JP2004207659A - 回路の製造方法および該回路を備えた回路板 - Google Patents

Abstract

【課題】簡易な工程で、材料の無駄を低減し、導電性の極めて良好な回路を容易に形成する。
【解決手段】基板１４の表面の非回路パターン領域に撥水性を有するインキ１３を印刷して撥水性の印刷部１４Ａを形成し、次いで、基板１４の表面に、平均粒子径が０．１ｎｍ〜５０ｎｍの導電性ナノ金属粉末２０を分散させた水系のコロイド溶液Ｑを塗布し、回路パターン領域となる基板１４の非印刷部１４Ｂにのみコロイド溶液Ｑを付着させ、次いで、基板１４を加熱して、コロイド溶液Ｑ中の液体のみを蒸発させて導電性ナノ金属粉末２０同士を融着させ、非印刷部１４Ｂにナノ金属粉末からなる導電性金属層２１を形成し回路を製造する。
【選択図】 図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回路の製造方法および該回路を備えた回路板に関し、詳しくは、電気機器からの電磁波シールド等として用いられ、微細で高精度な印刷パターンを有する回路を、良好な導電性を実現しながら容易に製造可能とするものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、回路パターンを形成する方法として、パターンを形成する際に感光性のレジストを用いて露光を行うフォトリソ法が挙げられ、フォトリソ法には、以下に示すように、サブトラクティブ法とアディティブ法の２種類に分けられる。
【０００３】
上記サブトラクティブ法では基板上に予め銅箔、無電解銅メッキや電解銅メッキで導電性層を形成し、次に、感光性のレジスト（フォトレジスト）を導電性の層の上に形成し、フォトマスクを通して所定のパターンのみに感光性レジストを感光させる。 ついで、現像で未感光部分のフォトレジストを洗浄し、硬化させた後に導電性の層をエッチング液（塩化第二鉄等）に浸漬させることで未感光部の導電性層のむきだしになっている部分のみを腐食（エッチング）させ、最後にフォトレジストをアルカリ（ＫＯＨ）で剥離させて所定のパターンのみの回路を形成している。
【０００４】
上記アディティブ法は、サブトラクティブ法とは反対で予め基板の上に感光性レジストの層を形成し、フォトマスクを通じて所定のパターンのみに感光性レジストを感光させる。現像で未感光部分のフォトレジストを洗浄し、露光された部分のみの感光性レジストのパターンを形成する。次に、全面に、無電解銅メッキ、続いて電解メッキを施し、最後にフォトレジストを剥離して、露光されていない部分を回路パターンとして形成している。
【０００５】
上記アディティブ法と同様な方法な印刷法も用いられており、該印刷法では、導電性のインキを用いて所定のパターンに印刷することで回路を形成している。この方法では、材料コストも少なく、製造設備も安いために安価なプロセスとして期待されている。
【０００６】
さらに、微細な回路パターンの形成方法として従来より種々の提案がなされている。例えば、特開平１０−９８２５２号では、金属ブランク板上の全面に絶縁膜と導電性薄膜を順次、積層形成する工程と、上記導電性薄膜上い所定の形状のフォトレジストパターンを積層形成する工程と、上記フォトレジストパターンをマスクして導電性薄膜をウエットエッチングしてパターニングし、高密度パターンを含んだ下層導電パターんを形成する工程と、上記フォトレジストパターンを除去する工程と、上記下層導電パターン上に電解又は無電解メッキにて上層導電パターンを成長させて積層形成し、下層導電パターンと上層導電パターンとの２層構造からなる導電パターンを被着形成する工程とを含む導電パターンの形成方法が提案されている。
【０００７】
【特許文献１】
特開平１０−９８２５２号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、サブトラクティブ法の最大の問題点はエッチングに用いた多量の有害な廃液が発生することである。この廃液は金属を多量に含んでおり廃液処理にコストがかかり、環境にも良くない。また、導電性層は高価な層であり、余分な部分も捨てることは非常に無駄が多く、かつ、フォトマスクを通じて露光させる装置も非常に高価であるためコストがかかる点が問題である。また、エッチングは導電性層を厚み方向のみではなく、平面方向にも腐食するため、導電性層の厚みが厚い場合にはサイドエッチングが進み、線幅が所定のパターンよりも細くなり、極端な場合には断線することもある。
