JP2004168687A - ペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法 - Google Patents

ペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法 Download PDF

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JP2004168687A JP2002334943A JP2002334943A JP2004168687A JP 2004168687 A JP2004168687 A JP 2004168687A JP 2002334943 A JP2002334943 A JP 2002334943A JP 2002334943 A JP2002334943 A JP 2002334943A JP 2004168687 A JP2004168687 A JP 2004168687A
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Inventor
Takatsune Yanagida
高恒 柳田
Shinichi Ando
真一 安藤
Koichi Imamura
公一 今村
Seiichi Tanabe
誠一 田辺
Kazuyuki Tando
和志 丹藤
Yutaka Takeya
竹谷  豊
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Teijin Ltd
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Teijin Chemicals Ltd
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Abstract

【課題】工業的に有利な生産性に優れたペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法を提供する。
【解決手段】三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応により得られるペンタエリスリトールジクロロホスファイトの溶液または懸濁液に、不活性気体を吹き込みながら特定のアラルキルアルコールを反応させることを特徴とするペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特定の構造を有するペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法に関する。更に詳しくは、難燃剤、結晶核剤、可塑剤、酸化防止剤等の添加剤として使用できるペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
これまで、アリールオキシ基がP原子と結合しているペンタエリスリトールジホスファイトは酸化防止剤、或いはUV光安定剤として実用化されており、その多岐にわたる製造方法も多数の特許、化学文献で開示されている。
【0003】
例えば、該アリールオキシ基が2,4,6−トリ−t−ブチルフェニルオキシ基であるペンタエリスリトールジホスファイトの合成法として、2,4,6−トリ−t−ブチルフェニルジクロロホスファイトとペンタエリスリトールとの反応例が示されている(特許文献1参照)。
【0004】
また、該アリールオキシ基が2,4−ジ−t−ブチルフェニルオキシ基であるペンタエリスリトールジホスファイトの合成法として、3,9−ジクロロペンタエリスリトールジホスファイトと2,4−ジ−t−ブチルフェノールとの反応例が示されている(特許文献2参照)。
【0005】
さらに、該アリールオキシ基がフェニルオキシ基であるペンタエリスリトールジホスファイトの合成法として、トリフェニルホスファイトとペンタエリスリトールとのエステル交換による反応例が示されている(特許文献3参照)。
【0006】
しかしながら、本発明の特定の構造を有するペンタエリスリトールジホスファイトに関しては、該化合物自体の安定性が悪く必ずしも従来通りの製造方法ではかかる該化合物を高収率で回収できないという問題があった。従って、該化合物の製造法に関しては、実質的に検討がなされておらず、製造法の詳細や収率および純度向上方法について記載した文献等がなく、工業的な製造法の見地からも種々の問題が内在していた。
【0007】
【特許文献1】
米国特許第5308901号明細書
【特許文献2】
米国特許第5917076号明細書
【特許文献3】
米国特許第3205250号明細書
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、工業的に有利な生産性に優れた方法で高純度のペンタエリスリトールジホスファイトを製造する方法を提供することにある。
【0009】
本発明者は前記目的を達成すべく誠意検討した結果、三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応生成物の溶液または懸濁液に、不活性気体を吹き込みながら特定のアラルキルアルコールと反応させるという、工程負荷が低く工業的に有利な方法により、高純度のペンタエリスリトールジホスファイトが得られることを見出し本発明に至った。
【0010】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明によれば、三塩化リンとペンタエリスリトールとを反応に関与しない不活性な溶媒の存在下で反応させて得られる下記式(1)で示されるペンタエリスリトールジクロロホスファイトの溶液又は懸濁液に、不活性気体を吹き込みながら、式(2)で示されるアラルキルアルコールを反応させることを特徴とする式(5)で示されるペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法が提供される。
【0011】
【化11】
Figure 2004168687
【0012】
【化12】
Figure 2004168687
【0013】
[式中、Arは、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基である。また、Zは式(3)または式(4)で示される基である。]
【0014】
【化13】
Figure 2004168687
【0015】
[式中、RおよびRは同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
【0016】
【化14】
Figure 2004168687
【0017】
[式中、R、R、RおよびRは同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、炭素数7〜30の置換もしくは非置換のアラルキル基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
【0018】
【化15】
Figure 2004168687
【0019】
[式中、ArおよびArは、同一または異なっていてもよく、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基である。ZおよびZは、同一または異なっていてもよく、式(6)または式(7)で示される基である。]
【0020】
【化16】
Figure 2004168687
【0021】
[式中、RおよびRは同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
【0022】
【化17】
Figure 2004168687
【0023】
[式中、R、R10、R11およびR12は、同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、炭素数7〜30の置換もしくは非置換のアラルキル基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
本発明のペンタエリスリトールジホスファイトとしては、前記式(5)においてArおよびArが、フェニル基、各種トルイル基、各種キシリル基、ジ−t−ブチルフェニル基、各種クメニル基、ビフェニル基、ナフチル基等であり、ZおよびZが前記式(6)または前記式(7)で示される。
【0024】
前記式(6)においてRおよびRが、水素原子、メチル基、エチル基、各種プロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、プロペニル基、フェニル基、各種トルイル基、各種キシリル基、ジ−t−ブチルフェニル基、各種クメニル基、ビフェニル基、ナフチル基等であり、前記式(7)においてR、R10、R11およびR12が、水素原子、メチル基、エチル基、各種プロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、プロペニル基、フェニル基、各種トルイル基、各種キシリル基、ジ−t−ブチルフェニル基、各種クメニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、ジフェニルメチル基等である。
【0025】
中でも、ArおよびArがフェニル基、R、R、R、R10、R11およびR12がそれぞれ水素原子、メチル基、またはフェニル基である化合物が好ましい。
【0026】
