【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コインまたはメダル用研磨布帛に関し、コインまたはメダルの遊技台のコインまたはメダルの搬送路において、搬送部材と研磨部材との間の搬路で適圧狭持しながら研磨搬送するコインまたはメダルの研磨搬送機等に好適に用いられるコインまたはメダル用研磨布帛に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、コインまたはメダルを搬送部材と研磨部材との間の搬送路で適圧狭持しながら研磨搬送するコインまたはメダルの研磨搬送機としては、例えば特開２０００−９３６２９号公報、特開２０００−９３６３０号公報等で知られている。
【０００３】
これらの特開によれば、パチンコ球を研磨しながら球揚げする還元機における入り口部に多数の通路を配列したゲート部材において、パチンコ球は通過させるがコインやビス等の異物を落下させる装置に関して開示されているが、研磨布に関する検討はなされていない。
【０００４】
また、特開２００１−１１３０２５号公報では、植毛ブラシからなる研磨布を具備した研磨装置が提案されている。該特開によれば、メダルに付着したゴミ、汚れ、油、脂を除去できるとされているが、植毛品のため、メダルとの研磨力により、研磨布のパイルが脱落し、ベダルに再付着することは禁じ得ない。
【０００５】
また、特開２００１−１１８１１０号公報では、布式研磨装置と流体洗浄研磨装置で効果的にゴミ、手の汚れ、脂、油などを確実に除去する装置が提案されている。該特開によれば、布式研磨装置と流体研磨装置を直列に設置して研磨するとされているが、布式の研磨布に関する詳細な検討がなされていない。
【０００６】
さらに、特開２００１−２２９４２９号公報でも同様である。すなわち、コインまたはメダルを狭持して研磨、搬送する間にコインまたはメダルの汚れを除去するものである。しかし、コインまたはメダルのクリーニング効果については、いまだ十分なものがなく、走行安定性についても不十分であった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、コインまたはメダルの搬送部材と研磨布帛との間の搬送路で狭持しながら研磨搬送するコインまたはメダルの研磨搬送機に使用する新規な研磨部材を提供することにあり、コインまたはメダルのクリーニング効果が大きく、かつ走行安定性の優れたコインまたはメダル用研磨布帛を提供せんとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らが、鋭意研究の結果、本発明のかかる目的は、下記の本発明の手段によって工業的に好都合に達成された。
【０００９】
（１）布帛と、合成樹脂および／またはメッシュシートとの積層体からなることを特徴とするコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１０】
（２）前記布帛が、織物、編物、または不織布からなることを特徴とする前記（１）に記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１１】
（３）前記織物または編物が、パイルを有することを特徴とする前記（２）に記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１２】
（４）、パイル長がベース部から０．３〜１０ｍｍであることを特徴とする前記（３）に記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１３】
（５）前記不織布が、エンボス模様を有するものであって、該エンボス模様の凹凸差が０．１〜５ｍｍであることを特徴とする前記（２）に記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１４】
（６）前記不織布がメルトブロー方式で作成されたものであり、目付が１０ｇ／ｍ２ 以上５００ｇ／ｍ２ 以下であることを特徴とする前記（２）または（５）に記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１５】
（７）研磨布帛のＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が２．０×１０−４〜２０×１０−４Ｎ・ｍ２ ／ｍであり、かつ、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）が２．０×１０−２〜２０×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであることを特徴とする前記（１）〜（６）のいずれかに記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１６】
（８）研磨布帛が、単糸繊度０．００１ｄＴｅｘ以上１０．０ｄＴｅｘ以下の合成繊維を含有し、かつ、布帛に占める該合成繊維の含有率が１０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下であることを特徴とする前記（１）〜（７）のいずれかに記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１７】
（９）研磨布帛を構成する繊維の組成がポリエステル系合成繊維および／またはポリアミド系合成繊維であることを特徴とする前記（１）〜（８）のいずれかに記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１８】
（１０）研磨布帛が、制電性繊維を含有することを特徴とする前記（１）〜（９）のいずれかに記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００１９】
（１１）前記合成繊維は、複合分割型または海島分割型の合成繊維を分割または溶出することによって、極細化されたものであることを特徴とする前記（８）〜（１０）のいずれかに記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
（１２）前記合成樹脂が、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリアミド系、ポリエステル系、およびポリスチレン系樹脂から選ばれた少なくとも１種からなることを特徴とする前記（１）〜（１１）のいずれかに記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００２０】
（１３）前記メッシュシートの厚みが０．１ｍｍ以上３ｍｍ以下、シートのヨコ方向の１インチ当たりの網の目の数で表されるメッシュ数が３以上１００以下であり、かつ、メッシュシートの布帛に占める含有率が１０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下であることを特徴とする前記（１）〜（１２）のいずれかに記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００２１】
（１４）ＪＩＳ１０９６（Ｂ）ビュレット法による吸水速度が１秒以下であり、かつ、少なくとも片面から１ｃｃの水滴を滴下した時に、他面に到達するまでの透水時間が３秒以下であることを特徴とする前記（１）〜（１３）のいずれかに記載のコインまたはメダル用研磨布帛。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明の研磨布帛は、例えば、狭持されたコインまたはメダルの搬送部材との両面に位置しており、コインまたはメダルの走行方向に対し、研磨布が逆走する研磨装置に好適であり、研磨布帛は、ゴミ、手の汚れ、脂、油などで汚れたコインまたはメダルをドライの状態で使うこともできるし、あらかじめ洗浄して濡れたコインまたはメダルをウエット状態で使うこともできる。さらに研磨布を濡らしながらコインまたはメダルを研磨することもできるが、汚れたコインまたはメダルを濡れた研磨布で研磨する方法を用いたことにより、より研磨性を高めることができる。
【００２３】
本発明の最大の特徴は、布帛と、合成樹脂および／またはメッシュシートとを積層させたことにある。
【００２４】
具体的には、例えば、織物または編物（以下、これらを総称して織編物ということがある）の少なくとも片面に、あるいは、パイル織編物の少なくとも片面に、合成樹脂またはメッシュシート、あるいは合成樹脂とメッシュシートとを張り合わせ積層した布帛にしたことであり、もしくは、不織布と合成樹脂またはメッシュシート、あるいは合成樹脂とメッシュシートとの積層構造布帛にしたことであり、少なくとも片面から水滴を滴下した際に滴下面では迅速に水滴が内部に取り込まれ、他面に移動する設計にしたことにより、適度な濡れ性が研磨布面に付与されメダルまたはコインを効率よく研磨できる点である。濡れ性は、供給する水分量によって大きく変化し、研磨布から水滴がたれない程度に供給すればよく、特に限定されないが布帛重量に対し５〜１００重量％程度に保つように調整供給することが重要である。