【０００９】
上記アディティブ法の問題点は、無電解銅メッキ、電解銅メッキともに材料が高価でありプロセスが増えるためにコストが上がることである。さらに、露光プロセスを伴うのでサブトラクティブ法と同じで非常に高価な装置が必要である。
【００１０】
また、上記印刷法は、導電性インキとして導電性金属が樹脂中に分散されたものを用いるが、特に、被印刷体が樹脂等の場合には高い温度をかけることができず、その結果、導電性が悪く、用途が限定されことがある。また、導電性を向上させるために、導電性金属粉末を多量にインキに添加すると印刷性が悪くなり、電解銅メッキ等を印刷パターンに施すと工程が増えコスト増を招くこととなる。
【００１１】
また、上記特開平１０−９８２５２号では、フォトリソ法を用いているため、装置の構造が複雑となると共に、材料の使用量も多くなる。また、電解又は無電解のメッキを必要としているため、工程が煩雑になると共に、材料コストも増え、全体としてコスト高を招き、容易に回路パターンを形成できないという問題がある。
【００１２】
本発明は上記した問題に鑑みてなされたものであり、簡易な工程で、材料の無駄を低減し、導電性の極めて良好な回路を容易に形成する回路の製造方法を提供することを課題としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、基板表面の非回路パターン領域に撥水性を有するインキを印刷して撥水性の印刷部を形成し、
次いで、上記基板の表面に、平均粒子径が０．１ｎｍ〜５０ｎｍの導電性ナノ金属粉末を分散させた水系のコロイド溶液を塗布し、回路パターン領域となる上記基板の非印刷部にのみ上記コロイド溶液を付着させ、
次いで、上記基板を加熱して、上記コロイド溶液中の液体のみを蒸発させて上記導電性ナノ金属粉末同士を融着させ、上記非印刷部にナノ金属粉末からなる導電性金属層で回路を形成していることを特徴とする回路の製造方法を提供している。
【００１４】
上記本発明に係る回路の製造方法は、本発明者が鋭意研究の結果、以下のことを見出したことに基づきなされたものである。
導電性金属粉末の粒子径を０．１ｎｍ〜５０ｎｍ程度に小さくすることで、非常に金属表面の活性が高くなり、金属の融着温度が著しく低下し、金属粉末同士が低温で融着可能となることを見出した。例えば、銀の場合、バルクの融点が９６３℃であるが、０．１ｎｍ〜５０ｎｍ程度のナノ銀粉末とすると融着温度が２００℃程度と著しく低下する。
よって、ナノ金属粉末同士を融着させて導電性金属層からなる回路を形成することができるが、ナノ金属粉末が細かくなると粉塵爆発の危険も大となることより溶媒中にコロイド状に分散させて安定化させて使用している。
また、このナノ金属粉末を溶媒中に分散させたコロイド溶液は非常に粘度が低く、そのため、このコロイド溶液を必要な部分に直接印刷して回路を形成するのは困難である。従って、上記のように撥水性とした印刷部と、非印刷部とを設けることで選択的に非印刷部のみへのコロイド溶液のコーティングを可能としている。
【００１５】
即ち、本発明の製造方法では、上記したように、ナノ金属粉末を液体中に分散させた水系のコロイド溶液を基板の表面に塗布している。この際、非回路パターン領域であるインキの印刷部の表面では、印刷部が撥水性を示すため、水系のコロイド溶液ははじかれるが、回路パターン領域である非印刷部には水系のコロイド溶液を付着させることができる。よって、導電性に優れた非常に細かなナノ粒子のコロイド溶液を、回路パターンとした非印刷部にのみ容易かつ均一にコーティングできると共に、作業性も向上する。
次いで、コロイド溶液を非印刷部に付着させた状態で加熱することで、コロイド溶液中の液体は蒸発し、ナノ金属粉末同士は融着して非常に導電性の良好なナノ金属粉末からなる導電性金属層が形成され、該導電性金属層からなる回路を形成することができる。
【００１６】
