JP2004166276A - 高周波ユニットの特性曲線を決定する計測装置及びその方法 - Google Patents
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Abstract
【解決方法】高周波送信機から送信された高周波信号を受信装置16によって受信し、この信号から複素値の実際のベースバンド信号(MEAS)のサンプルを生成する。この実際のベースバンド信号(MEAS)のサンプルを復調することにより、変調シンボルシーケンス(SYM)を取得し、このシーケンスから、理想のベースバンド信号(REF)を基準信号としてシミュレートする。そして、実際のベースバンド信号(MEAS)を補正して補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)を生成し、理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの偏差を評価する。
【選択図】 図4
Description
また、請求項2に記載の方法は、請求項1に記載の方法において、前記実際のベースバンド信号(MEAS)を復調することによって決定された前記変調シンボルシーケンス(SYM)から、フィルタ(20)により、前記理想のベースバンド信号(REF)をシミュレートすることを特徴とする。
また、請求項3に記載の方法は、請求項1又は2に記載の方法において、前記実際のベースバンド信号(MEAS)を補正するために、前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの偏差が最小化されるパラメータの組(r、phi、f、t)を決定することを特徴とする。
また、請求項4に記載の方法は、請求項3に記載の方法において、前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの前記最小偏差を決定するために、平均二乗誤差を最小化することを特徴とする。
また、請求項5に記載の方法は、請求項3又は4に記載の方法において、前記パラメータの組(r、phi、f、t)を決定するために、前記実際のベースバンド信号(MEAS)と前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプル中の特定の選択されたもののみを使用することを特徴とする。
また、請求項6に記載の方法は、請求項5に記載の方法において、前記特定の選択されたサンプルとして、シンボル決定時点上に位置する前記実際のベースバンド信号(MEAS)と前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルを使用することを特徴とする。
また、請求項7に記載の方法は、請求項3乃至6のいずれかに記載の方法において、前記パラメータの組(r、phi、f、t)を決定するために、評価関数を用いて前記理想のベースバンド信号(REF)を重み付けすることを特徴とする。
また、請求項8に記載の方法は、請求項1乃至6のいずれかに記載の方法において、複数のグループ(28、「クラスタ」)を形成し、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)内に複数のサンプルを組み合わせたことを特徴とする。
また、請求項9に記載の方法は、請求項8に記載の方法において、前記グループ(28、「クラスタ」)を形成するために、複数の間隔(27)の前記サンプルを組み合わせており、前記間隔(27)は、評価対象の振幅レンジ(p1〜p2)又はレベルレンジを幅が同一の複数の部分に分割しており、それぞれのサンプルが特定の間隔(27.1〜27.n)に割り当てられていることを特徴とする。
また、請求項10に記載の方法は、請求項9に記載の方法において、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)において、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)に略同数のサンプルが含まれるように、適切な数の間隔(27)の前記サンプルを組み合わせることを特徴とする。
また、請求項11に記載の方法は、請求項9又は10に記載の方法において、それぞれの間隔(27)ごとに、前記理想のベースバンド信号(REF)から決定された理想レベル又は理想振幅を加算して第1間隔合計を形成し、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)ごとに、その1つのグループ(28、「クラスタ」)を形成するために組み合わせられている前記間隔(27)の前記第1間隔合計を合計することを特徴とする。
また、請求項12記載の方法は、請求項9乃至11のいずれかに記載の方法において、それぞれの間隔(27)ごとに、その間隔(27)内に組み合わせられている前記サンプルの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルレベルを加算して第2間隔合計を形成し、及び/又は、それぞれの間隔ごとに、その間隔(27)内に組み合わせられている前記サンプルの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの位相誤差を第3間隔合計として加算し(前記位相誤差は、前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルとの比較によって決定される)、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)ごとに、そのグループ(28、「クラスタ」)を形成するために組み合わせられている前記間隔(27)の前記第2及び/又は第3間隔合計を個々に合計することを特徴とする。
また、請求項13記載の方法は、請求項9乃至12のいずれかに記載の方法において、前記間隔の限度の決定を前記実際のベースバンド信号(MEAS)とは無関係に実行することを特徴とする。
また、請求項14記載の方法は、請求項9乃至13のいずれかに記載の方法において、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)ごとに、代表値ペアを決定することを特徴とする。
また、請求項15記載の方法は、請求項14記載の方法において、支持点として前記代表値ペア(29.1〜29.5)によって特性曲線の軌跡を近似することを特徴とする。
また、請求項16記載の方法は、請求項15記載の方法において、多角形曲線の軌跡により、前記支持点(29.1〜29.5)に前記特性曲線の軌跡を近似することを特徴とする。
また、請求項17記載の方法は、請求項15記載の方法において、多項式により、前記支持点(29.1〜29.5)に前記特性曲線の軌跡を近似することを特徴とする。