【００２５】
本発明においては、優れたコインまたはメダル研磨布帛の条件としてＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が２．０×１０−４〜２０×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍの範囲、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）が２．０×１０−２〜２０×１０−２Ｎ・ｍ／ｍの範囲とすることが好ましく、より好ましくは、２．５×１０−４〜１８×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍ、２．５×１０−２〜１８×１０−２Ｎ・ｍ／ｍである。
【００２６】
ＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が２０×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍを上回り、かつ、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）が２０×１０−２Ｎ・ｍ／ｍを上回る場合は、研磨布が剛直のため、装置への装着が困難になり、かつ、搬送部材と研磨部材とのクリアランスが不足し、コインまたはメダルが搬送路に詰まり装置が停止してしまうので好ましくない。また、ＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が２．０×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍを下回り、かつ、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）が２．０×１０−２Ｎ・ｍ／ｍを下回る場合は、研磨布が柔らか過ぎるため、これもまた装置に装着できず、かつ、ブレが発生し、走行安定性が悪くなり研磨できなくなるので好ましくない。
【００２７】
織編物としては、通常の編み機または織機で得ることができ、織物または編み物のいずれでも使用できるが、寸法安定性に優れた織物が好ましく用いることができる。組織もまた自由に選ぶことができ、平織り、綾織り、朱子織り、鹿子織りなどが挙げられるが肉厚感のある平二重織りが好ましい。
【００２８】
本発明で用いられる繊維の単糸繊度は、０．００１ｄＴｅｘ以上１０．０ｄＴｅｘ以下の織編物であることが好ましく、目的によって自由に選ぶことができる。単糸繊度は、好ましくは０．０１ｄＴｅｘ以上７ｄＴｅｘ以下、さらに好ましくは０．０５ｄＴｅｘ以上５ｄＴｅｘ以下である。０．００１ｄＴｅｘを下回る場合には、繊度が細すぎるため、コインまたはメダル表面研磨において、擦過力で単糸切れが発生し、その単糸がコインまたはメダル表面に付着し、結果として表面を汚すことになる。また、１０．０ｄＴｅｘを上回る場合には、太すぎるため、コインまたはメダルの彫刻図柄の凹部の角隅を拭くことができなくなるので好ましくない。
【００２９】
パイルからなる織編物としては、通常のパイル編み機または通常のパイル織機で得ることができ、パイル長はベース部から０．３〜１０ｍｍであることが好ましく、かつ、単糸繊度０．００１ｄＴｅｘ以上１０．０ｄＴｅｘ以下のカットパイルまたはループパイルを有する織編物であることが好ましく、目的によって自由に選ぶことができる。パイル糸の単糸繊度は、好ましくは０．０１ｄＴｅｘ以上７ｄＴｅｘ以下、さらに好ましくは０．０５ｄＴｅｘ以上５ｄＴｅｘ以下である。０．００１ｄＴｅｘを下回る場合には、パイルに腰がないため、コインまたはメダル表面をサッとなでる程度でしか研磨できず、面全体の凹凸図柄面を綺麗に拭き取ることはできなくなる。一方、１０ｄＴｅｘを上回る場合には繊度が太すぎるため、コインまたはメダルの彫刻図柄の凹部の角隅を拭くことができなくなるので好ましくない。
【００３０】
パイル長はベース部から好ましくは０．５〜７ｍｍであり、さらに好ましくは１．０〜５．０ｍｍである。パイル長が０．３ｍｍを下回る場合には、コインまたはメダルの彫刻図柄の凹部までパイル先端が届かず拭き残しが発生することがあるので好ましくなく、１０ｍｍを上回る場合にもまたパイルが寝てしまい結果として拭き残しが発生するので好ましくない。パイル長の測定方法は、平坦な卓上にパイル布帛のパイル面を上向けにして置き、ノギスのデブスバーを用いパイル表面から徐々にデブスバーを下げ、先端が突き当たるまでの深さをパイル長とした。また、ベースは、デブスバーの先端が突き当たる部位とした。
【００３１】
合成繊維からなる不織布としては、通常のメルトブロー方式で得ることができ、目付が１０〜５００ｇ／ｍ２ であり、かつ、表面にはエンボス模様を有し、模様の凸凹差が０．１〜５ｍｍであることが好ましい。さらに不織布を構成する合成繊維の単糸繊度は０．００１ｄＴｅｘ以上１０．０ｄＴｅｘ以下であることが好ましく、目的によって自由に選ぶことができる。単糸の太さはより好ましくは、０．０１ｄＴｅｘ以上７ｄＴｅｘ以下、さらに好ましくは、０．０５ｄＴｅｘ以上５ｄＴｅｘ以下である。０．００１ｄＴｅｘを下回る場合には、不織布そのものの腰がないため、エンボス加工ができず拭き取り性も劣る。１０ｄＴｅｘを上回る場合は、太すぎるため、コインまたはメダルの彫刻模様の凹部を拭くことができなくなり好ましくない。
【００３２】
さらに研磨布帛において不織布が占める割合は、１０〜８０ｗｔ％であることが好ましい。目付は、好ましくは２０〜４００ｇ／ｍ２ であり、さらに好ましくは３０〜３００ｇ／ｍ２ である。１０ｇ／ｍ２ を下回る場合には不織布形成そのものが難しく、張り合わせも困難となる。また５００ｇ／ｍ２ を上回る場合には、厚みが大きくなりすぎるため、装置への装着が困難となる。エンボス模様はその目的によって選ぶことができるが、梨地模様が好適であり、凸凹差は好ましくは０．２〜４ｍｍ、さらに好ましくは０．３〜３ｍｍである。０．１ｍｍを下回る場合は、コインまたはメダルの彫刻模様の凹部を拭くことができず、５ｍｍを上回る場合には凹部の研磨はできるが、使用を繰り返す内に研磨時の摩擦によって模様が消失し、結果として拭き取り性が劣る結果となる。
【００３３】
次に布帛には合成繊維を含有し、かつ、布帛に占める該合成繊維の含有率が１０ｗｔ％以上、８０ｗｔ％以下であるコインまたはメダル研磨布帛である。
【００３４】
合成繊維としては、ポリエステル系繊維、ポリアミド系繊維などが好適に用いられる。ポリエステル系繊維としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレートおよび、それらの変成物等が挙げられる。ポリアミド系繊維としては、例えばナイロン６、ナイロン６６、ナイロン４、ナイロン１１およびそれらの変成物等を挙げることができる。
【００３５】
前記したように、単糸繊度は０．００１ｄＴｅｘ以上１０．０ｄＴｅｘ以下であることが好ましいが、これら繊度繊維の含有率は、布帛全体において、好ましくは２０〜７０ｗｔ％であり、１０％を下回る場合には、布帛が硬すぎるため、拭き取り性能が不十分となる傾向があり、８０％を上回ると逆に柔らか過ぎるため布帛の寸法安定性に欠け、装置に装着した場合に走行性が不安定になり結果として拭き取り性が不足する。
【００３６】
極細繊維を用いた場合には、分割型複合繊維や、海島型複合繊維を用いることが好ましい。分割型複合繊維の場合は、成分の境界を剥離分割または、一成分を除去して得られ、海島型の場合には、海成分を溶出除去することによって得ることができる。
【００３７】
また、最近のパチスロ装置の作動操作には多種多様の電子制御機器が組み込まれており、それらの機器はコインまたはメダルが回遊走行する際の摩擦によって発生する静電気により、時々誤作動することがある。研磨搬送機も静電気発生源となっているが、合成繊維以外に制電性繊維を使用することにより静電気の発生を抑えることができる。そのため、タテ糸としては一部制電性繊維を含むものであることが好ましい。これにより静電気の発生がしにくくなり、したがって研磨部材の寿命を長くすることができる。このような制電性繊維としては、例えばカーボンを添加したポリマーからなる繊維が用いられる。制電性繊維は布帛表面のタテ糸の一部および裏面布帛の一部に用いるのが好ましい。
【００３８】
次の特徴は布帛の少なくとも片面に合成樹脂および／またはメッシュシートを張り合わせた形態をとっていることである。合成樹脂としては、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリスチレン系樹脂またはこれらの変成物などを用いることができるがポロアクリル樹脂、ポリウレタン系樹脂やポリスチレン系樹脂が好ましい。樹脂の塗布方法は、透水性が維持されればいかなる方法でも良く、例えばリバースコート法、転写法、ナイフコート法、コンマコート法、グラビアコート法、噴霧法などが挙げられるが、多量の樹脂を塗布できるナイフコート法が好ましい。樹脂形状もまた、透水性が維持されれば良く、発泡体、液体、気体、エマルジョン体などが挙げられるが、透水性を維持し易い発泡体が好ましい。塗布量は前記ＫＥＳ法で測定された硬さ値の範囲内の硬さになるように調整することによって得ることができる。