導電性ナノ金属粉末の粒子径は融着温度に大きく影響を及ぼす重要なファクターであり、種々検討を行った結果、導電性ナノ金属粉末の平均粒子径を０．１ｎｍ〜５０ｎｍとしている。これは、０．１ｎｍより小さいと、常温でも非常に活性が高くなり、導電性ナノ金属粉末同士で一部凝集等が発生すると共に、表面の酸化も多くなり金属酸化膜が形成されるためである。一方、５０ｎｍより大きいと、融着温度が低下せず、低温での金属層の形成を行えないためである。また、粒子径が小さい方が融着温度が下がるため、好ましい粒子径は１ｎｍ〜１０ｎｍである。また、導電性ナノ金属粉末はお互いが溶融して金属層を形成することで非常に低抵抗とすることができる。
【００１７】
また、導電性ナノ金属粉末を融着してなる金属層の厚みは、１μｍ〜１５μｍが好ましい。１μｍより薄いと断線が発生しやすく、また導電性も良くない。一方、１５μｍより厚くても導電性は十分満たしており材料コストがかかり無駄となる他、表面の平坦性が悪くなる。
【００１８】
コロイド溶液に媒体として含まれる液体は水系であり、揮発性が高く蒸発しやすい液体として水を媒体としている。水溶性であれば、インキや基材の種類等によって適切なものを選択することができる。
【００１９】
導電性ナノ金属粉末は、金、銀、銅、白金、パラジウムのいずれかまたはこれらの混合物からなることが好ましい。これらの金属は、ある程度の導電性を有する上に、ナノ粒子とすることができる。特にコスト面と導電性の面から銀が好ましい。金属粉末の形状は、球状、楕円球状、柱状、鱗片状、繊維状等の種々の形状とすることができる。
【００２０】
金属粉末溶融時の加熱温度は１００℃〜２５０℃としていることが好ましい。１００℃より低いと金属粉末が溶融せず金属層を形成しにくいためである。一方、２５０℃より高いと基板の熱劣化等を生じる恐れがあるためである。より好ましくは１５０℃〜２５０℃である。なお、金属層の形成を十分に行えるように金属粉末溶融時の加熱温度、加熱時間を適宜設定することができ、加熱時間は５分〜１２０分、さらには１０分〜６０分が好ましい。
【００２１】
上記インキは加熱硬化型の樹脂あるいはゴムからなり、上記コロイド溶液を塗布する前に、上記基板を加熱して上記印刷部の上記インキを硬化させていることが好ましい。このように撥水性である印刷部が加熱硬化していることで、水系のコロイド溶液の非印刷部への付着がより容易となる。この場合、インキとしては、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができ、インキの加熱硬化温度は１００℃〜２５０℃、加熱時間は５分〜６０分が好ましい。なお、紫外線硬化型の樹脂等を用いることもできる。
【００２２】
上記インキは、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン系材料、四フッ化エチレン，六フッ化ポリエチレン，フッ化ビニリデン等のフッ素系材料等により撥水性を付与していることが好ましい。特に、安定した撥水性能が得られるシリコーン系材料が好ましい。
具体的には、シリコーン樹脂やシリコーンゴムを直接インキとして使用したり、あるいは、シリコーン系の撥水剤を含有したポリエステル樹脂、アクリル樹脂等をインキとして使用することができる。また、シリコーンオイル等によりインキの粘度を調整することができる。このように、インキ中にシリコーン系材料を混入する等で表面を撥水性とすることができれば水系のコロイド溶液をはじく事が可能である。また、インキの印刷後に、後処理として印刷されたインキに撥水性を付与しても良い。なお、インキは硬化させる方が好ましいが、水系のコロイド溶液の塗布時に溶解しなければ、未硬化のインキとしても良い。また、回路形成後に基板上に残存しているインキは、アルカリ溶液等で基板上から剥離することもできる。回路形成後にインキを基板上に残存させる場合には、インキは絶縁性であることが好ましい。
【００２３】
また、上記インキは加熱により分解昇華される材料からなり、上記コロイド溶液を塗布した後に、上記基板の加熱により上記印刷部の上記インキを分解昇華することもできる。この場合、インキは熱可塑性のアクリル樹脂、ブチラール樹脂、セルロース樹脂、ポリエステル樹脂等を用い、金属粉末融着時の加熱温度は２００℃〜３５０℃とし、金属層の形成と共に、インキを分解昇華させるのが良い。これにより基板上にインキが残存しない金属層からなる回路を形成することができる。
