JP2004218068A - 軟磁性薄膜の製造方法及び軟磁性薄膜 - Google Patents
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【効果】 本発明によれば、主成分としてCoとFeとを含有する合金からなる軟磁性薄膜を、その飽和磁束密度の理論値からほとんど低下させることなく製造でき、高い飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜を効率よく製造することができる。
【選択図】 なし
Description
(1)主成分としてCoとFeとを含有する合金からなる軟磁性薄膜を製造する方法であって、陰極室と、隔膜又は塩橋によってこの陰極室と電荷移動可能に但しFeイオンの透過を阻止するように隔離された陽極室とを有するめっき槽を使用し、上記陰極室にCoイオンと2価のFeイオンとを含むめっき液を収容し、このめっき液に被めっき物を浸漬すると共に、上記陽極室に電解液を収容し、この電解液にアノードを浸漬して電気めっきすることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法、
(2)主成分としてCoとFeとを含有する合金からなる軟磁性薄膜を製造する方法であって、Coイオンと2価のFeイオンとを含むめっき液を用い、このめっき液に被めっき物と溶解性アノードを浸漬して電気めっきすることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法、
(3)上記電気めっきをパルス電流にて行うことを特徴とする(1)又は(2)記載の軟磁性薄膜の製造方法。
(4)電気めっきにより膜を成膜後、更に、この膜を100〜550℃の温度で熱処理することを特徴とする(1)乃至(3)のいずれか1項記載の軟磁性薄膜の製造方法、
(5)軟磁性薄膜のCo及びFeの含有量が、5at%≦Co≦70at%、30at%≦Fe≦95at%の範囲であることを特徴とする(1)乃至(4)のいずれか1項記載の軟磁性薄膜の製造方法、
(6)軟磁性薄膜の飽和磁束密度が2.0T以上であることを特徴とする(1)乃至(5)のいずれか1項記載の軟磁性薄膜の製造方法、及び
(7)(1)乃至(6)のいずれか1項記載の方法により製造した軟磁性薄膜
を提供する。
まず、本発明における第1の態様である軟磁性薄膜の製造方法について説明する。
本発明の第1の態様である軟磁性薄膜の製造方法は、主成分としてCoとFeとを含有する合金からなる軟磁性薄膜を、陰極室と、隔膜又は塩橋によってこの陰極室と電荷移動可能に但しFeイオンの透過を阻止するように隔離された陽極室とを有するめっき槽を使用し、上記陰極室にCoイオンと2価のFeイオンとを含むめっき液を収容し、このめっき液に被めっき物を浸漬すると共に、上記陽極室に電解液を収容し、この電解液にアノードを浸漬して電気めっきすることにより製造するものである。
本発明の第2の態様である軟磁性薄膜の製造方法は、主成分としてCoとFeとを含有する合金からなる軟磁性薄膜を、Coイオンと2価のFeイオンとを含むめっき液を用い、このめっき液に被めっき物と溶解性アノードを浸漬して電気めっきすることにより製造するものである。
図4に示されるようなめっき装置を用い、下記めっき液及びめっき条件で電気めっき法により基板上にCoFe合金からなる軟磁性薄膜(1μm)を製造した。なお、アノードには白金、塩橋には飽和塩化カリウム水溶液を寒天で固めたもの、電解液には10vol%硫酸水溶液を用いた。
硫酸コバルト 0.055〜0.06mol/dm3
硫酸鉄(II) 0.04〜0.045mol/dm3
ホウ酸 0.4mol/dm3
塩化アンモニウム 0.4mol/dm3
ドデシル硫酸ナトリウム 0.01g/dm3
pH 2.3
めっき液温度 18℃
陰極電流密度 20mA/cm2
回転ディスク電極(RDE)撹拌 1,000rpm
実施例1のめっき液において、硫酸コバルトを0.05〜0.055mol/dm3、硫酸鉄(II)を0.045〜0.05mol/dm3とした以外は、実施例1と同様の方法で軟磁性薄膜(1μm)を製造し、得られた軟磁性薄膜の磁気特性及び膜組成を評価した。結果を表1に示す。
実施例1のめっき液において、硫酸コバルトを0.045〜0.05mol/dm3、硫酸鉄(II)を0.05〜0.055mol/dm3とした以外は、実施例1と同様の方法で軟磁性薄膜(1μm)を製造し、得られた軟磁性薄膜の磁気特性及び膜組成を評価した。結果を表1に示す。
