JP2004311320A - 球状シリカを用いた凹面反射鏡基体及びその製造方法と、凹面反射鏡基体を用いた光源装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形された凹面反射鏡基体であって、該凹面反射鏡基体における有効反射面を有する基体部4を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部5を主体とする部分とを、独立してプレス成形する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、球状シリカを用いた凹面反射鏡基体及びその製造方法と、凹面反射鏡基体を用いた光源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、プロジェクタなどに用いられる光源装置の凹面反射鏡基体は、硬質ガラス製の硼珪酸ガラスから作成され、そのガラスの軟化温度以上にすることで溶解して、金型を用いて押し型成形によって作成されていた。溶解したガラスを加工するため離型上問題を起こさぬように、軟化温度以上の半溶解状態で金型から取り出すことが一般的であった。
【0003】
また、用いられるプロジェクタからの要求としての、光源ユニットへの小型化の要求に従い、更に耐熱性を持たせるために結晶化ガラスの提案がされ、実用化に至っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来のように、硼珪酸ガラスから作成されるものにおいては、取り出した後に変形したりして、設計した曲面から大幅に外れるものも発生して問題となっていた。
【0005】
更に、硼珪酸ガラスから作成される反射鏡基体は、ガラスを1250℃程度に溶解したものを金型に接触させて、数秒間もプレスして転写性を上げるようにしているので、金型がすぐ酸化したり、金型の肝心な設計表面にガラス素材の蒸発物が付着したりして頻繁にその金型の設計鏡面を研磨する必要があり、そのため本来の設計値から徐々に逸脱してしまうようなことが発生し問題であった。そのため冷間で行う通常の紛体成形と比較すると、金型寿命も約1/100であり、せいぜい2万ショット程度しかなく、極端に短寿命であり問題であった。また、反射鏡基体そのものも、溶解したガラスを成形する際に冷却過程で均一な肉厚でないと“ひけ”と呼ばれる肉厚に応じた収縮があり、そのために変形したりするものがあり、転写性において問題を生ずるものもあった。
【0006】
また、前記結晶化ガラスで作成するものにおいては、結晶化ガラスも硼珪酸ガラスから作成されるので、従来の硼珪酸ガラスから作成される反射鏡基体の諸問題に加えて、反射鏡面とする面に結晶化させた時点で結晶質が現れ、乱反射を起こす面となってしまう問題があるので、更に研磨材を用いて研磨する工程の手間を必要とするだけでなく、研磨工程を通すと本来の設計曲面から必ず外れる結果となっていた。
【0007】
また、微粉末シリカを主体としてバインダとともにスラリー化した後、スプレードライアで造粒し、金型による粉体成形を行い仮焼結、本焼結して反射鏡基体を得る方法が考えられる。例えば、図12に示すように、ダイ101に上パンチ102と下パンチ103を嵌合させ、これに前記の造粒した粉体を充填して上下のパンチ102,103で一度に圧縮成形するように試みた結果、成形体の厚さが均一でなく、凹凸等がある場合、加圧にバラツキが生じやすく、成形体104の段部105にクラックの発生や、破損が発生しやすく、特に焼成後に著しかった。
【0008】
そこで本発明は、用いる成形材料を溶解させることなく冷間で成形でき、したがって素材の熱収縮などの問題や、当初の設計値から外れることもない、したがって金型寿命の長い、また、成形体に段部があってもクラックや破損が発生しない、かつ成形の精度が向上し、機械的にも強固な球状シリカを用いた凹面反射鏡基体及びその製造方法と、この凹面反射鏡基体を用いた光源装置を提供することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決するために、請求項1記載の発明は、少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形された凹面反射鏡基体であって、該凹面反射鏡基体における有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分とを、独立してプレス成形したことを特徴とする球状シリカを用いた凹面反射鏡基体である。
【0010】
請求項2記載の発明は、少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形された凹面反射鏡基体であって、該凹面反射鏡基体における有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分と、有効反射面の前方に位置する囲い部分とを、夫々独立してプレス成形したことを特徴とする球状シリカを用いた凹面反射鏡基体である。
【0011】
請求項3記載の発明は、少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形された凹面反射鏡基体であって、該凹面反射鏡基体における有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分とを、独立してプレス成形することを特徴とする球状シリカを用いた凹面反射鏡基体の製造方法である。
