the preparation chamber 12 is opened and connected to the sputtering chamber 14. The glass substrate G is introduced into the sputtering chamber 14 and undergoes the same film forming action as the glass substrate G. After the predetermined film formation, the gate valve 24 is opened to be taken out into the extraction chamber 16, and then the gate valve 26 of the extraction chamber 16 is opened and carried out to the atmosphere. This is the same as above.
[0042]
According to the embodiment of the present invention, the upper roller 37 and the lower roller 52 are controlled by a control circuit (not shown) so as to rotate at the same rotation speed by independent motors 45 and 55, respectively. The transport roller 67 is also driven by the motor 55 via the gear box 57, and is driven at a speed inversely proportional to the diameter of the transport roller 67 and the diameters of the upper roller 37 and the lower roller 52. Therefore, the upper roller 37, the lower roller 52, and the transport roller 67 rotate synchronously at the same peripheral speed. Therefore, since the glass substrate G is positively driven by the rollers both on the rear surface and the lower edge, even when the frictional force between the rollers 37, 52, 67 and the glass substrate G is large, the glass substrate G can be reliably driven at a desired speed. It can be transported downstream.
[0043]
In FIG. 7, a gas ejecting body 86 is provided above the vicinity of the peripheral surface of the transport roller 67 in the sputtering chamber 14, from which gas h is ejected as indicated by an arrow. Since a frictional force always acts between the lower edge of the glass substrate G and the peripheral surface of the transport roller 67, dust g adheres to the peripheral surface. This is removed by a gas flow. Due to the suction of the exhaust system (not shown), the dust g flows downward without rising.
[0044]
Further, in the embodiment of the present invention, since the carrier as described in the related art is not used, the operation of returning the carrier to the initial position after forming the film on the glass substrate is unnecessary, and the entire apparatus is not required. Can be reduced in size.
[0045]
The embodiments of the present invention have been described above, but of course, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made based on the technical idea of the present invention.
[0046]
For example, in the above-described embodiment of the present invention, the transfer mechanism according to the present invention is used in all of the charging chamber, the sputter chamber as the processing chamber, and the unloading chamber of the ordinary in-line vacuum processing apparatus. The effect of the present invention can also be obtained by using this method.
[0047]
In the above embodiment of the present invention, the upper roller 37, the lower roller 52, and the transport roller 67 are all driven by independent motors (the lower roller 52 and the transport roller 67 are driven by the same motor 55 via the gear box 57). However, when the frictional force between the glass substrate G and the peripheral surfaces of the upper roller 37 and the lower roller 52 is small, only the transport roller 67 is used as the driving roller. The roller 37 and the lower roller 52 may be driven rollers. In this case, the belt winding specified in FIGS.
Parts can be omitted. Of course, a motor for driving these can be omitted, and the entire apparatus can be further simplified.
[0048]
Further, the upper roller 37 and the lower roller 52 may be drive rollers as described in the embodiment of the present invention, and the transport roller 67 may be a driven roller. Of course, in this case, the drive source for driving the transport roller is omitted.
[0049]
Further, in the above embodiment of the present invention, one lower roller 52 is provided near the transport roller 64, that is, in the lower part of the preparation chamber (the same applies to other chambers). The sheet is transported in an inclined and upright posture, and functions to stably support the lower edge. The upper rollers 37 are provided at four pitches as shown in FIG. 2 so that they can be stably supported when the height of the glass substrate to be processed changes. In the above-described embodiment of the present invention, the upper rotary shaft 56 and the lower rotary shaft 51 are separately protruded from above and below, respectively, but these are vertically penetrated to form a single rotary shaft. The rollers may be mounted at a pitch of. Also in this case, these may be driven rollers and the transport roller may be a drive roller, or conversely, the transport roller may be a driven roller, and the upper and lower rollers may be drive rollers. Alternatively, all the rollers may be drive rollers.
[0050]
Further, in the embodiment of the present invention, a glass substrate has been described as a plate-shaped article. Of course, the plate-shaped article is not limited to this, and an LCD (liquid crystal) as a flat panel display is typically used for a glass substrate. Display), but also applicable to glass substrates for PDP (plasma display), EL (electroluminescent display), FED (field emission display), flat CRT, etc. In short, any material may be used if it is a flat plate. The material of the flat panel may be a material other than glass, for example, a synthetic resin such as plastic, or a semiconductor such as silicon.
As the surface treatment apparatus described above, a sputtering apparatus has been described, but of course, the surface treatment apparatus is not limited to this, and other general film forming apparatuses, an exposure apparatus, a development apparatus, and a surface treatment apparatus can also be considered. , An inspection device, a cleaning device, or the like.
【The invention's effect】
As described above, according to the in-line type vacuum processing apparatus of the present invention, the carrier required conventionally is unnecessary, so that the entire apparatus can be reduced in size, and the glass substrate is transported in an upright state. Especially when the area is large, there was a problem of bending in the horizontal transfer, but such a problem can be transported before, during, or after the processing without damaging the glass substrate at all without any problem. it can.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a partially broken front view of an inline vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a partially cutaway front view of the charging chamber in the embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a sectional view taken along the line [3]-[3] in FIG.
FIG. 4 is a plan view of a preparation room.
FIG. 5 is a sectional view taken along the line [5]-[5] in FIG.
FIG. 6 is a partial cross-sectional perspective view showing a relationship between a preparation chamber and a sputter chamber.
FIG. 7 is an enlarged sectional view of a main part in a sputtering chamber.
FIG. 8 is a side view of a conventional glass substrate transfer device.
FIG. 9 is a partially enlarged sectional view of the device.
[Explanation of symbols]
30 Preparation room main body
35 Vacuum sealed bearing
37 Upper roller
40 motor
50 Vacuum sealed bearing
52 Lower roller
55 motor
57 Gearbox
58 1st output shaft
60 2nd output shaft
61 pulley
62 belt
63 Guide roller
65 Vacuum sealed bearing
66 Rotation axis
67 Transport roller
68 pulley
69 belt
73a, 73b Rotation axis
76a, 76b, 76c Light emitting side sensor unit
77a, 77b, 77c Light receiving side sensor unit
S sputtering equipment