実施例1のめっき液において、硫酸コバルトを0.035〜0.04mol/dm3、硫酸鉄(II)を0.06〜0.065mol/dm3とした以外は、実施例1と同様の方法で軟磁性薄膜(1μm)を製造し、得られた軟磁性薄膜の磁気特性及び膜組成を評価した。結果を表1に示す。
実施例1のめっき液において、硫酸コバルトを0.09〜0.095mol/dm3、硫酸鉄(II)を0.005〜0.01mol/dm3とした以外は、実施例1と同様の方法で軟磁性薄膜(1μm)を製造し、得られた軟磁性薄膜の磁気特性及び膜組成を評価した。結果を表1に示す。
図2に示されるようなめっき装置を用い、下記めっき液及びめっき条件で電気めっき法により基板上にCoFe合金からなる軟磁性薄膜(1μm)を製造した。なお、アノードにはルテニウム白金合金、隔膜にはナフィオン(商品名 デュポン社製半透膜)、電解液には10vol%硫酸水溶液を用いた。
硫酸コバルト 0.05〜0.055mol/dm3
硫酸鉄(II) 0.045〜0.05mol/dm3
ホウ酸 0.4mol/dm3
塩化アンモニウム 0.4mol/dm3
ドデシル硫酸ナトリウム 0.01g/dm3
pH 2.3
めっき液温度 18℃
陰極電流密度 20mA/cm2
パドル撹拌 100rpm
図3に示されるようなめっき装置を用い、下記めっき液及びめっき条件で電気めっき法により基板上にCoFe合金からなる軟磁性薄膜(1μm)を製造した。なお、アノードには白金、隔膜には多孔性ガラス、電解液には10vol%硫酸水溶液を用いた。
硫酸コバルト 0.05〜0.055mol/dm3
硫酸鉄(II) 0.045〜0.05mol/dm3
ホウ酸 0.4mol/dm3
塩化アンモニウム 0.4mol/dm3
ドデシル硫酸ナトリウム 0.01g/dm3
pH 2.3
めっき液温度 18℃
陰極電流密度 20mA/cm2
回転ディスク電極(RDE)撹拌 1,000rpm
図5に示されるようなめっき装置を用い、下記めっき液及びめっき条件で電気めっき法により基板上にCoFe合金からなる軟磁性薄膜(1μm)を製造した。なお、溶解性アノードにはコバルトを用いた。
硫酸コバルト 0.045〜0.05mol/dm3
硫酸鉄(II) 0.05〜0.055mol/dm3
ホウ酸 0.4mol/dm3
塩化アンモニウム 0.4mol/dm3
ドデシル硫酸ナトリウム 0.01g/dm3
pH 2.3
めっき液温度 18℃
陰極電流密度 20mA/cm2
回転ディスク電極(RDE)撹拌 1,000rpm
図6に示されるような、隔膜、塩橋及び電解液を用いず、被めっき物(基板)5と不溶性アノード62を共にめっき液3に浸漬するめっき装置を用い、下記めっき液及びめっき条件で電気めっき法により基板上にCoFe合金からなる軟磁性薄膜(1μm)を製造した。なお、不溶性アノードには白金を用いた。また、図6中、2はめっき容器、7は電源である。
硫酸コバルト 0.045〜0.05mol/dm3
硫酸鉄(II) 0.05〜0.055mol/dm3
ホウ酸 0.4mol/dm3
塩化アンモニウム 0.4mol/dm3
ドデシル硫酸ナトリウム 0.01g/dm3
pH 2.3
めっき液温度 18℃
陰極電流密度 20mA/cm2
回転ディスク電極(RDE)撹拌 1,000rpm
図6に示されるような、隔膜、塩橋及び電解液を用いず、被めっき物(基板)5と不溶性アノード62を共にめっき液3に浸漬するめっき装置を用い、下記めっき液及びめっき条件で電気めっき法により基板上にCoFe合金からなる軟磁性薄膜(1μm)を製造した。なお、不溶性アノードにはルテニウム白金合金を用いた。
硫酸コバルト 0.045〜0.05mol/dm3
硫酸鉄(II) 0.05〜0.055mol/dm3
ホウ酸 0.4mol/dm3
塩化アンモニウム 0.4mol/dm3
ドデシル硫酸ナトリウム 0.01g/dm3
pH 2.3
めっき液温度 18℃
陰極電流密度 20mA/cm2
パドル撹拌 100rpm
実施例3と同様の方法により薄膜を成膜し、次いで下記条件で熱処理を施して(実施例10〜14)軟磁性薄膜を得た。この膜の膜組成を蛍光X線及び誘導結合プラズマ発光分析法により評価したところCo33at%、Fe67at%であった。この膜の軟磁性薄膜の磁気特性(飽和磁束密度、保磁力)を振動試料型磁力計にて評価した。結果を表2に示す。
熱処理温度 処理なし,250,300,350,400℃,450℃
昇温速度 10℃/分
