以下、本発明の一実施の形態に係る遊技島(単体島)、遊技機、遊技用装置および球研磨装置について、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明においては、XYZ直交座標系を用いて説明することがある。そのうち、X方向は遊技島や遊技機の幅方向とし、X1側はユーザが遊技島や遊技島に正対した場合の右側、X2側は左側とする。また、Z方向は遊技島や遊技機の高さ方向とし、Z1側は上側、Z2側は下側とする。また、Y方向はXZ方向に直交する方向であると共に遊技島や遊技機の奥行き方向とし、Y1側は手前側、Y2側は奥側とする。
Hereinafter, a gaming island (single island), a gaming machine, a gaming apparatus, and a ball polishing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system may be used. Of these, the X direction is the width direction of the gaming island or gaming machine, the X1 side is the right side when the user faces the gaming island or gaming island, and the X2 side is the left side. The Z direction is the height direction of the game island or gaming machine, the Z1 side is the upper side, and the Z2 side is the lower side. The Y direction is a direction orthogonal to the XZ direction and the depth direction of the game island or gaming machine, the Y1 side is the front side, and the Y2 side is the back side.
[目次]
1.遊技島(単体島)および遊技機の全体構成について
2.遊技用装置の概略的構成
3.遊技用装置の単体島における設置形態
4.遊技用装置の詳細構成
4.1 下部タンク
4.2 球研磨装置
(1)導入部
(2)搬送部
(3)スクリューコンベア
(4)研磨部の第1構成例
(4.1)研磨部の駆動手段
(4.2)研磨カセット
(5)研磨部の第2構成例
(6)研磨布
(7)研磨部の望ましい付加構成
(a)研磨カセットの研磨布入口における研磨布のダメージ軽減
(b)研磨カセットの研磨布入口における研磨布の巻き込み防止
(c)研磨カセットの研磨布出口における研磨布の巻き込み防止
(d)研磨領域における研磨布の偏在防止
(e)研磨領域のクッション材
4.3 上部タンク
4.4 制御システム
(1)球搬送モータおよび研磨布送りモータの制御 第1例
(2)球搬送モータおよび研磨布送りモータの制御 第2例
(3)球搬送モータおよび研磨布送りモータの制御 第3例
(4)球搬送モータおよび研磨布送りモータの制御 第4例
5.他の実施の形態
(1)非開放型遊技機
(2)その他の変形例
[table of contents]
1. 1. Overall structure of amusement island (single island) and gaming machine 2. Schematic configuration of gaming device 3. Installation form of game equipment on a single island Detailed configuration of gaming device 4.1 Lower tank 4.2 Ball polishing device (1) Introduction unit (2) Transfer unit (3) Screw conveyor (4) First configuration example of polishing unit (4.1) Polishing unit Driving means (4.2) Polishing cassette (5) Second configuration example of polishing unit (6) Polishing cloth (7) Desirable additional configuration of polishing unit (a) Reduction of polishing cloth damage at polishing cloth inlet of polishing cassette (b) ) Prevention of polishing cloth from being caught at polishing cloth inlet of polishing cassette (c) Prevention of polishing cloth from being caught at polishing cloth outlet of polishing cassette (d) Prevention of uneven distribution of polishing cloth in polishing area (e) Cushioning material in polishing area 4.3 Upper tank 4.4 Control system (1) Control of ball transport motor and abrasive cloth feed motor First example (2) Control of ball transport motor and abrasive cloth feed motor Second example (3) Ball transport motor and abrasive cloth feed motor Motor control third example (4) Control of ball transport motor and polishing cloth feed motor Fourth example 5. Other embodiments (1) Non-open type gaming machine (2) Other variations
[1.単体島(遊技島)および遊技機の全体構成について]
図1は、たとえば2台の遊技機B(遊技機B1,B2)から構成される遊技島(単体島)Aの一例を示す正面図である。近年、球研磨装置の負荷、球研磨装置における球供給制御の複雑化、あるいは研磨布の交換の手間やコストなどメンテナンス性の問題から、1台または2,3台の遊技機を備えた小規模な単体島(遊技島)を構成し、その構成された範囲内で限られた数の球を上手くリユースするような遊技用装置が開発されている。ここで、遊技機は球として鋼球を用いるパチンコ機である。
[1. Single island (amusement island) and overall configuration of gaming machine]
FIG. 1 is a front view showing an example of a gaming island (single island) A composed of, for example, two gaming machines B (gaming machines B1, B2). In recent years, a small scale equipped with one or a few gaming machines due to the load of the ball polishing device, the complexity of the ball supply control in the ball polishing device, or the maintenance problems such as the labor and cost of changing the polishing cloth A gaming device has been developed that constitutes a simple island (game island) and can successfully reuse a limited number of balls within the constructed range. Here, the gaming machine is a pachinko machine that uses steel balls as balls.
