JP2004147220A - Sawチップの構造、その製造方法、表面実装型sawデバイス、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】実装基板上にSAWチップをフェイスダウン状態で搭載した構造のSAWデバイスにおいて、フォトリソグラフィプロセスによって、SAWチップ側に予めSAWチップの機能部を包囲する気密空間を形成することにより、高い品質を維持しながら生産性を高めたSAWチップの構造、その製造方法、及び表面実装型SAWデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】圧電基板2と、該圧電基板の主面上に形成した導電パターンから成る機能部3及び該機能部と接続された接続パッド4と、機能部及び接続パッドの各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に突設された背高のダム部5と、該各ダム部の頂面に積層された樹脂層6と、を備え、機能部を包囲する環状のダム部の開口部を樹脂層によって気密封止した。
【選択図】 図1
【解決手段】圧電基板2と、該圧電基板の主面上に形成した導電パターンから成る機能部3及び該機能部と接続された接続パッド4と、機能部及び接続パッドの各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に突設された背高のダム部5と、該各ダム部の頂面に積層された樹脂層6と、を備え、機能部を包囲する環状のダム部の開口部を樹脂層によって気密封止した。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、弾性表面波チップを実装基板上にバンプを用いてフェイスダウン搭載してから弾性表面波チップを樹脂にて封止した構造の弾性表面波デバイスにおいて、弾性表面波チップの機能部(IDT電極、反射器等)を包囲する気密空間を効率的に形成することができるSAWチップの構造、その製造方法、及び表面実装型SAWデバイスの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
弾性表面波デバイス(SAWデバイス)は、水晶等の圧電基板上に櫛歯状の電極指から成るIDT(インターディジタルトランスジューサ)電極を配置した構成を備え、例えばIDT電極に高周波電界を印加することによって弾性表面波を励起し、弾性表面波を圧電作用によって高周波電界に変換することによってフィルタ特性を得るものである。
WO97/02596には、図4に示した如き構造の表面実装型のSAWデバイスが開示されている。このSAWデバイス101は、絶縁基板103、該絶縁基板103の底部に設けた表面実装用の外部電極104、及び該絶縁基板の上面に設けた上部電極105とから成る実装基板102と、上部電極105上に導体バンプ110を介して電気的機械的に接続される接続パッド116、及びIDT電極117を下面に備えた圧電基板118から成るSAWチップ115と、SAWチップ115の裾部全周に充填されて気密空間Sを形成する第1の封止樹脂120と、実装基板102上面、第1の封止樹脂120及びSAWチップ115の外面に対して被覆一体化される第2の封止樹脂121と、を備えている。
第1の封止樹脂120は、スクリーン印刷、ディスペンサによる充填等の方法によって塗布される比較的粘度の高い樹脂であり、第1の封止樹脂120をSAWチップ118の裾部全周に渡って充填することにより、SAWチップ115の下面と実装基板102の上面との間に樹脂が充填されていないSAW伝搬用の気密空間Sを確保する。第2の封止樹脂121は、比較的粘度の低い流動性を備えた樹脂であり、例えば図示しない外枠によって実装基板外周を包囲してせき止めた状態で、外枠内部にディスペンサ等から150℃程度に加熱された状態で充填され、固化後に外枠を外すことによりSAWデバイス101が完成する。
バッチ処理によりSAWデバイスを量産する場合には、実装基板個片をシート状に連結した大面積の実装基板母材を用い、実装基板母材上に複数のSAWチップを実装した状態で、上記と同様の手順を繰り返して第2の封止樹脂121を塗布して硬化処理した後に、個片毎に切断分割することにより、個々のSAWデバイスを完成する。
