JP2004271886A - 反射型液晶表示素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マトリクス状に配置された複数の反射画素電極207および反射画素電極上に設けられた配向膜208を有するアクティブマトリクス基板ユニットと、透明電極210および該透明電極上に設けられた配向膜209を有し、アクティブマトリクス基板ユニットに対向する透明基板ユニット202と、アクティブマトリクス基板ユニットと透明基板ユニットとの間に挟まれた液晶層203と、アクティブマトリクス基板ユニットと対向基板ユニットとの間隔を保持する複数の支柱212とを有する。支柱の全本数をa、反射画素電極の直交する2方向での配置数をそれぞれb,cとしたとき、4<a<(b+1)×(c+1)/2なる条件を満たす。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、投射型画像表示装置等に用いられる反射型液晶表示素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
反射型液晶表示素子は、アクティブマトリクス基板ユニットと透明基板ユニットとの間に液晶層を挟み込んだ構成を有する。そして、この反射型液晶表示素子により、むらのない、コントラストの高い画像を表示するためには、両基板ユニット間のギャップ、つまりは液晶層の厚さを層平面内で均一に保つ必要がある。このため、両基板ユニットの電極上に設けた支柱により両基板ユニット間のギャップを保持するようにした反射型液晶表示素子が特許文献1等にて提案されている。
【0003】
ここで、上記液晶表示素子における構成を図26に示す。この図に示すように、透明絶縁性基板(例えば、ガラス基板)101の上には、透明導電性基板103(例えばITO,SnOx)と液晶層107を配向する配向膜105とが順次積層されている。また、対向側の透明電極104上にも配向膜106が一様に成膜されている。
【0004】
このとき、配向膜105,106の液晶層側の表面を綿布などで一定方向に擦るラビング処理により、液晶層107の液晶分子を所定の方向に配向させている。さらに、透明導電性基板103と透明電極104間には有機高分子からなる複数の支柱108が形成されており、これにより透明導電性基板103と透明電極104間のギャップ(液晶層107の厚さ)を層平面内で一定に保つことができる。
【0005】
【特許文献1】
特開平7−84267号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献1にて提案されている反射型液晶表示素子が持つ問題点について、図25を用いて説明する。
【0007】
図中25中、101,102は透明絶縁性基板、103は透明導電性基板、104は透明電極、105および106は配向膜、107は液晶層、108は支柱である。
【0008】
入射光301は、支柱108の周辺に入射し、また入射光302が透明導電性基板103で反射する際には、透明導電性基板103の矩形形状に起因して回折光が発生する。図では、回折光を303および304で表す。
【0009】
この反射型液晶表示素子では、配向膜105にラビング処理を施すことで液晶分子を所定の方向に配向させているが、液晶層107中に配置されている、支柱108の周辺ではラビング処理の行き届かない領域が発生するため、支柱108の近傍では、液晶分子の配向が所定の方向から乱れてしまう。このため、支柱108の周辺に入射する入射光301および回折光302,303の偏光状態が乱れ、黒表示時の漏れ光によるいわゆる黒浮き現象が生じ、これにより表示画像のコントラストの低下も発生する。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明の反射型液晶表示素子は、マトリクス状に配置された複数の反射画素電極、該各反射画素電極に電圧を印加する能動素子層および反射画素電極上に設けられた配向膜を有するアクティブマトリクス基板ユニットと、透明電極および該透明電極上に設けられた配向膜を有し、アクティブマトリクス基板ユニットに対向する透明基板ユニットと、アクティブマトリクス基板ユニットと前記透明基板ユニットとの間に挟まれた液晶層と、アクティブマトリクス基板ユニットと対向基板ユニットとの間隔を保持する複数の支柱とを有する。
【0011】
そして、支柱の全本数をa、反射画素電極の直交する2方向での配置数をそれぞれb,cとしたとき、
4<a<(b+1)×(c+1)/2 …(1)
の条件を満たす。
【0012】
【発明の実施の形態】
(実施形態1)
図1には、本発明の実施形態1である反射型液晶表示素子の構造を示す。図中、201はアクティブマトリックス基板ユニット、202は対向ガラス基板ユニットである。
【0013】
アクティブマトリックス基板ユニット201は、Si基板204上に順に形成された、能動素子層205と、能動素子層205により電圧が印加されるマトリクス状に配置された複数の反射画素電極207と、液晶層207を配向する配向膜208と、漏れ光を遮蔽する遮光層206とから構成されている。
【0014】
対向ガラス基板202は、ガラス基板211上(基板ユニット201に対向する面上)に順に形成された、透明電極210と、配光膜209とから構成されている。
【0015】
液晶層203は、アクティブマトリックス基板ユニット201と対向ガラス基板ユニット202との間に挟まれている。配向膜208,209の液晶層203側の表面は、綿布などで一定方向に擦られてラビング処理が施されており、これにより液晶層107の液晶分子が所定の方向に配向される。
【0016】
212は支柱であり、アクティブマトリックス基板ユニット201と対向ガラス基板ユニット202間のギャップ、つまりは液晶層203の厚みを層平面内で一定に保つため、両基板ユニット201,202間に配置されている。