メッシュシートととしては、通常の合成繊維などを用いて織機で織製して得られるメッシュシート、または、合成樹脂の一体成型品からの穴あけなどで得ることができるが、通常のプラスチックメッシュ用織機で得られるメッシュシートが好ましい。合成樹脂のメッシュシートの素材は、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂およびそれらの変成物などを挙げることができるが、ポリエステル系樹脂からなるメッシュシートが好ましい。
【００３９】
本発明においては、前記した合成樹脂とメッシュシートとを併用して用いることもできる。例えば、通常の織機で得られるメッシュシートに合成樹脂を塗布したものであってもよい。
【００４０】
メッシュシートの厚みは、０．１ｍｍ以上３ｍｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．５ｍｍ以上２ｍｍ以下である。０．１ｍｍを下回る場合には研磨布全体が柔らかすぎるため、コインまたはメダル表面を綺麗に研磨することができず、走行安定性も不足する。また、３ｍｍを上回る場合には、布帛全体が硬くなりすぎるため、走行トラブルが発生することになり、好ましくない。
【００４１】
メッシュサイズは、シートのヨコ方向の１インチ当たりの網の目の数で表されるメッシュ数が３以上１００以下であり、好ましくは５以上８０以下である。
さらに好ましくは、１０以上５０以下である。メッシュ数が３を下回る場合には、パイル布帛の寸法安定性に欠け、走行性が不足し、１００を上回る場合には目が詰まりすぎているため滴下した水滴が他面へ到達せず、結果として拭き残しが発生する。
【００４２】
メッシュシートの布帛に占める含有率は、１０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下である。好ましくは２０ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下であり、より好ましくは３０ｗｔ％以上６０ｗｔ％以下であり、前記ＫＥＳ法で測定された硬さ値の範囲内の硬さになるように調整することによって得ることができる。
【００４３】
次に吸水速度および透水時間もまた重要な要件である。吸水速度はＪＩＳ１０９６（Ｂ）ビュレット法による吸水速度が１秒以下である。
滴下は、表面から行う場合と裏面から行う場合がある。表裏いずれの面の滴下においても、１秒を上回る場合は、コインまたはメダルが濡れたまま遊技台に搬送さて、トラブルの原因になったり、拭き取り不足のなどの問題があるため、１秒以下が好ましい。
また、透水時間もまた吸水速度との強い関わりがあり、滴下された水は３秒以下好ましくは２秒以下で裏面から表面に到達することが重要となる。３秒を上回る場合、表面が乾いた状態のため、拭き取り性が不足する。
【００４４】
次に、布帛には、予め滑り剤を付与し、コインまたはメダル面に滑りを与えることもできる。滑り剤としては、コインまたはメダルに滑りが付与されれば良く、特に限定されないが鉱物系油剤、シリコン系油剤、防錆剤などが挙げられ、これらを適度に混ぜた物などを用いることができる。
【００４５】
表面のループパイル織編物、あるいは不織布と、裏面に用いる合成メッシュシートとの貼り合わせは、熱処理、接着剤などが用いられる。
【００４６】
【実施例】
以下、コインまたはメダルの研磨布帛として実施例に基づいて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
（１）汚れ剤
汚れ剤としては以下の組成からなる物質と水を１：１の割合でペースト状に練って用いた。
【００４７】
工業用ステアリン酸 １５重量％
工業用オレイン酸 １５重量％
工業用牛脂硬化油（ｍｐ５８〜５９℃ ） １５重量％
オリーブ油 １５重量％
工業用セチルアルコール １５重量％
工業用１２５°Ｆパラフィン １５重量％
コレステロール（試薬１級） ５重量％
カーボンブラックＭＡ−１００（三菱化成工業製） ５重量％
（２）コインまたはメダル研磨方法
上記汚れ剤を市場に出回っているメダルの表面に０．５ｇ載せ裏返して研磨布の上に載せその上から１ｋｇの荷重を掛けると同時に１ｍ／分の速度で牽引した。
（３）メダルの拭き取り研磨性評価方法
汚れ剤が布帛に付けられた汚れ剤の尾を引いた形状の長さを実測し、メダルのクリーン度は目視で判断した。
【００４８】
Ａ．研磨布の汚れ評価方法
○：研磨性良好（１０ｃｍ未満）
△：研磨性やや良好（１０〜２０ｃｍ未満）
×：研磨性が不良（２０ｃｍ以上）
Ｂ．メダルの汚れ評価方法
○：研磨性が良い（メダルに汚れが見えない）
△：研磨性がやや良好（メダルに汚れがかすかに見える）
×：研磨性が不良（メダルに汚れが良く見える）
（４）走行安定性評価方法
幅６０ｍｍ、長さ５ｍの研磨布をロールに巻き、他方のロールで巻き取る操作において、２ロール間にスリット幅がアジャストできる抵抗帯を設置し、全量巻き取る過程の布帛状態を目視観察し判定した。
【００４９】
○：巻き取り形状が極めて良い
△：巻き取り形状が良い
×：最後まで稼動することができず、途中でトラブルを起こした
（５）曲げ硬さ測定方法（ＫＥＳ法）
本発明の研磨布帛の力学特性に用いられる値はＫＥＳ（Ｋａｗａｂａｔａ’ｓ Ｅｖａｌｕａｔｉ ｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ ｆｏｒ Ｆａｂｒｉｃｓ）を用いる。測定装置はカトーテック（株）製を用い、曲げ特性は、ＫＥＳ−ＦＢ２を使用し、感度（ＳＥＮＳ）は５×１として測定した。Ｂ、および２ＨＢの値は、布帛の曲げ剛性および曲げヒステリシスを表す。測定は、幅０．５ｃｍ、長さ７ｃｍの試料を準備し、間隔１ｃｍのチャックに長手方向で把持し、曲率Ｋ＝−２．５〜＋２．５ｃｍ−１の範囲で、変形速度０．５ｃｍ−１ ／ｓｅｃの等速度曲率の純曲げを行う。Ｂは試料の単位長さあたりの曲げモーメントＭと曲率Ｋとの曲線の傾斜を表す。ここでは、曲率Ｋ＝０．２と０．７の間の傾斜、曲率Ｋ＝−０．２と−０．７の間の傾斜を平均した値を用いる。また２ＨＢとは、曲率Ｋ＝０．４、およびＫ＝−０．４の範囲におけるヒステリシス幅の平均値のことである。なお、本発明の場合、ｎ４測定し、幅方向のタテ方向とヨコ方向の平均値を用い、Ｂ、および２ＨＢ値は１ｃｍに換算（２倍）した。
【００５０】
［実施例１］
細繊度化可能な複合繊維として、０．９１ｄＴｅｘの八葉星芒形ポリアミド１個とそれを取り巻く０．２６ｄＴｅｘの三角型ポリエステル８個からなる単繊維断面を有する、５５ｄＴｅｘ、１８フィラメントのマルチフィラメント糸条を４本引き揃えて５００回／ｍ合撚し、レピア織機でタテ密度８３本／ｉｎ、ヨコ密度６３本／ｉｎの平二重織物を製織して生機とした。
【００５１】
この生機を水酸化ナトリウムの水溶液で処理し、ポリアミドとポリエステルとを剥離分割した。得られた織物を構成するフィラメント糸条の総繊度は２１３ｄＴｅｘであり、ポリアミドの単繊維繊度は０．９１ｄＴｅｘであり、ポリエステルの単繊維繊度は０．２５ｄＴｅｘであった。これを表面に用いた。
【００５２】
裏面に厚みが１ｍｍ、メッシュサイズはシートヨコ方向の１インチ当たりの網み目の数が２０のポリエステルのメッシュシートをメラミン樹脂で接着した。研磨布の織物が占める割合は６４．３ｗｔ％であり、メッシュシートが占める割合は３５．７ｗｔ％であった。また研磨布のＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が１０．３８×１０−４ Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は１０．３６×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下であった。次に表面に含水量５０ｇ／ｍ２になるように水を噴霧し、これを研磨布として用い、拭き取り性を評価した結果、研磨性は良好であり、メダル表面には汚れは見られず、走行性も優れたものであった。結果を表１に示す。
【００５３】
［実施例２］
タテ、ヨコともポリエステルマルチフィラメント糸８３ｄＴｅｘ３６フィラメントの繊維を用いる以外は実施例１と同様の布帛を作成した。研磨布の織物が占める割合は７０．２ｗｔ％であり、メッシュシートが占める割合は２９．８ｗｔ％であった。またこの研磨布のＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が１５．５６×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は１６．０２×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下であった。次に表面に含水量５０ｇ／ｍ２になるように水を噴霧し、これを研磨布として用い拭き取り性を評価した結果、研磨性は良好であり、メダル表面には汚れは見られず、走行性も優れたものであった。結果を表１に示す。