【特許文献1】WO97/02596
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来のSAWデバイスにあっては、第2の封止樹脂121によりSAWチップを被覆する工程の前に、気密空間Sを形成するために第1の封止樹脂120から成るダムを形成する必要があり、この第1の封止樹脂形成工程がSAWデバイスの製造工程を複雑化させ、生産性を低下させる大きな要因となっていた。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、表面実装用の実装基板上の上部電極上にバンプを介してSAWチップをフェイスダウン状態で搭載した構造のSAWデバイスにおいて、SAWチップ下面と実装基板上面との間の空間を気密化しながらSAWチップ外面を樹脂封止する際に、ディスペンサ等を用いて封止樹脂を充填することによってダムを形成するという煩雑な手法を用いることなく、フォトリソグラフィプロセスによって、SAWチップ側に予めSAWチップの機能部(IDT電極、反射器)を包囲する気密空間を形成することにより、高い品質を維持しながら生産性を高めたSAWチップの構造、その製造方法、及び表面実装型SAWデバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は次の如き手段を備える。
請求項1に係るSAWチップの構造は、圧電基板と、該圧電基板の主面上に形成した導電パターンから成る機能部及び該機能部と接続された接続パッドと、前記機能部及び接続パッドの各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に突設された背高のダム部と、該各ダム部の頂面に積層された樹脂層と、を備え、前記機能部を包囲する環状のダム部の開口部を前記樹脂層によって気密封止したことを特徴とする。
実装基板(実装基板個片、実装基板母材)上にフェイスダウン状態で搭載したSAWチップを樹脂被覆するために、流動性の高い樹脂をスクリーン印刷、或いはディスペンサによりSAWチップ上に被覆する際に、樹脂の一部がSAWチップの機能部に付着すると、SAW伝搬が妨げられて電気的特性が不安定化する。この様な不具合を解消するために、従来はSAWチップを実装基板上に搭載した後で、被覆用の樹脂が機能部に浸入することを防止するための封止樹脂を予め要所に充填する煩雑な作業が必要とされていた。これに対して本発明では、SAWチップ側に予め、機能部を包囲するダム部を形成し、環状のダム部により包囲された機能部を樹脂層にて気密封止するので、実装基板上に対してフリップチップ実装を行った後で、樹脂被覆を行えば良くなるので、製造手順が簡略化し、生産性を高めることが可能となる。
請求項2の発明は、請求項1に記載のSAWチップを、実装基板上に搭載したことを特徴とする。
これによれば、SAWチップを実装基板上に搭載した後に、封止用の樹脂をSAWチップの裾部と実装基板との間の間隙に充填する煩雑な作業が不要となる。
【0005】
請求項3の発明は、圧電基板と、該圧電基板の主面上に形成した導電パターンから成る機能部及び該機能部と接続された接続パッドと、前記機能部及び接続パッドの各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に立設された背高のダム部と、該各ダム部の頂面に積層された樹脂層と、を備え、前記機能部を包囲する環状のダム部の開口部を前記樹脂層によって気密封止したSAWチップの製造方法であって、前記機能部及び接続パッドを含む圧電基板の主面上に前記ダム部を構成する第1の感光層を形成する第1の感光層形成工程と、フォトマスクを用いて前記第1の感光層を露光した後で現像することにより、前記機能部及び接続パッド上の第1の感光層だけを除去する第1の露光、現像工程と、前記圧電基板主面上に残留した第1の感光層の頂面間に跨るように前記樹脂層を構成する感光性樹脂シートを積層一体化する第2の感光層形成工程と、フォトマスクを用いて感光性樹脂シートを露光した後で現像することにより、前記接続パッドの上方に位置する感光性樹脂シートだけを除去して、前記機能部を包囲する環状のダム部の開口部を気密空間とする第2の露光、現像工程と、から成ることを特徴とする。