熱処理時間 1時間
冷却 自然放冷
図4に示されるようなめっき装置を用い、下記めっき液及びめっき条件でパルス電流を用いた電気めっき法により基板上にCoFe合金からなる軟磁性薄膜(1μm)を製造した。なお、アノードには白金、塩橋には飽和塩化カリウム水溶液を寒天で固めたもの、電解液には10vol%硫酸水溶液を用いた。
硫酸コバルト 0.045〜0.05mol/dm3
硫酸鉄(II) 0.05〜0.055mol/dm3
ホウ酸 0.4mol/dm3
塩化アンモニウム 0.4mol/dm3
ドデシル硫酸ナトリウム 0.01g/dm3
pH 2.3
めっき液温度 18℃
回転ディスク電極(RDE)撹拌 1,000rpm
パルス電流密度 75mA/cm2
パルス時間 0.01秒
デューティー比 0.1
図5に示されるようなめっき装置を用い、下記めっき液及びめっき条件でパルス電流を用いた電気めっき法により基板上にCoFe合金からなる軟磁性薄膜(1μm)を製造した。なお、溶解性アノードにはコバルトを用いた。
硫酸コバルト 0.045〜0.05mol/dm3
硫酸鉄(II) 0.05〜0.055mol/dm3
ホウ酸 0.4mol/dm3
塩化アンモニウム 0.4mol/dm3
ドデシル硫酸ナトリウム 0.01g/dm3
pH 2.3
めっき液温度 18℃
回転ディスク電極(RDE)撹拌 1,000rpm
パルス電流密度 75mA/cm2
パルス時間 0.01秒
デューティー比 0.1
パルス電流密度を100mA/cm2とした以外は、実施例16と同様の方法で軟磁性薄膜(1μm)を製造し、得られた軟磁性薄膜の磁気特性及び膜組成を評価した。結果を表3,4に示す。
実施例15〜17と同様の方法により薄膜を成膜し、次いで下記条件で熱処理を施して各々軟磁性薄膜を得た(実施例18〜20)。この膜の膜組成を蛍光X線及び誘導結合プラズマ発光分析法により評価したところCo37at%、Fe63at%(実施例18)、Co37at%、Fe63at%(実施例19)、Co35at%、Fe65at%(実施例20)であった。この膜の軟磁性薄膜の磁気特性(飽和磁束密度、保磁力)を振動試料型磁力計にて評価した。結果を表4に示す。
熱処理温度 400℃
昇温速度 10℃/分
熱処理時間 1時間
冷却 自然放冷
11 塩橋
2 めっき槽
3 めっき液
31 陰極室
4 電解液
41 陽極室
5 被めっき物(基板)
6 アノード
61 溶解性アノード
62 不溶性アノード
7 電源
Claims (7)
- 主成分としてCoとFeとを含有する合金からなる軟磁性薄膜を製造する方法であって、陰極室と、隔膜又は塩橋によってこの陰極室と電荷移動可能に但しFeイオンの透過を阻止するように隔離された陽極室とを有するめっき槽を使用し、上記陰極室にCoイオンと2価のFeイオンとを含むめっき液を収容し、このめっき液に被めっき物を浸漬すると共に、上記陽極室に電解液を収容し、この電解液にアノードを浸漬して電気めっきすることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法。
- 主成分としてCoとFeとを含有する合金からなる軟磁性薄膜を製造する方法であって、Coイオンと2価のFeイオンとを含むめっき液を用い、このめっき液に被めっき物と溶解性アノードを浸漬して電気めっきすることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法。
- 上記電気めっきをパルス電流にて行うことを特徴とする請求項1又は2記載の軟磁性薄膜の製造方法。
- 電気めっきにより膜を成膜後、更に、この膜を100〜550℃の温度で熱処理することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の軟磁性薄膜の製造方法。
- 軟磁性薄膜のCo及びFeの含有量が、5at%≦Co≦70at%、30at%≦Fe≦95at%の範囲であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の軟磁性薄膜の製造方法。
- 軟磁性薄膜の飽和磁束密度が2.0T以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の軟磁性薄膜の製造方法。
- 請求項1乃至6のいずれか1項記載の方法により製造した軟磁性薄膜。
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