【0012】
請求項4記載の発明は、少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形された凹面反射鏡基体であって、該凹面反射鏡基体における有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分と、有効反射面の前方に位置する囲い部分とを、夫々独立してプレス成形することを特徴とする球状シリカを用いた凹面反射鏡基体の製造方法である。
【0013】
請求項5記載の発明は、請求項1又は2に記載の凹面反射鏡基体の反射鏡光源上に光源ランプを設け、仮に反射鏡最前面で覆うとした場合にできる内容積=V(cm3)と、光源ランプの消費電力=P(W)の関係を、
P/V≧2.5(W/cm3)
に設定したことを特徴とする凹面反射鏡基体を用いた光源装置である。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の好ましい実施の形態を図1乃至図10に示す実施例に基づいて説明する。
【0015】
図1は本発明により得られる凹面反射鏡基体1の第1実施例を示すもので、外寸法Dが50×50mmで、反射鏡の光軸X上の焦点距離f=6mmの位置に、定格電力180Wの超高圧水銀ランプ2の発光部が配置される。
【0016】
反射鏡基体1は、球状シリカを主材とする、すなわち少なくとも球状シリカを含む材料を用いてプレス成形によって得られたものを焼結することにより得られ、また、放物状の反射鏡面3には、いわゆるコールドミラーと呼ばれる酸化珪素(SiO2)、酸化チタン(TiO2)とを交互に成膜した誘電体反射膜をコートしている。
【0017】
また、図1において、4は有効反射面を有する基体部であり、5は光源ランプ2の封止部を保持するために設けた概略円筒部であり、6は有効反射面の前方に位置する囲い部分を示す。
【0018】
また、前面には万が一のランプ2の破裂に備えて、無反射コートを施した厚さ4mmの硬質ガラス7が配置されている。
【0019】
上記した定格電力180Wの超高圧水銀ランプ2は、約1mmのアーク長であり、内容積は約100mm3の中に、約0.2mg/mm3とした水銀を封入し、黒化防止のためにハロゲンサイクルを利用する上で、臭素を約3.5×10−4μモル/mm3とするべく、始動用補助ガスとして封入すべきアルゴンガスと共に臭化水素(HBr)を5%とする混合ガスとして封入してある。
【0020】
次に、前記反射鏡基体の製造方法について図2乃至図7により説明する。
図2において、8は上パンチで、反射面成形面8aと、該面8aの上側に連続した囲い部分成形面8bと、その上側において外方へ突出した囲い部分の上端面の成形面8cとを有する。また、中心部には穴8dが形成されている。該上パンチ8は、図示しない駆動機構によりプログラム制御で移動速度、移動量が制御されて上下に移動するようになっている。
【0021】
9はダイで、その中央に前記上パンチ8が嵌入する型穴9aが形成されている。該ダイ9は、図示しない駆動機構によりプログラム制御で移動速度、移動量が制御されて上下に移動するようになっている。
【0022】
10は前記型穴9aに立設されているアウターパンチで、図示しない粉体成形装置の固定テーブルの支持板に取り付けられて固定されている。該アウターパンチ10の上面には反射面を有する基体部4の部分を成形する成形面10aが形成されている。
【0023】
11は前記アウターパンチ10の内側に昇降可能に設けたインナーパンチで、図示しない駆動機構によりプログラム制御で移動速度、移動量が制御されて上下に移動するようになっている。該インナーパンチ11の上面には概略円筒部5の下面を成形する成形面11aが形成されている。
【0024】
12は前記インナーパンチ11の内側に設けたガイド用のコアで、前記ダイ9とともに上下に移動するようになっており、前記上パンチ8の穴8dに嵌合するようになっている。
【0025】
なお、前記上パンチ8などの移動部材の昇降時期と昇降量の動作は制御手段によりプログラム制御される。
【0026】
以上の構造において、先ず、0.3〜1.5μmとした球状シリカに、ファインセラミックの成形助剤として知られる約3%の有機バインダ(PVA、澱粉など)を水と混合してスラリーとしたものを、スプレードライアで一定の平均粒径になるように顆粒状に造粒して粉体とする。
【0027】
顆粒状にスラリーを造粒して得た紛体は、三軸又は四軸がプログラム制御により独立して上下稼動し、成形体に一定の圧力を加えることができる紛体成形装置を使用して、前記の反射鏡基体1の形状に成形する。
【0028】
粉体成形装置としては、流体あるいは電気を使用した駆動により、図1に示す凹面反射鏡基体1の反射面3を有する基体部4を主体とする部分と、ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部5を主体とする部分の金型の移動速度と移動量を成形条件によってコンピュータによりプログラム制御できるように構成されたものが使用できる。これにより、乾式プレス成形が困難とされる深い凹形上を有する反射鏡基体であっても、加圧のバラツキによって生じる歪みや、段部等でのクラックが発生することもなく、寸法精度に優れた成形体を作成することができる。