単体島は、1台、2台または3台等のような複数台の遊技機に対して1台の球研磨装置が設置されている。なお、図1では、2台の遊技機B1,B2から単体島Aが構成される場合に球研磨装置200を有する遊技用装置Cが設けられている場合を示している。
In a single island, one ball polishing device is installed for a plurality of gaming machines such as one, two or three. FIG. 1 shows a case where a gaming device C having a ball polishing device 200 is provided when a single island A is configured by two gaming machines B1 and B2.
単体島Aを構成する2台の遊技機B1,B2は、それぞれが一側において本体2に開閉可能に軸支されたガラス扉3を有すると共に、そのガラス扉3の下方に前面板4を有している。また、ガラス扉3の背面側には遊技盤5が設けられている。遊技盤5には、外れ球回収口h1および入賞口h2が設けられていて、球を回収可能としている。また、前面板4には、周知の球発射装置(図示省略)への球発射指令入力と球発射速度調節を行なう操作部6が設けられている。
Each of the two gaming machines B1 and B2 constituting the single island A has a glass door 3 that is pivotally supported by the main body 2 on one side, and has a front plate 4 below the glass door 3. doing. A game board 5 is provided on the back side of the glass door 3. The game board 5 is provided with a dislodged ball collection opening h1 and a winning opening h2, so that the balls can be collected. Further, the front plate 4 is provided with an operation unit 6 for inputting a ball launch command to a known ball launcher (not shown) and adjusting the ball launch speed.
各遊技機B1,B2には、片側に球貸し機7が設けられている。球貸し機7は、周知のものであり、表示ランプ7a、紙幣投入口7b、硬貨投入口7c、硬貨返却口7dおよびカード挿入口7eを有している。球貸し機7は、所定額の紙幣または硬貨が投入され、もしくは所定額以上の残高があるカードが挿入されると、球補給指令信号を出力する。この球補給指令信号は、球補給管8に設けられた球計数器(不図示)に与えられる。これにより、球計数器は、上部タンク300からの球Tを計数して、所定数の球Tを球補給管8を経て球貸し機7に補給する。球貸し機7には、隣接する遊技機B1,B2に球Tを供給する球貸与管15が設けられている。
Each gaming machine B1, B2 is provided with a ball lending machine 7 on one side. The ball lending machine 7 is a well-known device, and includes a display lamp 7a, a bill insertion slot 7b, a coin insertion slot 7c, a coin return slot 7d, and a card insertion slot 7e. The ball lending machine 7 outputs a ball replenishment command signal when a predetermined amount of banknotes or coins is inserted, or when a card having a balance of a predetermined amount or more is inserted. The ball supply command signal is given to a ball counter (not shown) provided in the ball supply tube 8. Thus, the ball counter counts the balls T from the upper tank 300 and replenishes the ball lending machine 7 with a predetermined number of balls T through the ball supply pipe 8. The ball lending machine 7 is provided with a ball lending pipe 15 for supplying the ball T to the adjacent gaming machines B1 and B2.
図1において、本体2のうち前面板4の手前側には上皿16が設けられていて、その上皿16の下側には下皿17が設けられている。上皿16と下皿17は、その中に収容されている球Tを外側から透視可能となっている。さらに下皿17の下側にはロート18が設けられていて、そのロート18に球回収路30が接続されている。また、本体2のうちガラス扉3の上方側に対応する位置には受け皿19が設けられている。受け皿19には、球補給管9を介して球Tが供給される。
In FIG. 1, an upper plate 16 is provided on the front side of the front plate 4 in the main body 2, and a lower plate 17 is provided on the lower side of the upper plate 16. The upper plate 16 and the lower plate 17 can see through the sphere T accommodated therein from the outside. Further, a funnel 18 is provided below the lower plate 17, and a ball collection path 30 is connected to the funnel 18. Further, a tray 19 is provided at a position corresponding to the upper side of the glass door 3 in the main body 2. A ball T is supplied to the tray 19 through the ball supply tube 9.
また、本体2のうち遊技盤5の下方側には表示部20が設けられている。表示部20は、遊技盤5に設けられた残存球数と賞球獲得数を表示する部分である。なお、表示部20を設ける位置は、遊技盤5に限らず、遊技客の見やすい任意の位置としても良い。
In addition, a display unit 20 is provided below the game board 5 in the main body 2. The display unit 20 is a part that displays the number of remaining balls and the number of winning balls provided on the game board 5. The position where the display unit 20 is provided is not limited to the game board 5 and may be an arbitrary position that is easy for the player to see.