具体的には、3,9−ビス((フェニルメチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2−メチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((3−メチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((4−メチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2,4−ジメチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2,6−ジメチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((3,5−ジメチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2,4,6−トリメチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0027】
3,9−ビス(((2−s−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((4−s−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2,4−ジ−s−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2,6−ジ−s−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2,4,6−トリ−s−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0028】
3,9−ビス(((2−t−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((4−t−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2,4−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2,6−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0029】
3,9−ビス(((4−ビフェニル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((1−ナフチル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2−ナフチル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((1−アントリル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((2−アントリル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(((9−アントリル)メチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0030】
3,9−ビス((1−フェニルエチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((1−フェニルプロピル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((ジフェニルメチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((トリフェニルメチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0031】
3−(フェニルメチル)オキシ−9−((2,6−ジメチルフェニル)メチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(フェニルメチル)オキシ−9−((2,4−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(フェニルメチル)オキシ−9−(1−フェニルエチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(フェニルメチル)オキシ−9−(ジフェニルメチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0032】
3−((2,6−ジメチルフェニル)メチル)オキシ−9−(1−フェニルエチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−((2,4−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)オキシ−9−(1−フェニルエチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(ジフェニルメチル)オキシ−9−(1−フェニルエチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(ジフェニルメチル)オキシ−9−((2,6−ジメチルフェニル)メチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(ジフェニルメチル)オキシ−9−((2,4−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0033】
3,9−ビス((2−フェニルエチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(2−メチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(3−メチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(4−メチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(2,4−ジメチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(2,6−ジメチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(3,5−ジメチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(2,4,6−トリメチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0034】
3,9−ビス((2−(2−t−ブチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(4−t−ブチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0035】
3,9−ビス((2−(4−ビフェニル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(1−ナフチル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(2−ナフチル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(1−アントリル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(2−アントリル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−(9−アントリル)エチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0036】
3,9−ビス((2−フェニルプロピル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−メチル−2−フェニルプロピル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,2−ジフェニルエチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,2,2−トリフェニルエチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((1−フェニル−2−プロピル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((1,2−ジフェニルエチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((1,3−ジフェニル−2−プロピル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((3−フェニル−2−ブチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(2−フェニルエチル)オキシ−9−(2−(2,6−ジメチルフェニル)エチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(2−フェニルエチル)オキシ−9−(2−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)エチル)オキシ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカンが挙げられる。
【0037】
特に、3,9−ビス((フェニルメチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((1−フェニルエチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((ジフェニルメチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−フェニルエチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカンが好ましい。