圧電基板の一主面上にダム部と、気密空間を形成する工程をフォトリソグラフィ技術を用いて実施するため、正確且つ生産性よく、SAWチップを量産することが可能となる。
請求項4の発明は、請求項3に記載の前記第2の露光、現像工程を経たSAWチップを、実装基板上にフリップチップ実装する工程を備えたことを特徴とする。
これによれば、気密空間を備えたSAWチップを実装基板上に搭載するだけで、SAWデバイスの組立を完了することができる。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面に示した実施の形態により詳細に説明する。
図1(a)(b)(c)及び(d)は本発明の一実施形態に係るSAW(弾性表面波)チップの外観斜視図、樹脂層を除去した状態を示す斜視図(A−A断面図)、SAWチップの機能部及びパッドのパターン図(B−B断面図)及び縦断面(C−C断面図)である。
このSAWチップ1は、圧電基板2と、圧電基板2の一主面上に夫々形成した導電パターンから成る機能部(IDT電極、反射器)3、及び機能部3と接続された接続パッド4と、機能部3及び接続パッド4の各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に突設された背高のダム部5と、該各ダム部5の頂面に積層された樹脂層6と、を備えている。図1(c)中の破線は、ダム部5を形成する位置を示している。なお、後述する実装基板上にフリップチップ実装するためのバンプ7については、図示のように予め接続パッド4上に固着しておいてもよいし、実装基板上の上部電極上に固定しておいてもよい。
本発明のSAWチップ1の特徴的な構成は、前記ダム部5と樹脂層6をフォトリソグラフィプロセスにより形成、加工する点と、機能部3を包囲する環状のダム部5aの開口部を樹脂層6によって気密封止してSAW伝搬用の気密空間Sを形成した点にある。
このように本実施形態では、SAWチップを構成する圧電基板2の主面上に機能部3、接続パッド4の各外周を包囲するように背高のダム部5を突設すると共に、機能部3を包囲する環状ダム部5aの開口部を樹脂層6により気密封止したので、SAWチップ側に予め気密空間Sを形成することが可能となり、このSAWチップ1を実装基板上にフェイスダウン状態で搭載した後で、気密空間Sを形成するための煩雑な封止樹脂の充填作業を行う必要が無くなる。従って、SAWデバイスの組立工程を大幅に簡略化し、生産性を高めることが可能になる。
【0007】
図2は、図1に示したSAWチップ1を実装基板10上にフェイスダウン状態で搭載した場合の構成を示す縦断面図である。実装基板10は、セラミック、ガラスエポキシ等から成る絶縁基板11、絶縁基板11の底部(下部)に設けた表面実装用の外部電極12、及び、絶縁基板11の上面(上部)に設けられ且つ接続導体14を介して外部電極12と導通した上部電極13、から構成される。
この例ではバンプ7をSAWチップ1側の接続パッド4に予め固定してあるため、SAWチップ1を実装基板10上に搭載する場合には、各バンプ7を各上部電極13に固定し、必要に応じて封止樹脂20をSAWチップ外面全体に被覆することにより、SAWデバイスを完成することができる。圧電基板2の主面上の機能部(IDT電極、反射器等)3は、ダム部5と樹脂層6によって画成された気密空間S内に位置しているため、機能部3を構成するIDT電極により生成される弾性表面波の伝搬が阻害される虞がない。
【0008】
次に、図3(a)乃至(f)は、本発明の一実施形態に係るSAWチップの製造工程を説明するための図である。なお、この図は、圧電基板個片を多数シート状に連結した大面積の圧電基板母材(ウェハ)を用いたバッチ処理を行う場合の加工手順を示している。
まず、図3(a)は圧電基板2の一主面上にIDT電極、反射器等の導体パターンから成る機能部3と、機能部3と導通した接続パッド4と、を備えたSAWチップを示している。
図3(b)は、機能部3及び接続パッド4を含む圧電基板2の主面上にダム部5を構成する第1の感光層30を形成する第1の感光層形成工程を示している。第1の感光層は、液状の感光樹脂材料を用いる場合には、スクリーン印刷等により均一厚に塗布し、感光性樹脂フィルムを用いる場合にはこれを主面上に接着して均一厚化する。