【００２４】
上記基板は、具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）に代表されるポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン等のビニル類、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。この中でも、水系のコロイド溶液との濡れ性や金属層との密着性が良いという理由によりポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ガラスエポキシ樹脂（エポキシ含浸ガラス樹脂）、セラミック基板、セラミックグリーンシート等が特に好ましい。
【００２５】
インキの印刷前に基板の表面には、親水処理を施していても良い。これにより、コロイド溶液は基板の非印刷部に、さらに付着しやすくなる。具体的には、エッチングや研磨等による粗面化やＵＶ処理を行うことにより親水処理することができる。この親水処理は、撥水性を有するインキが基板表面に精度良く印刷可能な程度とするのが良い。
【００２６】
導電性ナノ金属粉末はコロイド溶液の全体積の１０％〜９５％の体積割合でコロイド溶液中に均一に分散させていることが好ましい。これにより金属粉末同士を効率良く均等に接触させることができる。上記範囲としているのは、上記範囲より小さいと、金属粉末同士が十分に密着しにくく加熱時に金属層を形成しにくくなるためである。一方、上記範囲より大きいと、コロイド溶液が安定せずに凝集してしまい、粒子径が大きくなり低温でも溶融しなくなるという問題があるためである。なお、より好ましくは３０％〜８０％である。
【００２７】
上記コロイド溶液は、バーコート、スピンコーター、スクリーン印刷、ロールコーターから選択される方法等により塗布することができる。
また、上記コロイド溶液は、通常の方法で作成でき、例えば、塩化金酸の水溶液をアミン等の還元剤を用いると金が還元されて析出してくる。この際に、金の粒子表面に保護コロイドとして界面活性剤やポリマー等を吸着させ、コロイドを安定させる方法で作成できる。
【００２８】
上記基板表面への上記インキの印刷法として、凹版からブランケットへ上記インキを一旦転写させた後に、上記ブランケットから上記基板へ上記インキを転写させる凹版オフセット印刷法を用いることが好ましい。また、平板オフセット印刷、凸版印刷等の従来公知の印刷法を用いることもできる。インキの印刷厚みは、非印刷部分が良好な回路パターンになるために１μｍ〜１０μｍが好ましい。
【００２９】
版に凹版を用いる凹版オフセット印刷は凹版の深さを変えることで自由にインキ厚みを制御することが可能であり比較的厚みのある印刷が可能である。また、凹版の解像度は非常に高く１０μｍ前後の非常に微細なパターンも忠実に印刷で再現することが可能である。
【００３０】
上記ブランケットの表面ゴムはシリコンゴムからなり、上記凹版はガラスからなり、上記インキには上記ブランケットに対する膨潤度が小さい溶剤が含まれていることが好ましい。
【００３１】
凹版オフセット印刷において、特に、ブランケットの表面ゴムにシリコンゴムを用いると凹版からブランケットに移ったインキを１００％基板に移転させることが可能であり、１回で十分にインキ厚みの厚い印刷を行うことも可能である。しかも、インキの分断が１回しか起こらないために印刷物形状が非常に良好であり、約１０μｍの非常に微細な形状も印刷で再現可能である。よって、非印刷部が回路パターンになるように良好な印刷を行うことができる。
【００３２】
また、凹版は金属やガラスをフォトリソ法でエッチングすると非常に形状に良好な凹版を形成することが可能であるので平滑で転移性の良好なブランケットを組み合わせれば非常に形状の良好な印刷を行うことが可能となる。ナノ金属粉末を用いた本発明において凹版オフセット印刷は非常に適した印刷方式であることが判明した。
【００３３】