Claims (11)

板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の上部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の上側従動ローラと、前記板状物品の下部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の下側従動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する駆動源と具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記上側従動ローラ及び前記下側従動ローラの周側面に前記板状物品の一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。In an inline vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, a plurality of transport rollers arranged along the transport direction, and the plate-like transported in an upright position with respect to a vertical direction At least one row of a plurality of upper driven rollers arranged along the transport direction to support an upper part of the article, and at least one row of a plurality of upper driven rollers arranged along the transport direction to support a lower part of the plate-like article A plurality of lower driven rollers, and a drive source for driving the plurality of transport rollers to rotate in synchronization with each other, a lower edge is placed on a peripheral side surface of the transport roller, and the upper driven roller and the lower driven roller are disposed. An in-line vacuum processing apparatus wherein the plate-shaped article is conveyed while being supported on one side of the plate-shaped article on a peripheral side surface. 板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の上部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の上側駆動ローラと、前記板状物品の下部を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも一列の複数個の下側駆動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する第1駆動源と前記複数個の上側駆動ローラを同期して回転駆動する第2駆動源と、前記複数個の下側駆動ローラを同期して回転駆動する第3駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記上側駆動ローラ及び前記下側駆動ローラの周側面に前記板状物品の一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。In an inline vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, a plurality of transport rollers arranged along the transport direction, and the plate-like transported in an upright position with respect to a vertical direction At least one row of a plurality of upper drive rollers arranged along the transport direction to support an upper part of the article, and at least one row of a plurality of upper drive rollers arranged along the transport direction to support a lower part of the plate-shaped article A plurality of lower drive rollers, a first drive source for synchronously rotating the plurality of transport rollers, a second drive source for synchronously rotating the plurality of upper drive rollers, and the plurality of upper drive rollers. A third drive source for rotating and driving the lower drive roller in synchronization with the third drive source, placing a lower edge on a peripheral side surface of the transport roller, and placing the plate-shaped article on a peripheral side surface of the upper drive roller and the lower drive roller. Supports one side of Inline vacuum processing apparatus being characterized in that so as to be conveyed while. 板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも2列の複数個の従動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記従動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。In an inline vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, a plurality of transport rollers arranged along the transport direction, and the plate-like transported in an upright position with respect to a vertical direction A plurality of driven rollers arranged in at least two rows along the transport direction to support one surface of the article, and a drive source for synchronously rotating the plurality of transport rollers, and An in-line vacuum processing apparatus, wherein a lower edge is placed on a peripheral side surface of a transport roller, and the plate-like article is transported while supporting the one surface of the plate-like article on a peripheral side surface of the driven roller. 板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも2列の複数個の駆動ローラと、前記複数個の搬送ローラを同期して回転駆動する第1駆動源と、前記複数個の駆動ローラを同期して回転駆動する第2駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記駆動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。