JP2004152364A - 光ディスクとその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(1)2枚のディスク用基板を貼り合わせた構造を持つ光ディスクのうち、情報基板の製造工程には乾燥工程(室温より30℃以上高い温度による乾燥工程)を有するが、カバー基板の製造工程には乾燥工程を有しない光ディスクの製造方法において、情報基板成形金型温度(T1a)<カバー基板成形金型温度(T1b)という成形条件でディスク用基板を作成する光ディスク製造方法。
(2)(T1a)が124℃以上であるか、及び/又は、(T1b)−(T1a)が4℃以上である(1)記載の光ディスク製造方法。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、2枚のディスク用基板を貼り合わせた構造を持つ光ディスク、即ちDVD−ROM、DVD−RAM、DVD−RW/−R、DVD+RW/+Rなどの光ディスクとその製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】
従来の光ディスク製造方法は大略次のようなものである。
表面に光ピックアップ案内溝あるいは、アドレス等を表わすピットやセクタ・マーク或いは記録情報などの凹凸パターン、を有するフォトレジスト付き原盤からニッケルメッキ、電鋳等の工程を経てスタンパを作製し、そのスタンパを取り付けた金型内に溶解させたディスク基板用材料(例えばポリカーボネートなど)を充填し冷却固化したのち取り出すと、表面にスタンパの情報(光ピックアップ案内溝及びアドレス等を表わすピットやセクタ・マーク或いは記録情報などの凹凸パターンあるいは蛇行した溝)が転写されたプラスチック基板が出来上がる。この基板上に直接又は他の層を介して、反射膜又はレーザー光照射によって変化する記録膜を形成し、この膜を保護するための保護層(紫外線硬化樹脂など)をスピン塗布して硬化させるとCD−Audio、CD−ROM、CD−R、CD−RW、MO、PDなどの光ディスクが完成する。
【0003】
また、2枚の基板を貼り合わせた構造の光ディスクとしては、DVD−ROM、DVD−RW/−R、DVD−RAM、DVD+RW/+R等がある。
CDシリーズに対しDVDシリーズでは基板の板厚が半分の0.6mmと薄く、2枚を貼り合わせてCDシリーズと同じ厚さ1.2mmとする構造になっている。貼り合わせる際の接着剤としては紫外線などの光、熱又は空気中の水分で硬化するタイプなど各種ある。
【0004】
このような一般にDVDと呼ばれる2枚のディスク用基板を貼り合わせた構造を持つ光ディスクは、貼り合わせた後に規格化された形状を満足しなければならない。具体的には、中心穴径、外径、板厚、クランプ領域厚み、バーティカル・デビエイション(Vertical Deviation、軸方向の反り(変位量))、タンジェンシャル・デビエイション(Tangential Deviation、周方向の傾き角(α角))、ラジアル・デビエイション(Radial Deviation、半径方向の傾き角(α角))等の項目を満足する必要がある。
それらの項目の中で、バーティカル・デビエイションやラジアル・デビエイションは保管環境又は保管時間によりその値が変化してしまうことが、光ディスク専用の測定器で測定することによって明らかになっている。これはディスク基板、あるいは記録層、貼り合わせ接着層、印刷層などの残留歪、硬化収縮などの不均一な力がかかることが一因となり生じるものである。
このように変化してしまう項目を、製造直後から経時変化した後の将来も含めた実際の使用環境において規格化されたディスク仕様(バーティカル・デビエイション=+/−0.3mm、ラジアル・デビエイション=+/−0.7deg)を満足しようとするとすると、バーティカル・デビエイションやラジアル・デビエイションをより厳しい規格で管理する必要が生じ、生産量や良品率が落ちるため、コストの高い製品になってしまう。
【0005】
一方、2枚の基板を貼り合わせた後の機械的特性などのバランスを取るため、「2枚の基板厚を5〜100ミクロンの範囲内で異なるようにする」発明が特許文献1に開示されている。
しかしながら、この発明によれば、貼り合わせ直後のラジアル・デビエイションは小さくできても、時間の経過と共に変化を生じてしまうため、結果的に厳しい規格による管理が必要になる。従って、この発明では、本発明の課題であるラジアル・デビエイションの経時変化に係る問題は解決できない。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−67726号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来技術の問題点を解決し、2枚のディスクを貼り合わせて作られた光ディスクであって、ラジアル・デビエイション変化量が小さく、時間が経過した後も規格を満足する光ディスクの製造方法、及び該方法によって作製された光ディスクの提供を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題は次の1)〜4)の発明(以下、本発明1〜4という)によって解決される。