凹版について検討を行った結果、表面の平滑性が非常に重要であることが判明した。表面の平滑性が悪いとインキをドクターする際に凹版表面にインキのかき残りが起こり非画線部分の汚れ（地汚れ）が発生する。もっとも安価に表面平滑性の良好な凹版を作るにはガラスを用いエッチングすることである。ガラスはソーダガラスやノンアルカリガラス共に使用可能であるが、ノンアルカリガラスは非常に高価であるために高度な寸法精度を要求されない分野ではソーダガラスで十分である。また、金属材料をエッチングにより凹版を作成することも可能である。金属材料としては各種材料が使用可能であるが、特にエッチング性の良好なステンレスや４２合金（Ｆｅ−Ｎｉ合金（Ｎｉ４２％））、銅、真鍮、アンバー材等の材料が使用可能である。これらの金属を用いた凹版の場合には表面を鏡面加工にラッピング研磨を行うことで平滑性を上げる必要がある。また、金属表面の機械強度を向上させるために最表面に硬質クロムメッキ等の表面強化処理を行うことも考えられる。凹版の深さは目的のインキ膜厚みに応じて設計する必要があるが、通常は１〜５０μｍ程度が良い。凹版の深さの約半分の量のインキがブランケットに転移し、シリコンゴムのブランケットを用いるとほぼ１００％が被印刷体に印刷される。
【００３４】
ブランケットの表面ゴム硬度が高いとゴムが変形せずに版のインキを十分に転移させることが難しい。また、硬度が低いとゴムの変形が大きくなり精度良く印刷を行うことが難しい。よって、上記の面からブランケットのゴム硬度はＪＩＳ−Ａ硬度で７０〜２０、より好ましくは６０〜３０である。また、ブランケットの表面形状は特に印刷パターンが微細になるほど印刷形状に大きく影響を及ぼす。ライン幅２０μｍ程度の微細なパターン形成には表面粗度として１０点平均粗さで１．０μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．５μｍ以下の平滑な表面が望ましい。材料としてシリコンゴムを用いるとインキの転移が良好である。
【００３５】
インキに含まれる溶剤はオフセット印刷で印刷適正を支配する重要な因子である。特に印刷時にはインキ中の溶剤が常にブランケットに接触するためにブランケットの表面ゴムは溶剤にて膨潤し表面の濡れ特性は変化する。一般には膨潤の少ない溶剤を用いればブランケットの表面濡れ性は変化が少なく安定した印刷が可能であるがブランケットとの受理性を考慮すると若干膨潤する溶剤を選定する方が良好である。ただし、連続印刷すると膨潤のため表面の濡れ性の変化が大きく、安定した印刷ができなくなる。表面濡れ性が増加し印刷の線幅が広がる、版表面の微少な汚れを転写する、被印刷体への転写が悪くなる等の問題が発生してくる。表面ゴム中の溶剤は表面ゴムを加熱することで蒸発、乾燥し、元の表面状態に完全に戻すことが可能である。よって、蒸発乾燥のし易さは加熱温度、溶剤の沸点やゴム厚みが関係してくるが加熱温度４０℃〜２００℃であれば十分効果的に乾燥させることが可能である。加熱乾燥はブランケット胴を直接加温することが有効であるが、特に限定されたものではなく、ブランケット外部から熱風を吹きつけて乾燥させることも可能である。また、乾燥は常時加温させることも可能であるが不定期的に加温、冷却を繰り返すような使用も可能である。
【００３６】
乾燥後はブランケットの表面温度が高いと版と接触するために版が熱により膨潤し印刷精度が悪くなるといった問題がある。そのため、版の表面温度を通常±１℃以内に保つ必要があり、もちろんクリーンルーム内の室温もそれ以内に保つことが前提であるが、ブランケット表面の温度は＋５℃以内に収める必要がある。版の表面温度よりもばらつきが大きいのはブランケットが接触して転がる際に凹版に熱が逃げるためで＋５℃以上であると凹版の温度を＋１℃以上になり印刷精度への悪影響が出てくる。ブランケットの表面温度を＋５℃以上にする手法としてブランケットの表面を冷風で強制的に冷却することが一番効果的であり、ブランケットシリンダーも金属で熱容量が大きいために効果的に冷却が可能である。また、金属定盤上を転がすことでブランケット表面温度を急激に冷却することも可能である。その他、特に限定されることはなく、各種手法が可能である。
【００３７】