【００５４】
［比較例１］
裏面にメッシュシートをはりあわせないで、実施例１と同様の布帛を評価した結果ＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が１．３１×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は０．４１×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下で良好であるが、柔らか過ぎるため、研磨時に研磨布が変形し、研磨性は悪く、メダルの彫刻模様の凹部に多くの汚れが見え、かつ、走行性不良であり、実用に耐えないものであった。結果を表１に示す。
【００５５】
［比較例２］
裏面にメッシュシートをはりあわせないで、実施例２と同様の布帛を評価した結果、ＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が１．２７×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は０．７２×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下で良好であるが、柔らか過ぎるため、研磨性が悪く、メダルの彫刻模様の凹部に多くの汚れが見え、走行性不良であり、実用に耐えないものであった。結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
【００５７】
［実施例３］
ループ糸、挿入糸ともポリエステルマルチフィラメント糸１７０ｄＴｅｘ、４８フィラメントを用い、ループパイル長２ｍｍのパイル編み物を製編し、裏面にポリスチレンからなる樹脂の発泡体（粘土：１，０００センチポイズ）をナイフコート方式で１３０ｇ／ｍ２の割合で塗布し、乾燥、キュアした。この研磨布のＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が５．１９×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は６．２９×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下であった。表面に含水量３２重量％になるように水を噴霧し、これを研磨布として用い、拭き取り性を評価した結果、研磨性は良好であり、メダルの表面には汚れは見られず優れたものであった。結果を表２に示す。
【００５８】
［実施例４］
タテ、ヨコともポリエステルマルチフィラメント糸８３ｄＴｅｘ、３６フィラメントを用い、パイル糸としてポリエステルマルチフィラメント糸１７０ｄＴｅｘ１４４フィラメントを用い、カットパイル長２ｍｍのパイル織物を製織する以外は実施例３と同様の布帛を作成した。研磨布のパイル織物が占める割合は５０．７ｗｔ％であり、メッシュシートは実施例１と同様のシートを用い、実施例１と同様の方法で裏面に張り合わせた。メッシュシートが占める割合は４９．３ｗｔ％であった。また、この研磨布のＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が６．２６×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は２．７４×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下であった。表面に含水量２５重量％になるように水を噴霧し、これを研磨布として用い、拭き取り性を評価した結果、研磨性は良好であり、メダル表面には汚れが見えず良好であり、走行性も優れたものであった。結果を表２に示す。
【００５９】
［比較例３］
裏面に合成樹脂を塗布しないで、実施例３と同様の布帛を評価した結果ＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が１．１１×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は０．５×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下で良好であるが、柔らか過ぎるため、拭き取り性、走行性不良とも悪く実用に耐えないものであった。結果を表２に示す。
【００６０】
［比較例４］
裏面にメッシュシートを用いないで、実施例４と同様の布帛を評価した結果、ＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が１．７２×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は０．３×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下で良好であるが、柔らか過ぎるため、拭き取り性、走行性不良であり、実用に耐えないものであった。結果を表２に示す。
【００６１】
【表２】
【００６２】
［実施例５］
単糸繊度が１．９ｄＴｅｘであり、芯がポリエステル６葉花弁型であり、その外周を取り巻く形でポリアミドが配された芯鞘複合糸をメルトブロー方式で目付２５０ｇ／ｍ２の不織布を作成し、高圧水流で交絡・分割処理を行った後、乾燥しこれを表面として用いた。裏面に発泡されたポリアクリル樹脂（粘土：８５０センチポイズ）を１００ｇ／ｍ２の割合でナイフーコーター方式で塗布した。この布帛を梨地模様を有するエンボスローラーで処理を行い、凸凹差が１．５ｍｍの研磨布とした。研磨布のＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が５．３３×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は６．３２×１０−２Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下であった。この研磨布に水分量が６０ｇ／ｍ２になるように水を噴霧し、拭き取り性を評価した結果、拭き取り性、走行性共良好不良であり、走行性も優れたものであった。結果を表３に示す。
【００６３】
［比較例５］
裏面に樹脂コーティングしないで、エンボス加工も行わない以外は実施例５と同様の布帛を評価した結果ＫＥＳ法による曲げ硬さ（Ｂ）が１．８８×１０−４Ｎ・ｍ２／ｍであり、ヒステリシスの幅（２ＨＢ）は０．４２×１０−３Ｎ・ｍ／ｍであり、吸水速度は１秒以下であり、透水時間は２秒以下で良好であるが、柔らか過ぎるため、走行性不良であり、実用に耐えないものであった。結果を表３に示す。
【００６４】
【表３】
【００６５】
【発明の効果】
本発明は、布帛と合成樹脂および／またはメッシュシートとの積層体にして布帛に適度な硬さを持たせたことによって、ドライ研磨またはウエット研磨において、ゴミ、手の汚れ、脂、油などで汚れたコインまたはメダルの表面を綺麗に拭き取ることができ、かつ研磨装置での走行安定性の優れた研磨布帛を得ることができる。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a polishing cloth for coins or medals, coins or medals that are polished and conveyed while holding a suitable pressure in a conveying path between a conveying member and a polishing member in a conveying path of coins or medals of a gaming table for coins or medals. The present invention relates to a polishing cloth for coins or medals which is suitably used for a polishing machine for medals.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a coin or medal polishing / transporting machine for polishing and transporting coins or medals while nipping and holding the coins or medals at an appropriate pressure in a transport path between the transporting member and the polishing member is disclosed in, for example, JP-A-2000-93629 and This is known from 93630 and the like.