次に、図3(c)(d)は、第1の露光、現像工程を示しており、フォトマスク31を用いて第1の感光層30を露光した後で現像することにより、機能部3及び接続パッド4上の第1の感光層部分(未感光部分)だけを除去する。この結果、図3(d)に示すように、ダム部5を構成する第1の感光層部分(感光部分)だけが残留し、機能部3、接続パッド4の上方は、空洞となっている。なお、これとは逆に、感光した部分を除去し、未感光部分をダム部としてもよい。
次いで、図3(d)に示すように残留した第1の感光層30の頂面間に跨るように樹脂シート32を積層し一体化する。
【0009】
次に、図3(e)は第2の感光層形成工程を示しており、フォトマスク33を用いて感光性樹脂シート32を露光してから現像することにより、接続パッド4の上方に位置する感光性樹脂シート32部分(未感光部分)だけを除去して、機能部3を包囲する環状のダム部5aの開口部を感光性樹脂シート32aにより気密封止して気密空間Sを形成する。なお、この場合も、感光した部分を除去し、未感光残留部分を残しても良い。
図3(f)は、第2の感光層形成工程を経たSAWチップの構成を示しており、機能部3を包囲する環状のダム部5aが感光性樹脂シート32aにより気密封止されているため、SAW伝搬用の気密空間Sが確実に形成されている。
その後、図示しないダイシングソーを用いて、切断ラインCに沿って圧電基板母材を個片毎に切断分割することにより、SAWチップ個片を得ることができる。
更に、図1(c)に示した如く、ダム5の谷間に露出した接続パッド4の上面にダム5の頂面よりも突出した導体バンプ7を固着することにより、SAWチップ1が完成する。
このようにして得られたSAWチップ1を図2に示した如き実装基板10上に搭載してSAWデバイスを完成する場合には、SAWチップ1をフェイスダウン状態にして、導体バンプ7を上部電極13上に電気的機械的に固定するフリップチップ実装工程を行えばよい。
SAWチップを外気から完全に遮断して耐久性を向上させるためには、SAWチップ外面を封止樹脂20により被覆すればよい。
なお、更なる小型化が要求される場合は、実装基板を省略して、SAWチップを電子機器等のプリント基板上に直接搭載することも可能である。
【0010】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、表面実装用の実装基板上の上部電極上にバンプを介してSAWチップをフェイスダウン状態で搭載した構造のSAWデバイスにおいて、SAWチップ下面と実装基板上面との間の空間を気密化しながらSAWチップ外面を樹脂封止する際に、ディスペンサ等を用いて封止樹脂を充填することによってダムを形成するという煩雑な手法を用いることなく、フォトリソグラフィプロセスによって、SAWチップ側に予めSAWチップの機能部(IDT電極、反射器)を包囲する気密空間を形成することにより、高い品質を維持しながら生産性を高めたSAWチップの構造、その製造方法、及び表面実装型SAWデバイスの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)(b)(c)及び(d)は本発明の一実施形態に係るSAW(弾性表面波)チップの外観斜視図、樹脂層を除去した状態を示す斜視図(A−A断面図)、SAWチップの機能部及びパッドのパターン図(B−B断面図)及び縦断面図(C−C断面図)。
【図2】本発明のSAWチップを搭載したSAWデバイスの断面図。
【図3】(a)乃至(f)は、本発明の一実施形態に係る製造方法の説明図。
【図4】従来のSAWデバイスの構成を示す断面図。
【符号の説明】
1 SAWチップ、2 圧電基板、3 機能部、4 接続パッド、5 ダム部、5a 環状ダム部、6 樹脂層、10 実装基板、11 絶縁基板、12 外部電極、13 上部電極、14 接続導体
【発明の属する技術分野】