また、本発明は。本発明の回路の製造方法で製造され、基板上にナノ金属粉末からなるパターンの回路を備えた回路板を提供している。特に高密度なライン部分の多い回路（具体的な製品としては、フレキシブルプリント基板、ハイブリッドＩＣ基板、高密度両面プリント基板、セラミック基板等）に適したものとなる。その他、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）の電磁波シールド用等の回路板とすることができる。なお、回路パターンの形成は、基板の片面のみでも良いし、両面としても良い。
【００３８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。
まず、印刷法により、基板の表面上にインキを印刷する。印刷法は、図１（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）に示すように、平台型凹版オフセット印刷機１０を使用し、凹版１１からブランケット１２へインキ１３を一旦転写させた後に、ブランケット１２から基板１４へインキ１３を転写させる凹版オフセット印刷としている。
【００３９】
ブランケット１２の表面１２ａはシリコーンゴム（ゴム硬度ＪＩＳ−Ａ ４０、常温硬化型シリコーンゴム付加型、ゴム厚み３００μｍ）とし、表面粗度は１０点平均粗さで０．１μｍとしている。凹版１１はソーダライムガラスからなるガラス製凹版としている。
【００４０】
基板１４は表面を強アルカリエッチング（浸漬）の方法により粗面化し親水処理を施したポリイミド樹脂製（２００ｍｍ×２００ｍｍ）とし、インキ１３は液状シリコーンゴム（加熱硬化型）をシリコーンオイルで適当な粘度に調整したものを用いており、撥水性を有している。
【００４１】
平台型凹版オフセット印刷機１０は、基板１４へ１０枚分の印刷を終えると、加熱装置１５の送風口１５ａからブランケット１２へ熱風を当てブランケット１２を加熱している。ブランケット１２の表面温度が８０℃となるように調整して５分間行っている。なお、印刷機が設置されているクリーンルーム内の温度は２３℃±１℃に制御されており凹版１１の表面温度も２３℃±１℃に調整している。このように１０枚印刷毎に表面に熱風を当て乾燥を行っている。
乾燥後は、冷却装置１６の送風口１６ａからブランケット１２に冷風をあてて５分間冷却を行っている。冷却後のブランケット表面温度は面内で室温＋３℃以内に調整している。
【００４２】
上記した方法で基板１４の表面１４ａへ熱硬化型シリコーンゴムからなる撥水性を有するインキ１３を回路とならない非回路パターン領域に印刷している。インキ１３の印刷パターンは線幅Ｗ１が１００μｍ、線間隔Ｗ２が１００μｍのストライプパターンとしている。ブランケット１２上で転移したインキ１３は１００％完全に基板１４へ転移し、パターン形状は非常に良好で膜厚みも安定したものを得ている。基板１４上で、インキ１３の印刷部１４Ａは非回路パターン領域となり、非印刷部１４Ｂが回路パターン領域となる。
【００４３】
上記のようにインキ１３が印刷された基板１４を１２０℃で１時間加熱して、印刷部１４Ａのインキ１３を硬化させる。硬化状態でのインキ１３からなる印刷部１４Ａの膜厚みは３μｍとしている。即ち、撥水性の印刷部１４Ａを加熱硬化して形成している。
【００４４】
次に、基板１４の表面に略球形状で平均粒子径が１０ｎｍの銀からなる導電性ナノ金属粉末２０を分散させた水系のコロイド溶液Ｑを、バーコーターで基板１４の表面に塗布する。図２に示すように、この際、非回路パターン領域であるインキ１３の印刷部１４Ａの表面では、印刷部１４Ａが撥水性を示すため、水系のコロイド溶液Ｑははじかれて印刷部１４Ａの表面には付着しないが、回路パターン領域である非印刷部１４Ｂには水系のコロイド溶液Ｑが付着している。即ち、回路パターンとした非印刷部１４Ｂにのみコロイド溶液Ｑを３μｍの厚みで均一にコーティングしている。なお、導電性ナノ金属粉末２０はコロイド溶液Ｑの全体積の６０％の体積割合で、水を媒体とするコロイド溶液Ｑ中に均一に分散させたものを用いている。
【００４５】