【0017】
以上の反射型液晶表示素子の基本的構造は、以下の実施形態でも同様である。
【0018】
本実施形態における反射画素電極207の数(画素数)は 800×600(SVGA)である。
【0019】
次に、ガラス基板211側から見た支柱212の配置を図2を用いて説明する。図中のx方向およびy方向は反射画素電極207の配列方向を示し、213は隣接する反射画素電極間に形成されたギャップであり、以下、非表示部という。なお、図2では、一部分の反射画素電極207を図示している。
【0020】
支柱212の中心軸は、非表示部213に位置している。これにより、画素開口率の低下、すなわち反射光量の低下を抑え、反射型液晶表示素子の特徴であるシルキーな画像を得ることができる。
【0021】
本実施形態では、x方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は4、y方向に隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は4である。すなわち、支柱212を、非表示部213における各反射画素電極207の四隅に対応する箇所のすべてに配置するのではなく、間引いて配置している。
【0022】
このとき、支柱212の全本数aは30000(=800/4×600/4 )、反射画素電極207の横方向(x方向)での数bは800 、縦方向(y方向)での数cは600 である。
【0023】
このため、支柱212の数aは条件式(1)
4<a(=30000)<(b+1)×(c+1)/2(=240700.5)
を満たしている。
【0024】
また、条件式(1)の下限値は、支柱の本数が少ないことによりアクティブマトリクス基板ユニットと対向ガラス基板ユニットとを支える強度が弱くなり過ぎる場合も考えられる。このため、強度的に十分な支柱の本数を(b+1)×(c+1)/100以上にすることがより好ましい。
【0025】
また、支柱を条件式(1)の上限値よりも更に少ない本数である(b+1)×(c+1)/16以下とすることで、支柱周辺の領域におけるラビング処理の不良に起因する黒浮きをさらに低減し、かつ反射画素電極の矩形形状によって発生する回折光に起因する黒浮きもさらに更に低減することができる。これにより、条件式(1)を満足するだけの場合よりも、より高いコントラストの表示画像が得られる。
【0026】
すなわち、支柱の本数aを、
(b+1)×(c+1)/100<a<(b+1)×(c+1)/16…(2)
を満たすように設定するのが好ましい。
【0027】
本実施形態の場合、
(b+1)×(c+1)/100(=4814)<a(=30000)<(b+1)×(c+1)/16(=30087.6)
となり、条件式(2)も満たしている。
【0028】
なお、支柱212はポリイミドを主成分とした絶縁性材料の有機高分子により形成されている。支柱212が間引いて配置されることで、アクティブマトリックス基板ユニット201と対向ガラス基板ユニット202の変形が生じやすくなり、液晶層203の厚みが層平面内で不均一になることを防ぐため、支柱212の材質をポリイミドを主成分とした絶縁性有機高分子とすることで、支柱212の機械的強度を強くして、液晶層203の厚みを一定にすることができる。
【0029】
また、図3には、反射画素電極207の形状を詳しく示している。図3において、図2と同じ構成要素には同じ符号を付している。
【0030】
支柱212は、その中心軸が非表示部213の交点に位置しており、反射画素電極207は全て同一の矩形形状である。
【0031】
本実施形態によれば、支柱212を間引いて配置しているので、支柱212を非表示部213における各反射画素電極207の四隅に対応する箇所のすべてに配置する場合(以下、支柱212を全箇所配置する場合という)に比べて、ラビング処理が隅々まで行き届かない支柱212の近傍に存在する反射画素電極207の数を少なくすることができる。したがって、支柱212を全箇所配置する場合に比べて、黒浮きやコントラスト低下の程度を小さくすることができる。
【0032】
(実施形態2)
図4には、本発明の実施形態2である反射型液晶表示素子のガラス基板211側から見た支柱212の配置を示す。図中、実施形態1と同じ構成要素には同符号を付している。なお、図4では、一部分の反射画素電極207を図示している。
【0033】
本実施形態における反射画素電極207の数(画素数)は、800×600(SVGA)である。支柱212の中心軸は、非表示部213に位置している。
【0034】
x方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は8、y方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は8であり、実施形態1と比べてさらに多くの支柱212を間引いて配置している。
【0035】
このとき、支柱212の全本数aは7500(=800/8×600/8)、反射画素電極207の横方向(x方向)での数bは 800、縦方向(y方向)での数cは 600である。
【0036】
このため、支柱212の数aは条件式(1)
4<a(=7500)<(b+1)×(c+1)/2(=240700.5)
を満たしている。
【0037】
また、条件式(2)についても、
(b+1)×(c+1)/100(=4814)<a(=7500)<(b+1)×(c+1)/16(=30087.6)
となり、これを満たしている。
【0038】
なお、支柱212は、ポリイミドを主成分とした絶縁性材料の有機高分子により形成されている。
【0039】
また、図5に、反射画素電極207の形状を詳しく示す。図5において、図4と同じ構成要素には同じ符号を付している。
