JP2004273516A - 配線板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】絶縁基板の第1主面に第1導体膜を接着した状態で、前記絶縁基板及び前記第1導体膜を貫通する開口部を形成する工程と、前記開口部が形成された絶縁基板の第2主面に第2導体膜を接着する工程と、前記第2導体膜を接着する工程の後、前記絶縁基板の第1主面側の表面全面に導電膜を形成する工程と、前記開口部形成工程で形成した開口部のうち、あらかじめ定めた開口部をめっきレジストで覆うマスキング工程と、前記第1導体膜上及び前記絶縁基板の開口部内にめっきを形成する工程と、前記第1導体膜をパターニングして第1導体パターンを形成する工程と、前記第2導体膜をパターニングして第2導体パターンを形成する工程と、前記めっきレジストを除去して、前記めっきレジストで覆われていた領域の前記導電膜を除去する工程とを備える配線板の製造方法。
【選択図】 図3
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線板の製造方法に関し、特に、絶縁基板の両面に配線が設けられ、かつ、前記配線の一部が前記絶縁基板の開口部上を通る配線板に適用して有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、フィルム状の絶縁基板の表面に導体パターン(配線)が設けられた配線板には、前記絶縁基板の両面に導体パターンが設けられた両面配線板がある。このとき、前記絶縁基板の各面に設けられた導体パターンは、前記絶縁基板に設けられたビアホール(via hole)やスルーホールなどの開口部に沿って設けたビアやめっきスルーホール(PTH)により電気的に接続されている。
【0003】
また、前記両面配線板には、例えば、前記絶縁基板に、前記ビアホールやスルーホールとは別の開口部が設けられており、前記導体パターンの一部が、前記絶縁基板の開口部上を通っている配線板がある。以下、前記絶縁基板に設けられた開口部のうち、前記ビアや前記めっきスルーホールを設けるための開口部を第1開口部と称し、それ以外の開口部を第2開口部と称する。
【0004】
このとき、前記導体パターンのうち、前記絶縁基板の第2開口部上を通る部分は、例えば、前記配線板上に半導体チップを実装するときに、前記半導体チップの外部電極と電気的に接続される部分である。以下、前記導体パターンのうち、前記絶縁基板の開口部上を通っている部分を空中配線部と称する。
【0005】
前記空中配線部を有する両面配線板の製造方法には、前記絶縁基板の第1主面側の導体パターンを形成した後、レーザエッチングにより、前記絶縁基板に前記第2開口部を形成し、前記絶縁基板の前記第1主面の裏面(第2主面)の導体パターンを形成する方法がある(例えば、特許文献1を参照。)。
【0006】
前記特許文献1に記載された配線板の製造方法を簡単に説明すると、まず、ポリイミドテープなどの絶縁基板の両面に、銅箔などの導体膜を接着し、前記ビアやめっきスルーホールを形成して前記各導体膜を電気的に接続した後、前記導体膜の一方をパターニングして第1導体パターンを形成する。次に、前記第1導体パターンを形成した面から、例えば、炭酸ガスレーザを照射するレーザエッチングにより、前記絶縁基板に第2開口部(デバイスホール)を形成する。その後、もう一方の導体膜をパターニングして、前記空中配線部を有する第2導体パターンを形成する。
【0007】
前記絶縁基板の第2開口部(デバイスホール)の形成方法には、前記特許文献1に記載されたような、レーザエッチングで形成する方法の他に、例えば、アルカリ性の溶液を用いたアルカリエッチングで形成する方法もあるが、前記アルカリエッチングの場合、適用できる絶縁基板の種類や寸法に制限がある、前記開口部の寸法安定性が低くなる、形状精度が低くなる、用いられる溶液の毒性が高いといった問題がある。
【0008】
【特許文献1】
特開平10−12677号公報(第1図−第3図)
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来の技術では、例えば、前記レーザエッチングにより前記絶縁基板の第2開口部(デバイスホール)を形成することで、アルカリエッチングで形成する時に生じる問題を解決することができるが、前記デバイスホールのように、広い領域を開口する場合には加工時間が長くなるという問題があった。
【0010】
また、従来の配線板の製造方法の場合、加工時間が長くなる他、レーザ発振器の保守管理等のコストも高い。そのため、前記配線板の製造コストが上昇するという問題があった。