図1の単体島Aにおいては、各遊技機B1,B2からの落下球の回収機能、球研磨機能および遊技機への球供給機能がこの2台の遊技機B1,B2において完結している。すなわち、各遊技機B1,B2の遊技盤5における外れ球回収口h1および入賞口h2に入った球Tは、各遊技機B1,B2の最下段のロート18に流れ込み、そのロート18から球回収路30を経て、遊技用装置Cを構成する下部タンク100に一旦貯められる。その後に、球研磨装置200の後述する入口227に球Tが流入し、後述のように球研磨装置200内で搬送されつつ研磨される。その後に、球Tは球研磨装置200の後述する出口2315から上部タンク300に排出される。このようにして、球Tが研磨(清掃)されて上部タンク300まで揚送されるようになっている。
In the single island A in FIG. 1, the function of collecting the falling balls from the gaming machines B1 and B2, the function of polishing the balls, and the function of supplying the balls to the gaming machines are completed in the two gaming machines B1 and B2. That is, the balls T that have entered the dislodged ball collection port h1 and the winning port h2 in the game board 5 of each gaming machine B1, B2 flow into the lowest funnel 18 of each gaming machine B1, B2, and collect the ball from the funnel 18 It is temporarily stored in the lower tank 100 constituting the gaming apparatus C via the path 30. Thereafter, the sphere T flows into an inlet 227 (described later) of the sphere polishing apparatus 200 and is polished while being conveyed in the sphere polishing apparatus 200 as described later. Thereafter, the sphere T is discharged to the upper tank 300 from an outlet 2315 described later of the sphere polishing apparatus 200. In this way, the sphere T is polished (cleaned) and is transported to the upper tank 300.
上述のように、上部タンク300に収容された球Tは、球補給管8を経て球貸し機7に、および球補給管9を介して各遊技機B1,B2の各受け皿19に、それぞれ制御された数量を供給されるようになっている。
As described above, the ball T accommodated in the upper tank 300 is controlled to the ball lending machine 7 through the ball supply pipe 8 and to the trays 19 of the gaming machines B1 and B2 through the ball supply pipe 9, respectively. The supplied quantity is to be supplied.
ここで、後述する遊技用装置Cが取り付けられる遊技島(単体島)Aおよび遊技機Bの構成は、図1に示すものには限られない。図2は、遊技島(単体島)Aの別の構成例を示す正面図である。図2に示すように、上皿16に排出された球は誘導路10を経て球発射位置まで転動する。そして、遊技者がノブ等の操作部6を操作すると、既知の発射手段(図示省略)により発射され、発射路11を経てレール12と遊技盤5の盤面5aと正面のガラス扉3の間に形成されている遊技領域13に飛翔する。
Here, the configurations of a gaming island (single island) A and a gaming machine B to which a gaming device C described later is attached are not limited to those shown in FIG. FIG. 2 is a front view showing another configuration example of the game island (single island) A. FIG. As shown in FIG. 2, the ball discharged to the upper plate 16 rolls to the ball launch position via the guide path 10. When the player operates the operation section 6 such as a knob, the player is fired by a known launching means (not shown), and passes through the launch path 11 between the rail 12, the board surface 5 a of the game board 5, and the front glass door 3. Fly to the formed game area 13.
遊技領域13に発射されても入賞口h2に入らなかった外れ球は、外れ球回収口h1から下皿17に落下して収容される。また、発射された球が入賞口h2に入った場合は、上部タンク300から球が第2補給管14を経て上皿16に供給される。この供給においては、図示されていない計数器により球が計数され、定められた所定数が賞球として供給される。
The off-balls that have been launched into the game area 13 but did not enter the winning hole h2 are dropped and accommodated from the off-ball collecting port h1 onto the lower plate 17. When the fired ball enters the winning opening h <b> 2, the ball is supplied from the upper tank 300 to the upper plate 16 through the second supply pipe 14. In this supply, balls are counted by a counter (not shown), and a predetermined number is supplied as prize balls.
上皿16が満杯になったときは、遊技者が上皿16の底部シャッター16aを開けることにより、上皿16内の球が図示されていない計数器により計数されながら下皿17に落下する。下皿17内の球は、その底部から下部タンク100に回収され、その下部タンク100の底部の出口101dから流出する球は、球研磨装置200の導入部210を経て搬送部220の下端部に導入され、搬送部220により搬送されながら搬送部220の上端部付近に設けた研磨部230により研磨された後、搬送部220の上端部から排出されて上部タンク300に収容されるようになっている。
When the upper plate 16 is full, the player opens the bottom shutter 16a of the upper plate 16, and the ball in the upper plate 16 falls to the lower plate 17 while being counted by a counter (not shown). The spheres in the lower plate 17 are collected from the bottom to the lower tank 100, and the spheres flowing out from the outlet 101 d at the bottom of the lower tank 100 pass through the introduction part 210 of the sphere polishing apparatus 200 to the lower end of the transport part 220. Introduced and polished by the polishing unit 230 provided near the upper end of the transport unit 220 while being transported by the transport unit 220, it is discharged from the upper end of the transport unit 220 and accommodated in the upper tank 300. Yes.