【0040】
支柱212は、その中心軸が非表示部213の交点に位置している。また、支柱212を取り囲む4個の反射画素電極207aは、支柱212に接しないように1つの隅部に切り欠きを設けた形状を有する。
【0041】
また、支柱212を取り囲む反射画素電極207a以外の反射画素電極207は、全て同一の矩形形状である。このとき、液晶配向の乱れた支柱212周辺に入射した光の偏光状態は乱れるが、反射画素電極207aの切り欠き部と支柱212との間に入射するために反射されない。したがって、黒表示状態における漏れ光量を低減し、黒浮きを抑制することが可能となる。
【0042】
(実施形態3)
図6には、本発明の実施形態3である反射型液晶表示素子の構造を示す。図中、実施形態1と同じ構成要素には同符号を付している。本実施形態では、支柱の形状が実施形態1,2とは異なる。
【0043】
214は支柱であり、アクティブマトリックス基板ユニット201と対向ガラス基板ユニット202間のギャップ、つまりは液晶層203の厚みを層平面内で一定に保つため、両基板ユニット201,202間に配置されている。
【0044】
215は支柱214と対向ガラス基板ユニット202との接合部で、216は支柱214とアクティブマトリックス基板ユニット201との接合部である。ここで、支柱214は、アクティブマトリックス基板201ユニット側の接合部216の面積が対向ガラス基板ユニット202側の接合部215の面積よりも大きな円錐台形状を有する。
【0045】
これにより、アクティブマトリックス基板ユニット201側の接合部が対向ガラス基板ユニット202側の接合部と同面積の円柱形状の支柱を用いる場合に比べて、支柱214の機械的強度が強くなり、液晶層203の厚みをより確実に一定にすることができる。また、ラビング処理を行う際に支柱214が折れ易いといった不都合も解消することができる。
【0046】
また、本実施形態における反射画素電極207の数(画素数)は、 1024×780(XGA)である。
【0047】
ガラス基板211側から見た支柱214の配置を図7に示す。なお、図7では、一部分の反射画素電極207を図示している。本実施形態において、支柱214の中心軸は、非表示部213に位置しており、x方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は4、y方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は5である。すなわち、支柱214を、非表示部213における各反射画素電極207の四隅に対応する箇所のすべてに配置するのではなく、間引いて配置している。
【0048】
このとき、支柱212の全本数aは、39936(=1024/4×780/5)、反射画素電極207の横方向(x方向)での数bは1024、縦方向(y方向)での数cは 780である。
【0049】
このため、支柱214の数aは条件式(1)
4<a(=39936)<(b+1)×(c+1)/2(=400262.5)
を満たしている。
【0050】
また、条件式(2)についても、
(b+1)×(c+1)/100(=8005.3)<a(=39936)<(b+1)×(c+1)/16(=50032.8)
となり、これを満たしている。
なお、支柱214は、ポリイミドを主成分とした絶縁性材料の有機高分子により形成されている。
【0051】
図8に、反射画素電極207の形状を詳しく示す。図8において、図7と同じ要素には同じ符号を付している。
【0052】
支柱214は、その中心軸が非表示部213の交点に位置している。また、すべての反射画素電極207は、支柱2124を取り囲むものが支柱214に接することのないように四隅に切り欠きを設けた同一の十字形状となっている。
【0053】
これにより、実施形態2と同様に、液晶配向の乱れた支柱214周辺に入射した光の偏光状態は乱れるが、反射画素電極207の切り欠き部と支柱214との間に入射するために反射されないため、黒表示状態における漏れ光量を低減することができる。
【0054】
しかも、すべての反射画素電極207が同一形状であるため、実施形態2(図5参照)のように一部の反射画素電極207aの形状を他の反射画素電極207の形状と異ならせる場合に比べて、反射画素電極のパターニング工程を簡単化することができる。
【0055】
(実施形態4)
図9には、本発明の実施形態4である反射型液晶表示素子のガラス基板211側から見た支柱212の配置を示す。図中、実施形態1と同じ構成要素には同じ符号を付している。なお、図9では、一部分の反射画素電極207を図示している。
【0056】
本実施形態における反射画素電極207の数(画素数)は、 1280×1024(SXGA)である。また、217の点線内は、反射画素電極207を4列4行ごとに分割した領域を示している。
【0057】
支柱212は、その中心軸が非表示部213に位置し、かつ各分割領域217内に1本ずつランダムな位置に配置されている。この場合、支柱212の周辺ではラビング処理の不良が発生するが、支柱212をランダムに配置することにより、隣り合う支柱212間での液晶配向の乱れの干渉を低減することができ、液晶配向の乱れを低減することが可能となる。
【0058】
本実施形態において、支柱212の全本数aは 81920(=1280/4×1024/4)、反射画素電極207の横方向(x方向)での数bは1280、縦方向(y方向)での数cは1024である。
【0059】
このため、支柱212の数aは条件式(1)
4<a(=81920)<(b+1)×(c+1)/2(=656512.5)
を満たしている。
【0060】
また、条件式(2)についても、
(b+1)×(c+1)/100(=13130.3)<a(=81920)<(b+1)×(c+1)/16(=82064.1)