[0003]
According to these Japanese Unexamined Patent Publications, regarding a gate member in which a number of passages are arranged at an entrance portion of a reducing machine that lifts a pachinko ball while polishing the pachinko ball, a device that allows a pachinko ball to pass through but drops foreign matter such as coins and screws. Although disclosed, no study is made on the polishing cloth.
[0004]
In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-113025 proposes a polishing apparatus provided with a polishing cloth made of a flocking brush. According to the Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H08-27139, dust, dirt, oil, and fat adhering to medals can be removed. However, because of flocking, piles of the polishing cloth fall off due to abrasion force with the medals, and are re-padded. Adherence cannot be forbidden.
[0005]
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-118110 proposes a device that effectively removes dust, dirt, hands, grease, oil, and the like with a cloth polishing device and a fluid cleaning polishing device. According to the Japanese Patent Laid-Open Publication, a cloth-type polishing apparatus and a fluid polishing apparatus are installed in series to perform polishing, but no detailed study on a cloth-type polishing cloth has been made.
[0006]
Further, the same applies to JP-A-2001-229429. That is, the dirt on the coins or medals is removed while the coins or medals are held and polished and conveyed. However, the cleaning effect of coins or medals has not yet been sufficient, and running stability has also been insufficient.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a novel polishing member used for a coin or medal polishing and transporting machine for polishing and transporting while nipping in a transport path between a transport member for coins or medals and a polishing cloth, An object of the present invention is to provide a polishing cloth for coins or medals which has a large cleaning effect on coins or medals and has excellent running stability.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies by the present inventors, such an object of the present invention has been industrially conveniently achieved by the following means of the present invention.
[0009]
(1) A polishing cloth for coins or medals, comprising a laminate of a cloth and a synthetic resin and / or a mesh sheet.
[0010]
(2) The polishing cloth for coins or medals according to (1), wherein the cloth is made of a woven fabric, a knitted fabric, or a nonwoven fabric.
[0011]
(3) The polishing cloth for coins or medals according to (2), wherein the woven or knitted fabric has a pile.
[0012]
(4) The polishing cloth for coins or medals according to (3), wherein the pile length is 0.3 to 10 mm from the base portion.
[0013]
(5) The polishing cloth for coins or medals according to the above (2), wherein the nonwoven fabric has an embossed pattern, and the unevenness of the embossed pattern is 0.1 to 5 mm.
[0014]
(6) The nonwoven fabric is prepared by a melt blow method, and has a basis weight of 10 g / m2. 2 More than 500g / m 2 The coin or medal polishing cloth according to the above (2) or (5), characterized in that:
[0015]
(7) The bending hardness (B) of the polishing cloth by the KES method is 2.0 × 10. -4 ~ 20 × 10 -4 N ・ m 2 / M and the hysteresis width (2HB) is 2.0 × 10 -2 ~ 20 × 10 -2 N.m / m, the polishing cloth for coins or medals according to any one of the above (1) to (6).
[0016]
(8) The polishing cloth contains a synthetic fiber having a single yarn fineness of 0.001 dTex or more and 10.0 dTex or less, and a content of the synthetic fiber in the cloth is 10 wt% or more and 80 wt% or less. The coin or medal polishing cloth according to any one of the above (1) to (7).
[0017]
(9) The polishing cloth for coins or medals according to any one of the above (1) to (8), wherein the composition of the fibers constituting the polishing cloth is a polyester synthetic fiber and / or a polyamide synthetic fiber. .
[0018]
(10) The polishing cloth for coins or medals according to any one of the above (1) to (9), wherein the polishing cloth contains antistatic fibers.
[0019]
(11) The synthetic fiber according to any one of (8) to (10), wherein the synthetic fiber is ultrafine by splitting or eluting a composite split type or sea-island split type synthetic fiber. The coin or medal polishing cloth as described in the above.
(12) The synthetic resin according to any one of (1) to (11), wherein the synthetic resin comprises at least one selected from polyacrylic, polyurethane, polyamide, polyester, and polystyrene resins. 3. The polishing cloth for coins or medals according to item 1.
[0020]
(13) The thickness of the mesh sheet is 0.1 mm or more and 3 mm or less, the number of meshes represented by the number of meshes per inch in the width direction of the sheet is 3 or more and 100 or less, and the mesh sheet fabric The polishing cloth for coins or medals according to any one of the above (1) to (12), wherein the content of the polishing cloth is not less than 10 wt% and not more than 80 wt%.
[0021]
(14) The water absorption rate according to JIS 1096 (B) buret method is 1 second or less, and when 1 cc of water drops is dropped from at least one surface, the water permeation time until reaching the other surface is 3 seconds or less. The polishing cloth for coins or medals according to any one of the above (1) to (13).
[0022]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
The polishing cloth of the present invention is located, for example, on both sides of the pinched coin or medal carrying member, and is suitable for a polishing apparatus in which the polishing cloth runs backward in the running direction of the coin or medal, As for the polishing cloth, coins or medals stained with dust, hand stains, fat, oil, or the like can be used in a dry state, and coins or medals that have been washed and wet in advance can be used in a wet state. Furthermore, coins or medals can be polished while the polishing cloth is wetted. However, by using a method of polishing dirty coins or medals with a wet polishing cloth, the polishing property can be further improved.
[0023]
The greatest feature of the present invention is that a fabric is laminated with a synthetic resin and / or a mesh sheet.
[0024]
Specifically, for example, on at least one side of a woven or knitted fabric (hereinafter sometimes collectively referred to as a woven or knitted fabric), or on at least one side of a pile woven or knitted fabric, a synthetic resin or a mesh sheet, or a synthetic resin A mesh sheet and a laminated fabric, or a non-woven fabric and a synthetic resin or a mesh sheet, or a laminated fabric of a synthetic resin and a mesh sheet, when water drops are dropped from at least one side On the drip surface, water droplets are quickly taken in and moved to the other surface, so that appropriate wettability is imparted to the polishing cloth surface and medals or coins can be efficiently polished. The wettability varies greatly depending on the amount of water to be supplied, and may be supplied to such an extent that water droplets do not drip from the polishing cloth, and is not particularly limited, but may be adjusted and supplied so as to keep it at about 5 to 100% by weight based on the weight of the cloth. is important.
