JP2004202888A

JP2004202888A - グラビア製版方法

Info

Publication number: JP2004202888A
Application number: JP2002375367A
Authority: JP
Inventors: Manabu Inoue; 学井上; Tatsuo Shigeta; 龍男重田
Original assignee: Think Laboratory Co Ltd
Current assignee: Think Laboratory Co Ltd
Priority date: 2002-12-25
Filing date: 2002-12-25
Publication date: 2004-07-22

Abstract

【課題】耐刷力を担持するクロムメッキに替わり、クロムメッキと同等の耐刷力を担持し得るニッケル合金鍍金を設ける、グラビア製版方法。
【解決手段】版形成面である硫酸銅メッキ面にセルを形成し、セルが形成された面の全面に、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂのいずれか一のニッケル合金鍍金、又は、これらのいずれか一のニッケル合金鍍金にＳｉＣ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＣ、ＺｒＣのいずれか一の分散微粒子を共析するニッケル合金鍍金を数μｍ付け、次いで、高周波焼入れによりニッケル合金鍍金がビッカース硬度が１０００以上となるように高周波焼入れを行なうことを特徴とするグラビア製版方法。

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本願発明は、耐刷力を担持するクロムメッキに替わり、クロムメッキと同等の耐刷力を担持し得るニッケル合金鍍金を設ける、グラビア製版方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のグラビア版は、硫酸銅メッキ面にセルを形成し、セルが形成された面の全面に耐刷力を担持するクロムメッキを７〜８μｍ付けていた。このクロムメッキのビッカース硬度が１０００前後である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
クロムメッキは六価クロムという有害な化合物になるので、グラビア製版工場における作業環境への悪影響を与える原因になっている。クロムメッキ液の廃液処理は容易でなく、回収業者に高コストで引き取ってもらっていた。クロムメッキ液の廃液処理装置の故障事故等により中水に濃厚なクロム廃液が入り込み、土壌や架線の汚染等の惧れがある。
【０００４】
クロムメッキを行なうことは好ましくなく、世界的に禁止される方向にあり、従って、グラビア製版ラインからクロムメッキ工程、リーユースロールのクロム剥離もしくはクロムメッキを含む落版工程を排除したい。
【０００５】
本願発明は、耐刷力を担持するクロムメッキに替わり、クロムメッキと同等の耐刷力を担持し得るニッケル合金鍍金を設ける、グラビア製版方法を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本願発明は、版形成面である硫酸銅メッキ面にセルを形成し、セルが形成された面の全面に、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂのいずれか一のニッケル合金鍍金、又は、これらのいずれか一のニッケル合金鍍金にＳｉＣ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＣ、ＺｒＣ等の分散微粒子を共析するニッケル合金鍍金を数μｍ付け、次いで、ニッケル合金鍍金に高周波焼入れを行なうことを特徴とするグラビア製版方法を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
この実施の形態にかかるグラビア製版方法は、
(1)鉄又はアルミニウムの版母材に硫酸銅メッキを例えば１００〜１２０μｍの厚さとなるように付ける。版母材は、ロール版について説明するが、板状の版であっても良い。
鉄の版母材に硫酸銅メッキを付けるには、例えば、円筒研磨又は円筒切削加工して脱脂−水洗−酸処理・中和―水洗を行ないニッケルメッキを２〜３μｍ付けてから硫酸銅メッキを付ける。
アルミニウムの版母材に硫酸銅メッキを付けるには、アノダール法又はジンケート法により脱スマット処理を行なってから、ピロリン酸銅メッキ又はニッケルメッキを２〜３μｍ付けてから硫酸銅メッキを付ける。
その他、バラード厚付硫酸銅メッキを付けても良い。
(2)次いで、該硫酸銅メッキ面を例えば＃１０００の研磨砥石で仕上げ研磨してさらに＃６０００の研磨砥石で鏡面研磨してからセルを形成する。このセルは、ＡＭスクリーンとＦＭスクリーンのいずれでも良い。
セルの形成は、
(a)ネガ型の感光剤を塗布して感光膜を形成し、デジタル版情報に基づいて、紫外線波長領域のレーザーで露光して現像し食刻してセルを形成しレジスト剥離する。
(b)ポジ型の感光剤を塗布して感光膜を形成し、デジタル版情報に基づいて、赤外線波長領域のレーザーでアブレーションが伴う露光を行ない現像し食刻してセルを形成しレジスト剥離する。
(c) アブレーション型の黒色感光剤を塗布して感光膜を形成し、デジタル版情報に基づいて、熱線レーザーで露光しアブレーションし食刻してセルを形成しレジスト剥離する。
(d) 電子彫刻機のスタイラス（ダイヤモンド彫刻針）でデジタル版情報に基づいて、硫酸銅メッキ面に直接にセルを彫刻する。