となり、これを満たしている。
【0061】
また、図10(A)には、反射画素電極207の形状を詳しく示している。図10(B)には、反射型液晶表示素子の側面断面を示している。図10(A),(B)において、図9と同じ要素には同じ符号を付している。
【0062】
図10(A)に示すように、支柱212は、その中心軸が非表示部213の交点に位置している。また、支柱212を取り囲む4個の反射画素電極207aは、支柱212に接することのないように1つの隅部に切り欠きが設けられた形状である。
【0063】
さらに、本実施形態では、支柱212を取り囲む4個の反射画素電極207aの切り欠きで囲まれた領域に、支柱212の接合面よりも大きな面積を有する反射画素電極207bを配置する。なお、反射画素電極207aと反射画素電極207b以外の反射画素電極207は全て同一の矩形形状である。
【0064】
図10(B)において、250は各電極に電圧を印加する駆動回路である。Vcom は駆動回路250から透明電極210への印加電圧であり、透明電極210全体で共通である。また、Vsig1(x) とVsig2(x) はそれぞれ、互いに隣り合う反射画素電極207aと反射画素電極207bに対する印加電圧を示している。また、Vsig1(x+a) とVsig2(x+a)もそれぞれ、互いに隣り合う反射画素電極207aと反射画素電極207bに対する印加電圧を示している。
【0065】
そして、黒表示状態において、支柱212に接した反射画素電極207bに対する印加電圧(Vsig2(x),Vsig2(x+a) )を、支柱212に接していない反射画素電極207aに対する印加電圧(Vsig1(x),Vsig1(x+a) )よりも大きくすることで、支柱212の周辺の乱れた液晶配向を、反射画素電極207bの面に対して垂直方向に整えることができる。したがって、黒浮きを低減し、コントラストを向上させることができる。
【0066】
(実施形態5)
図11には、本発明の実施形態5である反射型液晶表示素子のガラス基板211側から見た支柱212の配置を示している。図中、実施形態1と同じ構成要素には同符号を付している。なお、図11では、一部分の反射画素電極207を図示している。
【0067】
本実施形態における反射画素電極207の数(画素数)は、800×600(SVGA)である。218の2点鎖線矢印は、ラビング処理の方向(以下、ラビング方向という)を示し、Aはラビング方向218に配置した支柱212の列間の領域である。
【0068】
支柱212は、その中心軸が非表示部213の交点に位置し、かつラビング方向218に平行に並ぶように間引いて配置されている。
【0069】
x方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は6、y方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は4である。
【0070】
支柱212をラビング方向218に平行に並べて配置することにより、図11に示した、支柱212が配置されていない領域Aにラビング処理を施す際に支柱212が邪魔になることがない。このため、広範囲に渡って均一にラビング処理をすることができる。
【0071】
支柱212の全本数aは20000(=800/6×600/4) 、反射画素電極207の横方向(x方向)での数bは800 、縦方向(y方向)での数cは600 である。
【0072】
このため、支柱212は条件式(1)
4<a(=20000)<(b+1)×(c+1)/2(=240700.5)
を満たしている。
【0073】
また、条件式(2)についても、
(b+1)×(c+1)/100(=4814)<a(=20000)<(b+1)×(c+1)/16(=30087.6)
となり、これを満たしている。
【0074】
また、図12には、反射画素電極207の形状を詳しく示している。図12において、図11と同じ構成要素には同じ符号を付している。
【0075】
すべての反射画素電極207は、支柱212に接することのないように四隅に切り欠きを設けた同一の十字形状に形成されている。
【0076】
また、すべての反射画素電極207の切り欠き間の領域には、支柱212の接合面よりも大きな面積の反射画素電極207cが配置されている。
【0077】
このように、すべての反射画素電極207を同一形状とすることにより、反射画素電極207cを含めて、2回のパターニングで全反射画素電極を形成することができる。
【0078】
さらに、反射画素電極207の切り欠き間の領域のうち支柱212が設けられていない領域にも反射画素電極207cを設けることで、実施形態3(図8参照)の場合に比べて反射光量を増加させ、明るい表示画像を得ることができる。
【0079】
そして、本実施形態でも、実施形態4と同様に、黒表示状態における反射画素電極207cへの印加電圧を隣接する反射画素電極207よりも大きくすることで、支柱212近傍の液晶配向の乱れを整えるようにするのが好ましい。
【0080】
(実施形態6)
図13には、本発明の実施形態56である反射型液晶表示素子のガラス基板211側から見た支柱212の配置を示している。図中、実施形態5と同じ構成要素には同符号を付している。なお、図13では、一部分の反射画素電極207を図示している。
【0081】
本実施形態における反射画素電極207の数(画素数)は、800×600(SVGA)である。219の1点鎖線は、2点鎖線で示したラビング方向218に直交する方向を示している。
【0082】
支柱212は、ラビング方向218に対して直交する方向219に平行に並ぶように間引いて配置されている。
【0083】