また、請求項18記載の方法は、請求項15記載の方法において、スプライン補間により、前記支持点(29.1〜29.5)に前記特性曲線の軌跡を近似することを特徴とする。
また、請求項19記載の方法は、請求項14乃至18のいずれかに記載の方法において、前記個々のグループ(28、「クラスタ」)の前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルから、前記理想レベル又は前記理想振幅の第1平均値と、前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルレベルの第2平均値又は前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの位相偏差の第2平均値とを有するそれぞれの代表値ペアを形成することを特徴とする。
また、請求項20記載の方法は、請求子14乃至19のいずれかに記載の方法において、前記高周波ユニットの様々なレベル設定ごとに計測を個々に実行し、特性曲線を形成するために、前記様々な計測の前記代表値ペアを使用することを特徴とする。
また、請求項21記載の方法は、請求項1乃至19のいずれかに記載の方法において、1回の計測から個々に複数の特性曲線を決定し、平均することにより、前記複数の特性曲線から平均特性曲線を形成することを特徴とする。
また、本発明の計測装置は、請求項22に記載の通り、変調信号によって変調された高周波信号を出力する高周波ユニットの特性曲線を決定する計測装置であって、前記高周波ユニットにより出力された前記高周波信号を受信し、実際のベースバンド信号(MEAS)の複素値のサンプルを生成する受信ユニット(16)と、前記サンプリングされた実際のベースバンド信号(MEAS)の変調シンボルシーケンス(SYM)を生成する復調装置(18)と、前記変調シンボルシーケンス(SYM)から理想のベースバンド信号(REF)をシミュレートするデジタルフィルタ(20)と、前記理想のベースバンド信号のサンプルに依存して、前記実際のベースバンド信号(MEAS)のサンプルを補正し、補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)を出力する補正装置(22)と、前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの偏差を評価する評価装置(26)とを有する。
また、請求項23記載の計測装置は、請求項22に記載の計測装置において、前記補正装置(22、22’)は、前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS)のサンプルの偏差が最小になるパラメータの組(r、phi、f、t)を決定する最小化要素(25)と、前記決定されたパラメータの組(r、phi、f、t)により、補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)を出力する補正要素(24)とを有することを特徴とする。
また、請求項24記載の計測装置は、請求項23に記載の計測装置において、前記サンプルを補正するための評価関数により、前記理想のベースバンド信号(REF)を重み付けする評価装置(30)が設けられていることを特徴とする。
図1(a)には、一例として、変調信号によって変調された高周波信号を送信する高周波送信機の増幅器の振幅特性曲線1が示されている。横軸2には、増幅器の入力電力が対数尺度でプロットされている。縦軸3には、同様に対数を尺度として、理想的な電力値からの偏差が増幅器の入力電力/出力電力比によって示されている。
2 横軸
3、3’ 縦軸
4 第I象限
5 原点
6 誤差ベクトル
7 理想のベースバンド信号
8 実際のベースバンド信号
9 位相特性曲線
10 決定時点における理想的な値
11 決定時点における対応する実際の値
12 誤差ベクトル
14 合計誤差ベクトル
15 決定時点における実際のベースバンド信号のサンプル
16 受信ユニット
17 受信ユニットの出力
18 復調装置
19 復調装置の出力
20 デジタルフィルタ
21 デジタルフィルタの出力
22 補正装置
23 補正装置の出力
24 最小化要素
25 補正要素
26 評価装置
27 間隔
28 グループ
29 支持点
30 評価装置
31 非線形ひずみ要素
32 第2入力
43 位相特性曲線
Claims (24)
- 変調信号によって変調された高周波信号を出力する高周波ユニットの特性曲線を決定する方法であって、
前記高周波ユニットから出力された前記高周波信号を受信し、実際のベースバンド信号(MEAS)の複素値のサンプルを生成する段階と、
前記サンプリングしたベースバンド信号を復調することにより、変調シンボルシーケンスを生成する段階と、
前記変調シンボルシーケンスから基準信号として理想のベースバンド信号(REF)をシミュレートする段階と、
前記実際のベースバンド信号(MEAS)を補正することにより、補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)を生成する段階と、
前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの偏差を評価する段階とを有する方法。 - 前記実際のベースバンド信号(MEAS)を復調することによって決定された前記変調シンボルシーケンス(SYM)から、フィルタ(20)により、前記理想のベースバンド信号(REF)をシミュレートすることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記実際のベースバンド信号(MEAS)を補正するために、前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの偏差が最小化されるパラメータの組(r、phi、f、t)を決定することを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの前記最小偏差を決定するために、平均二乗誤差を最小化することを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 前記パラメータの組(r、phi、f、t)を決定するために、前記実際のベースバンド信号(MEAS)と前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプル中の特定の選択されたもののみを使用することを特徴とする請求項3又は4に記載の方法。
- 前記特定の選択されたサンプルとして、シンボル決定時点上に位置する前記実際のベースバンド信号(MEAS)と前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルを使用することを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記パラメータの組(r、phi、f、t)を決定するために、評価関数を用いて前記理想のベースバンド信号(REF)を重み付けすることを特徴とする請求項3乃至6のいずれかに記載の方法。
