JP2004216322A - 塗工装置用ロッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チャンバ18内に3個のイオンソース20A〜Cが設けられたイオンプレーティング装置16を用い、母材12の表面に耐磨耗性の皮膜14を成膜してなる塗工装置用ロッド10を製造する。皮膜14を形成する際、イオンソース20A〜Cの出力調整を行うことにより、母材12に成膜される皮膜14の膜厚分布を±30%以内に抑える。これにより、薄い膜厚で皮膜14を成膜しても薄くなり過ぎてしまう皮膜部分が生じず、従って、耐磨耗性が充分でない皮膜部分の形成を防止できる。また、皮膜14が薄いので、皮膜14にクラックが発生し難い。
【選択図】 図3
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、耐磨耗性の皮膜が表面に形成されている塗工装置用ロッドの製造方法に関し、更に詳細には、連続走行するウエブ等の被塗布体に塗布液を塗布するのに最適な塗工装置用ロッドの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
感光材料、写真製版材料、磁気記録材料、記録紙材料、感光性平板印刷版などを製造する際、薄い金属板、紙、フィルム等からなるシート状或いはウエブ状の被塗布体(被塗工基材)を長手方向に連続走行させつつ片面側に塗布液(感光液)を塗布することが広く行われている。
【0003】
この塗布を行う際、被塗布体の塗布面に塗工装置用ロッド(バー)を当接させ、ロッド表面に塗布液を供給しつつ塗工装置用ロッドを回転させて塗布していることが多い。なお、この塗布方法はバー塗布法と呼ばれている。
【0004】
この塗工装置用ロッドは、断面真円の丸棒、丸棒の表面に周方向に沿った溝が形成されたもの、又は、丸棒にワイヤを巻付けたもの、で構成される。この塗工装置用ロッドの表面には、一般に、耐磨耗性の皮膜が形成されている。皮膜の形成は、メッキ、物理蒸着、化学蒸着等、様々な手法で行われ得るが、真空炉(チャンバ)を用い、イオンプレーティング等の物理蒸着法で成膜することが多い。耐磨耗性の観点上、皮膜は均一に形成されていることが好ましく、このため、イオンプレーティングで成膜する際、この皮膜を均一に形成できるように種々の工夫がされている。
【0005】
例えば、特許文献1では、大面積に均一な膜をコーティングするために、イオン化率を向上させている。また、特許文献2や特許文献3では、大面積に均一な膜をコーティングするために、イオン化率を向上させ、成膜速度を高速にしている。
【0006】
ところで、被成膜体である円柱状の母材がある程度長くなると、一般的なチャンバではこの母材を収容しきれない。また、収容できても、このような長い被成膜体を収容するような大型のチャンバでは、チャンバ内で成膜速度に分布が生じており、このため、成膜速度が均一でなく、皮膜の膜厚が不均一になる。
【0007】
一方、耐磨耗性の皮膜は一般的に硬度が高いので、皮膜を薄くしないとクラックが生じ易い。特にイオンプレーティング装置のように硬い皮膜を成膜する装置を用いて成膜した場合、この現象は顕著である。
【0008】
このため、薄い膜厚で皮膜を成膜した場合、膜厚が不均一なため、薄くなり過ぎてしまう皮膜部分が生じ、この皮膜部分の耐磨耗性が充分でないという問題が生じている。この皮膜部分の耐磨耗性が充分であるように膜厚を上げた場合、他の皮膜部分が厚くなり過ぎ、上述したようにクラックが生じ易くなってしまう。このような問題が生じているにもかかわらず、長尺物に均一に皮膜をコーティングする有効な対策がない。
【0009】
また、1個のチャンバ内で複数本のロッドに同時に皮膜を成膜した場合、チャンバ内でのロッドの位置や向きによっても膜厚に差が生じてしまい、同一物を生産できないという問題も生じている。
【0010】
なお、特許文献4や特許文献5では、被成膜体である長尺物を連続して走行させつつ、イオンプレーティングにより皮膜を均一に形成している例が挙げられているが、塗工装置用ロッドの母材のように非連続なものに成膜する場合には適用できない。また、特許文献6では、転動基材を皿の上で転がしながらコーティングする例が挙げられているが、長尺物には不向きである。
【0011】
【特許文献1】
特開昭63−192855号公報
【特許文献2】
特開平01−240646号公報
【特許文献3】
特開平01−252764号公報
【特許文献4】
特開平02−077573号公報
【特許文献5】
特開平02−079764号公報
【特許文献6】
特開2001−336533公報
