JP2004224734A - 新規な第四アンモニウム塩化合物 - Google Patents
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Abstract
【課題】高い抗菌活性と広い抗菌スペクトルを示し、且つ長期間繰り返し使用しても菌が耐性を獲得し難く、また既知の抗菌剤に耐性を獲得した菌株に高い抗菌活性を有する抗菌剤を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される第四アンモニウム塩化合物
（式（１）中、Ｒ１は炭素数４〜２０のアルキル基であり、Ｒ２はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ４は炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ５およびＲ６は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘｎ−は無機性または有機性のアニオン基であり、ｎはアニオン基Ｘｎ−の価数である。）とその製造方法および、当該化合物を含有する抗菌剤、消毒薬、保存剤または防黴剤を提供するものである。
【選択図】 なし
【解決手段】下記式（１）で示される第四アンモニウム塩化合物
（式（１）中、Ｒ１は炭素数４〜２０のアルキル基であり、Ｒ２はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ４は炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ５およびＲ６は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘｎ−は無機性または有機性のアニオン基であり、ｎはアニオン基Ｘｎ−の価数である。）とその製造方法および、当該化合物を含有する抗菌剤、消毒薬、保存剤または防黴剤を提供するものである。
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な第四アンモニウム塩化合物、その製造方法、グラム陽性細菌及びグラム陰性細菌、真菌及び酵母に対する抗菌剤、殺菌剤、消毒薬、保存剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
抗菌活性を有する第四アンモニウム塩化合物は古くから知られ、現在も広く一般に用いられている。しかし、このような化合物は通常、殺菌力、抗菌力が糖質、蛋白質及び脂質などに拮抗され、また繰り返し使用すると、菌がこれら抗菌剤に対して抵抗性を獲得し、抗菌活性が低下するようになる。
【０００３】
前述の課題を解決する方法として、第四アンモニウム塩構造を１分子中に２個持つ化合物、即ちビス第四アンモニウム塩化合物からなる抗菌剤が提案されている（例えば特許文献１、特許文献２、特許文献３など参照）。これら公報記載の化合物は、高い抗菌活性を有しており、一部実際に抗菌剤として利用されている。しかし、これらの化合物は高い抗菌活性を有するものの、まだ不十分であり、また菌の抵抗性獲得や薬剤抵抗性菌に対する効果の点で改善が望まれていた。
【０００４】
アンモニウム窒素に２−ヒドロキシエチル基を有するビス型第四アンモニウム塩としてキシリレン型化合物が報告されている（例えば、特許文献４参照）が、これら化合物について抗菌活性に関しては何ら言及されていない。また、２−ヒドロキシスチリル基を有するビス型第四アンモニウム塩の抗菌活性に関する報告（例えば、特許文献５参照）があるが、抗菌活性が低く満足できるものではない。
【０００５】
○先行文献
【特許文献１】
特開平６−３２１９０２号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】
特開２０００−９５７６３号公報（特許請求の範囲）
【特許文献３】
特開２００２−１８７８７４号公報（特許請求の範囲）
【特許文献４】
米国特許第３，２８３，００５号明細書（実施例２〜５，クレーム）
【特許文献５】
特開昭５７−１４５１９６号公報（特許請求の範囲）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高い抗菌活性と広い抗菌スペクトルを示し、且つ長期間繰り返し使用しても菌が耐性を獲得し難く、また既知の抗菌剤に耐性を獲得した菌株に高い抗菌活性を有する抗菌剤を提供することを課題とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記式（１）で示される第四アンモニウム塩化合物である。
【０００８】
【化７】
【０００９】
式（１）中、Ｒ１は分岐があってもよい炭素数４〜２０のアルキル基であり、Ｒ２はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ４は分岐があってもよい炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘｎ−は無機性または有機性のアニオン基であり、ｎはアニオン基Ｘｎ−の価数であって、ｍとｎとの積が２である。
【００１０】
更に、式（１）を製造するための方法を提供するものであり、当該化合物を含有する抗菌剤、消毒薬、保存剤または防黴剤を提供するものである。以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
○第四アンモニウム塩化合物
本発明の第四アンモニウム塩化合物は、上記式（１）で表されるものであり、各々のアンモニウム窒素に、水酸基を含有するアルキル基を１個または２個有するものである。
【００１２】
式（１）において第四アンモニウム塩がビフェニルに結合する位置はいずれでもよいが、パラ位が好ましく、２個ともパラ位が更に好ましい。
【００１３】
本発明の第四アンモニウム塩化合物は、式（１）のＲ１とＲ４とが異なっていてもよく、同一であることが好ましい。また、Ｒ２とＲ５とが異なっていてもよく、同一であることが好ましく、Ｒ３とＲ６とが異なっていてもよく、同一であることが好ましい。本化合物が有する水酸基の個数は、１〜４個であり、好ましくは２〜４個であり、更に好ましくは４個である。また、本発明の第四アンモニウム塩化合物のアルキル基は、分岐があってもよいが、好ましくは直鎖のものである。
【００１４】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ１とＲ４は、炭素数４〜２０のアルキル基であり、好ましくは分岐があってもよい炭素数６〜１６のアルキル基であり、特に好ましくは偶数のものである。
【００１５】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ２は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２個アルキル基であり２−ヒドロキシエチル基である。
【００１６】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ５は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２個アルキル基であり２−ヒドロキシエチル基である。
【００１７】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ３は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２のアルキル基であり２−ヒドロキシエチル基である。
【００１８】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ６は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２のアルキル基であり２−ヒドロキシエチル基である。
【００１９】
○製造方法
本発明の第四アンモニウム塩化合物は、下記式（２）の化合物に下記式（３）の化合物と下記式（４）とを、または下記式（２）の化合物に下記式（３）の化合物とを反応させて合成することができる。また、下記式（５）の化合物と下記式（６）の化合物との反応により合成することもできる。
【００２０】
【化８】
【００２１】
式（２）中、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
【００２２】
【化９】
【００２３】
式（３）中、Ｒ１は炭素数４〜２０の分岐があってもよいアルキル基であり、Ｒ２はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基を示す。
【００２４】
【化１０】
【００２５】
式（４）中、Ｒ４は炭素数４〜２０の分岐があってもよいアルキル基であり、Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基を示す。
【００２６】
【化１１】
【００２７】
式（５）中、Ｒ２はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基である。
【００２８】
Ｒ７−Ｊ （６）
式（６）中、Ｒ７は分岐があってもよい炭素数４〜２０のアルキル基であり、Ｊは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または下記式（７）の基のいずれかを表す。
【００２９】
【化１２】
【００３０】