[0025]
In the present invention, as a condition for excellent coin or medal polishing cloth, the bending hardness (B) by the KES method is 2.0 × 10 -4 ~ 20 × 10 -4 N ・ m 2 / M range, hysteresis width (2HB) is 2.0 × 10 -2 ~ 20 × 10 -2 N · m / m, more preferably 2.5 × 10 -4 ~ 18 × 10 -4 N ・ m 2 / M, 2.5 × 10 -2 ~ 18 × 10 -2 N · m / m.
[0026]
Flexural hardness (B) by KES method is 20 × 10 -4 N ・ m 2 / M and the width of hysteresis (2HB) is 20 × 10 -2 When the value exceeds N · m / m, the polishing cloth is rigid, so that it is difficult to mount the apparatus on the apparatus. In addition, the clearance between the conveying member and the polishing member is insufficient. It is not preferable because it stops. Further, the bending hardness (B) by the KES method is 2.0 × 10 -4 N ・ m 2 / M and the width of hysteresis (2HB) is 2.0 × 10 -2 If the value is less than N · m / m, the polishing pad is too soft, so that the polishing pad cannot be mounted on the apparatus, and blurring occurs.
[0027]
The woven or knitted fabric can be obtained by a usual knitting machine or a loom, and any of a woven fabric and a knitted fabric can be used, but a woven fabric excellent in dimensional stability can be preferably used. The texture can also be freely selected, and examples thereof include plain weave, twill weave, satin weave, and kago weave, but a plain double weave having a thick feeling is preferred.
[0028]
The single fiber fineness of the fiber used in the present invention is preferably a woven or knitted fabric of 0.001 dTex or more and 10.0 dTex or less, and can be freely selected depending on the purpose. The single yarn fineness is preferably 0.01 dTex or more and 7 dTex or less, and more preferably 0.05 dTex or more and 5 dTex or less. If the value is less than 0.001 dTex, the fineness is too small, so that in polishing the surface of the coin or the medal, a single thread breaks due to abrasion force, and the single thread adheres to the coin or the medal surface, thereby contaminating the surface. become. On the other hand, if it exceeds 10.0 dTex, it is not preferable because the corners of the concave portions of the coin or medal sculpture pattern cannot be wiped because they are too thick.
[0029]
The pile woven or knitted fabric can be obtained by a normal pile knitting machine or a normal pile loom, and the pile length is preferably from 0.3 to 10 mm from the base portion, and the single yarn fineness is 0.001 dTex or more. It is preferably a woven or knitted fabric having a cut pile or a loop pile of 0.0dTex or less, and can be freely selected depending on the purpose. The single yarn fineness of the pile yarn is preferably 0.01 dTex or more and 7 dTex or less, more preferably 0.05 dTex or more and 5 dTex or less. If the value is less than 0.001 dTex, the pile has no rigidity, so that the coin or the medal surface can be polished only with a quick stroke, and the uneven surface of the entire surface cannot be wiped clean. On the other hand, if it exceeds 10 dTex, the fineness is too large, and it is not preferable because the corners of the concave portions of the engraved design of the coin or the medal cannot be wiped.
[0030]
The pile length is preferably 0.5 to 7 mm from the base portion, more preferably 1.0 to 5.0 mm. If the pile length is less than 0.3 mm, the tip of the pile does not reach the concave portion of the coin or medal sculpture pattern, so that there is a possibility that unwiped residue may occur. As a result, unwiped residue is generated, which is not preferable. The pile length was measured by placing the pile fabric on a flat table with the pile surface facing upward, gradually lowering the depth bar from the pile surface using a vernier caliper bar, and setting the depth until the tip abuts on the pile length. In addition, the base was a portion where the tip of the depth bar abuts.
[0031]
The nonwoven fabric made of synthetic fibers can be obtained by a usual melt blow method, and has a basis weight of 10 to 500 g / m2. 2 In addition, it is preferable that the surface has an embossed pattern, and the difference between the irregularities of the pattern is 0.1 to 5 mm. Furthermore, the single-fiber fineness of the synthetic fibers constituting the nonwoven fabric is preferably 0.001 dTex or more and 10.0 dTex or less, and can be freely selected depending on the purpose. The thickness of the single yarn is more preferably 0.01 dTex or more and 7 dTex or less, and still more preferably 0.05 dTex or more and 5 dTex or less. When it is less than 0.001 dTex, the nonwoven fabric itself has no firmness, so that embossing cannot be performed and wiping properties are poor. If it exceeds 10 dTex, it is not preferable because the concave portion of the engraved pattern of the coin or the medal cannot be wiped because it is too thick.
[0032]
Further, the ratio of the nonwoven fabric in the polishing cloth is preferably 10 to 80 wt%. The basis weight is preferably 20 to 400 g / m. 2 And more preferably 30 to 300 g / m 2 It is. 10g / m 2 When the ratio is less than the above, it is difficult to form the nonwoven fabric itself, and it is also difficult to bond the nonwoven fabric. 500g / m 2 When the value exceeds, the thickness becomes too large, and it is difficult to mount the device on the device. The embossed pattern can be selected according to the purpose, but a satin pattern is suitable, and the difference in unevenness is preferably 0.2 to 4 mm, more preferably 0.3 to 3 mm. If it is less than 0.1 mm, the concave part of the coin or medal sculpture pattern cannot be wiped, and if it is more than 5 mm, the concave part can be polished. However, the pattern disappears due to friction during polishing during repeated use. This results in poor wiping properties.
[0033]
Next, the cloth is a coin or medal polished cloth containing a synthetic fiber, and the content of the synthetic fiber in the cloth is 10 wt% or more and 80 wt% or less.
[0034]
As the synthetic fibers, polyester fibers, polyamide fibers, and the like are preferably used. Examples of the polyester-based fiber include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polypropylene terephthalate, and modified products thereof. Examples of the polyamide fibers include nylon 6, nylon 66, nylon 4, nylon 11, and modified products thereof.
[0035]
As described above, the single-fiber fineness is preferably 0.001 dTex or more and 10.0 dTex or less, but the content of these fineness fibers is preferably 20 to 70 wt% in the entire fabric, and is less than 10%. On the other hand, the wiping performance tends to be insufficient because the cloth is too hard. On the other hand, if it exceeds 80%, the cloth is lacking in dimensional stability because it is too soft. As a result, the wiping property is insufficient.
[0036]
When ultrafine fibers are used, it is preferable to use splittable conjugate fibers or sea-island conjugate fibers. In the case of a splittable conjugate fiber, it can be obtained by peeling and separating the boundary between components or removing one component, and in the case of a sea-island type, it can be obtained by eluting and removing the sea component.
[0037]
In addition, a variety of electronic control devices are incorporated in the operation of recent pachislot machines, and these devices sometimes malfunction due to static electricity generated by friction when coins or medals migrate. . Although the polishing conveyor is also a source of static electricity, the use of antistatic fibers other than synthetic fibers can suppress the generation of static electricity. Therefore, it is preferable that the warp yarn partially includes antistatic fibers. This makes it difficult for static electricity to be generated, so that the life of the polishing member can be extended. As such an antistatic fiber, for example, a fiber made of a polymer to which carbon is added is used. The antistatic fiber is preferably used for part of the warp yarn on the surface of the cloth and part of the back cloth.
