JP2004301853A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. イオンビームを生成する照射光学系と、
   イオンビームの照射によって発生する二次粒子を検出する二次粒子検出手段と、
   試料を載置するサイドエントリ型の第一の試料ステージと、
   該第一の試料ステージに載置された前記試料を格納する試料室と、
   前記試料から所望の試料片を摘出する手段とを有し、
   前記摘出手段は前記摘出した試料片を前記第一の試料ステージと交換して搭載されたサイドエントリ型の第二の試料ステージへ移送する手段を備え、
   前記摘出手段は静電気力により前記試料片を吸着して摘出する手段を備えることを特徴とする試料加工装置。
2. 請求項１に記載の試料加工装置において、
   前記第二の試料ステージは、
   前記移送手段により前記第一の試料ステージから前記試料片を移設される試料保持手段を備えることを特徴とする試料加工装置。
3. 請求項２に記載の試料加工装置において、
   前記試料保持手段とは、試料ホルダまたは保持用メッシュであることを特徴とする試料加工方法。
4. 請求項１から３にいずれかに記載の試料加工装置において、
   前記試料片と前記試料保持手段は静電気力により吸着されることを特徴とする試料加工装置。
5. 請求項１に記載の試料加工装置において、
   前記第一の試料ステージを微動させる微動手段を備え、
   前記試料室は、前記試料片を設置するサイドエントリ型の第二の試料ステージを、前記第一の試料ステージと交換して前記微動手段に搭載できる構造であることを特徴とする試料加工装置。
6. 真空試料室内に設けられた試料基板から所望の試料片を摘出する試料加工方法において、
   前記所望の試料片を前記試料基板から分離する工程と、
   分離した前記試料片を前記真空試料室内に設けられた試料ホルダに静電気力によって吸着させる工程とを含むことを特徴とする試料加工方法。
7. 真空試料室内に設けられた試料から所望の試料片を摘出する試料加工方法において、
   前記試料を前記所望の試料片と分離する工程と、
   前記分離された試料片を静電気力によって移動手段に吸着させて摘出する工程と、
   摘出した前記試料片を前記移動手段で移送して前記真空試料室内に設けられた試料ホルダに静電気力によって吸着させる工程とを含むことを特徴とする試料加工方法。