JP2004282061A - リニアモータ駆動ステージ、それを用いた液晶用装置及び半導体用装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 構造部材と非焼成セラミックスとからなる複合部材を用いて形成されたベースと、ベース上に載置されたリニアモータとを具備するリニアモータ駆動ステージであって、前記リニアモータの可動子は1200mm以上の長いストロークを有するリニアモータ駆動ステージ、それを用いた液晶用装置及び半導体用装置。
【選択図】 図1
Description
例えばガラス基板に対する種々の検査ではガラス基板の全面を画像処理する検査が行なわれている。この検査用装置の駆動ステージとして、例えばカメラ等センシング機器の移動用やガラス基板の移動用等に、従来はボールネジ駆動ステージが採用されていた。最近では高精度でかつ高速処理に対応できる点からリニアモータ駆動ステージが多用されてきている。
また前記装置は通常クリーンルーム内で使用されるが、前記装置の大型化による質量増加が顕著になるとクリーンルームに敷設された床パネルの許容荷重を超えてしまい、クリーンルームに設置できないという問題を招来する。
このように、前記装置用リニアモータ駆動ステージとして高速、高精度、大推力及び長ストローク型のものが望まれている。更には高速、高精度、大推力及び長ストローク型でかつ長ストローク化による質量増加を抑制したものが望まれている。
特許文献2に記載のステージ部材は金属−セラミックス複合材料を構成するセラミックスが成形体を1000℃で加熱することにより得られたプリフォーム(焼成セラミックス)である点で本発明に使用する上記複合部材とは異なるものである。
特許文献3に記載のXYテーブル付き加工機は下軸用ベースに石材を採用している点で本発明とは異なる。
特許文献4に記載のステージ装置はベースが焼成セラミックス製である点で本発明とは異なる。
特許文献5に記載の「XY十字組駆動型のリニアモータ駆動ステージ」は長ストローク化による質量増加が顕著であり用途が制限されてしまう。例えばこのXY十字組駆動型のリニアモータ駆動ステージ100(図7参照)のYリニアモータ107Y上にガラス基板(図示省略)を載置し、前記ステージ100の中心位置の上方にこのステージ100とは別体の光学機器(図示省略)を配設したガラス基板検査装置について以下に説明する。Yリニアモータ107Y上に載置されたガラス基板1枚(図示省略)を全面検査するために、前記光学機器(図示省略)に対向する前記ガラス基板位置(図示省略)を中心にして、Yリニアモータモータ107Y上に載置したガラス基板(図示省略)の4枚分に相当するX方向及びY方向(十字方向)への走査が必要である。この十字走査を行う必要からステージ100のX方向の長さ寸法(L)及びY方向の幅寸法(W)が共に大きくなり大型化及び大質量化を避けられない。即ちこのステージ100のWとLとの比(W/L)は1.0以上になり、Xリニアモータ107Xを長ストロークにするとYリニアモータ107Yを不可避に長ストロークにせざるを得ない。更にYリニアモータ107Yの質量分がXリニアモータ107Xに負荷されるのでX軸リニアモータ107Xの大容量化及び消費電力の増大化(コスト上昇)を招いてしまう。
前記ベースを前記複合部材を用いて形成したことにより、該ベースの初期設定寸法(最大撓み量等)の経時変化が抑制され、もって長期の使用にわたり高速、高精度及び大推力が保持され、かつ2000mm以上、より好ましくは2500mm以上、特に好ましくは3000mm以上の長いストロークを駆動できるリニアモータ駆動ステージを提供することができた。
前記ベースを形成するに際し、少なくとも前記複合部材を前記可動子の走行方向に沿って配設することにより、該ベースは高剛性及び高制振性(高振動減衰性)を持つと共に、長ストローク化に伴う質量増加が抑制された構造部材になる。
本発明のリニアモータ駆動ステージは、液晶用装置または半導体用装置に極めて有用である。
前記下軸ベースを前記複合部材を用いて形成したことにより、該下軸ベースの初期設定寸法(最大撓み量等)の経時変化が抑制され、もって長期の使用にわたり高速、高精度及び大推力が保持され、かつ2000mm以上、より好ましくは2500mm以上、特に好ましくは3000mm以上の長いストロークを駆動できるリニアモータ駆動ステージを提供することができた。