【0011】
本発明の目的は、空中配線部を有する両面配線板の製造方法において、製造にかかる時間を短縮することが可能な技術を提供することにある。
【0012】
本発明の他の目的は、空中配線部を有する両面配線板の製造方法において、製造時間を短縮するとともに製造コストを低減することが可能な技術を提供することにある。
【0013】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろう。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明の概要を説明すれば、以下の通りである。
【0015】
絶縁基板の第1主面に第1導体パターンを形成する工程と、前記絶縁基板の第1主面の裏面(以下、第2主面と称する)に、前記第1導体パターンと電気的に接続された第2導体パターンを形成する工程と、前記絶縁基板のあらかじめ定められた領域に開口部を形成する工程とを備え、前記第2導体パターン形成工程は、前記第2導体パターンの一部が前記絶縁基板に形成された開口部上を通るように形成する配線板の製造方法であって、絶縁基板の第1主面に第1導体膜を接着した状態で、前記絶縁基板及び前記第1導体膜を貫通する開口部を形成する工程と、前記開口部が形成された絶縁基板の第2主面に第2導体膜を接着する工程と、前記第2導体膜を接着する工程の後、前記絶縁基板の第1主面側の表面全面に導電膜を形成する工程と、前記開口部形成工程601で形成した開口部のうち、あらかじめ定めた開口部をめっきレジストで覆うマスキング工程と、前記第1導体膜上及び前記絶縁基板の開口部内にめっきを形成する工程と、前記第1導体膜をパターニングして第1導体パターンを形成する工程と、前記第2導体膜をパターニングして第2導体パターンを形成する工程と、前記めっきレジストを除去して、前記めっきレジストで覆われていた領域の前記導電膜を除去する工程とを備える配線板の製造方法である。
【0016】
前記手段によれば、例えば、ビアやめっきスルーホールといった層間接続用の導体を設ける開口部と、それ以外の、空中配線部を設けるための開口部を1つの工程で形成できる。そのため、前記配線板の製造にかかる時間を短縮することができる。
【0017】
また、前記開口部を形成する工程は、金型を用いた打ち抜き加工で行うことができるので、例えば、前記特許文献1に記載されたような配線板の製造方法に比べて、配線板の製造にかかるコストを低減することができる。また、従来の、例えば、アルカリエッチングで開口部を形成する方法に比べても、開口部の寸法安定性や、製造上の安全性が高い。
【0018】
また、前記導電膜を形成してから前記めっきレジストを形成し、めっきを行うことにより、前記めっきレジスト上に不要なめっきが形成されるのを防ぐことができる。そのため、前記めっきレジストの除去が容易であり、前記配線板を効率よく製造することができる。
【0019】
また、前記開口部のうち、あらかじめ定められた開口部、言い換えると、空中配線部を形成するための開口部をめっきレジストで覆った状態で前記第2導体パターンを形成することにより、前記第2導体パターンの前記絶縁基板との接着面側がエッチングされるのを防ぐことができる。また、前記めっきレジストで覆われていた領域の前記導電膜は、非常に薄い膜なので、除去するときに前記第2導体パターンはほとんど影響を受けない。
【0020】
また、前記導電膜を形成する工程は、例えば、DPS(Direct Plating System)や無電解めっきにより行う。
【0021】
以下、本発明について、図面を参照して実施の形態(実施例)とともに詳細に説明する。
【0022】
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【0023】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を説明する前に、まず、本発明に関わる配線板の概略構成について説明する。
【0024】
図1及び図2は、本発明に関わる配線板の概略構成を示す模式図であり、図1は空中配線部を有する配線板の一例を示す平面図、図2は図1のA−A’線での断面図である。
【0025】
本発明に関わる配線板は、例えば、図1及び図2に示すように、フィルム状の絶縁基板1の第1主面に第1導体パターン2が設けられ、前記絶縁基板1の第1主面の裏面(以下、第2主面と称する)に第2導体パターン3が設けられている。また、前記第1導体パターン2と前記第2導体パターン3は、例えば、図2に示したように、前記絶縁基板1に設けられた開口部(ブラインドビアホール)1Aに沿って設けられたビア2Vにより電気的に接続されている。