- 複数のグループ(28、「クラスタ」)を形成し、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)内に複数のサンプルを組み合わせたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の方法。
- 前記グループ(28、「クラスタ」)を形成するために、複数の間隔(27)の前記サンプルを組み合わせており、前記間隔(27)は、評価対象の振幅レンジ(p1〜p2)又はレベルレンジを幅が同一の複数の部分に分割しており、それぞれのサンプルが特定の間隔(27.1〜27.n)に割り当てられていることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- それぞれのグループ(28、「クラスタ」)において、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)に略同数のサンプルが含まれるように、適切な数の間隔(27)の前記サンプルを組み合わせることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- それぞれの間隔(27)ごとに、前記理想のベースバンド信号(REF)から決定された理想レベル又は理想振幅を加算して第1間隔合計を形成し、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)ごとに、その1つのグループ(28、「クラスタ」)を形成するために組み合わせられている前記間隔(27)の前記第1間隔合計を合計することを特徴とする請求項9又は10に記載の方法。
- それぞれの間隔(27)ごとに、その間隔(27)内に組み合わせられている前記サンプルの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルレベルを加算して第2間隔合計を形成し、及び/又は、それぞれの間隔ごとに、その間隔(27)内に組み合わせられている前記サンプルの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの位相誤差を第3間隔合計として加算し(前記位相誤差は、前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルとの比較によって決定される)、それぞれのグループ(28、「クラスタ」)ごとに、そのグループ(28、「クラスタ」)を形成するために組み合わせられている前記間隔(27)の前記第2及び/又は第3間隔合計を個々に合計することを特徴とする請求項9乃至11のいずれかに記載の方法。
- 前記間隔の限度の決定を前記実際のベースバンド信号(MEAS)とは無関係に実行することを特徴とする請求項9乃至12のいずれかに記載の方法。
- それぞれのグループ(28、「クラスタ」)ごとに、代表値ペアを決定することを特徴とする請求項9乃至13のいずれかに記載の方法。
- 支持点として前記代表値ペア(29.1〜29.5)によって特性曲線の軌跡を近似することを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 多角形曲線の軌跡により、前記支持点(29.1〜29.5)に前記特性曲線の軌跡を近似することを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 多項式により、前記支持点(29.1〜29.5)に前記特性曲線の軌跡を近似することを特徴とする請求項15に記載の方法。
- スプライン補間により、前記支持点(29.1〜29.5)に前記特性曲線の軌跡を近似することを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記個々のグループ(28、「クラスタ」)の前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルから、前記理想レベル又は前記理想振幅の第1平均値と、前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルレベルの第2平均値又は前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの位相偏差の第2平均値とを有するそれぞれの代表値ペアを形成することを特徴とする請求項14乃至18のいずれかに記載の方法。
- 前記高周波ユニットの様々なレベル設定ごとに計測を個々に実行し、特性曲線を形成するために、前記様々な計測の前記代表値ペアを使用することを特徴とする請求項14乃至19のいずれかに記載の方法。
- 1回の計測から個々に複数の特性曲線を決定し、平均することにより、前記複数の特性曲線から平均特性曲線を形成することを特徴とする請求項1乃至19のいずれかに記載の方法。
- 変調信号によって変調された高周波信号を出力する高周波ユニットの特性曲線を決定する計測装置であって、
前記高周波ユニットにより出力された前記高周波信号を受信し、実際のベースバンド信号(MEAS)の複素値のサンプルを生成する受信ユニット(16)と、
前記サンプリングされた実際のベースバンド信号(MEAS)の変調シンボルシーケンス(SYM)を生成する復調装置(18)と、
前記変調シンボルシーケンス(SYM)から理想のベースバンド信号(REF)をシミュレートするデジタルフィルタ(20)と、
前記理想のベースバンド信号のサンプルに依存して、前記実際のベースバンド信号(MEAS)のサンプルを補正し、補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)を出力する補正装置(22)と、
前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)のサンプルの偏差を評価する評価装置(26)とを有する計測装置。 - 前記補正装置(22、22’)は、
前記理想のベースバンド信号(REF)のサンプルからの前記補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS)のサンプルの偏差が最小になるパラメータの組(r、phi、f、t)を決定する最小化要素(25)と、
前記決定されたパラメータの組(r、phi、f、t)により、補正済みの実際のベースバンド信号(MEAS’)を出力する補正要素(24)とを有することを特徴とする請求項22に記載の計測装置。 - 前記サンプルを補正するための評価関数により、前記理想のベースバンド信号(REF)を重み付けする評価装置(30)が設けられていることを特徴とする請求項22又は請求項23記載の計測装置。
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