その後、コロイド溶液Ｑを非印刷部１４Ｂに付着させた状態で、インキ１３の印刷及びコロイド溶液Ｑの塗布が行われた基板１４を加熱して、コロイド溶液Ｑ及びインキ１３を２００℃で１時間加熱する。この加熱により、非印刷部１４Ｂの表面上のコロイド溶液Ｑ中に存在する水等の液体を蒸発させ、かつ、導電性ナノ金属粉末２０同士を融着し、基板１４の非印刷部１４Ｂの表面にのみ導電性金属層２１を形成する。この導電性金属層２１により１００μｍ線幅、１．８μｍ厚の回路パターンが形成され、基板１４上に導電性ナノ金属粉末２０からなる回路板３０が形成される。
【００４６】
上記のように、本発明の製造方法によれば、ナノ金属粉末の粒径を０．１ｎｍ〜５０ｎｍと非常に小さくしているため、ナノ金属粉末同士が融着して回路となる導電性金属層を形成でき、該回路はナノ金属粉末のみからなるため導電性に優れたものとなる。また、微細なナノ金属粉末を用いているが、該ナノ金属粉末を分散させたコロイド溶液として基板表面に塗布するだけで、選択的にコロイド溶液の付着が可能であるため、作業性がよく、簡単に精度の高い回路を形成することができる。
【００４７】
本発明は上記実施形態に限定されず、導電性ナノ金属粉末として、金、銅、白金、パラジウムのいずれかまたはこれらの混合物等を用いることができ、インキはシリコーン樹脂、シリコーン系撥水剤を添加したポリエステル樹脂、アクリル樹脂等を用いてもよい。なお、インキを加熱硬化させない方法とすることもできる。基板はポリイミド樹脂以外とすることもでき、基板の表面は親水処理が施されていなくても良い。また、平版印刷等の他の印刷法により印刷してもよい。
【００４８】
また、インキは加熱により分解昇華される材料からなり、コロイド溶液を塗布した後に、基板の加熱により印刷部のインキを分解昇華することもできる。インキは熱可塑性のアクリル樹脂、ブチラール樹脂、セルロース樹脂、ポリエステル樹脂等に撥水剤を添加して用い、加熱温度は２００℃〜３５０℃とし、金属層の形成と共に、インキを分解昇華させるのが良い。これにより回路を形成した基板上からインキが除去することができる。
【００４９】
以下、本発明の回路の製造方法の実施例、比較例について詳述する。
【００５０】
（実施例１）
表面を粗面化したポリイミド樹脂２００ｍｍ×２００ｍｍ、厚み１００μｍに上記実施形態と同様の凹版オフセット印刷法でパターンを形成した。インキとしては撥水性を有する液状シリコーンゴム（加熱硬化型）をシリコーンオイルで５０Ｐ〜１５０Ｐの粘度に調整したものを用いた。印刷にはガラス製凹版を用い、印刷パターンは線幅１００μｍ、線間隔１００μｍのストライプパターンとした。
【００５１】
シリコーンゴム（ゴム硬度ＪＩＳ−Ａ ４０、常温硬化型シリコーンゴム付加型（信越化学工業（株）製：ＫＥ１６００）、ゴム厚み３００μｍ）を表面ゴムにもつブランケット（表面粗度 １０点平均粗さ ０．１μｍ）を作成して使用した。ブランケット上で転移したインキは１００％完全にガラス基板へ転移したのでパターン形状は非常に良好で膜厚みも安定したものが得られた。
【００５２】
その後、基板を１２０℃×１時間で加熱し、シリコーンゴムを硬化させて印刷部を形成した。この硬化後、印刷部の厚みを測定すると約３μｍであった。
【００５３】
その後、基板の表面全体に導電性ナノ金属粉末を分散させたコロイド溶液（日本ペイント社製、水媒体）をバーコーターで塗布した。予めシリコーンゴムを印刷しておいた印刷部は、水をはじくため、コロイド溶液はコーティングされない。しかし、非印刷部にはコロイド溶液が付着した。
【００５４】
その後２００℃×１時間で加熱して、銀粉末同士は完全に溶融し、非印刷部に金属層が形成された。これにより、非印刷部に１００μｍ線幅の非常に微細な１．８μｍ厚みの金属層からなる導電性回路パターンを形成することができ、体積固有抵抗が２．０×１０^−６Ω・ｃｍと非常に良好な導電性を発現した。
【００５５】
（比較例１）
実施例１と同様に、表面を粗面化したポリイミド樹脂２００ｍｍ×２００ｍｍに、凹版オフセット印刷法で水系の金属コロイドをインキとして上記実施例に記載の条件で直接印刷しようとしたが、版からブランケットへの受理が行われず、印刷することはできなかった。
【００５６】