前記下軸ベースを形成するに際し、少なくとも前記複合部材を前記下軸リニアモータの可動子の走行方向に沿って配設することにより、該ベースは高剛性及び高制振性(高振動減衰性)を持つと共に、長ストローク化に伴う質量増加が抑制された構造部材になる。
また前記下軸リニアモータの可動子と前記上軸リニアモータの可動子とが立体交差して分離駆動する構成を採用したので 前記下軸ベースは幅寸法(W)と長さ寸法(L)との比(W/L)を0.9以下、好ましくは0.5〜0.8に、更に好ましくは0.5〜0.7に低減することができる。具体的には例えば第5世代〜第7世代のガラス基板を対象にした本発明の液晶用装置に搭載される前記分離駆動型のリニアモータ駆動ステージの幅寸法(W)は3000mm以下、好ましくは2900mm以下になり、長ストローク化に伴う質量増加を抑制できる。
前記支柱及び/または前記上軸ベースを前記複合部材で形成すると、下軸リニアモータの可動子と上軸リニアモータの可動子との間の初期設定寸法(平行度及び直交度等)及び/または上軸ベースの初期設定寸法(最大撓み量等)の経時変化を抑制することができる。
前記支柱及び/または前記上軸ベースを石材で形成すると、前記複合部材を使用した場合とほぼ同様に初期設定寸法が安定化する効果を得られる。
本発明のリニアモータ駆動ステージは、第5世代以降の大型ガラス基板を対象にした装置に有用であり、特に液晶用装置または半導体用装置に極めて有用である。
また前記分離駆動型のリニアモータ駆動ステージにおいて、上軸リニアモータは少なくとも2列のリニアモータが平行に配設されていると共に、前記2列のリニアモータの両駆動軸間に位置検出手段を配設するのが実用的である。
初期設定寸法とは複合部材及び石材等の機械加工直後の寸法であり、事実上本発明のリニアモータ駆動ステージを組立てた直後の組立体各部の寸法に相当する。初期設定寸法のうち、ベースの最大撓み量、下軸及び上軸リニアモータの可動子間の平行度及び直交度が重要である。例えば、前記ベースの最大撓み量は50μm以下、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下にする必要がある。下軸及び上軸リニアモータの可動子間の平行度及び直交度はいずれも50μm以下、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下にする必要がある。
前記分離駆動型リニアモータ駆動ステージを機械加工するに際し、前記下軸ベースにおける下軸リニアモータガイドを設けるための凸部上面と前記支柱の上面とを同一工程で同時に機械加工(平面研削等)する方法を採用するのが好ましい。この加工方法により、両加工面同志の平行度を20μm以下、好ましくは15μmに低減することができる。もって、前記分離駆動型リニアモータ駆動ステージの平行度及び直交度(初期設定寸法)を前記特定範囲内に調整することができる。
本発明のリニアモータ駆動ステージを組立てた直後の初期設定寸法(最大撓み量、平行度、直交度等)が良好であっても、該リニアモータ駆動ステージを構成する部品(ベース、支柱等)の含有水分が経時変動するとき、これら部品の初期設定寸法が経時変動して該リニアモータ駆動ステージの高精度仕様を維持できなくなる。
通常リニアモータ駆動ステージを搭載した装置は恒温恒湿条件(クリーンルーム内の室温、低湿度条件)に保持された状態で使用される。このため、予め本発明に用いる複合部材及び石材等の含有水分を極力低減し、寸法安定性を確保しておくのが好ましい。例えば下記の熱処理(寸法安定化処理)を施すのが実用的である。この熱処理条件は特に限定されないが、例えば大気開放型のヒートプレートまたはトンネル炉を使用し、本発明に用いる複合部材及び石材等を50〜200℃、好ましくは60〜120℃、更に好ましくは70〜100℃で0.5〜10時間加熱保持し、以後自然冷却する熱処理条件が有効である。前記加熱条件未満では含有水分の低減効果が事実上得られず、前記加熱条件を超えると酸化や加熱による材質劣化を招く。前記複合部材及び石材以外の他の構造部材も前記熱処理を施すのが好ましい。熱処理後の複合部材及び石材等は本発明のリニアモータ駆動ステージが搭載される装置と同様の恒温恒湿条件で保管し、組立作業に供するのが好ましい。