【0029】
実施例として図2に示す反射面を主体とする上パンチ8と、概略円筒部を主体とするインナーパンチ11の移動速度と移動量が個別に動作できる金型を使用して前記粉体成形装置でプレス成形(押し型成形)を行い反射鏡基体1を作成した。
【0030】
先ず、図2に示す状態からダイ9等を図3に示すような状態に移動し、球状シリカを顆粒状に造粒した紛体を、図3に示すフィーダカップ13に入れ、該フィーダカップ13をダイ9上で往復運動させることにより、容積に応じたダイ9の空間に紛体14を充填する。
【0031】
次に、充填を完了するとフィーダカップ13を退避させ、図4に示すように下ラム機構(図示せず)により、ダイ9を上昇させてアンダーフィルを行う。
【0032】
次に、紛体成形機の上ラム機構(図示せず)により図5に示すように上パンチ8を予め設定された移動速度と移動量で下降させ、コア12をガイドにしてダイ9の中に挿入する。アウターパンチ10は固定状態であるため紛体14は上パンチ8の下降と共に図5に示すように圧縮される。
【0033】
そして、更に、図6に示すように基体部4となる部分の粉体14を所定量加圧するため上パンチ8を下降すると共に、図示しない下ラム機構によりインナーパンチ11を予め設定された速度と移動量で上昇させて概略円筒部5を所定量加圧する。このとき、インナーパンチ11の上昇速度は、上パンチ8の下降速度より遅い速度例えば、半分の速度とする。
次に、図7に示すように上パンチ8を更に下降すると共にインナーパンチ11を更に上昇させて、粉体14に十分な圧力Pを加える。圧力Pとしては、例えば上パンチ8で約27tの荷重により加圧し、インナーパンチ11で約4tの荷重により加圧する。
【0034】
以上により、成形体の凹凸に関係なく、各部分において一定の圧縮比で紛体14が独立してプレス成形できるように、各々が個別にプログラム制御で独立して動作することにより、各部分が独立してプレス成形され、圧縮され難い図1に示す概略円筒部5を主体とした箇所が十分に加圧され、全体において緻密化した成形体を得ることができた。
【0035】
前記の圧縮完了後、図8に示すように上ラム機構で上パンチ8を、成形体のスプリングバックを考慮して緩やかに上昇させる。その後、ダイ9を下降させながら下ラム機構によりインナーパンチ11を上昇させ、金型から反射鏡基体1となる成形体15を取り出した。
【0036】
以上は、上パンチ8と、ダイ9とインナーパンチ11による、いわゆる三軸による成形であり、これにより有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分とを、独立してプレス成形したものである。
【0037】
前記実施例では、図1に示す反射面部を成形する金型と、概略円筒部5を成形する金型を各々独立して動作させてプレス成形する例を示したが、更に、図9の第2実施例に示すように、前記上パンチ8に形成した成形面8c、すなわち図1に示す囲い部分6の上端面を成形する成形面8cを、上パンチ8とは独立して昇降できるようにしたパンチ16(金型)で形成し、このパンチ16を図示しない上ラム機構でプログラム制御により独立して昇降するようにし、このパンチ16を前記図6の工程において個別に下降させて、囲い部分6の上端面を圧縮する、いわゆる四軸としてもよい。このとき、例えばパンチ16の移動速度は上パンチ8の下降速度よりも遅い半分の速度とする。この図9の第2実施例におけるその他の構造、作動は前記第1実施例と同様である。
【0038】
以上のような動作で作成した成形体は焼結後も密度が均一であり、応力集中している箇所もないため、本来の石英相当の耐熱強度や機械的強度が得られた。しかも反射鏡とする内面も非常に滑らかであって、かつ反射鏡とする設計値に従う、理想の曲面を示す反射鏡基体が得られた。
【0039】
このようにして得られた反射鏡基体内面に、真空蒸着機を用いて、酸化珪素−二酸化チタンの薄膜を数十層コーティングすることで、いわゆるうコールドミラーを施し、先の超高圧水銀ランプと光学的に位置調整して組み合わせた光源装置(光源ユニット)は、例えば小型のプロジェクタに、通常は用いない高ワットの180Wランプとして用いた場合にも、反射鏡は寿命中を通して小さなクラックも生じさせることなく、充分に明るい光源ユニットが得られる。したがって、有意義な、しかも頑丈な光源ユニットとして汎用性に優れる光源ユニットが得られた。
【0040】
また、反射鏡基体を用いた反射鏡内を、仮に反射鏡最前面で覆うとした場合にできる内容積をV(cm3)とし、共に用いる光源ランプの消費電力をP(W)とした場合に、P/V≧2.5(W/cm3)であると、硼珪酸ガラスでも上手く冷却することで、数百時間は反射鏡にクラックを発生させることなく耐えるものもできる。しかし、それ以下であると、空冷を上手く設計しても数百時間でクラックを発生させ、著しい場合は壊れてしまうものが発生する。本発明の製造方法により得られた反射鏡であれば、共に用いる熱源としてのランプ材料とほぼ同材料であるので、反射鏡を製造する際に均一な粒度分布とし内部応力を小さくしておくことで、P/V≧2.5(W/cm3)であっても、仮にランプと接触しても十分に強固な反射鏡となる。
【0041】
図10および図11は第3実施例を示す。