式（７）中、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ水素原子、又は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
【００３１】
式（２）として、２，２’−ビス（クロロメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（クロロメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（ブロモメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（ブロモメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（ブロモメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（イオドメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（イオドメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（イオドメチル）ビフェニル等のハロゲン化物が例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３２】
式（３）として、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）オクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）デシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ドデシルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアミンが例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３３】
式（４）として、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）オクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）デシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ドデシルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアミンが例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３４】
式（２）のハロゲン化合物に対する第３アミンの使用割合は、ハロゲン化合物１モルに対して２モル以上、例えば２〜２．３モルの割合で用いれば良い。
【００３５】
合成時の反応溶媒は特に限定されないが、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール及び２−メトキシエタノールなどのアルコール類、水とアルコールとの混合溶液、又はクロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素などのハロゲン系溶媒、更にはＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ニトロメタン、ニトロエタン、アセトニトリルなどを用いることができる。
【００３６】
反応雰囲気については、特に限定されず、反応温度については、一般に６０℃以上であれば、１時間から４０時間にて反応は完了する。
また、上記の反応は、上記記載の適当な溶媒存在下で、オートクレーブ中で加圧下、好ましくは１０〜１００ＭＰａ（メガパスカル）において５０〜１００℃の温度で行うこともできる。仕込み時間を含め反応時間は通常５時間から１２０時間とすることができる。
【００３７】
式（５）として、４，４’−ビス（ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−エチルアミノメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−プロピルアミノメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−エチルアミノメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−プロピルアミノメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−エチルアミノメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−プロピルアミノメチル）ビフェニルなどが例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
上記式（６）の化合物の例としては、塩化ヘキサン、塩化オクタン、塩化デカン、塩化ドデカン、塩化テトラデカン、塩化ヘキサデカン、塩化オクタデカン、塩化エイコサン、臭化ヘキサン、臭化オクタン、臭化デカン、臭化ドデカン、臭化テトラデカン、臭化ヘキサデカン、臭化オクタデカン、臭化エイコサン、ヨウ化ヘキサン、ヨウ化オクタン、ヨウ化デカン、ヨウ化ドデカン、ヨウ化テトラデカン、ヨウ化ヘキサデカン、ヨウ化オクタデカン等が例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３９】
上記式（５）の第３アミンに対して、上記式（６）の四級化剤化合物は過剰に用いることが望ましい。２倍モル以上、より好ましくは２．５倍モル以上が好適である。
このときの反応溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール及び２−メトキシエタノールなどのアルコール類、水とアルコールとの混合溶液、又はクロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒、更にはＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ニトロメタン、ニトロエタン、アセトニトリルなどの非プロトン性溶媒等が好適に用いられる。
【００４０】
反応雰囲気については、特に限定されず、反応温度については、一般に６０℃以上であれば、１時間から４０時間にて反応は完了する。
また、上記の反応は、上記記載の適当な溶媒存在下で、オートクレーブ中で加圧下、好ましくは１０〜１００ＭＰａ（メガパスカル）において５０〜１００℃の温度で行うこともできる。反応時間は通常５時間から１２０時間とすることができる。
【００４１】
○化合物の精製方法
前述の方法により生成された化合物は、必要により、通常の分離精製手段、例えば、カラムクロマト分離や再結晶操作などにより容易に精製することが出来る。
【００４２】
○アニオンの交換
前述の方法により合成された第四アンモニウム塩化合物は、必要に応じその中に含まれるアニオンを、イオン交換により別の特定のアニオンに変えることができる。イオン交換は、例えば、カチオンやアニオン交換樹脂を充填したカラムにて処理をすることなどにより、容易に行うことが出来る。
【００４３】
即ち本発明における第四アンモニウム塩化合物は、イオン交換により、ヨウ素イオン、臭素イオン、塩素イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、次亜塩素酸イオン等の無機系イオン、及び酢酸イオン、シュウ酸イオン、アジピン酸イオン等の有機系アニオンに置き換えることによって製造できる。安全性および使用上問題がなければ、ここに記載したアニオンに限定されるものではない。
【００４４】
○抗菌性
本発明の化合物は、後記に示すとおり、種々の細菌、真菌に対して広い抗菌スペクトルを有している。
本発明の化合物は、従来の市販の第四アンモニウム塩化合物等に比べて、１／１０以下の最小殺菌濃度という優れた殺菌活性を示す。従って、本発明の化合物は、従来市販の同種の殺菌剤よりもはるかに少ない使用濃度で従来の殺菌剤と同等の殺菌効果を発揮することができる。
【００４５】
更に本発明の化合物は、既存の抗菌剤に対して耐性を獲得した菌に対しても、強い抗菌活性を有する。また、同じ抗菌剤を長期間使用すると菌は耐性を獲得し、抗菌活性が弱くなるが、本発明化合物はこのようなことが起こらない。従って、本発明の化合物は、従来の抗菌剤に比べ耐性菌の出現を心配することなく長期間使用することができる。
【００４６】
○用途
本発明の化合物は、抗菌剤として広範囲の分野で利用でき、例えば、防菌防臭加工繊維製品、皮革製品、建材、木材、塗料、接着剤、プラステック、フィルム、紙、パルプ、金属加工油、食品、医薬品、医療・環境消毒剤、眼科治療剤、コンタクトレンズケア用品、点眼剤、口腔洗浄剤、歯磨き、洗浄剤、化粧品、文房具、農薬、畜産分野等における抗菌剤および防腐剤として有用である。
【００４７】
本発明の化合物は、単独で優れた抗菌性を発揮するものであるが、適宜固体又は液体の担体に担持させて使用することができる。例えば、界面活性剤等の他の成分を配合して、エマルジョン、水和剤、ペースト、スプレー、エアゾール等として利用できる。また、賦形剤や界面活性剤等の他の成分を配合して、粒状剤、粉末等としても利用できる。
【００４８】