本発明に使用する非焼成セラミックスとは、焼成することなく化学結合によって形成されるセラミックス系の複合材料で、石灰(CaO)・シリカ(SiO2)・アルミナ(Al2O3)・酸化鉄(Fe2O3)と無水硫酸(SO2)を主成分とするポルトランドセメント粒子と微粒子のシリカ系酸化物と水との化学反応による生成物を結合材としてフィラーを包み込んだ複合体材料(この複合体材料を後述の実施例等ではNFCと記す場合がある。)をいう。この複合体材料は圧縮強度、引張強度及び曲げ強度は普通コンクリート対比で約2倍以上、吸水率は約1/4、縦弾性係数は約1.5倍である。特に吸水率が低く寸法安定性が良好であるという特徴を有する。また振動減衰率は鋳鉄対比で約6〜8倍であり、中空部材等への充填性は良好である。
なお、本発明のリニアモータ駆動ステージの要求仕様が比較的ゆるい場合は、前記複合部材の非焼成セラミックス用に汎用(普通コンクリート用)の水硬性セメント(ポルトランドセメント、シリカセメントまたはアルミナセメント等)あるいは気硬性セメント(キーンスセメントまたはマグネシアセメント等)を用いてもよい。しかし、この普通コンクリートを用いた複合部材は吸水率が高いので、前記熱処理を施した後、リニアモータ駆動ステージを組立し、製作したリニアモータ駆動ステージを各種装置に搭載し駆動する、全工程にわたり恒温恒湿条件に厳密に保持する煩雑さを伴う。
例えば中空部材として断面が角型パイプ状の鋼管(STKR490製等)を所定長さに切断後、洗浄し、乾燥する。次にこの角型パイプ状鋼管片を非焼成セラミックス打ち込み用型にセット後、予め混練しておいた非焼成セラミックス用原料スラリーを型にセットされた角型パイプ状鋼管片の中空部に充填する。この中空部への充填が密に行われるように充填時に振動ミルによる振動(振幅:3mm,回転数:3000r.p.m.程度)を5〜10分間程度加える。次に充填部分の表面仕上げを行う。次に蒸気養生処理(蒸気をあてながら20℃から80℃まで20℃/時間の昇温速度で加熱し、更に80℃で数時間保持後自然冷却することにより硬化させる処理)を行う。次に室温で自然養生(2日間程度放置)後、初期寸法精度を出すための仕上げ処理(後加工等)及び寸法安定化のための熱処理を施して本発明に使用する複合部材を得られる。
前記中空部材の形状は特に限定されず、例えば断面が丸型パイプ状、台形状または不定形状でもよい。
空隙を有する組立体を使用した複合部材は以下のようにして製造することができる。例えば所定寸法の鋼材片を組み合わせて溶接することにより空隙を有する組立体を形成する。次にこの組立体を洗浄し、乾燥する。次に前記組立体を非焼成セラミックス打ち込み用型にセット後、予め混練しておいた非焼成セラミックス用原料スラリーを前記組立体の空隙に充填する。以降は前記複合部材の場合と同様にして板状の構造部材を使用した複合部材を製造できる。
本発明の液晶用検査装置は、異物検査装置、アレイ検査装置、カラーフィルター検査装置、点灯検査装置及びプローバ等に有用である。
図1は本発明のリニアモータ駆動ステージ(X−Y直交駆動型)を搭載した第5世代ガラス基板の外観検査装置の一実施形態を示す斜視図である。図2は下軸ベース2の構造を示す図であり、(a)は台板5を外して上から見たときの平面図、(b)は図1のA方向から見たときの下軸ベース2及び支柱3の構造を説明する図である。
図1において、下軸(X軸)リニアモータ駆動ステージ1はX軸方向の長さ:L=3200mm、Y軸方向の幅:W=2000mmの下軸ベース2と下軸ベース2上に載置された下軸リニアモータ8(可動コイル型リニアモータ)とを有して構成されている。下軸リニアモータ8のX軸テーブル(可動子)9はガラス基板(図示せず)を載置してX方向に最大1700mm走行できるストロークを有する。下軸リニアモータ8の走行路に沿って設けられたケーブルベアボックス27(例えばAl合金製)には図示省略のケーブル(信号線、電力線及び冷却用配管等)を収納した可撓性のキャタピラ型ケーブルベア28が付設されている。