(e) 炭酸ガスレーザーやＹＡＧレーザーなどの高出力レーザーでデジタル版情報に基づいて、硫酸銅メッキ面に直接にセルを彫刻する。・・・方法がある。
(3)次いで、セルが形成された硫酸銅メッキ面の全面に、従来の硬質クロムメッキに替えて、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂのいずれか一のニッケル合金鍍金、又は、これらのいずれか一のニッケル合金鍍金にＳｉＣ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＣ、ＺｒＣ等の分散微粒子を共析するニッケル合金鍍金を例えば７〜８μｍ付ける。
このメッキは電解メッキが好ましいが、無電解メッキでも良い。
Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ又はＮｉ−Ｂのニッケル合金鍍金を付けるためのメッキ液はそれぞれ所定のメッキ液（公知）が使用される。
分散微粒子を共析する複合メッキを行なうには、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ又はＮｉ−Ｂのニッケル合金鍍金を付けるためのメッキ液中に、ＳｉＣ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＣ、又はＺｒＣの微粉末を分散する。
(4)次いで、高周波焼入れによりニッケル合金鍍金がビッカース硬度が１０００以上となるように高周波焼入れを行なう。高周波焼入れの温度は２００〜４００℃である。Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂ、Ｎｉ−Ｐ−ＳｉＣ、Ｎｉ−Ｗ−ＳｉＣ、Ｎｉ−Ｂ−ＳｉＣのいずれも、ビッカース硬度が１０００以上となるから、耐刷力を担持する従来のクロムメッキに替わり、クロムメッキと同等の耐刷力を担持し得る。
【０００８】
【実施例】
表１は、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂの各一のニッケル合金鍍金を付けて、析出鍍金金属のビッカース硬度と、高周波焼入れを行なった後のビッカース硬度を測定した。
又、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂの各一のニッケル合金鍍金を行なうメッキ液にＳｉＣの微粉末を混ぜて複合メッキを行い、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂの各一のニッケル合金鍍金中にＳｉＣの微粉末が分散した複合メッキであるＮｉ−Ｐ−ＳｉＣ、Ｎｉ−Ｗ−ＳｉＣ、Ｎｉ−Ｂ−ＳｉＣの各一のニッケル合金鍍金を付けて、析出鍍金金属のビッカース硬度と、高周波焼入れを行なった後のビッカース硬度を測定した。いずれのケースも、ビッカース硬度が１０００以上となるから、従来のクロムメッキに対して代替できる。
なお、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂの各一のニッケル合金鍍金を行なうメッキ液にＳｉＣの微粉末に替えて、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＣ、又はＺｒＣの微粉末を混ぜて複合メッキを行い、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂの各一のニッケル合金鍍金中にＡｌ_２Ｏ_３、ＴｉＣ、又はＺｒＣの微粉末が分散した複合メッキであるＮｉ−Ｐ−Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎｉ−Ｗ−Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎｉ−Ｂ−Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎｉ−Ｐ−ＴｉＣ、Ｎｉ−Ｗ−ＴｉＣ、Ｎｉ−Ｂ−ＴｉＣ、Ｎｉ−Ｐ−ＺｒＣ、Ｎｉ−Ｗ−ＺｒＣ、ＺｒＣの各一のニッケル合金鍍金を付けて、析出鍍金金属のビッカース硬度と、高周波焼入れを行なった後のビッカース硬度も、ビッカース硬度が同様の値になり、従来のクロムメッキに対して代替できる。
【０００９】
【表１】

【００１０】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本願発明のグラビア製版方法によれば、
(1)クロムメッキと同等の耐刷力を担持し得るグラビア印刷ロールを提供できる。
(2)グラビア製版ラインからクロムメッキ工程、リーユースロールのクロム剥離もしくはクロムメッキを含む落版工程を排除できる。
(3) グラビア製版工程からクロムメッキを排除できることにより、グラビア製版工場における作業環境を改善でき、クロムメッキ液の廃液処理装置の故障事故等により中水に濃厚なクロム廃液が入り込み、土壌や架線の汚染等の惧れを回避できる。

Claims

版形成面である硫酸銅メッキ面にセルを形成し、セルが形成された面の全面に、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ、Ｎｉ−Ｂのいずれか一のニッケル合金鍍金、又は、これらのいずれか一のニッケル合金鍍金にＳｉＣ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＣ、ＺｒＣ等の分散微粒子を共析するニッケル合金鍍金を数μｍ付け、次いで、ニッケル合金鍍金に高周波焼入れを行なうことを特徴とするグラビア製版方法。