本発明は、弾性表面波チップを実装基板上にバンプを用いてフェイスダウン搭載してから弾性表面波チップを樹脂にて封止した構造の弾性表面波デバイスにおいて、弾性表面波チップの機能部(IDT電極、反射器等)を包囲する気密空間を効率的に形成することができるSAWチップの構造、その製造方法、及び表面実装型SAWデバイスの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
弾性表面波デバイス(SAWデバイス)は、水晶等の圧電基板上に櫛歯状の電極指から成るIDT(インターディジタルトランスジューサ)電極を配置した構成を備え、例えばIDT電極に高周波電界を印加することによって弾性表面波を励起し、弾性表面波を圧電作用によって高周波電界に変換することによってフィルタ特性を得るものである。
WO97/02596には、図4に示した如き構造の表面実装型のSAWデバイスが開示されている。このSAWデバイス101は、絶縁基板103、該絶縁基板103の底部に設けた表面実装用の外部電極104、及び該絶縁基板の上面に設けた上部電極105とから成る実装基板102と、上部電極105上に導体バンプ110を介して電気的機械的に接続される接続パッド116、及びIDT電極117を下面に備えた圧電基板118から成るSAWチップ115と、SAWチップ115の裾部全周に充填されて気密空間Sを形成する第1の封止樹脂120と、実装基板102上面、第1の封止樹脂120及びSAWチップ115の外面に対して被覆一体化される第2の封止樹脂121と、を備えている。
第1の封止樹脂120は、スクリーン印刷、ディスペンサによる充填等の方法によって塗布される比較的粘度の高い樹脂であり、第1の封止樹脂120をSAWチップ118の裾部全周に渡って充填することにより、SAWチップ115の下面と実装基板102の上面との間に樹脂が充填されていないSAW伝搬用の気密空間Sを確保する。第2の封止樹脂121は、比較的粘度の低い流動性を備えた樹脂であり、例えば図示しない外枠によって実装基板外周を包囲してせき止めた状態で、外枠内部にディスペンサ等から150℃程度に加熱された状態で充填され、固化後に外枠を外すことによりSAWデバイス101が完成する。
バッチ処理によりSAWデバイスを量産する場合には、実装基板個片をシート状に連結した大面積の実装基板母材を用い、実装基板母材上に複数のSAWチップを実装した状態で、上記と同様の手順を繰り返して第2の封止樹脂121を塗布して硬化処理した後に、個片毎に切断分割することにより、個々のSAWデバイスを完成する。
【特許文献1】WO97/02596
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来のSAWデバイスにあっては、第2の封止樹脂121によりSAWチップを被覆する工程の前に、気密空間Sを形成するために第1の封止樹脂120から成るダムを形成する必要があり、この第1の封止樹脂形成工程がSAWデバイスの製造工程を複雑化させ、生産性を低下させる大きな要因となっていた。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、表面実装用の実装基板上の上部電極上にバンプを介してSAWチップをフェイスダウン状態で搭載した構造のSAWデバイスにおいて、SAWチップ下面と実装基板上面との間の空間を気密化しながらSAWチップ外面を樹脂封止する際に、ディスペンサ等を用いて封止樹脂を充填することによってダムを形成するという煩雑な手法を用いることなく、フォトリソグラフィプロセスによって、SAWチップ側に予めSAWチップの機能部(IDT電極、反射器)を包囲する気密空間を形成することにより、高い品質を維持しながら生産性を高めたSAWチップの構造、その製造方法、及び表面実装型SAWデバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は次の如き手段を備える。
請求項1に係るSAWチップの構造は、圧電基板と、該圧電基板の主面上に形成した導電パターンから成る機能部及び該機能部と接続された接続パッドと、前記機能部及び接続パッドの各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に突設された背高のダム部と、該各ダム部の頂面に積層された樹脂層と、を備え、前記機能部を包囲する環状のダム部の開口部を前記樹脂層によって気密封止したことを特徴とする。