上軸用ベース12,12はいずれも花崗岩製で研磨加工により表面が仕上げてあり、Y軸方向の幅は2000mmである。ベース12の溝35に上軸リニアモータ13(可動コイル型リニアモータ)の固定子が載置されている。立設する支柱3の底面3bとベース2の上面とは図示省略のボルトを介して螺着されている。支柱3の上面3aが当接するベース12の下面と、上軸リニアモータ13が載置されるベース12の上面との平行度は5μmになっている。支柱3,3上にそれぞれ載置された上軸リニアモータ13,13はY軸に平行に配設されている。上軸リニアモータ13,13のリニアモータガイド(図示省略)を介してY軸テーブル(可動子)14がY軸方向に移動自在に架設されている。Y軸テーブル14の開口部に設置された画像検出器(光学機器)15はY軸方向に1300mm走行できるストロークを有する。X軸ステージ1及びY軸ステージ11の各テーブル9,14を所定動作モードで移動させることによりガラス基板(図示省略)の全面を撮像し、得られた画像を処理することにより高速、高精度で外観検査を行うようになっている。
本発明のリニアモータ駆動ステージ50を搭載した外観検査装置60は、X軸テーブル9にガラス基板(図示省略)を載置して所定動作モードでX方向に移動せしめ、かつY軸テーブル14の画像検出器15を所定動作モードでY方向に移動せしめるという、2つの可動子が立体交差する上下分離駆動型なので、リニアモータ駆動ステージ50の幅寸法(W)と長さ寸法(L)との比(W/L)を0.6程度に抑制し、かつ長ストローク型で大推力のものになっている。高い検査精度を維持するために、使用期間の長期にわたり、X軸及びY軸の可動子間の平行度及び直交度は厳しく維持されている。例えばガラス基板の撮像走行範囲をX軸方向:1350mm×Y軸方向:1250mmの範囲としたとき、X軸及びY軸の可動子間の平行度及び直交度はいずれも50μm以下になっており、好ましくは30μm以下に、特に好ましくは20μm以下に維持される。またベース2の最大撓み量は50μm以下になっており、好ましくは30μm以下に、特に好ましくは20μm以下に維持される。
図2(a)、(b)において、ベース2は、複合部材20a,20b,20c,21a,21b,21c及び21dを日の字状に配設すると共に断面が角型パイプ状の中空鋼管片23a,23b,23c及び23d(いずれもSTKR490製等)をY軸方向に配設して構成した基台4と、基台4上に敷設された台板5(例えば鋼製)と、基台4と螺着されていると共にY軸ステージ11を載置するために設けた4本の支柱3(複合部材25a,25b製)とを有して構成されている。6は構造部材製の据付け板(例えば鋼製)である。
図2(a)の複合部材20aのB−B線矢視断面図を図3に示す。図3より、複合部材20aは、断面が角型パイプ状の中空鋼管片31(STKR490製等)と、その中空部に非焼成セラミックスのバルク体32を密に充填してなる構造体である。このため、複合部材20aは比較的軽量であり、剛性が高く、かつ良好な制振性を示す。図1、2における20a以外の他の複合部材も同様の構造体である。このような構造を採用したことにより、下軸リニアモータの可動子9の走行路に沿って下軸ベース2の側面に設けたエンコーダのスケール及び該スケールの読取部(いずれも図示省略)の振動が抑制されて高速、高精度のリニアモータ駆動が可能になった。
1つめの方法は、図2の複合部材の配設箇所に予め所定長さの角型パイプ状鋼管片を配設後、相互に溶接して一体化しておく。次に一体化した前記角型パイプ状鋼管片の組立体に適宜充填用開口部(図示省略)を設け、該開口部から非焼成セラミックスの原料スラリーを充填し、表面仕上げ、充填物の硬化処理、自然養生、仕上げ処理及び寸法安定化処理を行うことにより図2の基台4を形成することができる。
2つめの方法は、予め所定長さの角型パイプ状鋼管片に非焼成セラミックスの原料スラリーを充填し、表面仕上げ、充填物の硬化処理、自然養生、仕上げ処理及び寸法安定化処理を行い、得られた複合部材を図2の状態に配置して螺着または溶接等により一体化して基台4を形成することができる。
