JP2000214056A5

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Publication number: JP2000214056A5
Application number: JP1999013130A
Authority: JP
Filing date: 1999-01-21
Publication date: 2005-11-04
Anticipated expiration: 2019-01-21

Claims

試料を載置する試料ステージと、
該試料ステージが設置された真空試料室と、
前記試料にイオンビームを照射する照射光学系と、
前記イオンビームの照射により発生した二次粒子を検出する検出器と、
前記イオンビームの照射により試料より分離した試料片を少なくとも一つ固着できる設置面を有するＴＥＭホルダと、
前記真空試料室内に設けられた、前記試料片を前記ＴＥＭホルダに載せるための移送手段と、
前記ＴＥＭホルダを少なくとも一つ保持するホルダ保持部材と、
該ホルダ保持部部材を前記イオンビームの光軸に対して垂直な軸を中心に回転させる手段とを備え、
前記ホルダ保持部材の回転により前記設置面に固定された前記試料片の前記イオンビームの光軸に対する姿勢を制御し、該試料片の加工を前記真空試料室内で実行することを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料ステージが設置される真空試料室と、
前記試料にイオンビームを照射する照射光学系と、
前記イオンビームの照射により発生した二次粒子を検出する検出器と、
前記イオンビームの照射により試料より分離した試料片を固着できる試料ホルダと、
前記真空試料室内に設置され、前記試料片を前記試料から摘出し前記試料ホルダへ移送する手段と、
前記イオンビームの光軸に対して前記試料ホルダの姿勢を変更させる手段とを備え、
前記試料ホルダの姿勢の変更により、該試料ホルダに固着された前記試料片のイオンビームの光軸に対する姿勢を制御し、該試料片の加工を前記真空試料室内で実行することを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する第一ステージと、
該第一ステージが設置された試料室と、
前記試料に対してイオンビームを照射する照射光学系と、
前記試料から摘出された試料片を載せる第二ステージと、
前記試料室内に設けられた、前記試料片を前記第二ステージに載せるための移送手段と、
前記イオンビームの光軸に対する前記第二ステージの傾斜角度を制御する手段とを備えることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料ステージが設置される試料室と、
前記試料にイオンビームを照射する照射光学系と、
前記イオンビームの照射により発生した二次粒子を検出する検出器と、
前記イオンビームの照射により前記試料より分離した試料片を固着可能な設置面を有する試料ホルダと、
前記試料室内に設置され、前記試料片を前記試料から摘出し前記試料ホルダへ移送する手段と、
前記イオンビームの光軸に対する前記試料ホルダの設置面の姿勢を変更する手段とを備えることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
前記試料に対してイオンビームを照射する照射光学系と、
前記試料から摘出された試料片を載せる試料ホルダと、
前記試料片を前記試料ホルダに載せるための移送手段と、
前記イオンビームの入射方向に対して前記試料ホルダの姿勢を変更する手段とを備えることを特徴とする試料作製装置。
請求項２から５のいずれかに記載の試料作製装置において、
前記試料ホルダまたは第二ステージには前記試料片を複数個搭載可能であることを特徴とする試料作製装置。
請求項２から５のいずれかに記載の試料作製装置において、
前記試料ホルダまたは第二ステージは他の検査装置の試料ステージとして転用可能であることを特徴とする試料作製装置。
請求項７に記載の試料作製装置において、
前記検査装置は走査電子顕微鏡、走査型透過電子顕微鏡及び透過電子顕微鏡を含むことを特徴とする試料作製装置。
請求項１から５のいずれかに記載の試料作製装置において、
前記移送手段は、プローブと該プローブを駆動するプローブ駆動機構を備えることを特徴とする試料作製装置。
請求項１から６のいずれかに記載の試料作製装置において、
前記試料が半導体ウエハである試料作製装置。
請求項１から６のいずれかに記載の試料作製装置において、
前記試料が半導体チップである試料作製装置。
請求項１から６のいずれかに記載の試料作製装置において、
前記試料がデバイスチップである試料作製装置。
請求項１から４のいずれかに記載の試料作製装置において、
前記試料室または真空試料室内に前記試料ホルダ、ＴＥＭホルダまたは第二ステージを保持するホルダカセットを備えることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料ステージが設置される試料室と、
前記試料にイオンビームを照射する照射光学系と、
前記イオンビームの照射により発生した二次粒子を検出する検出器と、
前記イオンビームの照射により試料から分離した試料片を固定可能に載置する設置面を有する試料ホルダと、
前記分離した試料片を前記試料ホルダの設置面に移設するプローブと、
該プローブを所望箇所に移動させるプローブ駆動機構と、
前記試料ホルダの設置面を前記イオンビームの光軸に対して垂直な軸を中心に回転させる手段とを備えることを特徴とする試料作製装置。
請求項１、２、３、４、５、１４のいずれかに記載の試料作製装置において、
前記イオンビームは集束イオンビームまたは投射イオンビームであることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
前記試料に対してイオンビームを照射する照射光学系と、
前記試料から摘出された試料片を載せる試料ホルダと、
前記試料片を前記試料ホルダに載せるための移送手段と、
前記イオンビームの光軸に対して前記試料ホルダの姿勢を変更する手段とを備えることを特徴とする試料作製装置。