そして、上部タンク300に収容された球は、既述したように、一部は球補給管8を経て球貸し機7に補給され、他の一部は入賞した場合に球補給管14を経て上皿16に供給されるようになっている。
As described above, a part of the balls stored in the upper tank 300 is supplied to the ball lending machine 7 through the ball supply pipe 8, and the other part is supplied through the ball supply pipe 14 when winning. It is supplied to the upper plate 16.
なお、以下に説明する各部位の構成は、基本的には、図2の遊技島Aをベースとしているものの、以下の各部位の構成は、上述した図1の遊技島Aに適用するようにしても良い。
Although the configuration of each part described below is basically based on the game island A in FIG. 2, the configuration of each part below is applied to the game island A in FIG. 1 described above. May be.
[2.遊技用装置の概略的構成]
続いて、遊技用装置Cの概略的構成について説明する。図3は、遊技用装置Cの構成を概略的に示す図である。遊技用装置Cは、図3に概略的に示すように、遊技機Bで使用された球Tを回収して貯める下部タンク100と、その下部タンク100から流出する球Tを搬送し、かつ、研磨する球研磨装置200と、搬送され研磨された球Tを貯め、遊技機Bに供給する上部タンク300とを有している。このような構成により、遊技用装置Cは、遊技機B内で使用される球Tを循環させている。球研磨装置200は、下部タンク100から流出する球Tを搬送する搬送部220と、搬送途中の球Tを研磨する研磨部230とを有している。
[2. Schematic configuration of gaming device]
Next, a schematic configuration of the gaming apparatus C will be described. FIG. 3 is a diagram schematically showing the configuration of the gaming apparatus C. As shown in FIG. As shown schematically in FIG. 3, the gaming device C collects and stores the lower tank 100 that collects and stores the balls T used in the gaming machine B, and transports the balls T that flow out of the lower tank 100, and A ball polishing apparatus 200 for polishing, and an upper tank 300 for storing the transferred and polished balls T and supplying them to the gaming machine B are provided. With such a configuration, the gaming apparatus C circulates the balls T used in the gaming machine B. The sphere polishing apparatus 200 includes a transfer unit 220 that transfers the sphere T flowing out from the lower tank 100 and a polishing unit 230 that polishes the sphere T that is being transferred.
遊技用装置Cのうち球研磨装置200は、図1においては、遊技機B1,B2のいずれか一方の下部又は双方の境界の下部に取り付けられている。ただし、図1における研磨部230の取付位置は、遊技機B1,B2の下部に限らず、遊技機B1,B2の上部や内部でもよい。
In FIG. 1, the ball polishing apparatus 200 of the gaming apparatus C is attached to the lower part of either one of the gaming machines B1 and B2 or the lower part of the boundary between both. However, the attaching position of the polishing unit 230 in FIG. 1 is not limited to the lower part of the gaming machines B1 and B2, but may be the upper part or the inside of the gaming machines B1 and B2.
[3.遊技用装置の単体島における設置形態]
次に、遊技用装置Cを遊技島Aに備える形態について、図4に例示する。まず、図4(a)に示すように、1台の遊技機(図示せず)を有する単体島A1に一つの遊技用装置Cを備える構成とすることができる。また、図4(b)に示すように、2台の遊技機(図示せず)を背合わせに併設した単体島A2にそれぞれの遊技機に対応する一つの遊技用装置Cを備える構成とすることができる。また、図4(c)に示すように、2台の遊技機(図示せず)を横に併設した単体島A3の中にそれぞれの遊技機に対応する一つの遊技用装置Cを備える構成とすることもできる。また、図4(d)に示すように、2台の遊技機(図示せず)を横に併設した単体島A3の中に一つの遊技用装置Cを2台の遊技機で共用する構成とすることもできる。
[3. Installation form of game machines on a single island]
Next, FIG. 4 illustrates a mode in which the gaming apparatus C is provided on the gaming island A. First, as shown to Fig.4 (a), it can be set as the structure provided with the one game apparatus C in the single island A1 which has one game machine (not shown). Further, as shown in FIG. 4B, a single island A2 in which two gaming machines (not shown) are provided back to back is provided with one gaming device C corresponding to each gaming machine. be able to. In addition, as shown in FIG. 4 (c), a configuration in which one gaming device C corresponding to each gaming machine is provided in a single island A3 in which two gaming machines (not shown) are provided side by side. You can also In addition, as shown in FIG. 4D, one gaming device C is shared by two gaming machines in a single island A3 in which two gaming machines (not shown) are provided side by side. You can also
上述の図4に基づく説明では4形態を例示したが、図4(b)の2台の遊技機(図示せず)を背合わせに併設した単体島A2の中に一つの遊技用装置Cを2台の遊技機で共用するように設ける場合や、遊技ホールの空きスペース次第では、たとえば4台の遊技機を並べて単体島を形成するなど、様々な形態が考えられる。以下、図4(a)の単体島A1を例にとって、図2や図5以下の図面を用いて説明する。
In the description based on FIG. 4 described above, four forms are exemplified, but one gaming device C is provided in the single island A2 in which the two gaming machines (not shown) in FIG. Depending on whether the game machine is shared by two game machines, or depending on the vacant space in the game hall, for example, four game machines are arranged side by side to form a single island. Hereinafter, the single island A1 in FIG. 4A will be described as an example with reference to FIGS. 2 and 5 and subsequent drawings.