下軸ベース2、支柱3及び上軸ベース12の材質を表1のように変更した以外は上記と同様にして図1のリニアモータ駆動ステージ50を構成した。なお、該リニアモータ駆動ステージの初期設定寸法の長期安定性を出すために、該リニアモータ駆動ステージの組立作業の直前に使用する複合部材及び石材を大気中で80℃×5時間加熱後自然冷却する熱処理を施した。表1において、NFC充填鋼材とは、上記の非焼成セラミックス(前田製管(株)製、商品名:NFセラミックス)を角型パイプ状の鋼管片(STKR490製)の中空部に密に充填し、表面仕上げ、充填物の硬化処理、自然養生、仕上げ処理及び前記熱処理を施した複合部材をいう。熱処理後の複合部材及び石材の保管、組立作業、及び組立てられたリニアモータ駆動ステージの連続駆動試験はいずれも室温低湿度の恒温恒湿条件に保持されたクリーンルーム内で行った。連続駆動試験は、ガラス基板の検査を想定した動作モードで6ケ月間連続駆動後、下軸ベースの最大撓み量、下軸及び上軸リニアモータの可動子間の平行度と直交度及びリニアモータ性能の変動について測定する内容とした。得られた測定結果のうち、前記寸法の変動状況についての測定結果を表1に示す。
(実施例5)
使用する複合部材に対して大気中で80℃×3時間の熱処理を行わなかった。これ以外は実施例3と同様にしてリニアモータ駆動ステージを製作し、連続6ケ月間駆動する試験を行った。試験結果を表1に示す。
(実施例6)
使用する複合部材及び石材に対して大気中で80℃×3時間の熱処理を行わなかった。これ以外は実施例4と同様にしてリニアモータ駆動ステージを製作し、連続6ケ月間駆動する試験を行った。試験結果を表1に示す。
下軸ベース、支柱及び上軸ベースを鋳鉄製とした以外は実施例1と同様にしてリニアモータ駆動ステージを製作し、連続6ケ月間駆動する試験を行った。試験結果を表1に示す。
下軸ベース、支柱及び上軸ベースを花崗岩製とした以外は実施例1と同様にしてリニアモータ駆動ステージを製作し、連続6ケ月間駆動する試験を行った。試験結果を表1に示す。
これに対し、実施例5、6では実施例1〜4に比べて寸法安定性がやや劣化したが、これは寸法安定化のための熱処理を施さなかったのが効いている。なお、実施例5、6の場合、6ケ月間連続駆動後のリニアモータ性能は実用上支障が無いレベルに維持されていた。
従来例1の場合は、最大撓み量、平行度及び直交度がいずれも50μm超になり、同時に位置決め精度が悪化したので実用に供することができなくなった。
従来例2の場合は、実施例1〜4と同等の寸法安定性が得られたが、下軸ベースの質量が実施例1〜6に比べて大きくなっており、長ストローク化に伴う質量抑制の点から上記実施例より劣るのがわかる。
上記の実施例1〜4の最大撓み量、平行度及び直交度はいずれも組み込み直後の初期設定寸法値とほぼ同等の良好なレベルに保持されており、もって高速、高精度、大推力及び長ストローク型でかつ長ストローク化による質量増加を抑制したものであるのがわかる。
前記絶対位置決め精度とは単に位置決め精度とも呼ばれるパラメータである。具体的には、図8に説明する通り、まず本発明のリニアモータ駆動ステージの可動子の走行路において、一定の向きで適当な位置決めをし、これを基準位置とする。次に同走行路において同じ向きで順次位置決めを行い、それぞれの位置で基準位置から実際に移動した距離と移動すべき距離との差を測定し、それらの基準長さ内における最大差を求める。この測定は可動子の全ストロークにわたり行う。これらの求めた最大差のうち、最大値を絶対位置決め精度と定義した。
前記繰返し位置決め精度について以下に説明する。具体的には、図9に説明する通り、まず本発明のリニアモータ駆動ステージの可動子の走行路において、任意の1点に同じ方向から位置決めを7回繰返して停止位置を測定し、読みの最大値の1/2を求める。この測定を原則として走行路の中央及びほぼ両端の位置で行い、求めた値のうちの最大値を繰返し位置決め精度と定義した。
図4(a)はNFC充填鋼材41a,41b,41cをX軸に沿って配設すると共に、中空鋼管片(STKR490製等)42a,42b,42c及び42dをそれらNFC充填鋼材間に配設した場合である。
図4(b)はNFC充填鋼材46a,46b,46c及び46dにより枠を形成すると共に、その枠内に十字状にNFC充填鋼材46e,46f及び46gを配設した場合である。
図4(c)はNFC充填鋼材51a,51b,51c及び51dにより枠を形成した場合である。