以上のように、実施例及び比較例から、本発明により非常に良好な回路パターンを印刷のみで形成することができ、めっきを使用することなく、極めて低抵抗で導電性に優れた回路を容易かつ安価に製造できることが確認できた。
【００５７】
【発明の効果】
以上の説明より明らかなように、本発明によれば、導電性ナノ金属粉末の粒子径を０．１ｎｍ〜５０ｎｍ程度に小さくしているため、該金属粉末の表面活性が非常に高くなり、金属の融着温度が著しく低下し、金属粉末同士を低温で融着させることができる。また、撥水性のインキを非回路パターンに予め印刷しているため、水系のコロイド溶液を基板に塗布するだけで、非印刷部の基板表面にのみコロイド溶液を付着することができ、その後の加熱により非印刷部にナノ金属粉末が融着した金属層を形成することができる。よって、導電性の極めて良好な回路を簡易な工程で容易に製造することができる。
【００５８】
また、従来のフォトリソ法に比べ現像等の工程がないため廃液の流出がなく環境への影響を心配する必要もない。また、印刷法によりインキを印刷しているため、フォトリソ法に比べ装置の構造が簡単で比較的安価である。よって、本発明の製造方法により製造される回路を備えた回路板は、高密度のライン部分を持つ回路や、ＣＲＴ（ブラウン管）、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）等の電子機器から照射される電磁波を遮蔽する電磁波シールド等として好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）は、凹版オフセット印刷による印刷工程の説明図である。
【図２】（Ａ）コロイド溶液が基板に塗布された状態を示す図、（Ｂ）は回路の構成を示す図である。
【符号の説明】
１１ 凹版
１２ ブランケット
１３ インキ
１４ 基板
１４Ａ 印刷部
１４Ｂ 非印刷部
２０ 導電性ナノ金属粉末
２１ 導電性金属層
Ｑ コロイド溶液

Claims (7)

1. 基板表面の非回路パターン領域に撥水性を有するインキを印刷して撥水性の印刷部を形成し、
   次いで、上記基板の表面に、平均粒子径が０．１ｎｍ〜５０ｎｍの導電性ナノ金属粉末を分散させた水系のコロイド溶液を塗布し、回路パターン領域となる上記基板の非印刷部にのみ上記コロイド溶液を付着させ、
   次いで、上記基板を加熱して、上記コロイド溶液中の液体のみを蒸発させて上記導電性ナノ金属粉末同士を融着させ、上記非印刷部にナノ金属粉末からなる導電性金属層で回路を形成していることを特徴とする回路の製造方法。
2. 上記導電性ナノ金属粉末は、金、銀、銅、白金、パラジウムのいずれかまたはこれらの混合物からなり、上記加熱温度は１００℃〜２５０℃としている請求項１に記載の回路の製造方法。
3. 上記インキは加熱硬化型の樹脂あるいはゴムからなり、上記コロイド溶液を塗布する前に、上記基板を加熱して上記印刷部の上記インキを硬化させている請求項１または請求項２に記載の回路の製造方法。
4. 上記インキは、シリコーン系材料により撥水性が付与されており、上記基板は、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板のいずれかである請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の回路の製造方法。
5. 上記インキの印刷前に上記基板の表面に親水処理を施している請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の回路の製造方法。
6. 上記基板表面への上記インキの印刷法として、凹版からブランケットへ上記インキを一旦転写させた後に、上記ブランケットから上記基板へ上記インキを転写させる凹版オフセット印刷法を用いている請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の回路の製造方法。
7. 請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載された製造方法で製造され、基板上にナノ金属粉末からなるパターンの回路を備えた回路板。

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