本発明の化合物を抗菌剤および消毒剤等として使用する際の好ましい配合割合は、抗菌剤の全質量を基準にして、０．０００１〜１００質量％であり、より好ましくは０．００１〜１０質量％である。また、他の抗菌剤たとえば塩化ベンザルコニウム等と配合し使用することもできる。
【００４９】
【実施例】
以下、本発明を実施例、比較例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００５０】
＜実施例１＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．２６ｇ、５．０２ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）オクチルアミン（２．７３ｇ、１２．５ｍｍｏｌ）を１５ｍｌのエタノールに加え、加熱還流下で１２時間反応させた後、溶媒のエタノールを減圧除去した。残渣を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶液にて再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−オクチルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ２ＯＨ−８と略す）を３．４４ｇ得た。目的化合物の収率は９１％であった。
【００５１】
４Ｂ２ＯＨ−８の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），５．６０（４Ｈ，ｔ），４．７９（４Ｈ，ｓ），３．９５（８Ｈ，ｍ），３．４２（８Ｈ，ｍ），３．３４（４Ｈ，ｍ），１．８２（４Ｈ，ｍ），１．２７（２０Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
【００５２】
また元素分析の結果を下記に示す（４Ｂ２ＯＨ−８の分子式はＣ３８Ｈ６６Ｃｌ２Ｎ２Ｏ４）。
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００５３】
＜実施例２＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（２．５１ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）デシルアミン（７．３６ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）を１５ｍｌのイソプロピルアルコールに加え、加熱還流下で１０時間反応させた後、溶媒のイソプロパノールを減圧除去した。残渣を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶液にて再結晶し、減圧乾燥により、白色の化合物４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−デシルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ２ＯＨ−１０と略す）を６．０８ｇ得た。目的化合物の収率は８２％であった。
【００５４】
４Ｂ２ＯＨ−１０の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），５．５７（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７８（４Ｈ，ｓ），３．９５（８Ｈ，ｍ），３．４２（８Ｈ，ｍ），３．２８（４Ｈ，ｍ），１．８２（４Ｈ，ｍ），１．２６（２８Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
また元素分析の結果を表２に示す（４Ｂ２ＯＨ−１０の分子式はＣ４２Ｈ７４Ｃｌ２Ｎ２Ｏ４）。
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００５５】
＜実施例３＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５０ｇ＝５．９７ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ドデシルアミン（４．１０ｇ＝１４．６ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロピルアルコールに加え、加熱還流下で１０時間反応させた後、溶媒のイソプロパノールを減圧除去した。残渣を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の化合物４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ドデシルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ２ＯＨ−１２と略す）を４．０５ｇ得た。目的化合物の収率は８５％であった。
【００５６】
４Ｂ２ＯＨ−１２の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．６０（４Ｈ，ｔ），４．７９（４Ｈ，ｓ），３．９４（８Ｈ，ｍ），３．４１（８Ｈ，ｍ），３．２９（４Ｈ，ｍ），１．８２（４Ｈ，ｍ），１．２５（３６Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００５７】
＜実施例４＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５２ｇ＝６．０５ｍｍｏｌ）とＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアミン（２．８４ｇ＝１５．２ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロパノールに加え、２時間還流した。反応液を室温に戻し、溶媒のイソプロパノールを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで洗浄し粗晶を得た。この粗晶をクロロホルム／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ１ＯＨ−８と略す）を３．４１ｇ得た。目的化合物の収率は９０％であった。
【００５８】
４Ｂ１ＯＨ−８の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），５．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７１（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），３．９２（４Ｈ，ｍ），３．４９−３．２８（８Ｈ，ｍ），３．０２（６Ｈ，ｓ），１．８０（４Ｈ，ｍ），１．３０−１．２７（２０Ｈ，ｍ），０．８７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００５９】
＜実施例５＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５６ｇ＝６．２１ｍｍｏｌ）とＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアミン（３．３９ｇ＝１５．７ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロパノールに加え、２時間還流した。反応液を室温に戻し、溶媒のイソプロパノールを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで洗浄し粗晶を得た。この粗晶をクロロホルム／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ１ＯＨ−１０と略す）を４．０５ｇ得た。目的化合物の収率は９６％であった。
また元素分析の結果を下記に示す（４Ｂ１ＯＨ−１０の分子式はＣ４０Ｈ７０Ｃｌ２Ｎ２Ｏ２）。
【００６０】
４Ｂ１ＯＨ−１０の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７２（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．９２（４Ｈ，ｍ），３．４９−３．２８（８Ｈ，ｍ），３．０２（６Ｈ，ｓ），１．８０（４Ｈ，ｍ），１．２６（２８Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００６１】
＜実施例６＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５４ｇ＝６．１３ｍｍｏｌ）とＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアミン（３．８１ｇ＝１５．７ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロパノールに加え、３時間還流した。反応液を室温に戻し、溶媒のイソプロパノールを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで洗浄し粗晶を得た。この粗晶をクロロホルム／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ１ＯＨ−１２と略す）を４．４３ｇ得た。目的化合物の収率は９８％であった。