図4(d)はNFC充填鋼材56a,56b,56c及び56dにより枠を形成すると共に、その枠内に十字状に配設されたNFC充填鋼材56eと,NFC充填鋼材56f,56gとが立体交差して配設された場合である。前記立体交差部分は溶接してもよい。
これら図4の構成の基台4を用いて本発明のリニアモータ駆動ステージを製作すれば、上記実施例とほぼ同様の効果を奏することができる。
図5(a)は、図1に示される下軸ベース2として、その(L)×(W)の全面積相当が台板61,63の間にNFC充填硬化層62をサンドイッチして形成された場合である。64は据付け板(鋼製)である。台板63は省略してもよい。
図5(b)は、台板65の下側に、NFC充填硬化層66と台板67と据付け板68とからなる構造体の一対をX軸方向に長さ(L)延設して形成された下軸ベースの場合である。68は据付け板(鋼製)である。この構造にすると図5(a)より軽量化できるという利点がある。台板67は省略してもよい。
図5(c)は、図1に示される下軸ベース2として、その(L)×(W)の全面積相当が台板71,73及び75の間にNFC充填硬化層72,74をサンドイッチして形成された場合である。76は据付け板(鋼製)である。台板75は省略してもよい。
図5(d)は、台板77の下側に、NFC充填硬化層78と台板79と据付け板80とからなると共にX軸方向に長さ(L)延設して形成された3つの構造体をそれぞれY軸方向の左端位置、中央位置及び右端位置に配設した場合である。80は据付け板(鋼製)である。この構造にすると図5(c)より軽量化できるという利点がある。台板79は省略してもよい。
これら図5の構成の下軸ベース2を用いて本発明のリニアモータ駆動ステージを製作すれば、上記実施例とほぼ同様の効果を奏することができる。
図6(a)は日の字状に形成した鋼材片の組立体の間隙にNFC82,83を充填した場合である。
図6(b)は田の字状に形成した鋼材片の組立体の間隙にNFC87,88,89,及び90を充填した場合である。
図6(c)はロの字状に形成した鋼材片の組立体の間隙にNFC92を充填した場合である。
これら図6の構成の基台4を用いて本発明のリニアモータ駆動ステージを製作すれば、上記実施例とほぼ同様の効果を奏することができる。
上記実施の形態及び実施例では下軸リニアモータが1軸で、上軸リニアモータが2軸の場合を記載したが特に限定されない。例えば下軸リニアモータが2軸であり、上軸リニアモータが1軸または2軸でもよい。また下軸リニアモータが3軸以上でもよい。更には上軸リニアモータが3軸以上でもよい。
また上記実施の形態及び実施例ではガラス基板の検査装置の例を記載したが特に限定されない。例えば、露光装置用ステージまたはレジスト塗布用ステージなどにも有用である。
また上記実施の形態及び実施例では下軸及び上軸リニアモータがいずれも可動コイル型リニアモータの場合を記載したが特に限定されない。例えば、下軸及び上軸リニアモータがいずれも可動磁石型リニアモータの場合でもよい。あるいは下軸リニアモータ及び上軸リニアモータの一方が可動コイル型リニアモータであり他方が可動磁石型リニアモータの場合でもよい。
また上記実施の形態、実施例及び図面により本発明に使用する複合部材を例示したが特に限定されない。例えば前後左右の四方に構造部材製の枠を形成すると共に、それら枠の上面及び下面が前記四方の枠に連設する構造部材製のリブで形成された、空隙を有する組立体に、NFCを充填して構成した複合部材は有用である。
2:X軸ベース、
3:支柱、
3a:支柱上部、
3b:支柱底部、
4:基台、
5,61,63,65,67,71,73,75,77、79:台板、
6、64,68,76,80:据付け板、
7:X軸リニアモータガイド用凸部、
8:X軸リニアモータ、
9:X軸テーブル、
11:Y軸ステージ、
12:Y軸ベース、
13:Y軸リニアモータ、
14:Y軸テーブル、
15:画像検出器(光学機器)、
17:リニアモータガイド、
20a,20b,20c,21a,21b,21c,21d,25a,25b,41a,41b,41c,46a,46b,46c,46d,46e,46f,46g,51a,51b,51c,51d,56a,56b,56c,56d,56e,56f、56g:複合部材、