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記事実を考慮して、耐磨耗性の皮膜が均一な膜厚で母材に形成されている塗工装置用ロッドの製造方法を提供することを課題とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、皮膜を形成する蒸着装置には複数個の蒸着源が設けられていることが多いことに着目した。そして、各蒸着源の出力を同一にして皮膜を成膜すると、端側に配置された蒸着源に近い位置では、中央に配置された蒸着源に近い位置に比べ、成膜速度が遅くなる傾向があることを見い出し、鋭意検討を重ね、成膜速度が均一になるように各蒸着源の出力を調整することを考え付き、本発明を完成するに至った。
【0014】
請求項1に記載の発明では、チャンバ内に複数個の蒸着源が設けられた蒸着装置を用いて表面に耐磨耗性の皮膜を成膜する塗工装置用ロッドの製造方法であって、前記蒸着源の出力調整を行うことにより、前記チャンバ内に配置された長尺状被成膜体に成膜される前記皮膜の膜厚分布範囲を±30%以内に抑えたことを特徴とする。
【0015】
例えば、3個以上の前記蒸着源が同一直線上に設けられている場合、両端に位置する前記蒸着源の出力を他の前記蒸着源に比べて高くすることにより膜厚分布範囲を調整する。なお、本明細書で「膜厚分布範囲」とは、実際の膜厚と基準膜厚(目標とした膜厚)との比の範囲である。
【0016】
蒸着装置としては、チャンバ内での成膜可能範囲が予め判っている物理蒸着装置を用いることが多い。
【0017】
請求項1に記載の発明により、薄い膜厚で皮膜を成膜しても薄くなり過ぎてしまう皮膜部分が生じず、従って、耐磨耗性が充分でない皮膜部分の形成を防止できる。また、皮膜が薄いので、皮膜にクラックが発生し難い。
【0018】
好適には、前記皮膜の膜厚分布範囲を±25%以内とする。これにより、請求項1に記載の効果をより奏することができる。
【0019】
請求項2に記載の発明では、前記長尺状被成膜体として、塗布液量調整用の溝を表面に一体的に形成した円柱状の母材を用いることを特徴とする。
【0020】
これにより、塗工装置用ロッドの使用中で塗布液量を一定に維持し易い。
【0021】
請求項3に記載の発明では、前記母材に成膜される前記皮膜の平均膜厚を0.2μm〜3.0μmの範囲内にしたことを特徴とする。
【0022】
膜厚が0.2μm未満であると、磨耗を防止するための皮膜として厚さが充分でなく、しかも、ロッド表面の粗さによって皮膜表面が粗くなり、皮膜の滑らかさを確保し難い。また、膜厚が3.0μm以上であると、皮膜が欠け易くなるので、皮膜の成膜中にロッド温度が変化したり、塗工装置用ロッドの使用中にロッド表面にせん断応力や垂直応力が加えられたりすると、皮膜にクラックや剥離が生じ易い。
【0023】
請求項4に記載の発明では、前記蒸着装置としてイオンプレーティング装置を用いることを特徴とする。
【0024】
これにより、付着力が強くて膜厚が均一である皮膜を形成し易い。
【0025】
請求項5に記載の発明では、前記イオンプレーティング装置として、前記長尺状被成膜体を自公転可能に保持する保持機構を有する装置を用いることを特徴とする。
【0026】
これにより、皮膜の膜厚を均一にし易い。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、実施形態を挙げ、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の実施の形態では、簡略のため、塗工装置用ロッドを単にロッドという。
【0028】
本発明の一実施形態に係るロッドの製造方法は、図1に示すように、走行するウエブWに塗布液Lを塗布するのに用いるロッドの製造方法であり、ロッド10は、母材12の表面に耐磨耗性の皮膜14が成膜されてなるロッドである。母材12は、ステンレス鋼製であることが多い。皮膜14はイオンプレーティング装置で成膜する。
【0029】
[イオンプレーティング装置の構成]
皮膜をコーティングするイオンプレーティング装置16(図2、図3参照)は、チャンバ18と、チャンバの中に設置された3個のイオンソース20A〜C(図3参照)と、を有する。
【0030】
図2に示すように、チャンバ18は、所定長さのロッド10を収容できる寸法で形成されている。また、チャンバ18には、複数本のロッドを自公転可能に保持する保持部22が設けられている。
【0031】
保持部22は、中心軸24と、中心軸24の端部側に固定された平歯車26と、を備えている。中心軸24のもう一方の端部側にも、同様に平歯車(図示せず)が固定されている。また、保持部22は、平歯車26と噛み合う複数個の小型平歯車28と、小型平歯車28に内周側のギア歯31で噛み合うリング状歯車32と、を備えている。小型平歯車28には、ロッドを着脱自在に取付ける取付部30が設けられている。
【0032】