1) 2枚のディスク用基板(具体的には一方に情報を追記、書き換え、あるいは情報を有した情報基板と、それと対向する側にはカバー基板)を貼り合わせた構造を持つ光ディスクのうち、情報基板の製造工程には乾燥工程(室温より30℃以上高い温度による乾燥工程)を有し、カバー基板の製造工程に乾燥工程を有しない工程を経て、貼り合せられた光ディスクの製造方法において、
情報基板成形金型温度(T1a)<カバー基板成形金型温度(T1b)という成形条件でディスク用基板を作成することを特徴とする光ディスク製造方法。
2) 情報基板成形金型温度(T1a)が124℃以上であることを特徴とする1)記載の光ディスク製造方法。
3) (T1b)−(T1a)が4℃以上であることを特徴とする1)又は2)記載の光ディスク製造方法。
4) 1)〜3)の何れかに記載の製造方法により作製された光ディスク。
【0009】
以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明では、DVDに代表される2枚のディスク用基板を貼り合わせた構造を持つ光ディスクにおいて、情報読み取り側の基板を情報基板、通常、印刷を施す側の基板をカバー基板と呼ぶことにする。
またディスク用基板を成形する際に設定する金型温度を成形金型温度(T1)と呼んでいるが、通常、金型温度設定は固定金型側と可動金型側の2つの設定値があり、別々の温度調節機で温度調整している。そのため、実際には、固定金型温度(T2)、可動金型温度(T3)として、次式により成形金型温度(T1)を求めている。
(T1)=〔(T2)+(T3)〕/2
更に、本発明では、情報基板の成形金型温度を「情報基板金型温度(T1a)」、カバー基板の成形金型温度を「カバー基板成形金型温度(T1b)」と呼ぶことにする。
【0010】
DVD−R又はDVD+Rと呼ばれる追記可能な光ディスクの製造においては、通常、成形により作られた情報基板上に、スピンコート法により記録層を塗布形成したのち温風で乾燥させるため、情報基板は温風による乾燥工程を通過することになる。これに対し、もう一方のカバー基板は成形により作られたのち前記乾燥工程を通過することはないため、同一条件にて成形した2枚のディスクを、それぞれ情報基板及びカバー基板として用いて貼り合わせ装置により貼り合わせると、貼り合せ直後のラジアル・デビエイションは問題ないが、長期間経過するとラジアル・デビエイションが変化してしまい、変化の仕方によってはディスクで定められた規格を外れてしまうことが考えられる。
そこで本発明では、情報基板とカバー基板との製造条件、具体的には成形金型温度を変えて2枚のディスクを作成し、これら製造条件の異なる2枚のディスクを組み合わせることにより、ラジアル・デビエイションの経時変化の少ない光ディスクを作製することに成功した。
【0011】
本発明1のように、情報基板成形金型温度(T1a)<カバー基板成形金型温度(T1b)となる成形条件でディスク用基板を製造し、光ディスクを作製すると、T1a=T1bの成形条件でディスク用基板を製造した場合と比べて張り合わせたディスクの経時でのラジアル・デビエイション変化量の少ないディスクが得られる。
更に、本発明1の場合、情報基板成形金型温度(T1a)が124℃未満の条件では殆ど信号規格を満足しているが、ディスク最外周部で溝形状の形成が不十分であることを原因とする信号の周内での部分的低下を発生することがあるため、本発明2のように(T1a)を124℃以上に設定することが望ましい。なお、(T1a)の上限は、光ディスク用で一般的に使われているポリカーボネートを固化させるための温度上の理由から135℃程度である。
更に、本発明3で規定するように、(T1b)−(T1a)を4℃以上に設定すれば、ラジアル・デビエイション変化量は更に少なくなり、貼り合わせ直後の規格をより広く設定することができ、より高い歩留まりを得ることができるので好ましい。なお、(T1b)−(T1a)の上限は、ポリカーボネートの材料特性上の上限温度(135℃)、及び、必要な信号特性を得るための好ましい溝形状を作製し得る下限温度(124℃程度)の関係から、11℃程度である。
【0012】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【0013】
実施例1〜9、比較例1〜4