実装基板(実装基板個片、実装基板母材)上にフェイスダウン状態で搭載したSAWチップを樹脂被覆するために、流動性の高い樹脂をスクリーン印刷、或いはディスペンサによりSAWチップ上に被覆する際に、樹脂の一部がSAWチップの機能部に付着すると、SAW伝搬が妨げられて電気的特性が不安定化する。この様な不具合を解消するために、従来はSAWチップを実装基板上に搭載した後で、被覆用の樹脂が機能部に浸入することを防止するための封止樹脂を予め要所に充填する煩雑な作業が必要とされていた。これに対して本発明では、SAWチップ側に予め、機能部を包囲するダム部を形成し、環状のダム部により包囲された機能部を樹脂層にて気密封止するので、実装基板上に対してフリップチップ実装を行った後で、樹脂被覆を行えば良くなるので、製造手順が簡略化し、生産性を高めることが可能となる。
請求項2の発明は、請求項1に記載のSAWチップを、実装基板上に搭載したことを特徴とする。
これによれば、SAWチップを実装基板上に搭載した後に、封止用の樹脂をSAWチップの裾部と実装基板との間の間隙に充填する煩雑な作業が不要となる。
【0005】
請求項3の発明は、圧電基板と、該圧電基板の主面上に形成した導電パターンから成る機能部及び該機能部と接続された接続パッドと、前記機能部及び接続パッドの各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に立設された背高のダム部と、該各ダム部の頂面に積層された樹脂層と、を備え、前記機能部を包囲する環状のダム部の開口部を前記樹脂層によって気密封止したSAWチップの製造方法であって、前記機能部及び接続パッドを含む圧電基板の主面上に前記ダム部を構成する第1の感光層を形成する第1の感光層形成工程と、フォトマスクを用いて前記第1の感光層を露光した後で現像することにより、前記機能部及び接続パッド上の第1の感光層だけを除去する第1の露光、現像工程と、前記圧電基板主面上に残留した第1の感光層の頂面間に跨るように前記樹脂層を構成する感光性樹脂シートを積層一体化する第2の感光層形成工程と、フォトマスクを用いて感光性樹脂シートを露光した後で現像することにより、前記接続パッドの上方に位置する感光性樹脂シートだけを除去して、前記機能部を包囲する環状のダム部の開口部を気密空間とする第2の露光、現像工程と、から成ることを特徴とする。
圧電基板の一主面上にダム部と、気密空間を形成する工程をフォトリソグラフィ技術を用いて実施するため、正確且つ生産性よく、SAWチップを量産することが可能となる。
請求項4の発明は、請求項3に記載の前記第2の露光、現像工程を経たSAWチップを、実装基板上にフリップチップ実装する工程を備えたことを特徴とする。
これによれば、気密空間を備えたSAWチップを実装基板上に搭載するだけで、SAWデバイスの組立を完了することができる。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面に示した実施の形態により詳細に説明する。
図1(a)(b)(c)及び(d)は本発明の一実施形態に係るSAW(弾性表面波)チップの外観斜視図、樹脂層を除去した状態を示す斜視図(A−A断面図)、SAWチップの機能部及びパッドのパターン図(B−B断面図)及び縦断面(C−C断面図)である。
このSAWチップ1は、圧電基板2と、圧電基板2の一主面上に夫々形成した導電パターンから成る機能部(IDT電極、反射器)3、及び機能部3と接続された接続パッド4と、機能部3及び接続パッド4の各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に突設された背高のダム部5と、該各ダム部5の頂面に積層された樹脂層6と、を備えている。図1(c)中の破線は、ダム部5を形成する位置を示している。なお、後述する実装基板上にフリップチップ実装するためのバンプ7については、図示のように予め接続パッド4上に固着しておいてもよいし、実装基板上の上部電極上に固定しておいてもよい。
本発明のSAWチップ1の特徴的な構成は、前記ダム部5と樹脂層6をフォトリソグラフィプロセスにより形成、加工する点と、機能部3を包囲する環状のダム部5aの開口部を樹脂層6によって気密封止してSAW伝搬用の気密空間Sを形成した点にある。