リング状歯車32には外周側にもギア歯34が形成され、チャンバ18内には、このギア歯34と噛み合う駆動用歯車36が設けられており、駆動用歯車36の回転によりリング状歯車32が回転し、これによって小型平歯車28が平歯車26の周囲を自公転するようになっている。
【0033】
このような構成を有する保持部22は、真空中であってもリング状歯車32が回転可能であって小型平歯車28が自公転可能にされている。
【0034】
また、図3に示すように、チャンバ18の出入口に近い位置にイオンソース20Aが、チャンバ18の中央位置にイオンソース20Bが、チャンバ18の奥側の位置にイオンソース20Cが、それぞれ設けられており、所定長さのロッドがチャンバ18に収容された場合に、ロッド両端部がそれぞれイオンソース20A、20Cの近くに位置し、ロッド中央部がイオンソース20Bの近くに位置するようになっている。
【0035】
[母材への成膜による製品の製造]
本実施形態では、上記のイオンプレーティング装置16を用いて、耐磨耗性の皮膜を成膜した製品(ロッド)の製造を行う。まず、塗布液量調整用の溝11(図4参照)を表面に予め形成した長尺円柱状の未使用の母材12を、小型平歯車28ごとに取付部30に取付ける。
【0036】
そして、チャンバ18内を真空吸引した後、小型平歯車28を自公転させながらイオンプレーティング法により耐磨耗性の皮膜14を母材12に成膜する。その際、所望厚さ(0.2μm〜3.0μmの範囲内であることが多い)でほぼ均一に皮膜14が成膜されるように、イオンソース20A〜Cの出力を調整して成膜する。
【0037】
これにより、耐磨耗性の皮膜14の厚さが均一なロッド10を製造できるので、皮膜14を薄膜にしても部分的に薄過ぎる皮膜部分が生じることがない。従って、このロッド10を用い、走行するウエブWに塗布液を塗布すると、ロッド10とウエブWとの接触面積が増大し、ロッド10が部分的に磨耗(偏磨耗)することを回避できる。
【0038】
よって、高速で塗布しても塗布精度が低下したり塗布スジが生じたりするなどの塗布不良が発生することを防止できる。また、ロッド10の使用時において、走行するウエブWから加えられる力により、ロッド10の表面にせん断力や垂直応力が加えられても、皮膜14にクラックや剥離が生じ難い。更に、ロッド10の寿命が長くなるので、ロッド10の使用本数が低減してコストダウンに大きく寄与すると共に、ロッド使用中(すなわちロッド10が設けられている塗布ラインの運転中)にロッド10を交換する回数が低減し、ウエブWの生産ラインの稼動率が大幅に向上する。
【0039】
また、保持部22を有するイオンプレーティング装置16を用いることにより、複数本の母材に同時に成膜してロッド10を製造することができるので、イオンプレーティング装置16を稼動させる回数が低減してコストダウンを図ることができる。また、皮膜14の膜厚分布が各ロッドで同じであり、同一物を量産することができる。更に、表面に溝が形成されているロッドであっても膜厚を容易に測定することができ、膜厚の管理、制御が容易である。
【0040】
皮膜14の材質としては、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)や窒化チタン(TiN)が好ましい。その他、好ましい材質としては、TiCN、CrN、TiC、Al2O3、Cr2O3、SiO3、Ti2O3、AlN、ZrN、SiCなどである。
【0041】
[実験例]
本実験例では、上記のイオンプレーティング装置16を用い、イオンソース20A〜Cの出力をパラメータとして変化させて、成膜された皮膜の膜厚分布を測定した。
【0042】
この実験では、ロッド幅方向(すなわち長手方向)の膜厚分布を測定するために、図5に示すように、溝が形成されていない円柱状の母材であるダミー母材(ダミーロッド)40を2本取付けると共に、ダミー母材40の膜厚測定位置に複数枚のシリコンウエハ42を貼り付けた。皮膜としてはDLC膜を成膜した。ダミー母材40以外の母材取付位置には、全て上記の母材12を取付けた。
【0043】
母材12及びダミー母材40の長さLは2000mmであり、イオンソース20Aの位置は母材端部40Aから200mmだけロッド中央側の位置であり、イオンソース20Cの位置もイオンソース20Cから200mmだけロッド中央側の位置である。また、ロッド中央位置にはイオンソース20Bが位置している。すなわち、図3を用いて説明すると、チャンバ18の出入口に近いロッド端部を原点としてチャンバ奥方向へX軸をとると、イオンソース20AがX=200mm、イオンソース20BがX=1000mm、イオンソース20CがX=1800mm、に位置している。
【0044】