下記表1に示した成形金型温度の組み合わせ条件により作成したディスク基板を用いて光ディスクを作製した。組み合わせは次の13条件である。
・(T1a)=122℃で、(T1b)=124℃(実施例1)、126℃(実施例2)、128℃(実施例3)
・(T1a)=124℃で、(T1b)=124℃(比較例1)、126℃(実施例4)、128℃(実施例5)、130℃(実施例6)
・(T1a)=126℃で、(T1b)=126℃(比較例2)、128℃(実施例7)、130℃(実施例8)
・(T1a)=128℃で、(T1b)=128℃(比較例3)、130℃(実施例9)
・(T1a)=130℃で、(T1b)=130℃(比較例4)
また、実施例及び比較例の光ディスクの層構成と作製手順は、以下の通りである。
<使用設備>
基板成形:ディスク用射出成形機、DVD用金型
記録塗布:スピンコート法色素塗布装置
色素乾燥:温風式乾燥装置
記録膜形成、保護層:スパッタイング装置、保護層コーター、UV照射装置
貼り合せ装置:DVD用ディスク貼り合せ装置
射出成形により作成した情報基板の片面に、スピンコーターにより記録用色素を塗布形成し、温風による乾燥工程を通過させる。別にカバー基板を成形により作成し、貼り合せ装置により情報基板と貼り合わせる。
基板成形に際し、情報基板とカバー基板とで金型温度を変えた。その際、情報基板とカバー基板の成形時間の差が±5分以内となるように調整してサンプルを作成した。金型温度の組み合わせを表1に示す。
なお、情報基板成形金型温度122℃未満では十分な転写ができず必要な信号特性を満足できないし、130℃を越えると温度が高すぎて基板が歪んでしまい機械特性が悪化することが明らかであるので、122〜130℃で実施した。
【表1】
【0014】
上記表1の各光ディスクについて比較・評価を行った。その方法としては、環境試験(80℃、20%RH、96時間)を実施した前後でのラジアル・デビエイションを測定し前後での変化量(ラジアル・デビエイション変化量)を測定した。測定にはDr.Schenk製MT−136を使用した。結果を表2及び図2〜図6に示す。表及び図中の「deg」は角度である。
なお、ラジアル・デビエイション変化量の測定は次のようにして行った。
情報基板とカバー基板の2枚のディスクを貼り合わせた後、ディスクのバーティカル・デビエイションとラジアル・デビエイションは24時間程度で一応安定する。しかし、その後、時間の経過と共に更に変化していき、やがて安定状態に達する。このような時間の経過に伴って変化した場合でもディスク規格を満足しているかどうかを判断するため、一定の環境にて保存する環境試験を行い、環境試験前と環境試験後のラジアル・デビエイションの変化量を確認した。
今回の確認では、貼り合わせ後72時間放置した時点で測定、環境試験を行い、取り出し24時間後に再測定を実施した。測定はディスク内周、中周、外周の各周内の最大値、最小値を読み取ることにより行った。
各半径位置での最大値のプラス方向の変化量、或いは最小値のマイナス方向の変化量を比較して面内でにおける変化量の絶対値の最大値をラジアル・デビエイションとした。
ここで、環境試験実施前後のラジアル・デビエイションの変化の様子を図1により説明すると、図1の左欄に示したように、本発明のディスクも従来のディスクも、環境試験実施前にはフラットであるが、環境試験実施後にはラジアル・デビエイションが大きくなる。しかし図1の右欄に示すように、本発明のディスクの方が従来のディスクに比べて、環境試験実施後のラジアル・デビエイションの変化量が小さい。
【表2】
上記表2をみると、情報基板とカバー基板の成形金型温度差が無い比較例4に比べて、実施例1、4、7のラジアル・デビエイション変化量の方が大きくなっているが、情報基板成形金型温度が同一温度条件の場合で比較すると、比較例1に比べて実施例4、5、6の方が、比較例2に比べて実施例7、8の方が、比較例3に比べて実施例9の方がそれぞれ優れていることが分る。そして、図2〜5から明らかなように、情報基板とカバー基板の成形金型温度差(カバー基板成形金型温度−情報基板成形金型温度)が大きくなる程ラジアル・デビエイションの環境試験前後での変化量が小さくなる。このことは、上記表中の温度差2〜6℃のブランクの部分(*の部分)についても同様であると推測される。
更に、情報基板成形金型温度が高くなるほど、金型温度差が小さくてもラジアル・デビエイション変化量が小さくなることが今回の結果より明らかになった。しかし、成形温度を高くし過ぎると基板そのものの歪みが大きくなるため貼り合せ後の機械特性初期値が悪くなってしまうので、前述のように実際上の上限は130℃である。
なお、カバー基板と情報基板の金型温度が何れも122℃の場合には、ラジアル・デビエイション変化量が大きくて使い物にならないとみて実施しなかった。