本実施形態において、x方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は4、y方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は6である。
【0084】
ラビング処理を施す際に、支柱212からラビング方向218においてラビング処理の不良が発生するが、支柱212をラビング方向216に対して直交する方向219に平行に並べて配置することにより、互いにラビング方向218にて隣り合う支柱212が存在しないことになる。このため、ラビング処理の不良に起因する液晶配向の乱れの干渉を低減することができ、液晶配向の乱れを低減することが可能となる。
【0085】
本実施形態において、支柱212の全本数aは20000(=800/4×600/6 )、反射画素電極207の横方向(x方向)での数bは800 、縦方向(y方向)での数cは600 である。
【0086】
このため、支柱212は条件式(1)
4<a(=20000)<(b+1)×(c+1)/2(=240700.5)
を満たしている。
【0087】
また、条件式(2)についても、
(b+1)×(c+1)/100(=4814)<a(=20000)<(b+1)×(c+1)/16(=30087.6)
となり、これを満たしている。
【0088】
また、図14には、反射画素電極207の形状を詳しく示している。図14において、図13と同じ構成要素には同じ符号を付している。
【0089】
207dは支柱212に接した反射画素電極である。
【0090】
支柱212は、その中心軸が反射画素電極207d内に位置しており、反射画素電極207,207dは全て同一の矩形形状である。
【0091】
なお、実施形態4と同様に、黒表示状態において、支柱212に接する反射画素電極207dに対する印加電圧を、支柱212に接していない反射画素電極207よりも大きくすることで、支柱212周辺の乱れた液晶配向を反射画素電極207dの平面に対して垂直方向に整えることができる
(実施形態7)
図15には、本発明の実施形態7である反射型液晶表示素子のガラス基板211側から見た支柱212の配置を示している。図中、実施形態5と同じ構成要素には同符号を付している。なお、図15では、一部分の反射画素電極207を図示している。また、本実施形態における反射画素電極207の数(画素数)は、800×600(SVGA) である。
【0092】
本実施形態では、支柱212は、x方向に配列数を多く(密に)、y方向に配列数を少なく(粗に)配置している。x方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は2、y方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は6である。
【0093】
支柱212の全本数aは40000(=800/2×600/6) 、反射画素電極207の横方向(x方向)での数bは800、 縦方向(y方向)での数cは600 である。
【0094】
このため、支柱212の数aは条件式(1)
4<a(=40000)<(b+1)×(c+1)/2(=240700.5)
を満たしている。
【0095】
なお、支柱212の数aは条件式(2)の上限値(b+1)×(c+1)/16(=30087.6)より少なくないが、条件式(2)の下限値(b+1)×(c+1)/100 (=4814) よりは多い。
【0096】
また、図16には、反射画素電極207の形状を詳しく示している。図16において、図15と同じ構成要素には同じ符号を付している。
【0097】
207eは支柱212に接した反射画素電極、207fは反射画素電極207eを取り囲むように形成された矩形枠形状の反射画素電極である。
【0098】
支柱212は、反射画素電極207eの中心付近に配置され、反射画素電極207eは支柱212と接し、かつ支柱212の接合面の面積よりも大きな矩形形状を有している。
【0099】
また、反射画素電極207e,207f以外の反射画素電極207は全て同一の矩形形状である。
【0100】
なお、このとき、実施形態4と同様に、黒表示状態において、支柱212に接する反射画素電極207eに対する印加電圧を、支柱212に接していない反射画素電極207f,207よりも大きくすることで、支柱212周辺の乱れた液晶配向を反射画素電極207eの面に対して垂直方向に整えることができる。
【0101】
(実施形態8)
図17には、本発明の実施形態8である反射型液晶表示素子のガラス基板211側から見た支柱212の配置を示している。図中、実施形態5と同じ構成要素には同じ符号を付している。なお、図17では、一部分の反射画素電極207を図示している。
【0102】
本実施形態における反射画素電極207の数(画素数)は、1024×768(XGA)である。
【0103】
本実施形態では、支柱212は、x方向に配列数を少なく(粗に)、y方向に配列数を多く(密に)配置している。x方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は6、y方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は2である。
【0104】
支柱212の全本数aは65536(=1024/6×768/2) 、反射画素電極207の横方向(x方向)での数bは1024 、縦方向(y方向)での数cは768である。
【0105】
このため、支柱212は条件式(1)
4<a(=65536)<(b+1)×(c+1)/2(=394112.5)
を満たしている。
【0106】
なお、支柱212の数aは条件式(2)の上限値(b+1)×(c+1)/16(=49264.1)より少なくないが、条件式(2)の下限値(b+1)×(c+1)/100 (=7882.3) よりは多い。
【0107】