図2に示すように、単体島Aは、本体2を有し、その単体島Aの中に既知の遊技機Bが設置され、遊技機Bでの使用後に回収された球を再び遊技機Bに供給するための本実施の形態に係る遊技用装置Cが備えられている。
As shown in FIG. 2, the single island A has a main body 2, a known gaming machine B is installed in the single island A, and the balls collected after use in the gaming machine B are again used as the gaming machine B. Is provided with a gaming apparatus C according to the present embodiment.
[4.遊技用装置の詳細構成]
[4.1.下部タンク]
図5は、図2の単体島Aの斜視図であり、図2の遊技機Bが取り除かれた状態を示す図である。また、図6は、遊技用装置Cの下部タンク100の使用状態における縦断面図である。図7は、図6の下部タンク100の分解斜視図である。図2および図5に示す下部タンク100は、図6および図7に示すように、概括的には、タンク本体101と水平誘導板102と第1傾斜板103と第2傾斜板104とを有している。
[4. Detailed configuration of gaming device]
[4.1. Lower tank]
FIG. 5 is a perspective view of the single island A of FIG. 2 and shows a state where the gaming machine B of FIG. 2 is removed. FIG. 6 is a longitudinal sectional view of the lower tank 100 of the gaming apparatus C in use. FIG. 7 is an exploded perspective view of the lower tank 100 of FIG. As shown in FIGS. 6 and 7, the lower tank 100 shown in FIGS. 2 and 5 generally includes a tank body 101, a horizontal guide plate 102, a first inclined plate 103, and a second inclined plate 104. doing.
タンク本体101は、横断面形状が長方形の空所101aを有する上方に開口する箱状に形成されている。タンク本体101は、底壁101bと、周壁101c1〜101c4とを有している。底壁101bは、その一端側(X2側)から他側端(X1側)に向かい下るように傾斜して第4球転動面P4を形成している。周壁101c1〜101c4は、底壁101bの周辺から立ち上がっているが、周壁101c1,101c2は、底壁101bよりも他端側(X1側)に突出し、その突出端部側を繋ぐように周壁101c4が設けられている。それにより、タンク本体101のうち周壁101c4側の、底壁101bの下位側端部が接続される位置には、球を球研磨装置200方向に排出する出口101dが形成されている。
The tank body 101 is formed in a box shape having an open space 101a having a rectangular space 101a. The tank main body 101 has a bottom wall 101b and peripheral walls 101c1 to 101c4. The bottom wall 101b is inclined so as to descend from one end side (X2 side) toward the other side end (X1 side) to form a fourth ball rolling surface P4. Although the peripheral walls 101c1 to 101c4 rise from the periphery of the bottom wall 101b, the peripheral walls 101c1 and 101c2 protrude to the other end side (X1 side) from the bottom wall 101b, and the peripheral wall 101c4 connects the protruding end side. Is provided. Thus, an outlet 101d for discharging the sphere in the direction of the spherical polishing device 200 is formed at a position of the tank main body 101 on the peripheral wall 101c4 side where the lower end of the bottom wall 101b is connected.
下部タンク100の上側には、遊技島Aから外れ球もしくは入賞球として落下される球T、または賞球として落下される球Tを受け入れる下皿17が設けられているが、その下皿17の底部から球Tが水平誘導板102の上面に排出されるようになっている。
On the upper side of the lower tank 100, there is provided a lower tray 17 that receives a ball T falling off the game island A or a winning ball, or a ball T falling as a winning ball. The sphere T is discharged from the bottom to the upper surface of the horizontal guide plate 102.