【0026】
また、前記絶縁基板1には、前記ビアホール1Aとは異なる開口部1B(デバイスホール)が設けられており、例えば、前記第2導体パターン3の一部3Aが、前記開口部1B上を通っている。以下、前記絶縁基板1に設けられた開口部のうち、前記ビアホール1Aを第1開口部と称し、前記空中配線部3Aが設けられた開口部1Bを第2開口部と称する。また、前記第2導体パターン3のうち、前記第2開口部1B上を通る部分3Aを空中配線部と称する。
【0027】
また、前記空中配線部3Aは、例えば、前記配線板に半導体チップを実装したときに、前記半導体チップの外部電極と電気的に接続される部分である。またこのとき、前記空中配線部3Aは、例えば、前記半導体チップの外部電極と接続するときに、前記絶縁基板1の第2開口部1B上で切断され、どちらか一方、あるいは両方が前記半導体チップの外部電極と接続される。
【0028】
また、前記第1導体パターン2及び第2導体パターン3上には、図2に示したように、ソルダレジストなどの保護膜4、あるいは金めっきや錫めっきなどの機能めっき5が設けられている。
【0029】
以下、図1及び図2に示した配線板を例に挙げ、その製造方法についての実施の形態を説明する。
【0030】
(実施形態)
図3乃至図7は、本発明による一実施形態の配線板の製造方法を説明するための模式図であり、図3は製造方法の手順を説明するためのフロー図、図4(a)は開口部を形成する工程の断面図、図4(b)は第2導体膜を貼り付ける工程の断面図、図5(a)は導電化処理を行う工程の断面図、図5(b)はめっきレジストを形成する工程の断面図、図6(a)はビアを形成する工程の断面図、図6(b)はパターニングを行う工程の断面図、図7(a)はめっきレジストを除去する工程の断面図、図7(b)は導電膜を除去する工程の断面図である。なお、図4(a)乃至図7(b)の各断面図は、図2に示した断面図と同じ断面を示しているものとする。
【0031】
本実施形態の配線板の製造方法は、図3に示すように、絶縁基板の第1主面に第1導体膜が接着された状態で、前記絶縁基板及び前記第1導体膜を貫通する開口部を形成する開口部形成工程601と、前記開口部形成工程601で開口部を形成した絶縁基板の第2主面に第2導体膜を貼り付ける導体膜貼付工程602と、前記絶縁基板の第1主面側の表面全面を導電化する導電化工程603と、前記開口部形成工程601で形成した開口部のうち、あらかじめ定めた開口部(第2開口部)をめっきレジストで覆うマスキング工程604と、前記第1導体膜上及び前記絶縁基板の開口部(第1開口部)内にめっきを形成するめっき工程605と、前記第1導体膜及び第2導体膜をパターニングして第1導体パターン及び第2導体パターンを形成するパターニング工程606と、前記めっきレジストを除去して、前記第2開口部の導電膜を除去する導電膜除去工程607と、保護膜及び機能めっきを形成する工程608とを有する。
【0032】
本実施形態の製造方法を用いて、図1及び図2に示したような配線板を製造するときには、まず、前記開口部形成工程601を行い、図4(a)に示すように、フィルム状の絶縁基板1の第1主面1Cのみに第1導体膜201を接着しておき、前記第1開口部1A及び第2開口部1Bを形成する。前記絶縁基板1には、例えば、厚さが50μm程度のポリイミドテープを用いる。また、前記第1導体膜201には、例えば、厚さが12μm程度の銅箔を用いる。またこのとき、図示は省略するが、前記絶縁基板1の第1主面1Cの裏面(第2主面)1Dには、例えば、硬化反応を中間段階まで進めた樹脂(Bステージ樹脂)を形成しておく。また、前記第1開口部1A及び第2開口部1Bは、例えば、金型を用いた打ち抜き加工で形成する。
【0033】
次に、前記導体膜貼付工程602工程を行い、図4(b)に示すように、前記絶縁基板1の第2主面1Dに第2導体膜301を接着する。前記第2導体膜301には、例えば、厚さが18μm程度の銅箔を用いる。
【0034】
次に、前記導電化工程603を行い、図5(a)に示すように、前記絶縁基板1の第1主面側の表面全面に薄い導電膜7を形成して導電化する。前記導電膜7は、例えば、DPS(Direct Plating System)あるいは無電解銅めっき等で形成する。このとき、前記導電膜7は、前記第1導体膜201の表面だけでなく、絶縁基板1の第1導体膜201側の全面に形成し、前記第1開口部1A及び第2開口部1Bの内部にも形成する。
【0035】