【0038】
本発明に用いられる三塩化リンは、その純度が98%以上であることが望ましい。高純度の三塩化リンは、例えば市販品を不活性雰囲気下で蒸留することにより得られる。三塩化リンの純度はガスクロマトグラフィーで定量することができ、またJIS K8404−1887に示される様に、化学反応での定量が可能である。
【0039】
本発明に用いられるペンタエリスリトールは、その純度が98%以上であることが望ましい。好ましくは99%以上である。高純度のペンタエリスリトールは、主として市販品を水から再結晶して、高分子量の不純物を除去することにより得ることができる。ペンタエリスリトールの純度はガスクロマトグラフィーで定量可能であり、JIS K1510−1993に示される様に、化学反応での定量化も可能である。
【0040】
本発明において、ペンタエリスリトールに対する三塩化リンのモル比は、ペンタエリスリトール100モル%に対して、195モル%〜240モル%が好ましい。より好ましくは200モル%〜220モル%である。該モル比が195モル%未満であると、最終的に得られるペンタエリスリトールジホスファイトの回収量が大幅に低下することがある。一方、該モル比が240モル%を越えると、未反応で残る三塩化リンが以後の反応に与える影響が大きくなり、最終的に得られるペンタエリスリトールジホスファイトの回収量が低下することがある。加えて、廃棄物の量が増大し、工業的に生産性が大幅に低下するおそれがある。
【0041】
本発明の三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応で使用する、反応に関与しない不活性な溶媒はペンタエリスリトール、三塩化リン、後述する有機塩基化合物と反応しない不活性な溶媒であればよい。この様なものとしては芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ハロゲン含有炭化水素および含酸素炭化水素からなる群より選ばれる1種または2種以上の不活性溶媒が挙げられる。
【0042】
具体的には、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼン等が挙げられる。特に、常圧下での沸点が100℃〜300℃のものが好適に用いられる。この様なものとしては、デカン、ドデカン、ジブチルエーテル、ジオキサン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等が挙げられる。
【0043】
本発明において、三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応を効率よく進行させるために触媒を使用する事ができる。かかる触媒としては、リン−塩素結合と反応しない有機塩基化合物が好ましく用いられる。該リン−塩素結合と反応しない有機塩基化合物とは、実質的に窒素−水素結合および、または酸素−水素結合を有しない有機塩基化合物である。実質的にこれらの結合を有しないとは、該有機塩基化合物中の窒素−水素結合および酸素−水素結合量が合計で5000ppm以下のもので、好ましくは1000ppm以下、更に好ましくは500ppm以下のものである。
【0044】
該リン−塩素結合と反応しない有機塩基化合物としては、脂肪族または芳香族の、非環状または環状アミン類、アミド類が挙げられる。これらの化合物の一例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−イソプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ−t−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリ−n−オクチルアミン、メチルジエチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン、トリフェネチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N,N’,N’−テトラエチルメタンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,4−ブタンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−ブタンジアミン、1−メチルピロ−ル、1−エチルピロ−ル、1−メチルピロリジン、1−エチルピロリジン、オキサゾ−ル、チアゾ−ル、1−メチルイミダゾ−ル、1−エチルイミダゾ−ル、1−ブチルイミダゾ−ル、1−メチルピラゾ−ル、1−メチルピペリジン、1−エチルピペリジン、N,N’−ジメチルピペラジン、ピリジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン、N,N−ジエチル−4−アミノピリジン、2−メトキシピリジン、4−メトキシピリジン、2−メチルピリジン、4−メチルピリジン、2,6−ジメチルピリジン、2,4,6−トリメチルピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、キノリン、イソキノリン、キヌクリジン、キナゾリン、9−メチルカルバゾ−ル、アクリジン、フェナントリジン、ヘキサメチレンテトラミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジエチルプロパンアミド、N,N−ジメチルベンズアミド、N−メチル−2−ピロリジノン、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチル−2−ピペリドンなどが挙げられる。また、上記の化合物がポリマ−中に化学的に結合された化合物でもよい。例えばポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(2−ビニルピリジン)、4−ビニルピリジンとスチレンの共重合体などが挙げられる。
【0045】
中でもトリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン、4−メチルピリジン、2,4,6−トリメチルピリジン、キノリン、N,N−ジメチルホルムアミド、4−ビニルピリジンとスチレンの共重合体が好ましく、特にトリエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルホルムアミドが好ましい。
【0046】
該有機塩基化合物は単一の化合物として用いるだけでなく、二種以上併用して用いることもできる。
【0047】
上記の有機塩基化合物触媒の存在割合は、三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応で生成する塩化水素1当量に対して0.005〜1当量が好ましい。実用上、塩化水素1当量に対して0.01〜0.1当量が望ましい。
【0048】
本発明における三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応方法としては、ペンタエリスリトールの懸濁液に三塩化リンを滴下する、三塩化リンにペンタエリスリトールの懸濁液を滴下する、三塩化リンにペンタエリスリトール粉末を添加する等、種々の方法が適用できる。中でも、ペンタエリスリトールの懸濁液に三塩化リンを滴下する方法が作業効率の点から好ましい。
【0049】
また本発明における三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応における反応温度は、−10℃〜90℃の範囲であることが望ましい。より望ましくは0℃〜60℃であり、特に望ましいのは5℃〜40℃である。該反応温度が−10℃未満であると反応速度が大幅に低下するため、生産性の低下に繋がることがある。一方90℃を越えると副反応が起こり、目的とするペンタエリスリトールジホスファイトの回収量が少なくなることがある。
【0050】
本発明において、三塩化リンとペンタエリスリトールとを反応させるときの反応時間は特に規定しないが、1分間〜500分間かけて反応させるのが好ましい。更に好ましくは5分間〜300分間である。反応時間が上記範囲であれば、単位時間当りの発熱量、塩化水素ガスの発生量が小さく、反応温度を制御することが容易であり、熱交換器、冷却器や塩化水素ガス除害装置等の設備負荷が小さいので好ましい。また、生産効率の点からも反応時間は上記範囲が好ましい。
【0051】
本発明における三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応系は、常時不活性気体雰囲気下に保つことが望ましい。不活性雰囲気とは本発明で用いる三塩化リンおよびペンタエリスリトールを変性しうる酸素ガス、湿気等が実質的に無い状態の事である。系内の酸素濃度について具体的には5%以下、好ましくは1%以下、更に好ましくは100ppm以下であることが望ましい。該酸素濃度はJIS B 7983に規定のジルコニア式分析法等で測定する事ができる。不活性気体雰囲気下で反応する方法としては、反応系内を窒素、アルゴン等の不活性気体で置換後、該不活性気体雰囲気下または該不活性気体気流下で反応を行う方法等が挙げられる。なかでも不活性気体気流下で反応を行う方法が、副生する塩化水素ガスを系外に排出する効果があり好ましい。
【0052】
本発明で得られたペンタエリスリトールジクロロホスファイトの溶液又は懸濁液の31P NMRスペクトルにおいて、4ppm〜10ppmに観測されるピークは少ない方がよい。該ピークが多くなると、本発明の目的である前記式(5)で示されるペンタエリスリトールジホスファイトの収率が低下するので好ましくない。具体的には該ピークの面積強度比が全ピークに対して10%以下が好ましい。より好ましくは、5%以下、更に好ましくは1%以下である。