本実験では、イオンソース20A〜Cの出力を異ならせた3通りの成膜条件(No.1〜No.3)で成膜を行った。No.1では、イオンソース20A〜Cの出力を同一にした。No.2では、イオンソース20A、20Cの出力を100%、イオンソース20Bの出力を0%とした。No.3ではイオンソース20A、20Cの出力を100%、イオンソース20Bの出力を30%とした。
【0045】
No.1〜No.3で成膜後、シリコンウエハ42に成膜された皮膜の厚みをそれぞれ測定することにより膜厚分布を求めた。この膜厚分布を図6に示す。
【0046】
また、母材12に皮膜14が成膜されてなるロッドを用い、ウエブWの塗布面に塗布液を塗布する実験を行った。No.1〜No.3で得られたこのロッドの特性、及び、このロッドを用いた塗布実験の結果を表1に示す。なお、表1では、膜厚分布範囲を算出するにあたって図6を用いた。
【0047】
【表1】
表1から判るように、イオンソースの出力調整を行うことにより膜厚分布範囲を25%以内に抑え、しかも皮膜14の膜厚を0.2μm〜3.0μmの範囲内に抑えたロッド(No.3で得られたロッド)で塗布実験を行った場合、塗布面にスリキズは発生しないという良好な結果が得られた。また、30%以内に抑えたロッド(No.2で得られたロッド)では、1m×1mの範囲内で数箇所にスリキズが発生していた程度であり、スリキズの発生箇所は比較的少なかった。一方、膜厚分布範囲が33%であるロッド(No.1で得られたロッド)では、塗布面全面にスリキズが発生した。
【0048】
以上、実施形態及び実施例を挙げて本発明の実施の形態を説明したが、上記実施形態は一例であり、要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施できる。例えば、母材の外周面にワイヤを巻回し、ガスの発生等をコントロールしながらワイヤ外周面にウェットメッキやドライメッキ等により皮膜を形成してもよい。その際、ワイヤの径に合わせて母材に溝を形成してもよい。また、母材に溝を形成せずに皮膜を形成しても有効である。更に、ウエブWに塗布された塗布液の過剰分を掻き落とすタイプ(図7参照)のロッド50の製造方法としても適用可能である。また、本発明の権利範囲が上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。
【0049】
【発明の効果】
本発明によれば、耐磨耗性の皮膜が均一な膜厚で母材に形成されている塗工装置用ロッドを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態で製造された塗工装置用ロッドが使用されていることを示す側面断面図である。
【図2】本発明の一実施形態で塗工装置用ロッドを製造する際に用いるイオンプレーティング装置のチャンバ内の構成を示す斜視図である。
【図3】本発明の一実施形態で塗工装置用ロッドを製造する際に用いるイオンプレーティング装置で、ロッドとイオンソースとの位置関係を示す模式的側面図である。
【図4】本発明の一実施形態で塗工装置用ロッドを製造する際に用いる母材の部分断面側面図である。
【図5】実験例で実験を行った際に、ダミー母材及びシリコンウエハをチャンバ内に設けたことを示す斜視図である。
【図6】実験例で得られたロッドの膜厚分布の測定結果を示すグラフ図である。
【図7】塗工装置用ロッドが、ウエブに塗布された塗布液の過剰分を掻き落とすタイプのロッドとして適用された例を示す側面断面図である。
【符号の説明】
10 ロッド
11 溝
12 母材
14 皮膜
16 イオンプレーティング装置
18 チャンバ
20A〜C イオンソース
22 保持部(保持機構)
50 ロッド
Claims (5)
- チャンバ内に複数個の蒸着源が設けられた蒸着装置を用いて表面に耐磨耗性の皮膜を成膜する塗工装置用ロッドの製造方法であって、
前記蒸着源の出力調整を行うことにより、前記チャンバ内に配置された長尺状被成膜体に成膜される前記皮膜の膜厚分布範囲を±30%以内に抑えたことを特徴とする塗工装置用ロッドの製造方法。 - 前記長尺状被成膜体として、塗布液量調整用の溝を表面に一体的に形成した円柱状の母材を用いることを特徴とする請求項1に記載の塗工装置用ロッドの製造方法。
- 前記母材に成膜される前記皮膜の平均膜厚を0.2μm〜3.0μmの範囲内にしたことを特徴とする請求項2に記載の塗工装置用ロッドの製造方法。
- 前記蒸着装置としてイオンプレーティング装置を用いることを特徴とする請求項1〜請求項3のうち何れか1項に記載の塗工装置用ロッドの製造方法。
- 前記イオンプレーティング装置として、前記長尺状被成膜体を自公転可能に保持する保持機構を有する装置を用いることを特徴とする請求項4に記載の塗工装置用ロッドの製造方法。
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