４Ｂ１ＯＨ−１２の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７１（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），３．９２（４Ｈ，ｍ），３．４９−３．２８（８Ｈ，ｍ），３．０２（６Ｈ，ｓ），１．８０（４Ｈ，ｍ），１．２７（３６Ｈ，ｍ），０．８７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００６２】
比較のために、先ず、従来の抗菌剤を４種類調整した。
【００６３】
＜比較例１＞
市販の第四アンモニウム塩化合物系抗菌剤である塩化ベンザルコニウム（和光純薬社製）を調整した。以下、ＢＡＣと略す。
【００６４】
＜比較例２＞
比較例２として、市販の第四アンモニウム塩化合物系抗菌剤であるジデシルジメチルアンモニウムブロミド（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を調整した。以下、ＢＢＡＢと略す。
【００６５】
＜比較例３＞
特開平１０−１１４６０４号公報で提案された抗菌剤を合成し使用した。即ち、ハロゲン化合物としてα、α’−ジクロロ−ｐ−キシレン２０ｍｍｏｌを、第３アミンとしてＮ，Ｎ−ジメチルデシルアミン４２ｍｍｏｌを、溶媒としてエタノール１００ｍｌをそれぞれ３００ｍｌ反応容器中に仕込み加熱還流下で５時間反応させた後、溶媒のエタノールを減圧除去することにより粗晶を得た。この粗晶をアセトニトリル／酢酸エチル混合溶媒から再結晶し目的の白色の化合物１，４−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルデシルアンモニオメチル）ベンゼン ジクロリド（４ＢＡＤＭＰ−１０と略す）を６．５ｇ得た。
【００６６】
＜比較例４＞
特開２００２−１８７８７４号に記載された抗菌剤を合成した。即ち、ハロゲン化合物として４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル２０ｍｍｏｌを、第３アミンとしてＮ，Ｎ−ジメチルオクチルアミン４２ｍｍｏｌを、溶媒としてエタノール１００ｍｌを３００ｍｌ反応容器中に仕込み加熱還流下で５時間反応させた後、溶媒のエタノールを減圧除去することにより粗晶を得た。この粗晶を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶媒にて再結晶し、白色の化合物４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−オクチルアンモニオメチル）ビフェニルジクロリド（４ＢＡＤＭＢ−８と略す）を７．４ｇ得た。
【００６７】
＜実施例７＞
○細菌に対する最小殺菌濃度（ＭＢＣ）
一般的な無菌水希釈法に従い、ニュートリエントブロスを用いて培養した対数増殖期初期状態の菌体を、無菌水にて菌懸濁液濃度が約１０６ｃｅｌｌ／ｍｌになるように調整した。段階希釈した薬剤溶液を各０．５ｍｌ分注後、調整した菌体懸濁液をそれぞれ０．５ｍｌずつ接種し、３０℃で３０分間接触後、試験液０．１ｍｌをニュトリエントブロス２ｍｌに移植し、３７℃で２４時間静置培養後、増殖の有無により、ＭＢＣ値を決定した。
供試菌として、下記のグラム陰性細菌５種及びグラム陰性細菌４種を用いた。
Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ ＡＴＣＣ ２７５８３（Ｐ． ａｅｒｕｇｉｎｏｓａと略す）
Ｋｌｅｂｓｉｅｌｌａ ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅ ＡＴＣＣ １３８８３（Ｋ． ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅと略す）
Ｐｒｏｔｅｕｓ ｒｅｔｔｇｅｒｉ ＮＩＴ ９６（Ｐ． ｒｅｔｔｇｅｒｉと略す）
Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ Ｋ１２ ＯＵＴ ８４０１（Ｅ． ｃｏｌｉ ｏｕｔと略す）
Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ Ｋ１２ Ｗ ３１１０（Ｅ． ｃｏｌｉ Ｗと略す）
Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｕｂｔｉｌｉｓ ＩＦＯ ３１３４（Ｂ． ｓｕｂｔｉｌｉｓ ＩＦＯと略す）
Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｕｂｔｉｌｉｓ ＡＴＣＣ ６６３３（Ｂ． ｓｕｂｔｉｌｉｓ ＡＴＣＣと略す）
Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｃｅｒｅｕｓ ＩＦＯ ３００１（Ｂ． ｃｅｒｅｕｓと略す）
Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ ＩＦＯ １２７３２（Ｓ． ａｕｒｅｕｓと略す）
試験サンプルとして、４Ｂ２ＯＨ−８、４Ｂ２ＯＨ−１０、４Ｂ１ＯＨ−１０及び塩化ベンザルコニウムを用いた。結果を表１に示す。
【００６８】
【表１】
【００６９】
＜実施例８＞
○細菌に対する最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）
供試菌として、Ｅ． ｃｏｌｉ Ｗを用い、一般的なブロス希釈法に従い、ニュトリエントブロスを用いて菌懸濁濃度が、１０６ｃｅｌｌ／ｍｌになるように調整した定常期状態の菌液を、段階希釈した薬剤溶液に添加し、３７℃で２４時間静置培養後、濁りの認められない化合物の最小濃度をＭＩＣとした。
試験サンプルは実施例１〜６にて得られた化合物並びに比較例１〜４にて調整した化合物を用いた。結果を表２に示す。
【００７０】
【表２】
【００７１】
上記表１および表２の結果から、本発明化合物の細菌に対するＭＢＣ値又はＭＩＣ値は、比較例の化合物と同等以下であることから、本発明の化合物は比較例の化合物に対して細菌に対する抗菌力が同等以上であることが明らかである。
【００７２】
＜実施例９＞
○最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）の変化試験
抗菌剤耐性菌を取得する方法に準じて試験を実施した。供試菌としてＥ． ｃｏｌｉ Ｗを用い、上記実施例８のＭＩＣ測定と同様の操作を行った。ＭＩＣより一段化合物濃度の低い検定液中の菌（即ち、濁りが認められた検定液の菌）を用いて、次の試験菌液とした。この操作を１０回繰り返した。表３に１回目から１０回目の各化合物におけるＭＩＣ値を表に示す。
【００７３】
【表３】
【００７４】
上記表３の結果から比較例の化合物は、菌が死滅しない程度の濃度で菌と接触させ続けると、ＭＩＣ値が４倍以上に上昇する。しかし、本発明の化合物では、このようなことが認められず、１０回繰り返し接触させても、極めて低濃度で菌の増殖を抑制する。
【００７５】
＜実施例１０＞
比較例の化合物に抵抗性を示した菌株に対する４Ｂ２ＯＨ−１０と４Ｂ１ＯＨ−１０の抗菌活性
実施例９において比較例の化合物に対して抵抗性を示した各Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉを用い（１０回目の抵抗菌株を使用）、４Ｂ２ＯＨ−１０と４Ｂ１ＯＨ−１０のＭＩＣを測定した。なお、ＭＩＣの測定は実施例８と同様に行った。結果を表４に示す。
【００７６】
【表４】
【００７７】
表４より、本発明の化合物は、比較例の化合物に対して抵抗性を獲得したＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ株に対しても、抵抗性を有していないＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ株と同等の高い抗菌活性を示すことが分かる。本結果は、本発明の化合物は耐性菌に対しても有効な抗菌剤、消毒剤として有用であることを示している。
【００７８】
＜実施例１１＞
○真菌に対する最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）
一般的なブロス希釈法に従い、前培養した供試菌を湿潤剤添加殺菌水で胞子液を調整した。段階希釈した薬剤溶液１ｍｌと胞子液１ｍｌとを混合し、インキュベーター内で、３０℃で一週間培養後、増殖の有無を濁度で判定し、濁度の生じていない最小濃度をＭＩＣとした。
供試菌として、Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ ＩＦＯ６３４１（Ａ．ｎｉｇｅｒと略す）及びＣａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ ＡＴＣＣ １０２３１（Ｃ．ａｌｂｉｃａｎｓと略す）を用いた。
試験サンプルとして、４Ｂ２ＯＨ−８と４Ｂ２ＯＨ−１０及び塩化ベンザルコニウムを用いた。結果を表５に示す。
【００７９】
【表５】
【００８０】
上記表５の結果から、本発明の化合物を用いたときのＭＩＣ値は塩化ベンザルコニウムを用いた場合より小さいことから、本発明の化合物は塩化ベンザルコニウムに比較して真菌に対する抗菌力が高いことが明らかである。
【００８１】
【発明の効果】