このように本実施形態では、SAWチップを構成する圧電基板2の主面上に機能部3、接続パッド4の各外周を包囲するように背高のダム部5を突設すると共に、機能部3を包囲する環状ダム部5aの開口部を樹脂層6により気密封止したので、SAWチップ側に予め気密空間Sを形成することが可能となり、このSAWチップ1を実装基板上にフェイスダウン状態で搭載した後で、気密空間Sを形成するための煩雑な封止樹脂の充填作業を行う必要が無くなる。従って、SAWデバイスの組立工程を大幅に簡略化し、生産性を高めることが可能になる。
【0007】
図2は、図1に示したSAWチップ1を実装基板10上にフェイスダウン状態で搭載した場合の構成を示す縦断面図である。実装基板10は、セラミック、ガラスエポキシ等から成る絶縁基板11、絶縁基板11の底部(下部)に設けた表面実装用の外部電極12、及び、絶縁基板11の上面(上部)に設けられ且つ接続導体14を介して外部電極12と導通した上部電極13、から構成される。
この例ではバンプ7をSAWチップ1側の接続パッド4に予め固定してあるため、SAWチップ1を実装基板10上に搭載する場合には、各バンプ7を各上部電極13に固定し、必要に応じて封止樹脂20をSAWチップ外面全体に被覆することにより、SAWデバイスを完成することができる。圧電基板2の主面上の機能部(IDT電極、反射器等)3は、ダム部5と樹脂層6によって画成された気密空間S内に位置しているため、機能部3を構成するIDT電極により生成される弾性表面波の伝搬が阻害される虞がない。
【0008】
次に、図3(a)乃至(f)は、本発明の一実施形態に係るSAWチップの製造工程を説明するための図である。なお、この図は、圧電基板個片を多数シート状に連結した大面積の圧電基板母材(ウェハ)を用いたバッチ処理を行う場合の加工手順を示している。
まず、図3(a)は圧電基板2の一主面上にIDT電極、反射器等の導体パターンから成る機能部3と、機能部3と導通した接続パッド4と、を備えたSAWチップを示している。
図3(b)は、機能部3及び接続パッド4を含む圧電基板2の主面上にダム部5を構成する第1の感光層30を形成する第1の感光層形成工程を示している。第1の感光層は、液状の感光樹脂材料を用いる場合には、スクリーン印刷等により均一厚に塗布し、感光性樹脂フィルムを用いる場合にはこれを主面上に接着して均一厚化する。
次に、図3(c)(d)は、第1の露光、現像工程を示しており、フォトマスク31を用いて第1の感光層30を露光した後で現像することにより、機能部3及び接続パッド4上の第1の感光層部分(未感光部分)だけを除去する。この結果、図3(d)に示すように、ダム部5を構成する第1の感光層部分(感光部分)だけが残留し、機能部3、接続パッド4の上方は、空洞となっている。なお、これとは逆に、感光した部分を除去し、未感光部分をダム部としてもよい。
次いで、図3(d)に示すように残留した第1の感光層30の頂面間に跨るように樹脂シート32を積層し一体化する。
【0009】
次に、図3(e)は第2の感光層形成工程を示しており、フォトマスク33を用いて感光性樹脂シート32を露光してから現像することにより、接続パッド4の上方に位置する感光性樹脂シート32部分(未感光部分)だけを除去して、機能部3を包囲する環状のダム部5aの開口部を感光性樹脂シート32aにより気密封止して気密空間Sを形成する。なお、この場合も、感光した部分を除去し、未感光残留部分を残しても良い。
図3(f)は、第2の感光層形成工程を経たSAWチップの構成を示しており、機能部3を包囲する環状のダム部5aが感光性樹脂シート32aにより気密封止されているため、SAW伝搬用の気密空間Sが確実に形成されている。
その後、図示しないダイシングソーを用いて、切断ラインCに沿って圧電基板母材を個片毎に切断分割することにより、SAWチップ個片を得ることができる。
更に、図1(c)に示した如く、ダム5の谷間に露出した接続パッド4の上面にダム5の頂面よりも突出した導体バンプ7を固着することにより、SAWチップ1が完成する。