【0053】
本発明では、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトを溶液または懸濁液から単離せずに、そのままアラルキルアルコールと反応させることで、不安定なペンタエリスリトールジクロロホスファイトの分解を抑制することができ、結果として、本発明の目的物であるペンタエリスリトールジホスファイトの回収率の増加に繋がる。また、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトを単離精製する工程を省略することになり、作業性、生産効率の点で優れている。
【0054】
本発明のペンタエリスリトールジホスファイトは、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトの溶液又は懸濁液に不活性気体を吹き込みながら、アラルキルアルコールを反応させることにより得ることができる。本発明者らは既に、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトに対して約2倍モル量の有機塩基化合物の存在下、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトと対応するアルコールとを反応させることにより該ペンタエリスリトールジホスファイトを得る方法を提案した(特願2002−171214号、特願2002−172652号)。この方法は反応により大量の有機塩基化合物の塩酸塩が副生し、工業的に製造する場合、有機塩基化合物を回収または有機塩基化合物の塩酸塩を無害化し廃棄するためのコストが必要であった。これに対して、本発明の方法では有機塩基化合物を用いないで該ペンタエリスリトールジホスファイトを製造することができ、有機塩基化合物に由来する副生成物が生成しないため副生成物の廃棄にかかるコストをより低減することが可能である。また、副生する塩化水素ガスは精製することで工業用ガスとして用いることも可能であり、さらに廃棄物量を減らすことも可能である。このように、本発明は工業的に有利なペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法を提供するものである。
【0055】
本発明においてペンタエリスリトールジクロロホスファイトの溶液又は懸濁液と反応させるアラルキルアルコールは、前記式(2)において、Arが、フェニル基、各種トルイル基、各種キシリル基、ジ−t−ブチルフェニル基、各種クメニル基、ビフェニル基、ナフチル基等であり、Zが前記式(3)または前記式(4)で示される。
【0056】
前記式(3)においてRおよびRが、水素原子、メチル基、エチル基、各種プロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、プロペニル基、フェニル基、各種トルイル基、各種キシリル基、ジ−t−ブチルフェニル基、各種クメニル基、ビフェニル基、ナフチル基等であり、前記式(4)においてR、R、RおよびRが、水素原子、メチル基、エチル基、各種プロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、プロペニル基、フェニル基、各種トルイル基、各種キシリル基、ジ−t−ブチルフェニル基、各種クメニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、ジフェニルメチル基等である。
【0057】
中でもArがフェニル基、R、R,R、R、RおよびRがそれぞれ水素原子、メチル基又はフェニル基である化合物が好ましい。
【0058】
具体的には、ベンジルアルコール、(2−メチルフェニル)メチルアルコール、(3−メチルフェニル)メチルアルコール、(4−メチルフェニル)メチルアルコール、(2,4−ジメチルフェニル)メチルアルコール、(2,6−ジメチルフェニル)メチルアルコール、(3,5−ジメチルフェニル)メチルアルコール、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチルアルコール、(2−s−ブチルフェニル)メチルアルコール、(4−s−ブチルフェニル)メチルアルコール、(2,4−ジ−s−ブチルフェニル)メチルアルコール、(2,6−ジ−s−ブチルフェニル)メチルアルコール、(2,4,6−トリ−s−ブチルフェニル)メチルアルコール、
【0059】
(2−t−ブチルフェニル)メチルアルコール、(4−t−ブチルフェニル)メチルアルコール、(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)メチルアルコール、(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)メチルアルコール、(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)メチルアルコール、(4−ビフェニル)メチルアルコール、(1−ナフチル)メチルアルコール、(2−ナフチル)メチルアルコール、(1−アントリル)メチルアルコール、(2−アントリル)メチルアルコール、(9−アントリル)メチルアルコール、
【0060】
1−フェニルエチルアルコール、1−フェニルプロピルアルコール、ジフェニルメチルアルコール、トリフェニルメチルアルコール、2−フェニルエチルアルコール、2−(2−メチルフェニル)エチルアルコール、2−(3−メチルフェニル)エチルアルコール、2−(4−メチルフェニル)エチルアルコール、2−(2,4−ジメチルフェニル)エチルアルコール、2−(2,6−ジメチルフェニル)エチルアルコール、2−(3,5−ジメチルフェニル)エチルアルコール、2−(2,4,6−トリメチルフェニル)エチルアルコール、
【0061】
2−(2−t−ブチルフェニル)エチルアルコール、2−(4−t−ブチルフェニル)エチルアルコール、2−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)エチルアルコール、2−(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)エチルアルコール、2−(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)エチルアルコール、2−(4−ビフェニル)エチルアルコール、2−(1−ナフチル)エチルアルコール、2−(2−ナフチル)エチルアルコール、2−(1−アントリル)エチルアルコール、2−(2−アントリル)エチルアルコール、2−(9−アントリル)エチルアルコール、
【0062】
2−フェニルプロピルアルコール、2−メチル−2−フェニルプロピルアルコール、2,2−ジフェニルエチルアルコール、2,2,2−トリフェニルエチルアルコール、1−フェニル−2−プロピルアルコール、1,2−ジフェニルエチルアルコール、1,3−ジフェニル−2−プロピルアルコール、3−フェニル−2−ブチルアルコールなどが挙げられる。
【0063】
中でも、ベンジルアルコール、1−フェニルエチルアルコール、ジフェニルメチルアルコール、2−フェニルエチルアルコールが好ましい。
【0064】
該アラルキルアルコールは単一の化合物として用いるだけでなく、二種以上併用して用いることもできる。
【0065】
該アラルキルアルコールの使用量は、ペンタエリスリトール100モル%に対し180モル%〜250モル%が望ましい。より好ましくは185モル%〜220モル%であり、更に好ましくは190モル%〜210モル%である。該アラルキルアルコールの使用量が180モル%〜250モル%であれば、本発明の目的物であるペンタエリスリトールジホスファイトを収率よく得ることができ、かつ、未反応のアラルキルアルコールを回収する工程や廃棄処理する工程の負荷が小さくなるので好ましい。
【0066】
本発明において、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトとアラルキルアルコールとを反応させる際に、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトの溶液又は懸濁液に吹き込む不活性気体とはペンタエリスリトールジクロロホスファイト、ペンタエリスリトールジホスファイト等を変性しうる酸素ガス、湿気等が実質的に無い気体の事である。不活性気体の酸素濃度について具体的には5%以下、好ましくは1%以下、更に好ましくは100ppm以下であることが望ましい。該酸素濃度はJIS B 7983に規定のジルコニア式分析法等で測定する事ができる。
【0067】
本発明において、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトとアラルキルアルコールとを反応させるときに不活性気体を吹き込むのは副生する塩化水素を反応系外から除去するためである。塩化水素を反応系から除去しなければ目的とするペンタエリスリトールジホスファイトを高純度で収率よく得ることは出来ない。よって、不活性気体の吹き込み量は特に規定しないが、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトと該アラルキルアルコールとの反応によって生ずる塩化水素を十分に反応系外に排出する量であればよい。その量を決定するためには例えば以下のような測定を行えばよい。一定時間に反応系外に排出される塩化水素を含んだ不活性気体を水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液に通し塩化水素を吸収させ、その吸収された塩化水素量をアルカリ水溶液の滴定などによって測定する。この排出量と一定時間における反応させたアラルキルアルコール量との比較から塩化水素の除去状態について知ることが可能である。塩化水素の除去が十分にできていない場合は吹き込む不活性気体量を増加させるか反応させるアラルキルアルコール量を減少させるなどの調整を行うことができる。また、該不活性気体を吹き込む際の反応系を減圧にすることによって塩化水素の除去量の調整を行うこともできる。