また、図18には、反射画素電極207の形状を詳しく示している。図18において、図17と同じ構成要素には同じ符号を付している。
【0108】
207eは支柱212に接した反射画素電極、207fは反射画素電極207eを取り囲む矩形枠形状の反射画素電極である。支柱212は反射画素電極207eの中心付近に配置され、この反射画素電極207eは支柱212と接し、かつ支柱212との接合面の面積よりも大きな矩形形状を有する。そして、反射画素電極207eと207fの組がマトリックス状に配置されている。
【0109】
このように、同一形状の反射画素電極207eと207fの組を反射型画像表示素子の全体に形成することで、反射画素電極のパターニングを2回で済ますことができる。
【0110】
なお、このとき、実施形態4と同様に、黒表示状態において、支柱212に接する反射画素電極207eに対する印加電圧を、支柱212に接していない反射画素電極207fよりも大きくすることで、支柱212周辺の乱れた液晶配向を反射画素電極207eの面に対して垂直方向に整えることができる。
【0111】
(実施形態9)
図19には、本発明の実施形態9である反射型液晶表示素子のガラス基板211側から見た支柱212の配置を示している。図中、実施形態5と同じ構成要素には同じ符号を付している。なお、図19では、一部分の反射画素電極207を図示している。
【0112】
本実施形態における反射画素電極207の数(画素数)は、1024×768(XGA)である。図中の220の2点鎖線は、反射画素電極207の配列方向であるx方向およびy方向に対して45度方向を示している。
【0113】
このとき、支柱212は、その中心軸が非表示部213に位置しており、支柱212は45度方向220に対して平行な方向に等間隔で配置されている。
【0114】
x方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は4、y方向にて隣り合う支柱212間の反射画素電極207の数は2である。
【0115】
支柱212の全本数aは98304(=1024/4×768/2)、反射画素電極207の横方向(x方向)での数bは1024 、縦方向(y方向)での数cは768である。
【0116】
このため、支柱212は条件式(1)
4<a(=98304)<(b+1)×(c+1)/2(=394112.5)
を満たしている。
【0117】
なお、支柱212の数aは条件式(2)の上限値(b+1)×(c+1)/16(=49264.1)より少なくないが、条件式(2)の下限値(b+1)×(c+1)/100 (=7882.3) よりは多い。
【0118】
また、図20には、反射画素電極207の形状を詳しく示している。図20において、図19と同じ構成要素には同じ符号を付している。
【0119】
支柱212に接した各反射画素電極207gは、四角形の四つの角のうち三つの角を四角形状に切り欠き、一つの角に円形の突起を設けた形状に形成されている。また、支柱212に接していない反射画素電極207hは、反射画素電極207gと同一の形状に形成されている。
【0120】
このとき、実施形態4と同様に、黒表示状態において、支柱212に接する反射画素電極207gに対する印加電圧を、支柱212に接していない反射画素電極207hよりも大きくすることで、支柱212周辺の乱れた液晶配向を反射画素電極207gの面に対して垂直方向に整えることができる。
【0121】
なお、支柱212の配置パターンと反射画素電極の形状は以上説明した各実施形態のものに限定されるものではなく、支柱212の配置パターンと反射画素電極の形状を上記各実施形態と異なるものとしてもよい。
【0122】
(実施形態10)
図21には、上記各実施形態の反射型液晶表示素子を用いた投射型画像表示装置の光学ユニットを示している。
【0123】
1は高圧水銀ランプなどからなる光源、2は光源1から光を所定の方向に放射するためのリフレクター、3は均一な照明強度を有する照明領域を形成するためのインテグレーターである。インテグレーター3は、2つのフライアイレンズ3a,3bから構成されている。
【0124】
4は光源1からの無偏光光を所定の偏光方向を有する光に揃える偏光変換素子であり、偏光分離膜4aと反射膜4bと1/2位相差板4cとから構成されている。
【0125】
S1は偏光変換素子4の入射面4d上に交互に設けられた遮光部S1aと透光部S1bとを有した第1のスリットマスクである。また、S2は第1のスリットマスクS1と同形状に形成された、遮光部S2aと透光部S2bとを有した第2のスリットマスクである。第2のスリットマスクS2は、偏光変換素子4の入射面4d上に平行にスライド可能である。
【0126】
5は照明光を集光するコンデンサーレンズ、6はミラー、7は照明光をテレセントリックな光にするフィールドレンズである。
【0127】
8は緑の波長域光(緑色光)を透過し、他の波長域光(赤色光および青色光)を反射するダイクロイックミラーであり、図22に透過特性を示す。9a1,9b1,9c1はそれぞれ、S偏光を反射してP偏光を透過させる特性を持つ偏光分離膜である。
【0128】
また、9a,9b,9cはそれぞれ、偏光分離膜9a1,9b1,9c1を有する偏光ビームスプリッターである。
【0129】
10a,10bは所定の波長域光の偏光方向を90°変換(回転)する色選択性位相差板である。
【0130】
11r,11g,11bはそれぞれ、入射した赤、緑、青色光を反射するとともに画像信号に応じて変調して画像光を形成する、上記各実施形態で説明した反射型液晶表示素子である。12r,12g,12bは1/4位相差板である。また、13は投射レンズである。
【0131】
