JP2004289129A - 照明源最適化によってレンズ収差補償を行う方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(a)結像系の結像性能を定量化し、結像性能に対するレンズ収差の作用を反映するコスト測定基準を定義する段階と、(b)光源照明プロフィルを定義する段階と、(c)光源照明プロフィルに基づいてコスト測定基準を評価する段階と、(d)光源照明プロフィルを修正し、修正された光源照明プロフィルに基づいてコスト測定基準を再評価する段階と、(e)コスト測定基準が最小限に抑えられるまで段階(d)を繰り返す段階とを含む方法。最小限に抑えられたコスト測定基準に対応する光源照明プロフィルは、結像デバイスの最適な照明を表す。
【選択図】図5
Description
a)プログラム可能なミラー・アレイ。そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射表面を有するマトリクス・アドレス可能な表面である。そのような装置の背景にある基本原理は、(たとえば)反射表面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射し、一方、アドレスされない領域が入射光を非回折光として反射することである。適切なフィルタを使用して、前記非回折光を反射されたビームから逃がし、回折光だけ残すことができ、このようにして、マトリクス・アドレス可能な表面のアドレッシング・パターンに従って、ビームがパターン付けされる。必要とされるマトリクス・アドレッシングは、適切な電子手段を使用して実行することができる。そのようなミラー・アレイに関するさらなる情報は、たとえば、米国特許第5,296,891号および米国特許第5,523,193号から収集することができ、これらを参照により本明細書に援用する。
b)プログラム可能なLCDアレイ。そのような構造の一例は、米国特許第5,229,872号にあり、これを参照により本明細書に援用する。
と表すことができ、上式で、下付き文字nは、結像ひとみによって収集された全次数の有限集合を指し、asnは、複素変調係数(回折の大きさ)の集合を指す。以下では、下付き文字sを省略し、光源点sから生ずる干渉照明からの部分的な寄与率を暗黙に仮定する。
に対する収差の作用を最小限に抑えることが望ましい。この場合、係数a’(r)は、[−1,+1]の全範囲を仮定する。上記の仮定の下で、収差フィールドによって導入される合計像強度への連接寄与率Isに対する歪みは、
− 放射線の投影ビームPBを供給するための放射システムEx、IL。この特定の場合では、放射線源LAをも備える。
− マスクMA(たとえば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダを備え、投影システムPLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1の物体テーブル(マスク・テーブル)MT。
− 基板W(たとえば、レジスト被覆済みシリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダを備え、投影システムPLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2の物体テーブル(基板テーブル)WT。
− マスクMAの照射部分を基板Wの(たとえば、1つまたは複数のダイを備える)標的部分C上に結像するための投影系(レンズ)PL(たとえば、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系)。
− ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTが本質的に静止したままであり、マスク・イメージ全体が標的部分C上に一度に(すなわち、1回の「フラッシュ」)投影される。次いで、基板テーブルWTがxおよび/またはy方向でシフトされ、その結果、異なる標的部分CをビームPBによって照射することができる。
− 走査モードでは、本質的に同じ状況が当てはまるが、所与の標的部分Cが1回の「フラッシュ」で露光されない。その代わりに、マスク・テーブルMTは、所与の方向(いわゆる「走査方向」、たとえばy方向)に速さvで移動可能であり、その結果、投影ビームPBはマスク・イメージ全体にわたって走査させられ、それと共に、基板テーブルWTが、同方向または反対方向に速さV=Mvで同時に移動する。この式でMは、レンズPLの倍率である(一般に、M=1/4または1/5)。このようにして、解像度を損なうことなく、比較的大きな標的部分Cを露光することができる。
C 標的部分
CO コンデンサ
Ex 放射システム(ビーム・エキスパンダ)
IF 干渉測定手段
IL 放射システム(照明システム)
IN インテグレータ
LA 放射線源LA