本発明の化合物は、式（１）で示される新規な第四アンモニウム塩化合物であり、当該化合物は、優れた殺菌効果と広い抗菌スペクトルを有し、抗菌剤として有用である。既知の抗菌剤に耐性を獲得した菌株に高い抗菌活性を有すること、及び長期間繰り返し使用しても菌が耐性を獲得し難いことから、他の抗菌剤に比べて耐性株の出現を心配することなく長期間使用することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な第四アンモニウム塩化合物、その製造方法、グラム陽性細菌及びグラム陰性細菌、真菌及び酵母に対する抗菌剤、殺菌剤、消毒薬、保存剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
抗菌活性を有する第四アンモニウム塩化合物は古くから知られ、現在も広く一般に用いられている。しかし、このような化合物は通常、殺菌力、抗菌力が糖質、蛋白質及び脂質などに拮抗され、また繰り返し使用すると、菌がこれら抗菌剤に対して抵抗性を獲得し、抗菌活性が低下するようになる。
【０００３】
前述の課題を解決する方法として、第四アンモニウム塩構造を１分子中に２個持つ化合物、即ちビス第四アンモニウム塩化合物からなる抗菌剤が提案されている（例えば特許文献１、特許文献２、特許文献３など参照）。これら公報記載の化合物は、高い抗菌活性を有しており、一部実際に抗菌剤として利用されている。しかし、これらの化合物は高い抗菌活性を有するものの、まだ不十分であり、また菌の抵抗性獲得や薬剤抵抗性菌に対する効果の点で改善が望まれていた。
【０００４】
アンモニウム窒素に２−ヒドロキシエチル基を有するビス型第四アンモニウム塩としてキシリレン型化合物が報告されている（例えば、特許文献４参照）が、これら化合物について抗菌活性に関しては何ら言及されていない。また、２−ヒドロキシスチリル基を有するビス型第四アンモニウム塩の抗菌活性に関する報告（例えば、特許文献５参照）があるが、抗菌活性が低く満足できるものではない。
【０００５】
○先行文献
【特許文献１】
特開平６−３２１９０２号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】
特開２０００−９５７６３号公報（特許請求の範囲）
【特許文献３】
特開２００２−１８７８７４号公報（特許請求の範囲）
【特許文献４】
米国特許第３，２８３，００５号明細書（実施例２〜５，クレーム）
【特許文献５】
特開昭５７−１４５１９６号公報（特許請求の範囲）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高い抗菌活性と広い抗菌スペクトルを示し、且つ長期間繰り返し使用しても菌が耐性を獲得し難く、また既知の抗菌剤に耐性を獲得した菌株に高い抗菌活性を有する抗菌剤を提供することを課題とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記式（１）で示される第四アンモニウム塩化合物である。
【０００８】
【化７】
式（１）中、Ｒ１は分岐があってもよい炭素数４〜２０のアルキル基であり、Ｒ２はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ４は分岐があってもよい炭素数６〜２０のアルキル基であり、Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘｎ−は無機性または有機性のアニオン基であり、ｎはアニオン基Ｘｎ−の価数であって、ｍとｎとの積が２である。
【００１０】
更に、式（１）を製造するための方法を提供するものであり、当該化合物を含有する抗菌剤、消毒薬、保存剤または防黴剤を提供するものである。以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
○第四アンモニウム塩化合物
本発明の第四アンモニウム塩化合物は、上記式（１）で表されるものであり、各々のアンモニウム窒素に、水酸基を含有するアルキル基を１個または２個有するものである。
【００１２】
式（１）において第四アンモニウム塩がビフェニルに結合する位置はいずれでもよいが、パラ位が好ましく、２個ともパラ位が更に好ましい。
【００１３】
本発明の第四アンモニウム塩化合物は、式（１）のＲ１とＲ４とが異なっていてもよく、同一であることが好ましい。また、Ｒ２とＲ５とが異なっていてもよく、同一であることが好ましく、Ｒ３とＲ６とが異なっていてもよく、同一であることが好ましい。本化合物が有する水酸基の個数は、１〜４個であり、好ましくは２〜４個であり、更に好ましくは４個である。また、本発明の第四アンモニウム塩化合物のアルキル基は、分岐があってもよいが、好ましくは直鎖のものである。
【００１４】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ１とＲ４は、炭素数４〜２０のアルキル基であり、好ましくは分岐があってもよい炭素数６〜１６のアルキル基であり、特に好ましくは偶数のものである。
【００１５】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ２は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２個アルキル基であり２−ヒドロキシエチル基である。
【００１６】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ５は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２個アルキル基であり２−ヒドロキシエチル基である。
【００１７】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ３は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２のアルキル基であり２−ヒドロキシエチル基である。
【００１８】
本発明の第四アンモニウム塩化合物のＲ６は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２のアルキル基であり２−ヒドロキシエチル基である。
【００１９】
○製造方法
本発明の第四アンモニウム塩化合物は、下記式（２）の化合物に下記式（３）の化合物と下記式（４）とを、または下記式（２）の化合物に下記式（３）の化合物とを反応させて合成することができる。また、下記式（５）の化合物と下記式（６）の化合物との反応により合成することもできる。
【００２０】
【化８】
式（２）中、Ｙは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
【００２２】
【化９】
式（３）中、Ｒ１は炭素数４〜２０の分岐があってもよいアルキル基であり、Ｒ２はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基を示す。
【００２４】
【化１０】
式（４）中、Ｒ４は炭素数４〜２０の分岐があってもよいアルキル基であり、Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基を示す。
【００２６】
【化１１】
式（５）中、Ｒ２はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基である。
【００２８】
Ｒ７−Ｊ （６）
式（６）中、Ｒ７は分岐があってもよい炭素数４〜２０のアルキル基であり、Ｊは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または下記式（７）の基のいずれかを表す。
【００２９】
【化１２】
式（７）中、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ水素原子、又は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
【００３１】
式（２）として、２，２’−ビス（クロロメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（クロロメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（ブロモメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（ブロモメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（ブロモメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（イオドメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（イオドメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（イオドメチル）ビフェニル等のハロゲン化物が例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３２】
式（３）として、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）オクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）デシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ドデシルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアミンが例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３３】