このようにして得られたSAWチップ1を図2に示した如き実装基板10上に搭載してSAWデバイスを完成する場合には、SAWチップ1をフェイスダウン状態にして、導体バンプ7を上部電極13上に電気的機械的に固定するフリップチップ実装工程を行えばよい。
SAWチップを外気から完全に遮断して耐久性を向上させるためには、SAWチップ外面を封止樹脂20により被覆すればよい。
なお、更なる小型化が要求される場合は、実装基板を省略して、SAWチップを電子機器等のプリント基板上に直接搭載することも可能である。
【0010】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、表面実装用の実装基板上の上部電極上にバンプを介してSAWチップをフェイスダウン状態で搭載した構造のSAWデバイスにおいて、SAWチップ下面と実装基板上面との間の空間を気密化しながらSAWチップ外面を樹脂封止する際に、ディスペンサ等を用いて封止樹脂を充填することによってダムを形成するという煩雑な手法を用いることなく、フォトリソグラフィプロセスによって、SAWチップ側に予めSAWチップの機能部(IDT電極、反射器)を包囲する気密空間を形成することにより、高い品質を維持しながら生産性を高めたSAWチップの構造、その製造方法、及び表面実装型SAWデバイスの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)(b)(c)及び(d)は本発明の一実施形態に係るSAW(弾性表面波)チップの外観斜視図、樹脂層を除去した状態を示す斜視図(A−A断面図)、SAWチップの機能部及びパッドのパターン図(B−B断面図)及び縦断面図(C−C断面図)。
【図2】本発明のSAWチップを搭載したSAWデバイスの断面図。
【図3】(a)乃至(f)は、本発明の一実施形態に係る製造方法の説明図。
【図4】従来のSAWデバイスの構成を示す断面図。
【符号の説明】
1 SAWチップ、2 圧電基板、3 機能部、4 接続パッド、5 ダム部、5a 環状ダム部、6 樹脂層、10 実装基板、11 絶縁基板、12 外部電極、13 上部電極、14 接続導体
Claims (4)
- 圧電基板と、該圧電基板の主面上に形成した導電パターンから成る機能部及び該機能部と接続された接続パッドと、前記機能部及び接続パッドの各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に突設された背高のダム部と、該各ダム部の頂面に積層された樹脂層と、を備え、
前記機能部を包囲する環状のダム部の開口部を前記樹脂層によって気密封止したことを特徴とするSAWチップの構造。 - 請求項1に記載のSAWチップを、実装基板上に搭載したことを特徴とする表面実装型SAWデバイス。
- 圧電基板と、該圧電基板の主面上に形成した導電パターンから成る機能部及び該機能部と接続された接続パッドと、前記機能部及び接続パッドの各外周を夫々包囲するように圧電基板主面上に立設された背高のダム部と、該各ダム部の頂面に積層された樹脂層と、を備え、前記機能部を包囲する環状のダム部の開口部を前記樹脂層によって気密封止したSAWチップの製造方法であって、
前記機能部及び接続パッドを含む圧電基板の主面上に前記ダム部を構成する第1の感光層を形成する第1の感光層形成工程と、
フォトマスクを用いて前記第1の感光層を露光した後で現像することにより、前記機能部及び接続パッド上の第1の感光層だけを除去する第1の露光、現像工程と、
前記圧電基板主面上に残留した第1の感光層の頂面間に跨るように前記樹脂層を構成する感光性樹脂シートを積層一体化する第2の感光層形成工程と、
フォトマスクを用いて感光性樹脂シートを露光した後で現像することにより、前記接続パッドの上方に位置する感光性樹脂シートだけを除去して、前記機能部を包囲する環状のダム部の開口部を気密空間とする第2の露光、現像工程と、から成ることを特徴とするSAWチップの製造方法。 - 請求項3に記載の前記第2の露光、現像工程を経たSAWチップを、実装基板上にフリップチップ実装する工程を備えたことを特徴とする表面実装型SAWデバイスの製造方法。
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