MA マスク
MT 第1の物体テーブル(マスク・テーブル)
PB 投影ビーム
PL 投影系
W 基板
WT 第2の物体テーブル(基板テーブル)
10 結像系
12 照明源
14 マスク
16 ひとみ
18 投影レンズ
20 基板
199 フィーチャ
201 単位セル
301 回折次数
302 回折パターン
304 投影レンズ
305 イルミネータ・プロフィル
Claims (12)
- レンズ収差を補償する方法であって、
(a)結像系の結像性能を定量化し、前記結像性能に対するレンズ収差の作用を反映するコスト測定基準を定義する段階と、
(b)光源照明プロフィルを定義する段階と、
(c)前記光源照明プロフィルに基づいて前記コスト測定基準を評価する段階と、
(d)前記光源照明プロフィルを修正し、前記修正された光源照明プロフィルに基づいて前記コスト測定基準を再評価する段階と、
(e)前記コスト測定基準が最小限に抑えられるまで段階(d)を繰り返す段階とを含む方法。 - 前記コスト測定基準を評価した結果が、前記結像系の結像性能を表す単一の数値である、請求項1に記載のレンズ収差を補償する方法。
- 最小限に抑えられたコスト測定基準に対応する前記光源照明プロフィルを実施する回折光学要素を形成する段階をさらに含む、請求項1に記載のレンズ収差を補償する方法。
- 前記コスト測定基準がさらに、結像プロセスの露光ラチチュード性能を反映する、請求項1に記載のレンズ収差を補償する方法。
- レチクルを照明するための照明源と、前記レチクルによって回折された光を基板上に投影するための投影レンズとを有する結像系内のレンズ収差を補償する方法であって、
(a)前記結像系の結像性能を定量化し、前記結像性能に対する前記投影レンズのレンズ収差の作用を反映するコスト測定基準を定義する段階と、
(b)前記レチクル上に照明された光を画定する光源照明プロフィルを定義する段階と、
(c)前記光源照明プロフィルに基づいて前記コスト測定基準を評価する段階と、
(d)前記光源照明プロフィルを修正し、前記修正された光源照明プロフィルに基づいて前記コスト測定基準を再評価する段階と、
(e)前記コスト測定基準が最小限に抑えられるまで段階(d)を繰り返す段階と
(f)前記最小限に抑えられたコスト測定基準に対応する前記光源照明プロフィルを、前記レチクルを照明するためのプロフィルとして選択する段階とを含む方法。 - 前記コスト測定基準を評価した結果が、前記結像系の結像性能を表す単一の数値である、請求項5に記載の結像系内のレンズ収差を補償する方法。
- 前記コスト測定基準がさらに、結像プロセスの露光ラチチュード性能を反映する、請求項5に記載の結像系内のレンズ収差を補償する方法。
- 結像系内で使用するための回折光学要素を設計する方法であって、
(a)結像系の結像性能を定量化し、前記結像性能に対するレンズ収差の作用を反映するコスト測定基準を定義する段階と、
(b)光源照明プロフィルを定義する段階と、
(c)前記光源照明プロフィルに基づいて前記コスト測定基準を評価する段階と、
(d)前記光源照明プロフィルを修正し、前記修正された光源照明プロフィルに基づいて前記コスト測定基準を再評価する段階と、
(e)前記コスト測定基準が最小限に抑えられるまで段階(d)を繰り返す段階と
(f)前記最小限に抑えられたコスト測定基準に対応する前記光源照明プロフィルを実施する前記回折光学要素を生成する段階とを含む方法。 - 前記コスト測定基準を評価した結果が、前記結像系の結像性能を表す単一の数値である、請求項8に記載の回折光学要素を設計する方法。
- コンピュータによって可読の記録媒体を備える、コンピュータを制御するためのコンピュータ・プログラム製品であって、結像系内で使用するための回折光学要素に対応するファイルを生成するように前記コンピュータに指示するための手段が前記記録媒体上に記録され、前記ファイルを生成することが、
(a)結像系の結像性能を定量化し、前記結像性能に対するレンズ収差の作用を反映するコスト測定基準を定義する段階と、
(b)光源照明プロフィルを定義する段階と、
(c)前記光源照明プロフィルに基づいて前記コスト測定基準を評価する段階と、
(d)前記光源照明プロフィルを修正し、前記修正された光源照明プロフィルに基づいて前記コスト測定基準を再評価する段階と、
(e)前記コスト測定基準が最小限に抑えられるまで段階(d)を繰り返す段階と
(f)前記最小限に抑えられたコスト測定基準に対応する前記光源照明プロフィルを実施する前記回折光学要素を定義する段階とを含む、コンピュータ・プログラム製品。 - 前記コスト測定基準が、結像プロセスの焦点深度性能を含む、請求項1に記載のレンズ収差を補償する方法。
- 前記コスト測定基準が、結像プロセスの焦点深度性能を含む、請求項5に記載の結像系内のレンズ収差を補償する方法。
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