JP2004271658A - 光ピックアップ装置用対物レンズ及び光ピックアップ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源からの光により光記録媒体の情報の書込み及び/又は読出しを行う光ピックアップ装置の対物レンズ1において、光源側の表面に一層以上の反射防止膜2aが形成されており、対物レンズ1の周辺部11における反射防止膜2aの膜厚が対物レンズ1の中央部12における膜厚に対して0.6倍以上である対物レンズ1及び光ピックアップ装置。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体への情報の記録及び/又は光記録媒体からの情報の再生を行う光ピックアップ装置及び光ピックアップ装置用の対物レンズに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、光ディスクに代表される光記録媒体には記録容量の大容量化が強く要請されている。しかし光記録媒体自体の大きさは決まっているため、記録容量を増大させるためには、光記録媒体の記録密度を向上させる必要がある。記録密度の大きい媒体への書込み及び/又は読取りを行うには、情報の書込み及び/又は読取り時における光記録媒体上の光スポット径を小さくする必要がある。光スポット径は光源の波長に比例し、対物レンズの開口数(NA)に反比例する。このため光ピックアップ装置用対物レンズには、高NA化が要求されている。
【0003】
対物レンズの開口数を大きくするとレンズ曲率が大きくなるため、レンズ周辺部における光線入射角度が大きくなる。このためレンズ周辺部における反射光量が多くなり、透過光量が減少する。対物レンズを透過する光量が減少すると光記録媒体に照射される光量が減少するため、信号の再生における信号対雑音比(S/N比)が低下する。
【0004】
特開2001−6204号(特許文献1参照)は、光源側の面に反射防止膜を有する2つのレンズからなる対物レンズを使用し、この面における光線の最大入射角度を制御することにより、対物レンズの周辺部への入射光の強度が対物レンズの中心への入射光の強度に対して、40%以上80%以下である光ピックアップ装置を開示している。この光ピックアップ装置は、対物レンズの表面への光線の入射角を制御することにより、対物レンズの周辺部への入射光の強度の低下を軽減し、透過光量が大きくなっているものの、光線の最大入射角度を制御するために2つのレンズを組み合わせた対物レンズを使用しているため、両レンズをミクロンオーダーの高い精度で組み立てる工程が不可欠であり、製造コストが高くつくという問題がある。また2つのレンズを組み合わせた対物レンズは、小型化が要求される光ピックアップ装置においては不利である。
【0005】
【特許文献1】
特開2001−6204号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の目的は、レンズ曲率の大きい対物レンズ周辺部における光線の反射量を減少させることにより、対物レンズを透過する光量の増大した光ピックアップ用対物レンズ及び光ピックアップ装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者らは光ピックアップ装置の光源側の表面に反射防止膜が形成された対物レンズにおいて、対物レンズ周辺部における反射防止膜の膜厚を中央部の膜厚に対して0.6倍以上とすることにより対物レンズ周辺部における光線の反射量が減少し、対物レンズを透過する光量が増大することを発見し、本発明に想到した。
【0008】
すなわち本発明の対物レンズは、光源からの光により光記録媒体の情報の書込み及び/又は読出しを行う光ピックアップ装置用のレンズであって、光源側の表面に一層以上の反射防止膜が形成されており、対物レンズの周辺部における反射防止膜の膜厚が対物レンズの中央部における膜厚に対して0.6倍以上であることを特徴とする。
【0009】