本第3実施例は、前記図1に示す反射鏡基体1における囲い部分6がない反射鏡基体1Aを製造する場合の例である。
【0042】
図10はその囲い部分がない反射鏡基体1Aを示し、この反射鏡基体1Aにおける前記図1の囲い部分6以外の部分は前記図1の反射鏡基体と同様であるため、図1と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。
【0043】
この反射鏡基体1の製造に用いる上パンチは、図11に示すように、前記第1実施例における上パンチ8の囲い部分成形面8bがない上パンチ8Aを用いる。その他の構造および駆動機構等は前記と同様であるため、前記と同一部品、部分には前記と同一の符号を付してその説明を省略する。
【0044】
本第3実施例においても、前記第1実施例と同様に各部材を動作することにより、図10に示すような、囲い部分のない反射鏡基体1Aを製造することができるとともに、前記第1実施例と同様の効果を有する反射鏡基体1Aが得られる。
【0045】
【発明の効果】
以上のようであるから本発明によれば、少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形される凹面反射鏡基体を得るに、有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分とを、独立して押し型(プレス)成形することで、均一な反射鏡基体が得られる。
【0046】
更に、ランプを反射鏡前面から飛び出さないように配置する上で、該反射鏡の前方に囲いを設ける場合でも、少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形される凹面反射鏡基体は、有効反射面とする基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分と、有効反射面の前方に位置する囲い部分とを、夫々独立して押し型(プレス)成形することで均一な反射鏡基体が得られるので、たとえプロジェクタの小型化に伴い、光源装置にも大幅な小型化要求があっても、充分に精度のよい耐熱性のある、機械的強度に優れた上記した反射鏡を用いることで充分に明るい光源装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明により製造された反射鏡の実施例を示す断面図。
【図2】本発明の製造工程を示すもので、成形前の状態を示す第1の工程図。
【図3】同じく、第2の工程を示す図。
【図4】同じく、第3の工程を示す図。
【図5】同じく、第4の工程を示す図。
【図6】同じく、第5の工程を示す図。
【図7】同じく、第6の工程を示す図。
【図8】同じく、第7の工程を示す図。
【図9】本発明の第2実施例を示す図。
【図10】本発明の第3実施例を示す反射鏡の断面図。
【図11】図10の反射鏡基体を製造する金型等を示す側面図。
【図12】従来の製造方法を示す図。
【符号の説明】
1,1A 反射鏡基体
2 光源ランプ
3 反射面
4 基体部
5 概略円筒部
6 囲い部分
8 上パンチ
9 ダイ
10 アウターパンチ
11 インナーパンチ
12 コア
14 紛体
Claims (5)
- 少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形された凹面反射鏡基体であって、該凹面反射鏡基体における有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分とを、独立してプレス成形したことを特徴とする球状シリカを用いた凹面反射鏡基体。
- 少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形された凹面反射鏡基体であって、該凹面反射鏡基体における有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分と、有効反射面の前方に位置する囲い部分とを、夫々独立してプレス成形したことを特徴とする球状シリカを用いた凹面反射鏡基体。
- 少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形された凹面反射鏡基体であって、該凹面反射鏡基体における有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分とを、独立してプレス成形することを特徴とする球状シリカを用いた凹面反射鏡基体の製造方法。
- 少なくとも球状シリカを含む材料を用いて成形された凹面反射鏡基体であって、該凹面反射鏡基体における有効反射面を有する基体部を主体とする部分と、光源ランプの封止部を保持するために設けた概略円筒部を主体とする部分と、有効反射面の前方に位置する囲い部分とを、夫々独立してプレス成形することを特徴とする球状シリカを用いた凹面反射鏡基体の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の凹面反射鏡基体の反射鏡光源上に光源ランプを設け、仮に反射鏡最前面で覆うとした場合にできる内容積=V(cm3)と、光源ランプの消費電力=P(W)の関係を、
P/V≧2.5(W/cm3)
に設定したことを特徴とする光源装置。
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