JP2004213049A - ハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法 - Google Patents
ハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 透明基板101上に単層又は2層以上の層からなるハーフトーン位相シフト膜102を有するハーフトーン位相シフトマスクにおいて、透明基板101上の素子領域の外側の多重露光される領域107において、このハーフトーン位相シフト膜102の組成を、電磁波、粒子線、熱線等を照射する方法、組成を変化させたくない領域をマスキングした後に全体を活性な雰囲気に曝す方法で、変えることより、その領域の露光光に対する透過率を下げる。
【選択図】図1
Description
(1)転写時に、ウェハー上に形成したい露光パターンの近傍に、光強度のサブピークを生じ、これが本来発生させたい露光パターンを変形してしまう、という問題があった。この問題は、特に大きな抜けパターンの近傍で顕著であり、位相シフトリソグラフィーの手法を用いずに十分解像できる大きな抜けパターンにおいては、むしろ従来型のクロムマスクよりも転写特性が劣ってしまう。
ターゲット :金属クロム
成膜ガス及び流量:アルゴン75sccm+四フッ化炭素25sccm
成膜圧力 :約4mTorr
電流 :5アンペア
なお、この膜102の波長250nmにおける屈折率及び消衰係数は、それぞれ1.7及び0.27であり、したがって、DUV露光用位相シフト膜として要求される膜厚(空気に対して位相を180°遅らせる厚さ)は約185nmである。また、上述の膜102を石英基板101上に約185nm成膜したとき、その透過率は、透明基板を100%としたとき、約10%であった。
ガス及び流量 :ジクロロメタン20sccm+酸素50sccm
圧力 :約300mTorr
電力 :250W
上記エッチング終了後、レジストパターン105を除去して、図1(d)に示すようなDUV露光用ハーフトーン位相シフトマスク106を得た。
102…ハーフトーン位相シフト膜
103…ハーフトーン位相シフトマスクブランク
104…電子線レジスト
105…レジストパターン
106、201、301、607…ハーフトーン位相シフトマスク
107…外周領域
202…大きなハーフトーン位相シフト膜パターンの周辺
305…遮光帯
601…マスクのホルダー
602、605…冷媒
603…赤外線ヒーター
604…赤外線遮光マスク
606…支柱
Claims (9)
- 透明基板上に単層又は2層以上の層からなるハーフトーン位相シフトパターンを有するハーフトーン位相シフトマスクにおいて、
前記ハーフトーン位相シフトパターンの中の少なくとも1層が、1種類以上の金属元素と、酸素、フッ素、炭素、窒素、塩素の中の1種類以上の元素との化合物を主成分とする層からなり、この層の一部の領域の組成は、この層の他の領域の組成を変化させた膜であることを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク。 - 透明基板上に単層又は2層以上の層からなるハーフトーン位相シフトパターンを有するハーフトーン位相シフトマスクにおいて、
前記ハーフトーン位相シフトパターンの中の少なくとも1層の一部の領域が、クロム元素と酸素元素とからなる化合物を主成分とする膜であり、この層の他の領域が、クロム元素とフッ素元素とからなる化合物を主成分とする膜であり、前記クロム元素と酸素元素とからなる化合物を主成分とする膜は、前記クロム元素とフッ素元素とからなる化合物を主成分とする膜の組成を変化させた膜であることを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク。 - ハーフトーン位相シフトパターンの露光光に対する透過率が、透明基板の透過率を100%としたときに、一部の領域において1%以下であり、他の領域において1から50%であることを特徴とする請求項1又は2記載のハーフトーン位相シフトマスク。
- 前記の一部の領域が、ハーフトーン位相シフトマスクの転写時の多重露光部に対応する領域を含むマスク周辺部であることを特徴とする請求項3記載のハーフトーン位相シフトマスク。
- 前記の一部の領域が、ハーフトーン位相シフト効果によらなくても解像可能なパターンの周辺部であることを特徴とする請求項3記載のハーフトーン位相シフトマスク。
- 透明基板上に単層又は2層以上の層からなるハーフトーン位相シフトパターンを有するハーフトーン位相シフトマスクの製造方法において、
前記ハーフトーン位相シフトパターンの中の少なくとも1層を、1種類以上の金属元素と、酸素、フッ素、炭素、窒素、塩素の中の1種類以上の元素との化合物を主成分とする層から形成し、このパターンの一部の領域に、電磁波、又は粒子線、又は熱線を照射し、この照射領域の前記化合物の酸素、フッ素、炭素、窒素、塩素の含有量を他の領域での含有量と異ならせたことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 透明基板上に単層又は2層以上の層からなるハーフトーン位相シフトパターンを有するハーフトーン位相シフトマスクの製造方法において、
前記ハーフトーン位相シフトパターンの中の少なくとも1層をクロム元素とフッ素元素とからなる化合物を主成分とする膜で形成し、このパターンの一部の領域に、電磁波、又は粒子線、又は熱線を照射し、この照射領域の前記クロム元素とフッ素元素とからなる化合物を主成分とする膜の組成を変化させて、クロム元素と酸素元素とからなる化合物を主成分とする膜にしたことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 透明基板上に単層又は2層以上の層からなるハーフトーン位相シフトパターンを有するハーフトーン位相シフトマスクの製造方法において、
前記ハーフトーン位相シフトパターンの中の少なくとも1層を、1種類以上の金属元素と、酸素、フッ素、炭素、窒素、塩素の中の1種類以上の元素との化合物を主成分とする層から形成し、前記ハーフトーン位相シフトマスクの一部の領域をマスキングした後、ハーフトーン位相シフトマスク全体を活性な雰囲気に曝し、マスキングをしない領域の前記化合物の酸素、フッ素、炭素、窒素、塩素の含有量を、マスキングした領域の含有量と異ならせたことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 透明基板上に単層又は2層以上の層からなるハーフトーン位相シフトパターンを有するハーフトーン位相シフトマスクの製造方法において、
前記ハーフトーン位相シフトパターンの中の少なくとも1層をクロム元素とフッ素元素とからなる化合物を主成分とする膜で形成し、前記ハーフトーン位相シフトマスクの一部の領域をマスキングした後、ハーフトーン位相シフトマスク全体を活性な雰囲気に曝し、マスキングをしない領域の前記クロム元素とフッ素元素とからなる化合物を主成分とする膜の組成を変化させて、クロム元素と酸素元素とからなる化合物を主成分とする膜にしたことを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。
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US8133641B2 (en) | 2007-05-11 | 2012-03-13 | Lg Innotek Co., Ltd. | Half tone mask having multi-half permeation part and a method of manufacturing the same |
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