【0068】
本発明において、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトとアラルキルアルコールとを反応させるときの反応時間は特に規定しないが、1分〜500分かけて反応させるのが好ましい。更に好ましくは5分〜300分である。反応時間が1分未満であると単位時間当りの発熱量、塩化水素の発生量が大きく、反応温度の制御及び塩化水素の除去が困難となり、また、熱交換器や冷却器等の設備負荷も大きくなる。一方、反応時間が500分を越えると生産効率が劣ることとなる。
【0069】
本発明において、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトとアラルキルアルコールとを反応させるときの温度条件は−20℃〜100℃の範囲が望ましい。より好ましくは−10℃〜80℃である。−20℃未満だと反応速度が低下し、生産効率の低下をまねく。一方、100℃を越えた温度で反応させるとペンタエリスリトールジホスファイトの分解によって、結果的に本発明の目的物であるペンタエリスリトールジホスホネートの回収率低下を引き起こすことがある。
【0070】
本発明において、ペンタエリスリトールジクロロホスファイトとアラルキルアルコールとを反応させる際には、反応に関与しない不活性な溶媒を追加して反応させてもよい。該溶媒としては特に限定しないが、例を挙げれば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、酢酸エチル、ベンゼン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼン等が挙げられる。好ましくは、ヘキサン、デカン、ドデカン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等が挙げられる。更に好ましくは、ヘキサン、ドデカン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンが挙げられる。溶媒の分離回収等の負荷を考えると、該溶媒は本発明の三塩化リンとペンタエリスリトールを反応させる際に使用する不活性な溶媒と同じ溶媒種であることが好ましい。
【0071】
本発明において原料および溶媒の含水率はそれぞれ1000ppm以下であることが好ましい。更に好ましくは500ppm以下であり、特に好ましくは200ppm以下である。三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応及びペンタエリスリトールジクロロホスファイトとアラルキルアルコールとの反応に用いられる原料および生成物は、水によって分解されるものであるため、目的生成物の収率、純度を高くするには含水率が上記範囲であることが好ましい。
【0072】
さらに本発明によれば、上記製造方法によって得られるペンタエリスリトールジホスファイトを紫外線照射するか、あるいはハロゲン化合物存在下において加熱する下記式(8)で示されるペンタエリスリトールジホスホネートの製造方法が提供される。かかる反応で使用されるペンタエリスリトールジホスファイトは、前述したペンタエリスリトールジクロロホスファイトとアラルキルアルコールとの反応によって得られるペンタエリスリトールジホスファイトを含む反応混合物(溶液または懸濁液)をそのまま用いてもよく、水やアルカリ水溶液で洗浄処理した後に用いてもよい。また、反応混合物に溶媒を追加してもよい。さらに、反応混合物から溶媒等の一部を留去等で除去してから用いてもよいし、単離したペンタエリスリトールジホスファイト、もしくはその溶液を用いてもよい。
【0073】
【化18】
Figure 2004168687
【0074】
[式中、ArおよびArは、同一または異なっていてもよく、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基である。ZおよびZは、同一または異なっていてもよく、式(9)または式(10)で示される基である。]
【0075】
【化19】
Figure 2004168687
【0076】
[式中、R13およびR14は同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
【0077】
【化20】
Figure 2004168687
【0078】
[式中、R15、R16、R17およびR18は、同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、炭素数7〜30の置換もしくは非置換のアラルキル基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
ペンタエリスリトールジホスホネート化合物は、難燃剤、結晶核剤、可塑剤等の添加剤として使用でき、殊に樹脂用難燃剤として優れた効果を有する。
【0079】
上記ペンタエリスリトールジホスホネート化合物として、前記式(8)においてArおよびArが、フェニル基、各種トルイル基、各種キシリル基、ジ−t−ブチルフェニル基、各種クメニル基、ビフェニル基、ナフチル基等であり、ZおよびZが前記式(9)または前記式(10)で示される。
【0080】
前記式(9)においてR13およびR14が、水素原子、メチル基、エチル基、各種プロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、プロペニル基、フェニル基、各種トルイル基、各種キシリル基、ジ−t−ブチルフェニル基、各種クメニル基、ビフェニル基、ナフチル基等であり、前記式(10)においてR15、R16、R17およびR18が、水素原子、メチル基、エチル基、各種プロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、プロペニル基、フェニル基、各種トルイル基、各種キシリル基、ジ−t−ブチルフェニル基、各種クメニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、ジフェニルメチル基等である。
【0081】
中でも、ArおよびArがフェニル基、R13、R14、R15、R16、R17およびR18がそれぞれ水素原子、メチル基またはフェニル基である化合物が好ましい。
【0082】
具体的には3,9−ビス(フェニルメチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−メチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((3−メチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((4−メチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,4−ジメチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,6−ジメチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((3,5−ジメチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,4,6−トリメチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0083】
3,9−ビス((2−s−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((4−s−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,4−ジ−s−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,6−ジ−s−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,4,6−トリ−s−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0084】
3,9−ビス((2−t−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((4−t−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,4−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,6−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0085】
3,9−ビス((4−ビフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((1−ナフチル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−ナフチル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((1−アントリル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((2−アントリル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス((9−アントリル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0086】