対物レンズの開口数は0.6以上であるのが好ましい。対物レンズは一枚のレンズからなり、対物レンズの波長405 nmにおける屈折率が1.70以上であるのが好ましい。反射防止膜が単層の場合、屈折率1.40以下の物質からなる膜であるのが好ましい。
【0010】
光記録媒体側の表面に一層以上の光記録媒体側反射防止膜が形成されているのが好ましく、光記録媒体側の反射防止膜が三層以上からなるのがより好ましい。
【0011】
本発明の光ピックアップ装置は、本発明の光ピックアップ装置用対物レンズを具備し、対物レンズの周辺部における光源からの光の入射角が60度以上であることを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
[1] 光ピックアップ用対物レンズ
(1) 対物レンズ
図1は、本発明の光ピックアップ用対物レンズの一例を示す。本明細書の図中においては、反射防止膜を実際より厚く示してある。なお平凸レンズを例として本発明の対物レンズを説明するが、本発明はこれに限定されない。図1(a)に示すように、対物レンズ1は光源(図示せず)側の第一面1aが凸面であり、第一面1aの反対側の第二面1bが平面となっている。対物レンズ1は、単レンズであるのが好ましい。単レンズとすることにより、高精度を要するレンズの組立工程が不要となる。対物レンズ1は、波長405 nmにおける屈折率が1.70以上の物質からなるのが好ましい。波長405 nmにおける屈折率が1.70以上の物質としては、SFL14等が挙げられる。
【0013】
(2) 反射防止膜
対物レンズ1の光源(図示せず)側の第一面1aには、第一の反射防止膜2aが形成されている。図2に、図1のA部の拡大断面を示す。対物レンズ1の周辺部11における第一の反射防止膜2aの物理膜厚d1は、中央部12における物理膜厚d2に対して0.6倍以上となっている。「対物レンズ1の周辺部11」とは、対物レンズ1のレンズ半径rを有効径R/2とすると、対物レンズ1の中心からレンズ半径rの90〜100%の部分(図1(b)参照)及び/又は光線入射角が60〜70度となる部分をいう。物理膜厚比d1/d2を0.6以上とすることにより、対物レンズ1の透過光量の減少を防止することができる。物理膜厚比d1/d2の上限は特に限定されないが、実用的には1.5程度である。
【0014】
反射防止膜2aは単層であるのが好ましく、対物レンズ1の中央部12における物理膜厚d2は、設計中心波長をλ0、反射防止膜の屈折率をnとするとλ0 / 4n〜λ0 / 2nであるのが好ましい。レンズ周辺部11における物理膜厚d1は、d2の0.6倍以上とする。
【0015】
第一面1aの反対側の第二面1bには、第二の反射防止膜2b(光記録媒体側反射防止膜)が形成されている。反射防止膜2bは単層であっても良いが、3層以上の積層構造を有するのが好ましい。積層構造とすることにより、広い波長範囲の光の反射を防止できる。すなわち、単一波長の光に対しては広い入射角度範囲で反射防止効果を発揮する。対物レンズ1の第二面1bのレンズ曲率は第一面1aより遥かに小さいので、第二の反射防止膜2bの物理膜厚比(周辺部/中央部)は、特に問題とならないが、実用的には第二面1bが平面である場合の物理膜厚比は0.9〜1.0程度である。
【0016】
反射防止膜2a,2bがそれぞれ単層の場合、屈折率1.40以下の物質からなる膜であるのが好ましい。屈折率が1.40超であると、有効な反射防止特性を示さない。屈折率1.40以下の物質の例としては、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等が挙げられる。
【0017】
(3) 反射防止膜の製造方法
スパッタリング法を例として、対物レンズ1の第一面1aに本発明の反射防止膜2aを作製する方法を説明するが、本発明はこの方法によって製造した物に限定されない。
【0018】
(a) 反射防止被膜の成膜
図3に、対物レンズ1の第一面1aに反射防止被膜を成膜するための装置の概要を示す。図3に示すように、スパッタリング装置30は真空チャンバ31内にレンズホルダ32とターゲットホルダ33を具備している。ターゲットホルダ33は高周波電源34の一端に接続されており、高周波電源34の他端及びレンズホルダ32は接地されている。真空チャンバ31には真空ポンプ接続口35及び不活性ガス導入口36が設けられている。