[0038]
The next feature is that the fabric has a form in which a synthetic resin and / or a mesh sheet is adhered to at least one surface. As the synthetic resin, polyacrylic, polyurethane-based, polyamide-based, polyester-based, polystyrene-based resins, modified products thereof, and the like can be used, and polyacrylic resins, polyurethane-based resins, and polystyrene-based resins are preferable. The method of applying the resin may be any method as long as water permeability is maintained.Examples include a reverse coating method, a transfer method, a knife coating method, a comma coating method, a gravure coating method, and a spraying method. A knife coat method that can be applied is preferred. The resin shape also needs to maintain water permeability, and examples thereof include foams, liquids, gases, and emulsions. Foams that easily maintain water permeability are preferable. The coating amount can be obtained by adjusting the hardness so as to be within the range of the hardness value measured by the KES method.
The mesh sheet can be obtained by weaving with a loom using ordinary synthetic fibers or the like, or can be obtained by perforating a synthetic resin integrally molded product. Is preferred. The material of the synthetic resin mesh sheet may be a polyester resin, a polyamide resin, a polyacrylic resin, a polyurethane resin, a vinyl chloride resin, or a modified product thereof. Is preferred.
[0039]
In the present invention, the synthetic resin and the mesh sheet described above can be used in combination. For example, a sheet obtained by applying a synthetic resin to a mesh sheet obtained by a normal loom may be used.
[0040]
The thickness of the mesh sheet is preferably 0.1 mm or more and 3 mm or less, more preferably 0.5 mm or more and 2 mm or less. When the thickness is less than 0.1 mm, the entire polishing cloth is too soft, so that the surface of the coin or the medal cannot be polished neatly and running stability is insufficient. On the other hand, if it is more than 3 mm, the whole fabric is too hard, which causes running trouble, which is not preferable.
[0041]
Regarding the mesh size, the number of meshes represented by the number of meshes per inch in the width direction of the sheet is 3 or more and 100 or less, and preferably 5 or more and 80 or less.
More preferably, it is 10 or more and 50 or less. When the number of meshes is less than 3, the dimensional stability of the pile fabric is lacking and the running property is insufficient. When the number of meshes is more than 100, the clogged eyes are too clogged and the dropped water drops do not reach the other surface. As a result, unwiped residue occurs.
[0042]
The content of the mesh sheet in the fabric is 10 wt% or more and 80 wt% or less. It is preferably 20 wt% or more and 70 wt% or less, more preferably 30 wt% or more and 60 wt% or less, and can be obtained by adjusting the hardness to be within the range of the hardness value measured by the KES method. it can.
[0043]
Secondly, water absorption rate and water permeation time are also important requirements. As for the water absorption rate, the water absorption rate according to the JIS 1096 (B) bullet method is 1 second or less.
Dropping may be performed from the front surface or from the back surface. If it takes more than 1 second to drop both surfaces, coins or medals will be transported wet to the game console, causing trouble or insufficient wiping. preferable.
The water permeation time also has a strong relationship with the water absorption rate, and it is important that the dropped water reaches the front surface from the back surface in 3 seconds or less, preferably 2 seconds or less. When the time exceeds 3 seconds, the surface is in a dry state, so that the wiping property is insufficient.
[0044]
Next, a slip agent may be applied to the fabric in advance to give a slip to the coin or the medal surface. As the slipping agent, it is sufficient that slippage is imparted to coins or medals, and it is not particularly limited, and examples thereof include mineral oils, silicone oils, rust preventives, and the like, and those obtained by appropriately mixing these. .
[0045]
For bonding the loop pile woven or knitted fabric on the front surface or the nonwoven fabric to the synthetic mesh sheet used on the back surface, a heat treatment, an adhesive or the like is used.
[0046]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples as a polishing cloth for coins or medals, but the present invention is not limited to these examples.
(1) Staining agent
As a soiling agent, a substance having the following composition and water were kneaded into a paste at a ratio of 1: 1 and used.
[0047]
15% by weight of industrial stearic acid
15% by weight of industrial oleic acid
Hardened oil for industrial use (mp 58-59 ° C) 15% by weight
Olive oil 15% by weight
15% by weight of industrial cetyl alcohol
Industrial use 125 ° F paraffin 15% by weight
Cholesterol (first grade reagent) 5% by weight
Carbon black MA-100 (Mitsubishi Chemical Industries) 5% by weight
(2) Coin or medal polishing method
0.5 g of the above-mentioned soiling agent was placed on the surface of a medal available on the market, turned upside down, placed on a polishing cloth, and a load of 1 kg was applied thereon, and at the same time, was pulled at a speed of 1 m / min.
(3) Evaluation method for wiping and polishing of medals
The length of the tailed shape of the soiling agent applied to the cloth was measured, and the cleanliness of the medal was visually determined.
[0048]
A. Polishing cloth stain evaluation method
：: good polishing (less than 10 cm)
Δ: Slightly good polishing (less than 10 to 20 cm)
×: Poor polishing (20 cm or more)
B. Evaluation method for dirt on medals
○: Good polishing (no dirt is visible on the medal)
Δ: Slightly good abrasivity (dirts appear slightly on medals)
×: Poor polishability (dirts look good on medals)
(4) Running stability evaluation method
In the operation of winding a polishing cloth having a width of 60 mm and a length of 5 m around a roll and winding the other roll, a resistance band capable of adjusting the slit width is provided between the two rolls, and the state of the fabric during the entire winding process is visually observed and determined. did.
[0049]
○: Extremely good winding shape
△: Good winding shape
×: Unable to operate to the end, causing trouble on the way
(5) Flexural hardness measurement method (KES method)
KES (Kawabata's Evaluation System for Fabrics) is used as the value used for the mechanical properties of the polishing cloth of the present invention. The measurement device was manufactured by Kato Tech Co., Ltd., the bending characteristics were measured using KES-FB2, and the sensitivity (SENS) was 5 × 1. The B and 2HB values represent the flexural rigidity and flexural hysteresis of the fabric. For the measurement, a sample having a width of 0.5 cm and a length of 7 cm is prepared, and the sample is gripped in a longitudinal direction by a chuck having an interval of 1 cm, and a curvature K = −2.5 to +2.5 cm -1 0.5cm deformation speed in the range -1 A pure bending with a constant velocity curvature of / sec is performed. B represents the slope of the curve between the bending moment M and the curvature K per unit length of the sample. Here, a value obtained by averaging the slope between the curvatures K = 0.2 and 0.7 and the slope between the curvatures K = −0.2 and −0.7 is used. 2HB is the average value of the hysteresis width in the range of curvature K = 0.4 and K = −0.4. In the case of the present invention, n4 was measured, and the B and 2HB values were converted to 1 cm (doubled) using the average values in the vertical and horizontal directions in the width direction.
[0050]
[Example 1]
55dTex, 18-filament multifilament yarn having a monofilament cross-section consisting of one 0.91 dTex eight-leaf star-shaped polyamide and eight 0.26 dTex triangular polyesters surrounding the same as a composite fiber capable of fineness Four strips were aligned and twisted 500 times / m, and a flat double woven fabric having a vertical density of 83 / in and a horizontal density of 63 / in was woven by a rapier loom to obtain a greige machine.
[0051]
The greige was treated with an aqueous solution of sodium hydroxide to separate and separate the polyamide and the polyester. The total fineness of the filament yarn constituting the obtained woven fabric was 213 dTex, the single fiber fineness of the polyamide was 0.91 dTex, and the single fiber fineness of the polyester was 0.25 dTex. This was used for the surface.