水平誘導板102は、タンク本体101の空所101aとほぼ等しい長さ(X方向の寸法)を有し、球Tの直径の2倍よりも若干大きい幅分だけ空所101aよりも狭い幅(Y方向の寸法)を有している。そのため、水平誘導板102は、長方形に形成されている。そして、水平誘導板102の長手方向の一端側(X1側)にはその上面を転動する球Tを落下させる孔(または切欠)102aが形成されている。
The horizontal guide plate 102 has a length (dimension in the X direction) substantially equal to the space 101a of the tank body 101, and is narrower than the space 101a by a width slightly larger than twice the diameter of the sphere T ( (Dimension in the Y direction). Therefore, the horizontal guide plate 102 is formed in a rectangular shape. A hole (or notch) 102a is formed on one end side (X1 side) in the longitudinal direction of the horizontal guide plate 102 for dropping the ball T rolling on its upper surface.
そして、水平誘導板102をタンク本体101の中の幅方向(Y方向)の中央に収容して所定の高さに固定したときは、水平誘導板102の上面が第1球転動面P1を形成する。また、水平誘導板102とタンク本体101の対向する周壁101c1,101c2との間には、第1球転動面P1を転動する球Tが水平誘導板102の幅方向(Y方向)の両側から落下することができる空隙が形成される。
When the horizontal guide plate 102 is accommodated in the center of the tank body 101 in the width direction (Y direction) and fixed at a predetermined height, the upper surface of the horizontal guide plate 102 defines the first ball rolling surface P1. Form. Further, between the horizontal guide plate 102 and the peripheral walls 101c1 and 101c2 facing the tank body 101, the sphere T rolling on the first ball rolling surface P1 is on both sides in the width direction (Y direction) of the horizontal guide plate 102. A gap is formed that can fall from the bottom.
第1傾斜板103は、水平誘導板102の下側に水平誘導板102から球Tの直径以上の間隔を開けてタンク本体101に固定されている。第1傾斜板103は、長手方向の他端側(X2側)が一端側(X1側)よりも低くなるように傾斜していて、その第1傾斜板103と上側の水平誘導板102との間に第2球転動面P2を形成している。また、第1傾斜板103は、傾斜上位側(X1側)および下位側(X2側)に球Tを落下させる孔103a,103bを有する。また、図7に示すように、第1傾斜板103の幅方向(Y方向)の両端には、球Tの直径よりもわずかに大きい高さをもって下方側(Z2側)に延伸する離間部材103cが設けられている。この離間部材103cは、図7に示すような長手方向(X方向)に連続するものに代えて、間欠的に形成されたものでもよい。
The first inclined plate 103 is fixed to the tank main body 101 at a distance equal to or larger than the diameter of the sphere T from the horizontal guide plate 102 below the horizontal guide plate 102. The first inclined plate 103 is inclined so that the other end side (X2 side) in the longitudinal direction is lower than the one end side (X1 side), and the first inclined plate 103 and the horizontal guide plate 102 on the upper side are arranged. A second ball rolling surface P2 is formed between them. The first inclined plate 103 has holes 103a and 103b for dropping the sphere T on the upper inclined side (X1 side) and the lower side (X2 side). Further, as shown in FIG. 7, at both ends in the width direction (Y direction) of the first inclined plate 103, a separation member 103c extending downward (Z2 side) with a height slightly larger than the diameter of the sphere T. Is provided. The spacing member 103c may be formed intermittently instead of being continuous in the longitudinal direction (X direction) as shown in FIG.
第2傾斜板104は、第1傾斜板103の下側に第1傾斜板103から球Tの直径以上の間隔を開けてタンク本体101に固定されている。第2傾斜板104は、その幅(Y方向の寸法)が第1傾斜板103の幅と等しいが、その長さ(X方向の寸法)が第1傾斜板103の長さよりも短く形成されている。そして、第2傾斜板104の他端側(X2側)の幅方向(Y方向)の両端には、横長台形状の離間部材104aが設けられている。離間部材104aは、傾斜下位側の他端側(X2側)における高さよりも、傾斜上位側の一端側(X1側)における高さが大きくなるような台形状に設定されている。また、第2傾斜板104の一端側(X1側)の端部には、上方側(Z1側)に向かい起立する離間部材104bが設けられている。
The second inclined plate 104 is fixed to the tank main body 101 with a space larger than the diameter of the sphere T from the first inclined plate 103 below the first inclined plate 103. The second inclined plate 104 is formed so that its width (dimension in the Y direction) is equal to the width of the first inclined plate 103, but its length (dimension in the X direction) is shorter than the length of the first inclined plate 103. Yes. A horizontally elongated trapezoidal separation member 104a is provided at both ends of the second inclined plate 104 in the width direction (Y direction) on the other end side (X2 side). The spacing member 104a is set in a trapezoidal shape such that the height on one end side (X1 side) on the upper tilt side is larger than the height on the other end side (X2 side) on the lower tilt side. In addition, a separation member 104b is provided at the end of one end side (X1 side) of the second inclined plate 104 so as to stand up toward the upper side (Z1 side).