In an inline vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, a plurality of transport rollers arranged along the transport direction, and the plate-like transported in an upright position with respect to a vertical direction At least two rows of a plurality of drive rollers arranged along the transport direction to support one surface of the article, a first drive source for synchronously rotating the plurality of transport rollers, A second driving source that drives the driving rollers in synchronization with each other, a lower edge is placed on the peripheral side surface of the transport roller, and the one side of the plate-shaped article is supported on the peripheral side surface of the driving roller. An in-line vacuum processing apparatus characterized in that it is transported while being moved. 板状物品を真空空間内で搬送するインライン式真空処理装置において、前記搬送方向に沿って配列される複数個の搬送ローラと、垂直方向に対し傾斜して立てた姿勢で搬送される前記板状物品の一方の面を支持すべく前記搬送方向に沿って配列された少なくとも2列の複数個の駆動ローラと、前記複数個の駆動ローラを同期して回転駆動する駆動源とを具備し、前記搬送ローラの周側面に下縁を載せ、前記駆動ローラの周側面に前記板状物品の前記一方の面を支持させながら前記搬送ローラを従動させて搬送させるようにしたことを特徴とするインライン式真空処理装置。In an inline vacuum processing apparatus for transporting a plate-like article in a vacuum space, a plurality of transport rollers arranged along the transport direction, and the plate-like transported in an upright position with respect to a vertical direction A plurality of drive rollers arranged in at least two rows along the transport direction to support one surface of the article, and a drive source for synchronously rotating the plurality of drive rollers, and An in-line type wherein the lower edge is placed on the peripheral side surface of the transport roller, and the transport roller is driven and transported while supporting the one surface of the plate-shaped article on the peripheral side surface of the drive roller. Vacuum processing equipment. 入口及び出口にそれぞれゲートバルブを備えて一真空室を画成し、前記出口側に前記板状物品の先端部を検知するセンサ装置を設けたことを特徴とする請求項1〜5のいづれかに記載のインライン式真空処理装置。6. A vacuum chamber is defined by providing a gate valve at each of an inlet and an outlet, and a sensor device for detecting a tip end of the plate-shaped article is provided at the outlet side. The described in-line vacuum processing apparatus. 前記板状物品の搬送途上において、該板状物品の他方の面に表面処理を行う表面処理手段を前記板状物品の他方の面に対向して配設したことを特徴とする請求項1〜6のいづれかに記載のインライン式真空処理装置。The method according to claim 1, wherein a surface treatment unit for performing surface treatment on the other surface of the plate-shaped article is disposed to face the other surface of the plate-shaped article while the plate-shaped article is being conveyed. 6. The in-line vacuum processing apparatus according to any one of 6. 前記表面手段はスパッタ装置であることを特徴とする請求項7に記載のインライン式真空処理装置。The in-line vacuum processing apparatus according to claim 7, wherein the surface unit is a sputtering apparatus. 前記一真空室の前記入口及び前記出口に各々連接して他真空室を画成し、それぞれ仕込室、取出室としたことを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載のインライン式真空処理装置。The in-line vacuum according to any one of claims 6 to 8, wherein another vacuum chamber is defined by being connected to the inlet and the outlet of the one vacuum chamber, respectively, and a charging chamber and an extracting chamber are respectively provided. Processing equipment. 前記板状物品はガラス基板であることを特徴とする請求項1〜9のいづれかに記載のインライン式真空処理装置。The in-line vacuum processing apparatus according to any one of claims 1 to 9, wherein the plate-like article is a glass substrate. 前記板状物品はガラス基板であり、前記センサ装置は発光体と受光体とにより成り、前記ガラス基板に対し、前記発光体からの光線は斜め方向に前記受光体に対し投射されるようにしたことを特徴とする請求項6に記載のインライン式真空処理装置。The plate-shaped article is a glass substrate, and the sensor device includes a light emitter and a light receiver, and the light from the light emitter is projected on the light receiver in an oblique direction with respect to the glass substrate. The in-line vacuum processing apparatus according to claim 6, wherein:
JP2003131989A 2003-05-09 2003-05-09 In-line type vacuum processing device Pending JP2004331349A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003131989A JP2004331349A (en) 2003-05-09 2003-05-09 In-line type vacuum processing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003131989A JP2004331349A (en) 2003-05-09 2003-05-09 In-line type vacuum processing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004331349A true JP2004331349A (en) 2004-11-25