[0052]
A polyester mesh sheet having a thickness of 1 mm and a mesh size of 20 meshes per inch in the sheet width direction was bonded to the back surface with a melamine resin. The proportion occupied by the woven fabric of the polishing cloth was 64.3 wt%, and the proportion occupied by the mesh sheet was 35.7 wt%. The bending hardness (B) of the polishing cloth by the KES method is 10.38 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the width of hysteresis (2HB) is 10.36 × 10 -2 N · m / m, the water absorption rate was 1 second or less, and the water permeation time was 2 seconds or less. Next, a water content of 50 g / m 2 As a result, water was sprayed so as to obtain a polishing cloth, and the wiping property was evaluated. As a result, the polishing property was good, no stain was observed on the medal surface, and the running property was excellent. Table 1 shows the results.
[0053]
[Example 2]
A fabric similar to that of Example 1 was prepared for both the vertical and horizontal lengths except that fibers of polyester multifilament yarn 83dTex36 filament were used. The proportion occupied by the woven fabric of the polishing cloth was 70.2 wt%, and the proportion occupied by the mesh sheet was 29.8 wt%. The flexural hardness (B) of the polishing cloth by the KES method is 15.56 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the width of the hysteresis (2HB) is 16.02 × 10 -2 N · m / m, the water absorption rate was 1 second or less, and the water permeation time was 2 seconds or less. Next, a water content of 50 g / m 2 As a result of evaluating the wiping property using water as a polishing cloth, the polished property was good, no stain was observed on the medal surface, and the running property was excellent. Table 1 shows the results.
[0054]
[Comparative Example 1]
The same fabric as in Example 1 was evaluated without bonding the mesh sheet to the back surface. As a result, the flexural hardness (B) by the KES method was 1.31 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the hysteresis width (2HB) is 0.41 × 10 -2 N · m / m, the water absorption rate is 1 second or less, and the water permeation time is 2 seconds or less, which is good. However, because it is too soft, the polishing cloth is deformed at the time of polishing. A lot of dirt was seen in the concave portion of the above, and the running property was poor, so that it was not practical. Table 1 shows the results.
[0055]
[Comparative Example 2]
As a result of evaluating a fabric similar to that of Example 2 without bonding the mesh sheet to the back surface, the flexural hardness (B) by the KES method was 1.27 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the width of hysteresis (2HB) is 0.72 × 10 -2 N · m / m, the water absorption rate is 1 second or less, and the water permeation time is 2 seconds or less, which is good. However, since it is too soft, the polishing property is poor, and many dirt is visible in the concave portion of the engraved pattern of the medal. , Running performance was poor, and it was not practical. Table 1 shows the results.
[0056]
[Table 1]
[0057]
[Example 3]
A loop knitted fabric with a loop pile length of 2 mm is knitted using a polyester multifilament yarn 170 dTex, 48 filaments for both the loop yarn and the insertion yarn, and a polystyrene resin foam (clay: 1,000 centipoise) is knife-coated on the back surface. 130g / m 2 , Dried and cured. The flexural hardness (B) of this polishing cloth by the KES method is 5.19 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the width of hysteresis (2HB) is 6.29 × 10 -2 N · m / m, the water absorption rate was 1 second or less, and the water permeation time was 2 seconds or less. Water was sprayed on the surface so as to have a water content of 32% by weight, and this was used as a polishing cloth. The wiping property was evaluated. As a result, the polishing property was good, and no dirt was observed on the surface of the medal. Met. Table 2 shows the results.
[0058]
[Example 4]
A fabric similar to that of Example 3 was prepared except that weaving a pile woven fabric having a cut pile length of 2 mm was performed using polyester multifilament yarns 83dTex and 36 filaments for both length and width, and using polyester multifilament yarns 170dTex144 filaments for the pile yarns. The proportion of the pile cloth occupied by the polishing cloth was 50.7 wt%, and the same mesh sheet was used as in Example 1 and bonded to the back surface in the same manner as in Example 1. The ratio occupied by the mesh sheet was 49.3 wt%. In addition, the bending hardness (B) of the polishing cloth by the KES method is 6.26 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the width of hysteresis (2HB) is 2.74 × 10 -2 N · m / m, the water absorption rate was 1 second or less, and the water permeation time was 2 seconds or less. The surface was sprayed with water so as to have a water content of 25% by weight, and this was used as a polishing cloth. The wiping property was evaluated. As a result, the polishing property was good. The properties were also excellent. Table 2 shows the results.
[0059]
[Comparative Example 3]
When the same fabric as in Example 3 was evaluated without applying the synthetic resin to the back surface, the flexural hardness (B) by the KES method was 1.11 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the width of hysteresis (2HB) is 0.5 × 10 -2 N · m / m, the water absorption rate was 1 second or less, and the water permeation time was 2 seconds or less, which was good. Table 2 shows the results.
[0060]
[Comparative Example 4]
As a result of evaluating the same fabric as in Example 4 without using the mesh sheet on the back surface, the flexural hardness (B) by the KES method was 1.72 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the width of hysteresis (2HB) is 0.3 × 10 -2 N · m / m, the water absorption rate was 1 second or less, and the water permeation time was 2 seconds or less, which was good. However, it was too soft, so it was poor in wiping properties and running properties, and was not practical. . Table 2 shows the results.
[0061]
[Table 2]
[0062]
[Example 5]
A single-core fineness is 1.9 dTex, a core is a polyester 6-leaf petal type, and a core-sheath composite yarn in which a polyamide is arranged around the outer periphery is 250 g / m2 by melt blow method. 2 Was entangled and divided by a high-pressure water flow, dried, and used as a surface. 100 g / m of polyacrylic resin (clay: 850 centipoise) foamed on the back side 2 In a knife-coater system. This cloth was treated with an embossing roller having a satin pattern to obtain a polishing cloth having a difference in roughness of 1.5 mm. The bending hardness (B) of the polishing cloth by the KES method is 5.33 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the width of hysteresis (2HB) is 6.32 × 10 -2 N · m / m, the water absorption rate was 1 second or less, and the water permeation time was 2 seconds or less. This polishing cloth has a water content of 60 g / m. 2 As a result, the wiping property was evaluated as good, and the wiping property and the running property were both good and poor, and the running property was also excellent. Table 3 shows the results.
[0063]
[Comparative Example 5]
The same fabric as in Example 5 was evaluated except that the back surface was not coated with a resin and embossing was not performed. As a result, the flexural hardness (B) by the KES method was 1.88 × 10 -4 N ・ m 2 / M, and the width of hysteresis (2HB) is 0.42 × 10 -3 N · m / m, the water absorption rate was 1 second or less, and the water permeation time was 2 seconds or less, which was good. However, it was too soft, had poor running properties, and was not practical. Table 3 shows the results.
[0064]
[Table 3]
[0065]
【The invention's effect】
The present invention provides a laminated body of a fabric and a synthetic resin and / or a mesh sheet to give the fabric an appropriate hardness, so that in dry polishing or wet polishing, dust, hand stains, fat, oil, etc. A surface of a dirty coin or medal can be wiped clean, and a polishing cloth excellent in running stability with a polishing device can be obtained.