23a,23b,23c,23d:中空部材、
27:ケーブルベアボックス、
28:ケーブルベア、
31,42a,42b,42c,42d:中空部材、
32,62,66,72,74,78,82,83,87,88,89,90,92:非焼成セラミックス、
35:溝、
50:リニアモータ駆動ステージ、
60:検査装置、
81a,81b,81c,81d,81e,81f,81g,86a,86b,86c,86d,86e,86f,91a,91b,91c,91d:鋼材。
Claims (12)
- 構造部材と非焼成セラミックスとからなる複合部材を用いて形成されたベースと、ベース上に載置されたリニアモータとを具備するリニアモータ駆動ステージであって、前記リニアモータの可動子は1200mm以上の長いストロークを有することを特徴とするリニアモータ駆動ステージ。
- 前記ベースは少なくとも前記複合部材を前記可動子の走行方向に沿って配設したものである請求項1に記載のリニアモータ駆動ステージ。
- 請求項1または2に記載のリニアモータ駆動ステージを用いたことを特徴とする液晶用装置。
- 請求項1または2に記載のリニアモータ駆動ステージを用いたことを特徴とする半導体用装置。
- 下軸ベースと下軸ベース上に載置された下軸リニアモータとを具備する下軸リニアモータ駆動ステージと、
下軸ベース上に立設された支柱と前記支柱上に載置された上軸ベースと上軸ベース上に載置された上軸リニアモータとを具備する上軸リニアモータ駆動ステージ、とを具備するリニアモータ駆動ステージであって、
下軸ベースは構造部材と非焼成セラミックスとからなる複合部材を用いて形成されていると共に、前記下軸リニアモータの可動子及び前記上軸リニアモータの可動子はいずれも1200mm以上の長いストロークを有することを特徴とするリニアモータ駆動ステージ。 - 前記下軸ベースは少なくとも前記複合部材を前記下軸リニアモータの可動子の走行方向に沿って配設したものであると共に、前記下軸リニアモータの可動子と前記上軸リニアモータの可動子とが立体交差して分離駆動されている請求項5に記載のリニアモータ駆動ステージ。
- 前記下軸ベースは幅寸法(W)と長さ寸法(L)との比(W/L)が0.9以下に形成されている請求項5または6に記載のリニアモータ駆動ステージ。
- 前記支柱及び/または前記上軸ベースは前記複合部材で形成されている請求項5乃至7のいずれかに記載のリニアモータ駆動ステージ。
- 前記支柱及び/または前記上軸ベースは石材で形成されている請求項5乃至7のいずれかに記載のリニアモータ駆動ステージ。
- 第5世代以降の大型ガラス基板を対象にした装置に用いられる請求項5乃至9のいずれかに記載のリニアモータ駆動ステージ。
- 請求項5乃至10のいずれかに記載のリニアモータ駆動ステージを用いたことを特徴とする液晶用装置。
- 請求項5乃至10のいずれかに記載のリニアモータ駆動ステージを用いたことを特徴とする半導体用装置。
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JP2004053574A JP2004282061A (ja) | 2003-02-27 | 2004-02-27 | リニアモータ駆動ステージ、それを用いた液晶用装置及び半導体用装置 |
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Cited By (2)
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JP2008140816A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 吸着板 |
JP2010515581A (ja) * | 2007-01-10 | 2010-05-13 | ヴィステック・リソグラフィー・インコーポレーテッド | 器具支持構造物 |
-
2004
- 2004-02-27 JP JP2004053574A patent/JP2004282061A/ja active Pending
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