【0019】
第一面1aがターゲットホルダ33側になるように、対物レンズ1をレンズホルダ32に設置し、ターゲット37をターゲットホルダ33上に載置する。真空ポンプにより真空チャンバ31内を減圧にした後で、不活性ガス導入口36から不活性ガスを導入して真空チャンバ31内を1×10−3 Torr程度の不活性ガス雰囲気とする。次いでレンズホルダ32とターゲットホルダ33の間に電圧を印加し、対物レンズ1の第一面1aにスパッタリングを行う。供給する電力は、100〜1000 Wとするのが好ましい。スパッタリングによりターゲット37を形成する膜材料物質が対物レンズ1の第一面1aに堆積して反射防止被膜20となり、対物レンズ1の周辺部11における反射防止被膜20の物理膜厚D1が、λ0 / 4n以上となるまでスパッタリングを行えば良い。
【0020】
図4に示すように、反射防止被膜20の周辺部21/中央部22の物理膜厚比D1/D2は0.4〜0.5程度となっている。
【0021】
(b) エッチング
反射防止被膜20をエッチングする。図5に示すエッチング装置300は、逆スパッタ用電極38及びマスク39を有している以外、図3に示すスパッタリング装置とほぼ同じであるので、相違点のみ以下に説明する。逆スパッタ用電極38はレンズホルダ32と対向するように、ターゲットホルダ33の上方に設けられている。マスク39は開口部39aを有しており、開口部39aから反射防止被膜20の中央が露出するようにレンズホルダ32と逆スパッタ用電極38との間に設けられている。またマスク39は、レンズホルダ32に電気的に接続されている。レンズホルダ32は高周波電源34に接続されており、高周波電源34及び逆スパッタ用電極38は、接地されている。
【0022】
逆スパッタ用電極38とレンズホルダ32の間に電圧を印加し、反射防止被膜20をエッチングする。供給する電力は、30〜100 Wとするのが好ましい。マスク39は開口部39aを有しているので、周辺部21と比較して中央部22が多くエッチングされる。マスク39とレンズホルダ32との距離Lは、対物レンズ1の有効径Rに対して1〜3倍程度とする。マスク39とレンズホルダ32との距離Lをこの範囲としてエッチングすることにより、周辺部21から中央部22に渡って物理膜厚が滑らかに変化する反射防止膜2aが得られる。
【0023】
開口部39aの内径は、対物レンズ1の有効径Rに対して0.5〜0.8倍程度であるのが好ましい。例えば内径/有効径Rの比が0.7のマスク39を使用し、中央部11における物理膜厚がλ0 / 4n程度となるまでエッチングを行うと、物理膜厚比(d1/d2)が0.6程度の反射防止膜2aが得られる。なお膜の厚さの制御は、実験的に求めた単位時間あたりの成膜レート(エッチングレート)から、必要成膜時間(必要エッチング時間)を決定することにより可能となる。
【0024】
[2] 光ピックアップ装置
図6に、本発明の光ピックアップ装置の一例を示す。光ピックアップ装置は、光源部40、ビーム整形・分離プリズム50、対物レンズ1、及び信号検出系60で構成されている。光源部40は半導体レーザー41と、コリメートレンズ42とを具備し、コリメートレンズ42は半導体レーザー41からのレーザー光を平行光とするように設定されている。
【0025】
ビーム整形・分離プリズム50は、一対のプリズム51,52が貼り合わされており、光源部40が発したレーザー光の断面形状を整形すると共に、光記録媒体70からの反射光をプリズム51,52の貼り合わせ面で反射して信号検出系60に導くようになっている。
【0026】
対物レンズ1は、1群1枚構成の両面非球面レンズである。光源部40側の第一面1aは光記録媒体70側の第二面1bより曲率半径が小さくなっている。光源部40からのレーザー光は、平行光として対物レンズ1に入射する。対物レンズ1を透過したレーザー光は、光記録媒体70の記録面上に集光する。
【0027】