3,9−ビス(1−フェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(1−フェニルプロピル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(ジフェニルメチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(トリフェニルメチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0087】
3−フェニルメチル−9−((2,6−ジメチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−フェニルメチル−9−((2,4−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−フェニルメチル−9−(1−フェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−フェニルメチル−9−ジフェニルメチル−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0088】
3−((2,6−ジメチルフェニル)メチル)−9−(1−フェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−((2,4−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)−9−(1−フェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−ジフェニルメチル−9−(1−フェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−ジフェニルメチル−9−((2,6−ジメチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−ジフェニルメチル−9−((2,4−ジ−t−ブチルフェニル)メチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0089】
3,9−ビス(2−フェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(2−メチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(3−メチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(4−メチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(2,4−ジメチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(2,6−ジメチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(3,5−ジメチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(2,4,6−トリメチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0090】
3,9−ビス(2−(2−t−ブチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(4−t−ブチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0091】
3,9−ビス(2−(4−ビフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(1−ナフチル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(2−ナフチル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(1−アントリル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(2−アントリル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−(9−アントリル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、
【0092】
3,9−ビス(2−フェニルプロピル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−メチル−2−フェニルプロピル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2,2−ジフェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2,2,2−トリフェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(1−フェニル−2−プロピル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(1,2−ジフェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(1,3−ジフェニル−2−プロピル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(3−フェニル−2−ブチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(2−フェニルエチル)−9−(2−(2,6−ジメチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3−(2−フェニルエチル)−9−(2−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)エチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカンが挙げられる。
【0093】
特に、3,9−ビス(フェニルメチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(1−フェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(ジフェニルメチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−フェニルエチル)−3,9−ジオキソ−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカンが好ましい。
【0094】
本発明において、ペンタエリスリトールジホスホネートは前記ペンタエリスリトールジホスファイトに紫外線照射することで得ることができる。紫外線を照射するためには、高圧水銀ランプまたはキセノン−水銀ランプなどの光化学反応用紫外線照射装置を用いることができる。これらの紫外線照射装置から照射される紫外線は干渉フィルターなどを通すことにより波長を制限することができる。
【0095】
ペンタエリスリトールジホスファイトに照射される紫外線の波長は180nm〜400nmが好ましく、特に200nm〜350nmが好ましい。照射時間は、ペンタエリスリトールジホスファイトの濃度、照射する紫外線の強度によって変化するため一概には言えないが、通常1分間〜600分間がよい。
【0096】
紫外線照射処理を行なう際の温度は−20℃〜80℃の範囲が望ましい。好ましくは−10℃〜60℃である。−20℃未満だと反応温度の制御を行う冷却装置の負荷が増加し、コスト面で不利となる。一方、80℃を越えた温度で紫外線照射を行うと副反応が増加する恐れがあり、結果的にペンタエリスリトールジホスホネートの回収率低下を引き起こすことがある。
【0097】
また、本発明のペンタエリスリトールジホスホネートは、本発明において得られたペンタエリスリトールジホスファイトをハロゲン化合物存在下において加熱することによっても得ることができる。
【0098】
該ハロゲン化合物としては、飽和もしくは不飽和のハロゲン化炭化水素化合物、置換もしくは非置換のハロゲン化芳香族化合物、置換もしくは非置換のハロゲン化アラルキル化合物、ハロゲン化4級アンモニウム塩、ハロゲン化ホスホニウム塩、ハロゲン化金属等が挙げられる。
【0099】
該ハロゲン化合物の具体例としては、メチルブロマイド、エチルブロマイド、n−プロピルブロマイド、iso−プロピルブロマイド、n−ブチルブロマイド、iso−ブチルブロマイド、t−ブチルブロマイド、n−ペンチルブロマイド、ベンジルブロマイド、(1−ブロモエチル)ベンゼン、(2−ブロモエチル)ベンゼン、ジフェニルメチルブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、テトラエチルホスホニウムブロマイド、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化リチウム、メチルアイオダイド、エチルアイオダイド、n−プロピルアイオダイド、iso−プロピルアイオダイド、n−ブチルアイオダイド、iso−ブチルアイオダイド、t−ブチルアイオダイド、n−ペンチルアイオダイド、ベンジルアイオダイド、(1−ヨードエチル)ベンゼン、(2−ヨードエチル)ベンゼン、ジフェニルメチルアイオダイド、テトラブチルアンモニウムアイオダイド、テトラエチルアンモニウムアイオダイド、テトラメチルアンモニウムアイオダイド、テトラブチルホスホニウムアイオダイド、テトラエチルホスホニウムアイオダイド、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム等を挙げることが出来る。