式（４）として、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）オクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）デシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ドデシルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアミンが例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３４】
式（２）のハロゲン化合物に対する第３アミンの使用割合は、ハロゲン化合物１モルに対して２モル以上、例えば２〜２．３モルの割合で用いれば良い。
【００３５】
合成時の反応溶媒は特に限定されないが、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール及び２−メトキシエタノールなどのアルコール類、水とアルコールとの混合溶液、又はクロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素などのハロゲン系溶媒、更にはＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ニトロメタン、ニトロエタン、アセトニトリルなどを用いることができる。
【００３６】
反応雰囲気については、特に限定されず、反応温度については、一般に６０℃以上であれば、１時間から４０時間にて反応は完了する。
また、上記の反応は、上記記載の適当な溶媒存在下で、オートクレーブ中で加圧下、好ましくは１０〜１００ＭＰａ（メガパスカル）において５０〜１００℃の温度で行うこともできる。仕込み時間を含め反応時間は通常５時間から１２０時間とすることができる。
【００３７】
式（５）として、４，４’−ビス（ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−エチルアミノメチル）ビフェニル、４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−プロピルアミノメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−エチルアミノメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−プロピルアミノメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−エチルアミノメチル）ビフェニル、２，２’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−プロピルアミノメチル）ビフェニルなどが例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
上記式（６）の化合物の例としては、塩化ヘキサン、塩化オクタン、塩化デカン、塩化ドデカン、塩化テトラデカン、塩化ヘキサデカン、塩化オクタデカン、塩化エイコサン、臭化ヘキサン、臭化オクタン、臭化デカン、臭化ドデカン、臭化テトラデカン、臭化ヘキサデカン、臭化オクタデカン、臭化エイコサン、ヨウ化ヘキサン、ヨウ化オクタン、ヨウ化デカン、ヨウ化ドデカン、ヨウ化テトラデカン、ヨウ化ヘキサデカン、ヨウ化オクタデカン等が例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３９】
上記式（５）の第３アミンに対して、上記式（６）の四級化剤化合物は過剰に用いることが望ましい。２倍モル以上、より好ましくは２．５倍モル以上が好適である。
このときの反応溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール及び２−メトキシエタノールなどのアルコール類、水とアルコールとの混合溶液、又はクロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒、更にはＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ニトロメタン、ニトロエタン、アセトニトリルなどの非プロトン性溶媒等が好適に用いられる。
【００４０】
反応雰囲気については、特に限定されず、反応温度については、一般に６０℃以上であれば、１時間から４０時間にて反応は完了する。
また、上記の反応は、上記記載の適当な溶媒存在下で、オートクレーブ中で加圧下、好ましくは１０〜１００ＭＰａ（メガパスカル）において５０〜１００℃の温度で行うこともできる。反応時間は通常５時間から１２０時間とすることができる。
【００４１】
○化合物の精製方法
前述の方法により生成された化合物は、必要により、通常の分離精製手段、例えば、カラムクロマト分離や再結晶操作などにより容易に精製することが出来る。
【００４２】
○アニオンの交換
前述の方法により合成された第四アンモニウム塩化合物は、必要に応じその中に含まれるアニオンを、イオン交換により別の特定のアニオンに変えることができる。イオン交換は、例えば、カチオンやアニオン交換樹脂を充填したカラムにて処理をすることなどにより、容易に行うことが出来る。
【００４３】
即ち本発明における第四アンモニウム塩化合物は、イオン交換により、ヨウ素イオン、臭素イオン、塩素イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、次亜塩素酸イオン等の無機系イオン、及び酢酸イオン、シュウ酸イオン、アジピン酸イオン等の有機系アニオンに置き換えることによって製造できる。安全性および使用上問題がなければ、ここに記載したアニオンに限定されるものではない。
【００４４】
○抗菌性
本発明の化合物は、後記に示すとおり、種々の細菌、真菌に対して広い抗菌スペクトルを有している。
本発明の化合物は、従来の市販の第四アンモニウム塩化合物等に比べて、１／１０以下の最小殺菌濃度という優れた殺菌活性を示す。従って、本発明の化合物は、従来市販の同種の殺菌剤よりもはるかに少ない使用濃度で従来の殺菌剤と同等の殺菌効果を発揮することができる。
【００４５】
更に本発明の化合物は、既存の抗菌剤に対して耐性を獲得した菌に対しても、強い抗菌活性を有する。また、同じ抗菌剤を長期間使用すると菌は耐性を獲得し、抗菌活性が弱くなるが、本発明化合物はこのようなことが起こらない。従って、本発明の化合物は、従来の抗菌剤に比べ耐性菌の出現を心配することなく長期間使用することができる。
【００４６】
○用途
本発明の化合物は、抗菌剤として広範囲の分野で利用でき、例えば、防菌防臭加工繊維製品、皮革製品、建材、木材、塗料、接着剤、プラステック、フィルム、紙、パルプ、金属加工油、食品、医薬品、医療・環境消毒剤、眼科治療剤、コンタクトレンズケア用品、点眼剤、口腔洗浄剤、歯磨き、洗浄剤、化粧品、文房具、農薬、畜産分野等における抗菌剤および防腐剤として有用である。
【００４７】
本発明の化合物は、単独で優れた抗菌性を発揮するものであるが、適宜固体又は液体の担体に担持させて使用することができる。例えば、界面活性剤等の他の成分を配合して、エマルジョン、水和剤、ペースト、スプレー、エアゾール等として利用できる。また、賦形剤や界面活性剤等の他の成分を配合して、粒状剤、粉末等としても利用できる。
【００４８】
本発明の化合物を抗菌剤および消毒剤等として使用する際の好ましい配合割合は、抗菌剤の全質量を基準にして、０．０００１〜１００質量％であり、より好ましくは０．００１〜１０質量％である。また、他の抗菌剤たとえば塩化ベンザルコニウム等と配合し使用することもできる。
【００４９】
【実施例】
以下、本発明を実施例、比較例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００５０】
＜実施例１＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．２６ｇ、５．０２ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）オクチルアミン（２．７３ｇ、１２．５ｍｍｏｌ）を１５ｍｌのエタノールに加え、加熱還流下で１２時間反応させた後、溶媒のエタノールを減圧除去した。残渣を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶液にて再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−オクチルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ２ＯＨ−８と略す）を３．４４ｇ得た。目的化合物の収率は９１％であった。
【００５１】
４Ｂ２ＯＨ−８の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），５．６０（４Ｈ，ｔ），４．７９（４Ｈ，ｓ），３．９５（８Ｈ，ｍ），３．４２（８Ｈ，ｍ），３．３４（４Ｈ，ｍ），１．８２（４Ｈ，ｍ），１．２７（２０Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