次に、前記マスキング工程604を行い、図5(b)に示すように、あらかじめ定められた開口部、例えば、前記第2開口部1Bを覆うめっきレジスト8を形成する。前記めっきレジスト8を覆う第2開口部1Bは、例えば、前記空中配線部3Aを設けるための開口部である。
【0036】
次に、前記めっき工程605を行い、図6(a)に示すように、前記導電膜7の露出面上にめっきをして、前記第1開口部1A内にビア2Vを形成する。前記ビア2Vは、例えば、電気銅めっきで形成する。またこのとき、前記第1導体膜201上にも、薄くめっきが積層される。そのため、前記絶縁基板1の第1主面上の導体膜は、前記第1導体膜201上にめっきが積層した積層導体膜202になる。
【0037】
次に、前記パターニング工程606を行い、図6(b)に示すように、前記第1導体膜201及び導電膜7、ならびにめっきからなる積層導体膜202上及び前記第2導体膜301上にエッチングレジスト9を形成し、前記積層導体膜202の不要な部分を除去して第1導体パターン2を形成するとともに、前記第2導体膜3の不要な部分を除去して第2導体パターン3を形成する。また、前記パターニング工程606は、図6(b)に示したように、前記めっきレジスト8が形成された状態で行い、前記第2導体膜3の、前記第2開口部1Bの底面に相当する部分のエッチングを防ぐ。
【0038】
また、前記第1導体パターン2と前記第2導体パターン3を形成する工程は、図6(b)に示したように、一度に行ってもよいし、それぞれを分けて行ってもよい。
【0039】
次に、前記エッチングレジスト9及び前記めっきレジスト8を除去すると、図7(a)に示すように、前記めっきレジスト8で覆われていた第2開口部1Aの表面に前記導電膜7が残っている。前記導電膜7が残っている状態は、前記空中配線部3Aと前記第1導体パターン2が短絡した状態であり、そのままでは回路としての機能を果たさない。そのため、導電膜除去工程607を行い、図7(b)に示すように、前記第2開口部1Bに残っていた導電膜7を除去する。
【0040】
その後、保護膜及び機能めっきを形成する工程608を行い、前記第1導体パターン2及び第2導体パターン3の表面に、ソルダレジストなどの保護膜4、及び金めっきや錫めっき等の機能めっき5を形成すると、図1及び図2に示したような配線板が得られる。
【0041】
以上説明したように、本実施形態の配線板の製造方法によれば、空中配線部3Aを設ける第2開口部1Bを、前記ビアやめっきスルーホールといった層間接続用の導体を設ける第1開口部1Aと一緒に、1つの工程で形成できる。そのため、前記配線板の製造にかかる時間を短縮することができる。
【0042】
また、前記第1開口部1A及び第2開口部1Bを形成する開口部形成工程601は、金型を用いた打ち抜き加工で行うことができるので、例えば、前記特許文献1に記載されたような配線板の製造方法に比べて、配線板の製造にかかるコストを低減することができる。また、従来の、例えば、アルカリエッチングで開口部を形成する方法に比べても、開口部の寸法安定性や、製造上の安全性が高い。
【0043】
以上のようなことから、本実施形態の配線板の製造方法を用いることにより、従来の配線板の製造方法と比べて、製造にかかる時間を短縮するとともに、前記配線板の製造コストを低減することができる。
【0044】
また、めっきレジスト8は一般に導電膜形成過程で剥離されやすい。前記導電膜7を形成してから前記めっきレジスト8を形成し、めっきを行うことにより、前記めっきレジスト8を形成した開口部1Bを確実にマスキングすることができる。また、めっきレジスト上にはめっきが形成されることなく、そのため、前記めっきレジスト8の除去が容易であり、前記配線板を効率よく製造することができる。
【0045】
また、前記空中配線部3Aを形成するための第2開口部1Bをめっきレジスト8で覆った状態で前記第2導体パターン3を形成することにより、前記第2導体パターン3の前記絶縁基板1との接着面側がエッチングされるのを防ぐことができる。また、前記めっきレジスト8で覆われていた領域の前記導電膜7は、非常に薄い膜なので、除去するときに前記第2導体パターン3はほとんど影響を受けない。
【0046】
図8は、前記実施形態の配線板の製造方法の応用例を説明するための模式断面図である。
【0047】
前記実施形態では、図1及び図2に示したような配線板の製造方法を例に挙げて説明したが、このとき、前記手順で配線板を製造した後、例えば、図8に示すように、半導体チップを実装する面に、前記半導体チップを接着するための接着材や、応力緩衝用の弾性体材料10を接着してもよい。
【0048】