【0100】
中でも、ベンジルブロマイド、(1−ブロモエチル)ベンゼン、(2−ブロモエチル)ベンゼン、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムアイオダイド、メチルアイオダイド、n−ブチルアイオダイド、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムが特に好ましく使用される。
【0101】
本発明で使用されるハロゲン化合物の使用量は特に限定はしないが、ペンタエリスリトールジホスファイトに対して1モル%〜1000モル%が好ましく、より好ましくは5モル%〜300モル%である。
【0102】
本発明におけるペンタエリスリトールジホスファイトを該ハロゲン化合物の存在下において加熱する際の温度は特に限定はしないが、80℃〜300℃の範囲が好ましい。さらに好ましくは100℃〜250℃の範囲である。上記範囲であれば反応速度が適度であり生産性がよく、副反応も抑制されるためペンタエリスリトールジホスホネートを高収率で得ることができる。
【0103】
本発明のペンタエリスリトールジホスホネートの製造方法において、紫外線照射もしくはハロゲン化合物存在下での加熱は不活性雰囲気下で行うことが望ましい。不活性雰囲気とはペンタエリスリトールジホスファイトを変性しうる酸素ガス、湿気等が実質的に無い状態の事である。系内の酸素濃度について具体的には5%以下、好ましくは1%以下、更に好ましくは100ppm以下であることが望ましい。具体的な例としては、反応系内を窒素、アルゴン等の不活性ガスで置換後、該不活性ガス雰囲気下で反応を行う方法が挙げられる。該酸素濃度はJIS B 7983に規定のジルコニア式分析法等で測定する事ができる。
【0104】
上記反応で得られたペンタエリスリトールジホスホネートの精製方法としては、特に限定はしないが、例えば、該ペンタエリスリトールジホスホネートの溶解度が低い溶媒を用いて洗浄する方法がある。またその際の洗浄温度に関しても限定はなく、50℃〜120℃に加温したメタノール等のアルコールを使用することが好ましい。
【0105】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明の範囲がこれらの実施例に限定されるものではない。なお、評価は下記の方法で行った。
(1)反応中間体および生成物のNMR純度
Varian社製300MHzNMR測定装置を用い、重クロロホルムまたはジメチルスルホキシド−dを溶媒とし、室温にて31P NMR測定を行い、得られたスペクトル中の全ピ−クに対する目的物ピ−クの相対面積強度比から求めた。
(2)原料の含水率
三菱化学株式会社製 電量滴定式水分測定装置 CA−06型を用いてカールフィッシャー法にて測定した。
【0106】
実施例で使用した各試薬は以下に示したとおりである。
(1)ペンタエリスリトール
広栄化学工業株式会社のペンタリット−S(純度99.4%)を、予め乾燥させたものを使用した。含水率は38ppmであった。
(2)三塩化リン
キシダ化学株式会社から購入した純度99%以上の三塩化リンを、予め窒素気流下で蒸留したものを用いた。
(3)ピリジン
和光純薬工業株式会社から購入した特級グレードを、モレキュラーシーブスにより乾燥させてから用いた。含水率は20ppmであった。
(4)トルエン
和光純薬工業株式会社から購入した特級グレードを、モレキュラーシーブスにより乾燥させてから用いた。含水率は10ppmであった。
(5)キシレン
和光純薬工業株式会社から購入した特級グレードを、モレキュラーシーブスにより乾燥させてから用いた。含水率は12ppmであった。
(6)ベンジルアルコール
和光純薬工業株式会社から購入した特級グレードを、モレキュラーシーブスにより乾燥させてから用いた。含水率は25ppmであった。
(7)フェネチルアルコール
和光純薬工業株式会社から購入した特級グレードを、モレキュラーシーブスにより乾燥させてから用いた。含水率は29ppmであった。
(8)ベンジルブロマイド
和光純薬工業株式会社から購入した特級グレードを、モレキュラーシーブスにより乾燥させてから用いた。含水率は20ppmであった。
(9)フェネチルブロマイド
和光純薬工業株式会社から購入した特級グレードを、モレキュラーシーブスにより乾燥させてから用いた。含水率は26ppmであった。
(10)メタノール
和光純薬工業株式会社から購入した特級グレードをそのまま用いた。
【0107】
[実施例1]
(A)500mLのガラス製の四口フラスコに、テフロン製攪拌翼を取り付けたテフロンコーティングされている攪拌棒、テフロン製シール、及び撹拌器からなる攪拌装置一式と、管頂に塩化カルシウム管を付けたガラス製の還流冷却管、均圧管付きの100mL滴下漏斗、及びアルコール温度計を取り付けた。該滴下漏斗の上部から塩化カルシウム管を通した乾燥窒素を流しながら、ヒートガンで加熱し器壁の水分を除去した。室温まで放冷後、ペンタエリスリトール27.4g(0.201mol)、トルエン80mL、ピリジン0.810g(0.0102mol)を該反応装置に加えた。滴下漏斗に三塩化リン56.3g(0.410mol)を加えた。還流冷却器に冷媒を流し、攪拌を開始した。室温下(約25℃)、約30分かけて該三塩化リンを滴下した。系内温度は、滴下開始直後約4℃ほど上昇したが、その後室温付近でほぼ一定であった。滴下終了後、そのまま室温下で1時間攪拌をつづけることで白色懸濁液を得た。該反応中に発生した塩化水素は、該還流冷却管を通して反応系外の水酸化ナトリウム水溶液に吸収させた。
【0108】
該白色懸濁液の一部をサンプリングし、31P NMRを測定したところ、生成物はペンタエリスリトールジクロロホスファイトであり、4ppm〜10ppmのピークの面積強度比は全ピークに対して3.2%であった。
【0109】
(B)該反応装置から還流冷却管および三塩化リンを滴下した滴下漏斗を取り外した。一つの口に予め乾燥させた200mLの均圧管付き滴下漏斗と還流冷却管を取り付け、ベンジルアルコール43.6g(0.403mol)とトルエン100mLを該滴下漏斗に加えた。四口フラスコにはトルエン100mLを加えた。もう一方の口には先端にガラスフィルターが取り付けられたガラス管を取り付け、ガラスフィルターが懸濁液中に浸るようにした。還流冷却管に冷媒を流して冷却し、ガラスフィルターから乾燥窒素を300mL/分で吹き込みながら撹拌した。アイスバスにより反応系内の温度を5℃まで冷却した後、滴下漏斗からベンジルアルコールのトルエン溶液を2時間かけて滴下した。滴下中の系内温度は最高9℃まで上昇した。滴下終了後、約30分かけて室温まで戻し、そのまま60分間保持した。得られた溶液を水洗し、硫酸マグネシウムおよびモレキュラーシーブスで乾燥した後、溶媒を減圧留去、真空乾燥することで白色粉末を得た。収率90.1%、31P NMR純度98.1%で3,9−ビス((フェニルメチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン(以下ペンタエリスリトールジベンジルホスファイトと略す)が得られた。
【0110】
[実施例2]
実施例1(A)と同様の操作で得たペンタエリスリトールジクロロホスファイトの白色懸濁液の31P NMRを測定したところ、4ppm〜10ppmのピークの面積強度比は全ピークに対して3.9%であった。実際に使用した試薬量は以下の通りである。
ペンタエリスリトール:27.3g(0.201mol)
三塩化リン:56.3g(0.410mol)
ピリジン:0.800g(0.0101mmol)
トルエン:80mL
【0111】
該ペンタエリスリトールジクロロホスファイトの白色懸濁液に対して、ベンジルアルコールの代わりにフェネチルアルコールを49.0g(0.401mol)用いた以外は実施例1(B)と同様の操作を行い、白色粉末を得た。収率89.8%、31P NMR純度95.1%で3,9−ビス((2−フェニルエチル)オキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン(以下ペンタエリスリトールジフェネチルホスファイトと略す)が得られた。実際に使用した試薬量は以下の通りである。
フェネチルアルコール:49.0g(0.401mol)
トルエン:100mL(四口フラスコ)
トルエン:110mL(滴下漏斗)
【0112】
[比較例1]
実施例1(A)と同様の操作で得たペンタエリスリトールジクロロホスファイトの白色懸濁液の31P NMRを測定したところ、4ppm〜10ppmのピークの面積強度比は全ピークに対して4.2%であった。
【0113】
乾燥窒素をガラスフィルター付きのガラス管から吹き込まないこと以外は実施例1(B)と同様の方法でベンジルアルコールをペンタエリスリトールジクロロホスファイトの懸濁液に滴下した。反応混合物の31P NMR測定を行ったところペンタエリスリトールジベンジルホスファイトは全く得られなかった。実際に使用した試薬量は以下の通りである。
・ペンタエリスリトールジクロロホスファイトの合成試薬
ペンタエリスリトール:27.4g(0.201mol)
三塩化リン:56.1g(0.409mol)
ピリジン:0.799g(0.0101mmol)
トルエン:80mL
・ペンタエリスリトールジベンジルホスファイトの合成試薬
ベンジルアルコール:43.7g(0.404mol)
トルエン:100mL(四口フラスコ)
トルエン:100mL(滴下漏斗)
【0114】
実施例1および実施例2では、本発明の三塩化リンとペンタエリスリトールを反応させて得られる懸濁液に乾燥窒素を流しながらアラルキルアルコールを反応させることで目的物のペンタエリスリトールジホスファイトを得ることに成功した。