次に、上記光学ユニットの作用を説明する。光源1から出射した光はリフレクター2によりフライアイレンズ3aの方向に集光される。この光束は、フライアイレンズ3aにより複数の光束に分割され、さらに、第2のフライアイレンズ3bを出射した光は第1および第2のスリットマスクS1の透光部S1b,S2bを透過し、偏光変換素子4の入射面4dに入射する。
【0132】
第2のフライアイレンズ3bを射出してマトリックス状に集光する複数の光束は、各光束の列に対応した偏光分離膜4aに入射する。偏光分離膜4aに入射した光のうちP偏光は偏光分離膜4aを透過し、1/2位相差板4cを透過してS偏光に変換され偏光変換素子4を出射する。偏光分離膜4aに入射した光のうちS偏光は偏光分離膜4aで反射して反射膜4bで反射し、1/2位相差板4cを通らずにS偏光のまま偏光変換素子4を出射する。これにより、偏光変換素子4を出射した光の偏向方向がS偏光方向に揃えられる。
【0133】
そして、偏光変換された複数の光束は、偏光変換素子4の近傍で集光した後、発散光束としてコンデンサーレンズ5に至る。コンデンサーレンズ5で集光された光は、ミラー6およびフィールドレンズ7の作用によって反射型液晶表示素子11r,11g,11b上に重ね合わされ、均一な照明強度の照明領域を各反射型液晶表示素子11r,11g,11b上に形成する。
【0134】
ダイクロイックミラー8を透過した緑色光は、偏光ビームスプリッター9aの偏光分離膜9a1において反射し、1/4位相差板12gを透過し、反射型液晶表示素子11gに入射する。
【0135】
一方、ダイクロイックミラー8で反射した赤および青色光は、第1の色選択性位相差板10aによって青色光のみその偏光方向を90°変換されてP偏光となり、赤色光はS偏光のまま偏光ビームスプリッター9bに入射する。
【0136】
ここで、第1の色選択性位相差板10aの特性を図23に示す。点線の曲線が入射偏光方向に対して直交した偏光方向の透過率を示し、実線が入射偏光方向に対して平行な偏光方向の透過率を示す。
【0137】
P偏光に変換された青色光は、偏光ビームスプリッター9bの偏光分離膜9b1を透過し、S偏光である赤色光は偏光分離膜9b1で反射する。これにより、互いに偏光方向が直交する赤色光と青色光に分離される。
【0138】
偏光ビームスプリッター9bで反射した赤色光は、1/4位相差板12rを透過し、反射型液晶表示素子11rに入射する。また、偏光ビームスプリッター9bを透過した青色光は、1/4位相差板12bを透過し、反射型液晶表示素子11bに入射する。
【0139】
さらに、反射型液晶表示素子11gによって反射され変調された緑色光は、P偏光となって偏光ビームスプリッター9aの偏光分離膜9a1を透過して、偏光ビームスプリッター9cに入射する。
【0140】
また、反射型液晶表示素子11rによって反射され変調された赤色光は、P偏光となって偏光ビームスプリッター9bの偏光分離膜9b1を透過し、第2の色選択性位相差板10bに入射する。
【0141】
ここで、第2の色選択性位相差板10bの特性を図24に示す。点線の曲線が入射偏光方向に対して直交した偏光方向の透過率を示し、実線が入射偏光方向に対して平行な偏光方向の透過率を示す。この第2の色選択性位相差板10bは、赤色光の偏光方向のみ90°変換する。
【0142】
また、反射型液晶表示素子11bによって反射され変調された青色光は、S偏光となって偏光ビームスプリッター9bの偏光分離膜9b1で反射し、第2の色選択性位相差板10bに入射する。
【0143】
第2の色選択性位相差板10bに入射した赤色光はその偏光方向を90°変換されてS偏光となり、第2の色選択性位相差板10bに入射した青色光はS偏光のまま第2の色選択性位相差板10bから出射して、偏光ビームスプリッター9cに入射する。
【0144】
偏光ビームスプリッター9cに入射したS偏光の赤、青色光は偏光分離膜9c1で反射する。また、偏光ビームスプリッター9cに入射したP偏光の緑色光は偏光分離膜9c1を透過する。これにより、画像変調後の赤、緑および青色光が合成され、投射レンズ13によって不図示のスクリーン等の被投射面に投射される。
【0145】
以上の光学ユニットにおいて、上記各実施形態にて説明した反射型液晶表示素子11r,11g,11bを用いることにより、高コントラストの投射画像を得ることができる。
【0146】
なお、上記各実施形態にて説明した反射型液晶表示素子は、本実施形態の投射型画像表示装置に限られず、様々な構成の投射型画像表示装置あるいは他の表示機器に用いることができる。
【0147】
さらに、以上説明した各実施形態は、以下に示す各発明を実施した場合の一例でもあり、下記の各発明は上記各実施形態に様々な変更や改良が加えられて実施されるものである。
【0148】
〔発明1〕 マトリクス状に配置された複数の反射画素電極、該各反射画素電極に電圧を印加する能動素子層および前記反射画素電極上に設けられた配向膜を有するアクティブマトリクス基板ユニットと、
透明電極および該透明電極上に設けられた配向膜を有し、前記アクティブマトリクス基板ユニットに対向する透明基板ユニットと、
前記アクティブマトリクス基板ユニットと前記透明基板ユニットとの間に挟まれた液晶層と、
前記アクティブマトリクス基板ユニットと前記対向基板ユニットとの間隔を保持する複数の支柱とを有し、
前記支柱の全本数をa、前記反射画素電極の直交する2方向での配置数をそれぞれb,cとしたとき、
(b+1)×(c+1)/100<a<(b+1)×(c+1)/16
なる条件を満たすことを特徴とする反射型液晶表示素子。
【0149】
これにより、条件式(1)を満たす場合に比べて、より効果的に黒浮きを減少させ、さらなるコントラストの向上を図ることができる。
【0150】
〔発明2〕 発明1(および請求項1)に記載の反射型液晶素子と、
前記複数の反射画素電極に電圧を印加する駆動回路とを有し、