信号検出系60は、ビーム整形・分離プリズム50からの反射光を集光する集光レンズ61と、シリンドリカルレンズ62と、センサ63とを具備する。半導体レーザー41が発したレーザー光は、光記録媒体70によって反射された後、シリンドリカルレンズ62を介してセンサ63に入射する。センサ63からの信号は、適宜演算されて光記録媒体70に記録された情報の再生に利用される。
【0028】
図6に示す光ピックアップ装置の対物レンズ1は、開口数0.6以上であって1群1枚構成のレンズであるので曲率半径が小さい。このため対物レンズ1の周辺部におけるレーザー光の第一面1aへの入射角は60度以上となっている。
【0029】
図7に示すように、光源部40が発したレーザー光は対物レンズ1の第一面1aの中央部12に対して垂直に入射し、中央部12から周辺部11に近づくに従って入射角は増大し、周辺部11におけるレーザー光の第一面1aへの入射角は70°程度となる。
【0030】
従来の反射防止膜は、レンズ中心における反射率が最小となるように設計されている上、レンズ周辺部における物理膜厚が中心部に比して小さいため、レンズ周辺部において反射特性の短波長シフトが生じ、反射防止特性を大きく損なっている。これに対し本発明の反射防止膜は、レンズ周辺部/レンズ中心部の物理膜厚比を0.6以上とすることにより、物理膜厚比の減少に伴う反射特性の短波長シフトを少なくし、反射防止特性の劣化を抑えている。このため本発明の反射防止膜を形成することにより、対物レンズの透過光量を増加することができる。
【0031】
【実施例】
本発明を以下の実施例によってさらに詳細に説明するが、本発明はそれらに限定されるものではない。
【0032】
実施例1
真空チャンバ31内を減圧にした後でアルゴンガスを入れ、約10−3 Torrとした。図3に示すように、レンズホルダ32に光学ガラスSF5からなる対物レンズ1(両面非球面レンズ、屈折率n= 1.71)を設置し、レンズホルダ32側がアノードとなるように高周波電源を接続した。フッ化マグネシウムをターゲット37として電力500 Wでスパッタリングを行うことにより、対物レンズ1の表面1aにフッ化マグネシウムからなる反射防止被膜20を形成させた。スパッタリング時間は6分程度であった。反射防止被膜20の中央部22におけるの物理膜厚D2は、120 nmであり、物理膜厚比D1/D2は0.4であった。
【0033】
図5に示すように、レンズホルダ32にマスク39を接続し、開口部39aから反射防止被膜20の中央部22が露出するようにマスク39を設置し、逆スパッタ用電極38側がアノードとなるように電極の接続を切り替え、電力50 Wで反射防止被膜20をエッチングした。エッチング時間を2.5分としたところ、中央部22における物理膜厚d2が73 nm、物理膜厚比d1/d2が0.6の反射防止膜2aが得られた。設計中心波長は、405 nmとした。
【0034】
実施例2〜5
スパッタリングの電圧印加時間以外実施例1と同様にして、対物レンズ1の第一面1aに反射防止被膜20を成膜した。次いでエッチングの電力及び電圧印加時間以外実施例1と同様にして、反射防止被膜20をエッチングし、反射防止膜2aを作製した。得られた反射防止膜2aの物理膜厚d2及び物理膜厚比d1/d2を表1に示した。
【0035】
【表1】
【0036】
比較例1
反射防止膜2aを成膜していない対物レンズ1の全面平均透過率、中央部透過率及び周辺部透過率を測定した。
【0037】
比較例2
スパッタリングの電圧印加時間を表2のとおりとした以外実施例1と同様にして、対物レンズ1の表面1aに反射防止被膜20を形成させた。反射防止被膜20の中央部22における物理膜厚D2、及び物理膜厚比D1/D2を表2に示した。
【表2】
【0038】
実施例1〜5で作製した反射防止膜2aを有する対物レンズ1の全面平均透過率、中央部透過率及び周辺部透過率を測定した。また比較例1の対物レンズ、比較例2及び3の反射防止被膜20を成膜した対物レンズ1の全面平均透過率、中央部透過率及び周辺部透過率を測定した。なお周辺部透過率は、対物レンズへの光線入射角が70度となる部分で測定した。結果を表3に示した。