【0115】
一方、比較例1から明らかなように不活性気体による塩化水素の積極的な除去をしなければ本発明の目的であるペンタエリスリトールジホスファイトを得ることはできなかった。
【0116】
[実施例3]
実施例1と同様にしてペンタエリスリトールジベンジルホスファイトの白色粉末を得た。実際に使用した試薬量は以下の通りである。
・ペンタエリスリトールジクロロホスファイトの合成試薬
ペンタエリスリトール:27.3g(0.201mol)
三塩化リン:56.2g(0.409mol)
ピリジン:0.800g(0.0101mmol)
トルエン:80mL
・ペンタエリスリトールジベンジルホスファイトの合成試薬
ベンジルアルコール:43.8g(0.405mol)
トルエン:100mL(四口フラスコ)
トルエン:100mL(滴下漏斗)
【0117】
白色粉末の31P NMR測定を行ったところ、収率90.5%で、31P NMR純度97.6%のペンタエリスリトールジベンジルホスファイトであった。
【0118】
テフロン製攪拌翼を取り付けたテフロンコーティングされている攪拌棒、テフロン製シール、及び撹拌器からなる攪拌装置一式と、管頂に塩化カルシウム管を付けたガラス製の還流冷却管、及びアルコール温度計を取り付けた、乾燥窒素雰囲気で満たされた500mL三口フラスコに該ペンタエリスリトールジベンジルホスファイト72.0g(0.176mol)、ベンジルブロマイド60.5g(0.354mol)、キシレン100mLを入れた。激しく撹拌しながら140℃のオイルバスにより6時間加熱した。フラスコ内部は135℃で還流しており、均一溶液から白色沈殿が徐々に生成し、白色スラリーとなった。室温まで冷却後、白色スラリーをグラスフィルターで濾過した。グラスフィルター状の白色粉末をキシレン300mLで1回、メタノール300mLで2回洗浄し、真空乾燥することで白色粉末を得た。収率94.0%、31P NMR純度97.5%で3,9−ビス(フェニルメチル)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカンが得られたことが分かった。
【0119】
[実施例4]
実施例2と同様にしてペンタエリスリトールジフェネチルホスファイトの白色粉末を得た。実際に使用した試薬量は以下の通りである。
・ペンタエリスリトールジクロロホスファイトの合成試薬
ペンタエリスリトール:27.4g(0.201mol)
三塩化リン:56.2g(0.409mol)
ピリジン:0.810g(0.0102mmol)
トルエン:80mL
・ペンタエリスリトールジフェネチルホスファイトの合成試薬
フェネチルアルコール:49.3g(0.404mol)
トルエン:100mL(四口フラスコ)
トルエン:110mL(滴下漏斗)
【0120】
白色粉末の31P NMR測定を行ったところ、収率90.2%で、31P NMR純度94.8%のペンタエリスリトールジフェネチルホスファイトであった。
【0121】
テフロン製攪拌翼を取り付けたテフロンコーティングされている攪拌棒、テフロン製シール、及び撹拌器からなる攪拌装置一式と、管頂に塩化カルシウム管を付けたガラス製の還流冷却管、及びアルコール温度計を取り付けた、乾燥窒素雰囲気で満たされた500mL三口フラスコに該ペンタエリスリトールジフェネチルホスファイト74.5g(0.171mol)、フェネチルブロマイド63.3g(0.342mol)、キシレン100mLを入れた。激しく撹拌しながら140℃のオイルバスにより9時間加熱した。フラスコ内部は135℃で還流しており、均一溶液から白色沈殿が徐々に生成し、白色スラリーとなった。室温まで冷却後、白色スラリーをグラスフィルターで濾過した。グラスフィルター状の白色粉末をキシレン300mLで1回、メタノール300mLで2回洗浄し、真空乾燥することで白色粉末を得た。収率90%、31P NMR純度97.8%で3,9−ビス(2−フェニルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカンが得られたことが分かった。
【0122】
実施例3および実施例4から明らかなように、本発明で得られたペンタエリスリトールジホスファイトからペンタエリスリトールジホスホネートを得ることができた。
【0123】
【発明の効果】
本発明によれば、生産性、環境面およびコスト面に優れた工業的に有利な製造方法で、難燃剤等に好適に使用される特定のペンタエリスリトールジホスファイトを、高純度、高収率で得ることができる。

Claims (6)

  1. 三塩化リンとペンタエリスリトールとを反応に関与しない不活性な溶媒の存在下で反応させて得られる下記式(1)で示されるペンタエリスリトールジクロロホスファイトの溶液又は懸濁液に、不活性気体を吹き込みながら、式(2)で示されるアラルキルアルコールを反応させることを特徴とする式(5)で示されるペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法。
    Figure 2004168687
    Figure 2004168687
    [式中、Arは、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基である。また、Zは式(3)または式(4)で示される基である。]
    Figure 2004168687
    [式中、RおよびRは同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
    Figure 2004168687
    [式中、R、R、RおよびRは同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、炭素数7〜30の置換もしくは非置換のアラルキル基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
    Figure 2004168687
    [式中、ArおよびArは、同一または異なっていてもよく、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基である。ZおよびZは、同一または異なっていてもよく、式(6)または式(7)で示される基である。]
    Figure 2004168687
    [式中、RおよびRは同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
    Figure 2004168687
    [式中、R、R10、R11およびR12は、同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、炭素数7〜30の置換もしくは非置換のアラルキル基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
  2. 請求項1において、三塩化リンとペンタエリスリトールとを反応させる際に用いる、反応に関与しない不活性な溶媒が、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ハロゲン含有炭化水素および含酸素炭化水素からなる群より選ばれる1種または2種以上の溶媒である請求項1記載のペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法。
  3. 請求項1において、三塩化リンとペンタエリスリトールとの反応で得られるペンタエリスリトールジクロロホスファイトは、その31P NMRスペクトルにおいて、4ppm〜10ppmのピークの面積強度比が全ピークに対して10%以下である請求項1記載のペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法。
  4. 請求項1において、ペンタエリスリトールに対して前記式(2)で示されるアラルキルアルコールを180モル%〜250モル%用いる請求項1記載のペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法。
  5. 請求項1において、用いる原料および溶媒の含水率が1000ppm以下である請求項1記載のペンタエリスリトールジホスファイトの製造方法。
  6. 請求項1記載の製造方法によって得られるペンタエリスリトールジホスファイトを紫外線照射するか、あるいはハロゲン化合物の存在下において加熱する下記式(8)で示されるペンタエリスリトールジホスホネートの製造方法。
    Figure 2004168687
    [式中、ArおよびArは、同一または異なっていてもよく、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基である。ZおよびZは、同一または異なっていてもよく、式(9)または式(10)で示される基である。]
    Figure 2004168687
    [式中、R13およびR14は同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
    Figure 2004168687
    [式中、R15、R16、R17およびR18は、同一または異なっていてもよく、水素原子、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、炭素数7〜30の置換もしくは非置換のアラルキル基、または炭素数1〜20の飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。]
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