上記水平誘導板102、第1、第2傾斜板103、104は、次のようにしてタンク本体101内に装着され、固定される。まず、第2傾斜板104をタンク本体101の空所101a内に挿入し、その第2傾斜板104を出口101d側の周壁101c4に寄せる配置としつつ、離間部材104aを底壁101bの上面に載置する状態とする。このとき、適宜、第2傾斜板104に設けられている嵌合部位(たとえば舌片等)をタンク本体101の対応部位(たとえばスリット等)に取り付ける。
The horizontal guide plate 102 and the first and second inclined plates 103 and 104 are mounted and fixed in the tank body 101 as follows. First, the second inclined plate 104 is inserted into the space 101a of the tank body 101, and the second inclined plate 104 is arranged so as to approach the peripheral wall 101c4 on the outlet 101d side, while the spacing member 104a is mounted on the upper surface of the bottom wall 101b. The state to be placed. At this time, a fitting portion (for example, a tongue piece) provided on the second inclined plate 104 is appropriately attached to a corresponding portion (for example, a slit) of the tank body 101.
続いて、第1傾斜板103を空所101a内に挿入し、第1傾斜板103の離間部材103cを第2傾斜板104の上面に載置すると共に、その一端側(X1側)は離間部材104bに載置される。このとき、上記の第2傾斜板104と同様に、適宜、第1傾斜板103に設けられている嵌合部位をタンク本体101の対応部位に取り付ける。それにより、第2傾斜板104の上面には、第1傾斜板103との間で球Tが転動する第3球転動面P3が形成される。また、第2傾斜板104の上面側の第2球転動面P2と第2傾斜板104の上面側の第3球転動面P3とが平行状態に保たれ、両者の間に球Tの直径よりもわずかに大きな高さを有する空隙が形成される。
Subsequently, the first inclined plate 103 is inserted into the space 101a, the separating member 103c of the first inclined plate 103 is placed on the upper surface of the second inclined plate 104, and one end side (X1 side) is the separating member. 104b. At this time, similarly to the second inclined plate 104 described above, a fitting portion provided in the first inclined plate 103 is appropriately attached to a corresponding portion of the tank main body 101. Thereby, on the upper surface of the second inclined plate 104, a third ball rolling surface P3 on which the ball T rolls with the first inclined plate 103 is formed. In addition, the second ball rolling surface P2 on the upper surface side of the second inclined plate 104 and the third ball rolling surface P3 on the upper surface side of the second inclined plate 104 are kept in parallel, and the sphere T is between them. A void having a height slightly larger than the diameter is formed.
次に、水平誘導板102を空所101aの上面近傍に配置するが、このとき水平誘導板102は、空所101aの幅方向(Y方向)中央に位置する状態とする。またこのとき、周壁101c3,101c4の内面に突設されている載置片(不図示)に水平誘導板102を載置し、その後に固定する。
Next, the horizontal guide plate 102 is disposed in the vicinity of the upper surface of the space 101a. At this time, the horizontal guide plate 102 is positioned in the center in the width direction (Y direction) of the space 101a. At this time, the horizontal guide plate 102 is mounted on a mounting piece (not shown) protruding from the inner surfaces of the peripheral walls 101c3 and 101c4, and then fixed.
このような下部タンク100の構成により、図6に矢印で示すように、下皿17の底部から排出される球Tは、水平誘導板102の第1球転動面P1を転動して、水平誘導板102の幅方向(Y方向)の両側の孔から第2球転動面P2に落下する。その第2球転動面P2を転動する球Tは、第1傾斜板103の上位側(X1側)の孔103aから第3球転動面P3に落下し、または第1傾斜板103の下位側(X2側)の孔103bから第4球転動面P4に落下する。また、第1傾斜板103の孔103aからの落下後に第3球転動面P3を転動する球Tは、第2傾斜板104の下位側(X2側)の端部から第4球転動面P4に落下し、その第4球転動面P4を転動する球Tはタンク本体101の出口101dから排出される。
With such a configuration of the lower tank 100, as indicated by an arrow in FIG. 6, the ball T discharged from the bottom of the lower plate 17 rolls on the first ball rolling surface P1 of the horizontal guide plate 102, The horizontal guide plate 102 falls from the holes on both sides in the width direction (Y direction) to the second ball rolling surface P2. The sphere T rolling on the second ball rolling surface P2 falls from the hole 103a on the upper side (X1 side) of the first inclined plate 103 to the third ball rolling surface P3, or on the first inclined plate 103. It falls from the hole 103b on the lower side (X2 side) to the fourth ball rolling surface P4. In addition, the sphere T rolling on the third ball rolling surface P3 after falling from the hole 103a of the first inclined plate 103 is rolled into the fourth ball from the lower end (X2 side) of the second inclined plate 104. The ball T that falls on the surface P4 and rolls on the fourth ball rolling surface P4 is discharged from the outlet 101d of the tank body 101.