【0015】
【発明の効果】
従来の貼り合わせプロセスを変更することなく、貼り合わせるディスク製造条件を改善することで経時的な機械的特性、特にラジアル・デビエイションの変化を小さく抑えた光ディスクを安定に歩留まりよく作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施して製造した光ディスクの機械特性(図中ではラジアル・デビエイションのみ記載)と未実施の光ディスクの機械特性を環境試験実施前後におけるディスク形状の違いとして模式的に示した図。
【図2】実施例1〜3のT1a=122℃における、(T1b)−(T1a)とラジアル・デビエイション変化量との関係を示す図。
【図3】実施例4〜6及び比較例1の、T1a=124℃における(T1b)−(T1a)とラジアル・デビエイション変化量との関係を示す図。
【図4】実施例7〜8及び比較例2の、T1a=126℃における(T1b)−(T1a)とラジアル・デビエイション変化量との関係を示す図。
【図5】実施例9及び比較例3の、T1a=128℃における(T1b)−(T1a)とラジアル・デビエイション変化量との関係を示す図。
【図6】比較例4のラジアル・デビエイション変化量の関係を示す図。
Claims (4)
- 2枚のディスク用基板(具体的には一方に情報を追記、書き換え、あるいは情報を有した情報基板と、それと対向する側にはカバー基板)を貼り合わせた構造を持つ光ディスクのうち、情報基板の製造工程には乾燥工程(室温より30℃以上高い温度による乾燥工程)を有し、カバー基板の製造工程に乾燥工程を有しない工程を経て、貼り合せられた光ディスクの製造方法において、情報基板成形金型温度(T1a)<カバー基板成形金型温度(T1b)という成形条件でディスク用基板を作成することを特徴とする光ディスク製造方法。
- 情報基板成形金型温度(T1a)が124℃以上であることを特徴とする請求項1記載の光ディスク製造方法。
- (T1b)−(T1a)が4℃以上であることを特徴とする請求項1又は2記載の光ディスク製造方法。
- 請求項1〜3の何れかに記載の製造方法により作製された光ディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002314865A JP2004152364A (ja) | 2002-10-29 | 2002-10-29 | 光ディスクとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2002314865A JP2004152364A (ja) | 2002-10-29 | 2002-10-29 | 光ディスクとその製造方法 |
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JP2004152364A true JP2004152364A (ja) | 2004-05-27 |
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ID=32459060
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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JP (1) | JP2004152364A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6835270B2 (en) * | 1998-08-05 | 2004-12-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Process and apparatus of producing optical disk and process of producing substrate |
-
2002
- 2002-10-29 JP JP2002314865A patent/JP2004152364A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6835270B2 (en) * | 1998-08-05 | 2004-12-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Process and apparatus of producing optical disk and process of producing substrate |
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