【００５２】
また元素分析の結果を下記に示す（４Ｂ２ＯＨ−８の分子式はＣ３８Ｈ６６Ｃｌ２Ｎ２Ｏ４）。
【００５３】
＜実施例２＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（２．５１ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）デシルアミン（７．３６ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）を１５ｍｌのイソプロピルアルコールに加え、加熱還流下で１０時間反応させた後、溶媒のイソプロパノールを減圧除去した。残渣を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶液にて再結晶し、減圧乾燥により、白色の化合物４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−デシルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ２ＯＨ−１０と略す）を６．０８ｇ得た。目的化合物の収率は８２％であった。
【００５４】
４Ｂ２ＯＨ−１０の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），５．５７（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７８（４Ｈ，ｓ），３．９５（８Ｈ，ｍ），３．４２（８Ｈ，ｍ），３．２８（４Ｈ，ｍ），１．８２（４Ｈ，ｍ），１．２６（２８Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
また元素分析の結果を表２に示す（４Ｂ２ＯＨ−１０の分子式はＣ４２Ｈ７４Ｃｌ２Ｎ２Ｏ４）。
【００５５】
＜実施例３＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５０ｇ＝５．９７ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ドデシルアミン（４．１０ｇ＝１４．６ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロピルアルコールに加え、加熱還流下で１０時間反応させた後、溶媒のイソプロパノールを減圧除去した。残渣を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の化合物４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ドデシルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ２ＯＨ−１２と略す）を４．０５ｇ得た。目的化合物の収率は８５％であった。
【００５６】
４Ｂ２ＯＨ−１２の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．６０（４Ｈ，ｔ），４．７９（４Ｈ，ｓ），３．９４（８Ｈ，ｍ），３．４１（８Ｈ，ｍ），３．２９（４Ｈ，ｍ），１．８２（４Ｈ，ｍ），１．２５（３６Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００５７】
＜実施例４＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５２ｇ＝６．０５ｍｍｏｌ）とＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアミン（２．８４ｇ＝１５．２ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロパノールに加え、２時間還流した。反応液を室温に戻し、溶媒のイソプロパノールを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで洗浄し粗晶を得た。この粗晶をクロロホルム／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ１ＯＨ−８と略す）を３．４１ｇ得た。目的化合物の収率は９０％であった。
【００５８】
４Ｂ１ＯＨ−８の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），５．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７１（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），３．９２（４Ｈ，ｍ），３．４９−３．２８（８Ｈ，ｍ），３．０２（６Ｈ，ｓ），１．８０（４Ｈ，ｍ），１．３０−１．２７（２０Ｈ，ｍ），０．８７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００５９】
＜実施例５＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５６ｇ＝６．２１ｍｍｏｌ）とＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアミン（３．３９ｇ＝１５．７ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロパノールに加え、２時間還流した。反応液を室温に戻し、溶媒のイソプロパノールを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで洗浄し粗晶を得た。この粗晶をクロロホルム／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ１ＯＨ−１０と略す）を４．０５ｇ得た。目的化合物の収率は９６％であった。
また元素分析の結果を下記に示す（４Ｂ１ＯＨ−１０の分子式はＣ４０Ｈ７０Ｃｌ２Ｎ２Ｏ２）。
４Ｂ１ＯＨ−１０の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７２（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．９２（４Ｈ，ｍ），３．４９−３．２８（８Ｈ，ｍ），３．０２（６Ｈ，ｓ），１．８０（４Ｈ，ｍ），１．２６（２８Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００６１】
＜実施例６＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５４ｇ＝６．１３ｍｍｏｌ）とＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアミン（３．８１ｇ＝１５．７ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロパノールに加え、３時間還流した。反応液を室温に戻し、溶媒のイソプロパノールを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで洗浄し粗晶を得た。この粗晶をクロロホルム／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアンモニオメチル）ビフェニル ジクロリド（４Ｂ１ＯＨ−１２と略す）を４．４３ｇ得た。目的化合物の収率は９８％であった。
４Ｂ１ＯＨ−１２の１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ６）分析結果を次に示す。δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７１（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），３．９２（４Ｈ，ｍ），３．４９−３．２８（８Ｈ，ｍ），３．０２（６Ｈ，ｓ），１．８０（４Ｈ，ｍ），１．２７（３６Ｈ，ｍ），０．８７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００６２】
比較のために、先ず、従来の抗菌剤を４種類調整した。
【００６３】
＜比較例１＞
市販の第四アンモニウム塩化合物系抗菌剤である塩化ベンザルコニウム（和光純薬社製）を調整した。以下、ＢＡＣと略す。
【００６４】
＜比較例２＞
比較例２として、市販の第四アンモニウム塩化合物系抗菌剤であるジデシルジメチルアンモニウムブロミド（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を調整した。以下、ＢＢＡＢと略す。
【００６５】
＜比較例３＞
特開平１０−１１４６０４号公報で提案された抗菌剤を合成し使用した。即ち、ハロゲン化合物としてα、α’−ジクロロ−ｐ−キシレン２０ｍｍｏｌを、第３アミンとしてＮ，Ｎ−ジメチルデシルアミン４２ｍｍｏｌを、溶媒としてエタノール１００ｍｌをそれぞれ３００ｍｌ反応容器中に仕込み加熱還流下で５時間反応させた後、溶媒のエタノールを減圧除去することにより粗晶を得た。この粗晶をアセトニトリル／酢酸エチル混合溶媒から再結晶し目的の白色の化合物１，４−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルデシルアンモニオメチル）ベンゼン ジクロリド（４ＢＡＤＭＰ−１０と略す）を６．５ｇ得た。
【００６６】
＜比較例４＞