前記駆動回路は、前記複数の反射画素電極のうち前記支柱に接した反射画素電極の黒表示状態での印加電圧を、前記支柱に接していない反射画素電極の黒表示状態での印加電圧よりも大きくすることを特徴とする反射型液晶表示素子を用いた表示装置。
【0151】
これにより、支柱周辺の液晶配向を反射画素電極面に垂直な方向に整えることができ、黒浮きをさらに低減して、表示画像のコントラストをより向上させることができる。
【0152】
〔発明3〕 発明1(および請求項1)に記載の反射液晶表示素子と、
前記反射型液晶表示素子に照明光を入射させ、該反射型液晶表示素子にて反射した画像光を投射する光学系とを有することを特徴とする光学ユニット。
【0153】
〔発明4〕 発明3に記載の光学ユニットを有することを特徴とする投射型画像表示装置。
【0154】
〔発明5〕 発明2に記載の表示装置と、
前記反射型液晶表示素子に照明光を入射させ、該反射型液晶表示素子にて反射した画像光を投射する光学系とを有することを特徴とする投射型画像表示装置。
【0155】
上記の反射型液晶表示素子又は表示装置を、投射型画像表示装置に用いることで、コントラストの高い投射画像を得ることができる。
【0156】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、支柱の全体数を少なくすることで、支柱周辺の領域における配向膜のラビング処理の不良に起因するいわゆる黒浮きを低減し、さらに、反射画素電極の矩形形状によって発生する回折光に起因する黒浮きも低減することができる。したがって、表示画像のコントラストを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1である反射型液晶表示素子の構造を説明する断面図。
【図2】上記実施形態1の反射型液晶表示素子における支柱配置を説明する平面図。
【図3】上記実施形態1の反射型液晶表示素子における反射画素電極の形状を説明する平面図。
【図4】本発明の実施形態2の反射型液晶表示素子における支柱配置を説明する平面図。
【図5】上記実施形態2の反射型液晶表示素子における反射画素電極の形状を説明する平面図。
【図6】本発明の実施形態3である反射型液晶表示素子の構造を説明する断面図。
【図7】上記実施形態3の反射型液晶表示素子における支柱配置を説明する平面図。
【図8】上記実施形態3の反射型液晶表示素子における反射画素電極の形状を説明する平面図。
【図9】本発明の実施形態4の反射型液晶表示素子における支柱配置を説明する平面図。
【図10】(A)は上記実施形態4の反射型液晶表示素子における反射画素電極の形状を説明する平面図、(B)は該反射型液晶表示素子の断面図。
【図11】本発明の実施形態5の反射型液晶表示素子における支柱配置を説明する平面図。
【図12】上記実施形態5の反射型液晶表示素子における反射画素電極の形状を説明する平面図。
【図13】本発明の実施形態6の反射型液晶表示素子における支柱配置を説明する平面図。
【図14】上記実施形態6の反射型液晶表示素子における反射画素電極の形状を説明する平面図。
【図15】本発明の実施形態7の反射型液晶表示素子における支柱配置を説明する平面図。
【図16】上記実施形態7の反射型液晶表示素子における反射画素電極の形状を説明する平面図。
【図17】本発明の実施形態8の反射型液晶表示素子における支柱配置を説明する平面図。
【図18】上記実施形態8の反射型液晶表示素子における反射画素電極の形状を説明する平面図。
【図19】本発明の実施形態9の反射型液晶表示素子における支柱配置を説明する平面図。
【図20】上記実施形態9の反射型液晶表示素子における反射画素電極の形状を説明する平面図。
【図21】本発明の実施形態10である投射型画像表示装置の構成を説明する図。
【図22】上記投射型画像表示装置に用いられるダイクロイックミラーの透過特性を説明する図。
【図23】上記投射型画像表示装置に用いられる第1の色選択性位相差板の特性を説明する図。
【図24】上記投射型画像表示装置に用いられる第2の色選択性位相差板の特性を説明する図。
【図25】反射型液晶表示素子への入射光および回折を説明する図。
【図26】従来の反射型液晶表示素子の断面図。
【符号の説明】
1 光源
2 リフレクター
3 フライアイインテグレーター
4 偏光変換素子
4a 偏光分離膜
4b 反射膜
4c 1/2位相差板
5 コンデンサーレンズ
6 ミラー
7 フィールドレンズ
8 ダイクロイックミラー
9a1,9b1,9c1 偏光分離膜
9a,9b,9c 偏光ビームスプリッター
10a,10b 色選択性位相差板
11r,11g,11b 反射型液晶表示素子
12r,12g,12b 1/4位相差板
13 投射レンズ、
201 アクティブマトリックス基板ユニット
202 対向ガラス基板ユニット
203 液晶層
204 Si基板
205 能動素子層
206 遮光層
207 反射画素電極
208,209 配向膜
210 透明電極
211 ガラス基板
212,214 支柱
Claims (1)
- マトリクス状に配置された複数の反射画素電極、該各反射画素電極に電圧を印加する能動素子層および前記反射画素電極上に設けられた配向膜を有するアクティブマトリクス基板ユニットと、
透明電極および該透明電極上に設けられた配向膜を有し、前記アクティブマトリクス基板ユニットに対向する透明基板ユニットと、
前記アクティブマトリクス基板ユニットと前記透明基板ユニットとの間に挟まれた液晶層と、
前記アクティブマトリクス基板ユニットと前記対向基板ユニットとの間隔を保持する複数の支柱とを有し、
前記支柱の全本数をa、前記反射画素電極の直交する2方向での配置数をそれぞれb,cとしたとき、
4<a<(b+1)×(c+1)/2
の条件を満たすことを特徴とする反射型液晶表示素子。
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