以上、本発明を、前記実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることはもちろんである。
【0049】
例えば、前記実施形態では、図1及び図2に示したような配線板の製造方法を例に挙げて説明したが、これに限らず、前記空中配線部3Aを有する両面配線板に適用できることは言うまでもない。このとき、前記空中配線部3Aは、例えば、一端が前記第1開口部1A上にあってもよい。
【0050】
また、前記空中配線部3Aは、例えば、半導体チップの外部電極と接続する部分である必要はなく、例えば、高周波伝送路等で、絶縁基板の誘電率の影響を防ぐために形成した開口部上を通る配線であってもよい。
【0051】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下の通りである。
【0052】
(1)空中配線部を有する両面配線板の製造方法において、製造にかかる時間を短縮することができる。
【0053】
(2)空中配線部を有する両面配線板の製造方法において、製造時間を短縮するとともに製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に関わる配線板の概略構成を示す模式図であり、空中配線部を有する配線板の一例を示す平面図である。
【図2】本発明に関わる配線板の概略構成を示す模式図であり、図1のA−A’線での断面図である。
【図3】本発明による一実施形態の配線板の製造方法を説明するための模式図であり、製造方法の手順を説明するためのフロー図である。
【図4】本実施形態の配線板の製造方法を説明するための模式図であり、図4(a)は開口部を形成する工程の断面図、図4(b)は第2導体膜を貼り付ける工程の断面図である。
【図5】本実施形態の配線板の製造方法を説明するための模式図であり、図5(a)は導電化処理を行う工程の断面図、図5(b)はめっきレジストを形成する工程の断面図である。
【図6】本実施形態の配線板の製造方法を説明するための模式図であり、図6(a)はビアを形成する工程の断面図、図6(b)はパターニングを行う工程の断面図である。
【図7】本実施形態の配線板の製造方法を説明するための模式図であり、図7(a)はめっきレジストを除去する工程の断面図、図7(b)は導電膜を除去する工程の断面図である。
【図8】前記実施形態の配線板の製造方法の応用例を説明するための模式断面図である。
【符号の説明】
1 絶縁基板
1A ビアホール(第1開口部)
1B 第2開口部
1C 第1主面
1D 第2主面
2 第1導体パターン
201 第1導体膜
202 積層導体膜
2V ビア
3 第2導体パターン
301 第1導体膜
3A 空中配線部
4 保護膜
5 機能めっき
7 導電膜
8 めっきレジスト
9 エッチングレジスト
10 応力緩衝材料
Claims (3)
- 絶縁基板の第1主面に第1導体パターンを形成する工程と、前記絶縁基板の第1主面の裏面(以下、第2主面と称する)に、前記第1導体パターンと電気的に接続された第2導体パターンを形成する工程と、前記絶縁基板のあらかじめ定められた領域に開口部を形成する工程とを備え、前記第2導体パターン形成工程は、前記第2導体パターンの一部が前記絶縁基板に形成された開口部上を通るように形成する配線板の製造方法であって、
絶縁基板の第1主面に第1導体膜を接着した状態で、前記絶縁基板及び前記第1導体膜を貫通する開口部を形成する工程と、
前記開口部が形成された絶縁基板の第2主面に第2導体膜を接着する工程と、
前記第2導体膜を接着する工程の後、前記絶縁基板の第1主面側の表面全面に導電膜を形成する工程と、
前記開口部形成工程で形成した開口部のうち、あらかじめ定めた開口部をめっきレジストで覆うマスキング工程と、
前記第1導体膜上及び前記絶縁基板の開口部内にめっきを形成する工程と、
前記第1導体膜をパターニングして第1導体パターンを形成する工程と、
前記第2導体膜をパターニングして第2導体パターンを形成する工程と、
前記めっきレジストを除去して、前記めっきレジストで覆われていた領域の前記導電膜を除去する工程とを備えることを特徴とする配線板の製造方法。 - 前記マスキング工程は、前記導電膜を形成する工程の後に行うことを特徴とする請求項1に記載の配線板の製造方法。
- 前記開口部を形成する工程は、金型を用いた打ち抜き加工で行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の配線板の製造方法。
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