特開２００２−１８７８７４号に記載された抗菌剤を合成した。即ち、ハロゲン化合物として４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル２０ｍｍｏｌを、第３アミンとしてＮ，Ｎ−ジメチルオクチルアミン４２ｍｍｏｌを、溶媒としてエタノール１００ｍｌを３００ｍｌ反応容器中に仕込み加熱還流下で５時間反応させた後、溶媒のエタノールを減圧除去することにより粗晶を得た。この粗晶を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶媒にて再結晶し、白色の化合物４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−オクチルアンモニオメチル）ビフェニルジクロリド（４ＢＡＤＭＢ−８と略す）を７．４ｇ得た。
【００６７】
＜実施例７＞
○細菌に対する最小殺菌濃度（ＭＢＣ）
一般的な無菌水希釈法に従い、ニュートリエントブロスを用いて培養した対数増殖期初期状態の菌体を、無菌水にて菌懸濁液濃度が約１０６ｃｅｌｌ／ｍｌになるように調整した。段階希釈した薬剤溶液を各０．５ｍｌ分注後、調整した菌体懸濁液をそれぞれ０．５ｍｌずつ接種し、３０℃で３０分間接触後、試験液０．１ｍｌをニュトリエントブロス２ｍｌに移植し、３７℃で２４時間静置培養後、増殖の有無により、ＭＢＣ値を決定した。
供試菌として、下記のグラム陰性細菌５種及びグラム陰性細菌４種を用いた。
Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ ＡＴＣＣ ２７５８３（Ｐ． ａｅｒｕｇｉｎｏｓａと略す）
Ｋｌｅｂｓｉｅｌｌａ ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅ ＡＴＣＣ １３８８３（Ｋ． ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅと略す）
Ｐｒｏｔｅｕｓ ｒｅｔｔｇｅｒｉ ＮＩＴ ９６（Ｐ． ｒｅｔｔｇｅｒｉと略す）
Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ Ｋ１２ ＯＵＴ ８４０１（Ｅ． ｃｏｌｉ ｏｕｔと略す）
Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ Ｋ１２ Ｗ ３１１０（Ｅ． ｃｏｌｉ Ｗと略す）
Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｕｂｔｉｌｉｓ ＩＦＯ ３１３４（Ｂ． ｓｕｂｔｉｌｉｓ ＩＦＯと略す）
Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｕｂｔｉｌｉｓ ＡＴＣＣ ６６３３（Ｂ． ｓｕｂｔｉｌｉｓ ＡＴＣＣと略す）
Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｃｅｒｅｕｓ ＩＦＯ ３００１（Ｂ． ｃｅｒｅｕｓと略す）
Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ ＩＦＯ １２７３２（Ｓ． ａｕｒｅｕｓと略す）
試験サンプルとして、４Ｂ２ＯＨ−８、４Ｂ２ＯＨ−１０、４Ｂ１ＯＨ−１０及び塩化ベンザルコニウムを用いた。結果を表１に示す。
【００６８】
【表１】
＜実施例８＞
○細菌に対する最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）
供試菌として、Ｅ． ｃｏｌｉ Ｗを用い、一般的なブロス希釈法に従い、ニュトリエントブロスを用いて菌懸濁濃度が、１０６ｃｅｌｌ／ｍｌになるように調整した定常期状態の菌液を、段階希釈した薬剤溶液に添加し、３７℃で２４時間静置培養後、濁りの認められない化合物の最小濃度をＭＩＣとした。
試験サンプルは実施例１〜６にて得られた化合物並びに比較例１〜４にて調整した化合物を用いた。結果を表２に示す。
【００７０】
【表２】
上記表１および表２の結果から、本発明化合物の細菌に対するＭＢＣ値又はＭＩＣ値は、比較例の化合物と同等以下であることから、本発明の化合物は比較例の化合物に対して細菌に対する抗菌力が同等以上であることが明らかである。
【００７２】
＜実施例９＞
○最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）の変化試験
抗菌剤耐性菌を取得する方法に準じて試験を実施した。供試菌としてＥ． ｃｏｌｉ Ｗを用い、上記実施例８のＭＩＣ測定と同様の操作を行った。ＭＩＣより一段化合物濃度の低い検定液中の菌（即ち、濁りが認められた検定液の菌）を用いて、次の試験菌液とした。この操作を１０回繰り返した。表３に１回目から１０回目の各化合物におけるＭＩＣ値を表に示す。
【００７３】
【表３】
上記表３の結果から比較例の化合物は、菌が死滅しない程度の濃度で菌と接触させ続けると、ＭＩＣ値が４倍以上に上昇する。しかし、本発明の化合物では、このようなことが認められず、１０回繰り返し接触させても、極めて低濃度で菌の増殖を抑制する。
【００７５】
＜実施例１０＞
比較例の化合物に抵抗性を示した菌株に対する４Ｂ２ＯＨ−１０と４Ｂ１ＯＨ−１０の抗菌活性
実施例９において比較例の化合物に対して抵抗性を示した各Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉを用い（１０回目の抵抗菌株を使用）、４Ｂ２ＯＨ−１０と４Ｂ１ＯＨ−１０のＭＩＣを測定した。なお、ＭＩＣの測定は実施例８と同様に行った。結果を表４に示す。
【００７６】
【表４】
表４より、本発明の化合物は、比較例の化合物に対して抵抗性を獲得したＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ株に対しても、抵抗性を有していないＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ株と同等の高い抗菌活性を示すことが分かる。本結果は、本発明の化合物は耐性菌に対しても有効な抗菌剤、消毒剤として有用であることを示している。
【００７８】
＜実施例１１＞
○真菌に対する最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）
一般的なブロス希釈法に従い、前培養した供試菌を湿潤剤添加殺菌水で胞子液を調整した。段階希釈した薬剤溶液１ｍｌと胞子液１ｍｌとを混合し、インキュベーター内で、３０℃で一週間培養後、増殖の有無を濁度で判定し、濁度の生じていない最小濃度をＭＩＣとした。
供試菌として、Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ ＩＦＯ６３４１（Ａ．ｎｉｇｅｒと略す）及びＣａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ ＡＴＣＣ １０２３１（Ｃ．ａｌｂｉｃａｎｓと略す）を用いた。
試験サンプルとして、４Ｂ２ＯＨ−８と４Ｂ２ＯＨ−１０及び塩化ベンザルコニウムを用いた。結果を表５に示す。
【００７９】
【表５】
上記表５の結果から、本発明の化合物を用いたときのＭＩＣ値は塩化ベンザルコニウムを用いた場合より小さいことから、本発明の化合物は塩化ベンザルコニウムに比較して真菌に対する抗菌力が高いことが明らかである。
【００８１】
【発明の効果】
本発明の化合物は、式（１）で示される新規な第四アンモニウム塩化合物であり、当該化合物は、優れた殺菌効果と広い抗菌スペクトルを有し、抗菌剤として有用である。既知の抗菌剤に耐性を獲得した菌株に高い抗菌活性を有すること、及び長期間繰り返し使用しても菌が耐性を獲得し難いことから、他の抗菌剤に比べて耐性株の出現を心配することなく長期間使用することができる。
Claims (6)
- 下記式（１）で示される第四アンモニウム塩化合物。
- 式（１）のＲ１とＲ４とが同一であり、Ｒ２とＲ５とがヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ３とＲ６とが同一である請求項１記載の第四アンモニウム塩化合物。
- 式（１）のＲ１とＲ４とが炭素数６〜１６のアルキル基、Ｒ２とＲ５とが２−ヒドロキシエチル基、Ｒ３とＲ６とが２−ヒドロキシエチル基または炭素数１〜４のアルキル基である請求項１〜２にそれぞれ記載の第四アンモニウム塩化合物。
- 下記式（２）の化合物に下記式（３）の化合物と下記式（４）とを、または下記式（２）の化合物に下記式（３）の化合物とを反応させて合成することを特徴とする請求項１〜４にそれぞれ記載のビス第四アンモニウム塩化合物の製造方法。
- 下記式（５）の化合物と下記式（６）の化合物との反応により合成することを特徴とする請求項１〜４にそれぞれ記載のビス第四アンモニウム塩化合物の製造方法。
Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基である。］
Ｒ７−Ｊ （６）
［式（６）中、Ｒ７は分岐があってもよい炭素数４〜２０のアルキル基であり、Ｊは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または下記式（７）の基のいずれかを表す。］
- 請求項１〜４にそれぞれ記載の第四アンモニウム塩化合物を含有する抗菌剤、消毒薬、保存剤または防黴剤。
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