Family

ID=33507027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003131989A Pending JP2004331349A (en) 2003-05-09 2003-05-09 In-line type vacuum processing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004331349A (en)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006245125A (en) * 2005-03-01 2006-09-14 Shibaura Mechatronics Corp Substrate treatment apparatus and method therefor
JP2007076810A (en) * 2005-09-14 2007-03-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Conveyance method for plasma display panel
JP2007165452A (en) * 2005-12-12 2007-06-28 Shibaura Mechatronics Corp Substrate processing apparatus
JP2008023489A (en) * 2006-07-24 2008-02-07 Shibaura Mechatronics Corp Substrate processing apparatus
JP2012004369A (en) * 2010-06-17 2012-01-05 Sumitomo Heavy Ind Ltd Conveying device
CN103000557A (en) * 2011-09-13 2013-03-27 住友重机械工业株式会社 Conveyor
CN103531508A (en) * 2013-10-17 2014-01-22 深圳市华星光电技术有限公司 Substrate transfer facility and transfer method
KR101371818B1 (en) * 2005-11-26 2014-03-07 에이씨피-어드밴스드 클린 프로덕션 게엠베하 Apparatus and method for wet-chemical processing of flat, thin substrate in a continuous method
KR101381792B1 (en) 2012-10-30 2014-04-07 주식회사 엠엠테크 Apparatus for transmitting cassette in the chamber
KR101398488B1 (en) * 2011-12-21 2014-05-30 (주) 지에스이 apparatus and method for transmitting cassette in the chamber
TWI452001B (en) * 2011-09-05 2014-09-11 Sumitomo Heavy Industries Handling device
CN115196344A (en) * 2022-08-12 2022-10-18 深圳市易天自动化设备股份有限公司 Conveying device

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006245125A (en) * 2005-03-01 2006-09-14 Shibaura Mechatronics Corp Substrate treatment apparatus and method therefor
JP2007076810A (en) * 2005-09-14 2007-03-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Conveyance method for plasma display panel
KR101371818B1 (en) * 2005-11-26 2014-03-07 에이씨피-어드밴스드 클린 프로덕션 게엠베하 Apparatus and method for wet-chemical processing of flat, thin substrate in a continuous method
TWI405701B (en) * 2005-12-12 2013-08-21 Shibaura Mechatronics Corp Apparatus for treating substrates
JP2007165452A (en) * 2005-12-12 2007-06-28 Shibaura Mechatronics Corp Substrate processing apparatus
KR101372975B1 (en) 2005-12-12 2014-03-11 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 Apparatus for treating substrates
KR101408758B1 (en) 2006-07-24 2014-06-17 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 Apparatus for treating substrates
JP2008023489A (en) * 2006-07-24 2008-02-07 Shibaura Mechatronics Corp Substrate processing apparatus
JP2012004369A (en) * 2010-06-17 2012-01-05 Sumitomo Heavy Ind Ltd Conveying device
TWI452001B (en) * 2011-09-05 2014-09-11 Sumitomo Heavy Industries Handling device
CN103000557A (en) * 2011-09-13 2013-03-27 住友重机械工业株式会社 Conveyor
KR101398488B1 (en) * 2011-12-21 2014-05-30 (주) 지에스이 apparatus and method for transmitting cassette in the chamber
KR101381792B1 (en) 2012-10-30 2014-04-07 주식회사 엠엠테크 Apparatus for transmitting cassette in the chamber
CN103531508A (en) * 2013-10-17 2014-01-22 深圳市华星光电技术有限公司 Substrate transfer facility and transfer method
WO2015054952A1 (en) * 2013-10-17 2015-04-23 深圳市华星光电技术有限公司 Substrate transporting device and method
CN115196344A (en) * 2022-08-12 2022-10-18 深圳市易天自动化设备股份有限公司 Conveying device
CN115196344B (en) * 2022-08-12 2024-04-30 深圳市易天自动化设备股份有限公司 Conveying device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4495752B2 (en) Substrate processing apparatus and coating apparatus
JP4753313B2 (en) Substrate processing equipment
JP2004331349A (en) In-line type vacuum processing device
EP2333814B1 (en) Auto-sequencing multi-directional inline processing apparatus
JP2004149320A (en) Transfer system for glass substrate
JP2011043183A (en) Valve device and paper sheet takeout device
JP2006269672A (en) Apparatus and method for coating/developing
US20050036873A1 (en) Transporting apparatus
JPH0536658A (en) Substrate cleaning and drying device
JP2003300618A (en) Base transporting mechanism
JP3897133B2 (en) Substrate reversal method and apparatus
WO2006070999A1 (en) Glass panel floating and conveying apparatus
JP2007051001A (en) Method and apparatus for conveying thin sheet-like material
JP2008098198A (en) Substrate conveyor
JP2006118008A5 (en)
JP4805384B2 (en) Substrate processing equipment
JP5224612B2 (en) Substrate delivery device and substrate delivery method
JP2003031637A (en) Substrate carrier
JP2009256002A (en) Tabular body carrying device and its control method
KR20100107692A (en) Apparatus for cleaning small size flat panel
JP2005272061A (en) Conveying device and conveying method of substrate
JP4412577B2 (en) Large sheet container
JP3763990B2 (en) Transport device
KR100689652B1 (en) Vacuum treatment system for rectangular or square substrate
JP2001232268A (en) Film formation device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060420

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Effective date: 20071110

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20090217

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A977 Report on retrieval

Effective date: 20090219

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A521 Written amendment

Effective date: 20090420

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20090804

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20091201