【0039】
【表3】
【0040】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の対物レンズは、物理膜厚比(周辺部/中央部)0.6以上の反射防止膜を具備することにより、開口数が大きくレンズ曲率の大きいレンズでありながら対物レンズ周辺部における光線の反射量が少なく、レンズの透過光量が多くなっている。このため本発明の光ピックアップ装置用対物レンズを具備することにより、対物レンズの透過光量が多く、信号の再生における信号対雑音比(S/N比)が小さい光ピックアップ装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ピックアップ用対物レンズの一例を示し、(a)は対物レンズの断面図であり、(b)は対物レンズの周辺部を示す断面図である。
【図2】図1(a)のA部を示す拡大断面図である。
【図3】反射防止被膜を成膜する装置の一例を示す概略図である。
【図4】反射防止被膜を成膜した対物レンズの一例を示す断面図である。
【図5】反射防止被膜をエッチングし、反射防止膜を作製する装置の一例を示す概略図である。
【図6】本発明の光ピックアップ装置の一例を示す概略図である。
【図7】光ピックアップ用対物レンズへの光線入射角を示す図であり、反射防止膜を形成していない対物レンズへの光線入射角を示す。
【符号の説明】
1・・・対物レンズ
11・・・周辺部
12・・・中央部
2a・・・反射防止膜
2b・・・反射防止膜
20・・・反射防止被膜
30・・・スパッタリング装置
300・・・エッチング装置
31・・・真空チャンバ
32・・・レンズホルダ
33・・・ターゲットホルダ
34・・・高周波電源
35・・・真空ポンプ接続口
36・・・不活性ガス導入口
37・・・ターゲット
38・・・逆スパッタ用電極
39・・・マスク
39a・・・開口部
40・・・光源部
41・・・半導体レーザー
42・・・コリメートレンズ
50・・・ビーム整形・分離プリズム
51、52・・・プリズム
60・・・信号検出系
61・・・集光レンズ
62・・・シリンドリカルレンズ
63・・・センサ
70・・・光記録媒体
Claims (7)
- 光源からの光により光記録媒体の情報の書込み及び/又は読出しを行う光ピックアップ装置の対物レンズにおいて、光源側の表面に一層以上の反射防止膜が形成されており、前記対物レンズの周辺部における前記反射防止膜の膜厚が前記対物レンズの中央部における膜厚に対して0.6倍以上であることを特徴とする対物レンズ。
- 請求項1に記載の光ピックアップ装置用対物レンズにおいて、前記対物レンズの開口数が0.6以上であることを特徴とする対物レンズ。
- 請求項1又は2に記載の光ピックアップ装置用対物レンズにおいて、前記対物レンズが一枚のレンズからなり、前記対物レンズの波長405 nmにおける屈折率が1.70以上であることを特徴とする対物レンズ。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の光ピックアップ装置用対物レンズにおいて、前記反射防止膜が屈折率1.40以下の物質からなることを特徴とする対物レンズ。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の光ピックアップ装置用対物レンズにおいて、さらに光記録媒体側の表面に一層以上の光記録媒体側反射防止膜が形成されていることを特徴とする対物レンズ。
- 請求項5に記載の光ピックアップ装置用対物レンズにおいて、光記録媒体側の反射防止膜が三層以上からなることを特徴とする対物レンズ。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の光ピックアップ装置用対物レンズを具備する光ピックアップ装置において、前記対物レンズの周辺部における前記光源からの光の入射角が60度以上であることを特徴とする光ピックアップ装置。
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