なお、図6に示すように、下皿17の底部の排出筒17aには、排出される球Tを水平誘導板102の一端側(X1側;第1傾斜板103の傾斜上位方向)に誘導する誘導ガイド17bが設けられている。
As shown in FIG. 6, in the discharge cylinder 17 a at the bottom of the lower plate 17, the discharged sphere T is guided to one end side of the horizontal guide plate 102 (X1 side: the upper inclined direction of the first inclined plate 103). A guiding guide 17b is provided.
下部タンク100に球Tが貯留される状況を観察すると、下部タンク100に球Tが溜まり始める時は、第1球転動面P1の幅方向(Y方向)の両側の空隙及び一端の孔102aから球Tが第2球転動面P2に落下する。そして、球Tが第2球転動面P2を転動して、下位側(X2側)の孔103bから第4球転動面P4に落下し、その後に、第4球転動面P4の下位側(X1側)の端部から球Tが溜まり始める。したがって、下皿17から下部タンク100に入る球は比較的短いコースを通って第4球転動面P4に溜まるので、迅速かつ最小限の騒音で収容される。
Observing the situation in which the sphere T is stored in the lower tank 100, when the sphere T starts to accumulate in the lower tank 100, the gap on both sides in the width direction (Y direction) of the first ball rolling surface P1 and the hole 102a at one end. The ball T falls from the second ball rolling surface P2. Then, the ball T rolls on the second ball rolling surface P2, falls from the lower (X2 side) hole 103b to the fourth ball rolling surface P4, and then the fourth ball rolling surface P4. The sphere T starts to accumulate from the lower end (X1 side) end. Accordingly, since the balls entering the lower tank 100 from the lower plate 17 pass through a relatively short course and accumulate on the fourth ball rolling surface P4, they are accommodated quickly and with minimal noise.
また、第4球転動面P4が球Tで満杯になった後は、下皿17から下部タンク100に入る後続の球Tは第2球転動面P2に溜まるが、その第2球転動面P2が満杯になったとき、または下皿17から下部タンク100に入る球Tの数が多い場合は、第1傾斜板103の上位側の孔103aから第3球転動面P3に球Tが落下する。そのため、いずれの球転動面P4,P3にもデッドスペースを生じることなく、効率よく球Tを収容することができる。したがって、球収容能力が実質的に増大される効果が奏される。
In addition, after the fourth ball rolling surface P4 is filled with the ball T, the subsequent ball T entering the lower tank 100 from the lower plate 17 accumulates on the second ball rolling surface P2, but the second ball rolling surface When the moving surface P2 is full, or when the number of the balls T entering the lower tank 100 from the lower plate 17 is large, the balls from the upper hole 103a of the first inclined plate 103 to the third ball rolling surface P3. T falls. Therefore, the sphere T can be efficiently accommodated without causing any dead space on any of the ball rolling surfaces P4 and P3. Therefore, the effect that the ball accommodation capacity is substantially increased is exhibited.
また、図6および図7に示すように、下部タンク100の第2傾斜板104と第1傾斜板103と水平誘導板102とは、この順序でタンク本体101の空所101a内に上から緊密に嵌合するのみで(ねじなどの固着具を用いずに)固定される形状寸法に形成することができる。この場合には、下部タンク100の、組み立ておよび分解を工具なし(工具レス)で行うことができる。よって、下部タンク100が空気中の塵埃、球Tの汚れの転着等で汚れた場合、その清掃などのために下部タンク100を分解したり、清掃後、再び下部タンク100を組立てたりすることを迅速・容易に行なうことができる。
Further, as shown in FIGS. 6 and 7, the second inclined plate 104, the first inclined plate 103, and the horizontal guide plate 102 of the lower tank 100 are in close contact with each other in the void 101a of the tank body 101 in this order from above. It can be formed into a shape and size that can be fixed (without using a fixing tool such as a screw) simply by being fitted to. In this case, the lower tank 100 can be assembled and disassembled without tools (toolless). Therefore, when the lower tank 100 becomes dirty due to dust in the air, transfer of dirt on the ball T, etc., the lower tank 100 is disassembled for cleaning or the lower tank 100 is assembled again after cleaning. Can be performed quickly and easily.
また、下部タンク100の出口101dは、後述される球研磨装置200の導入部210に連結されている(図2参照)。
Further, the outlet 101d of the lower tank 100 is connected to an introduction part 210 of a ball polishing apparatus 200 described later (see FIG. 2).
[4.2 球研磨装置]
図2に示すように、球研磨装置200は、下部タンク100の出口101dから排出される球Tを球研磨装置200の下端部に導入するための導入部210と、導入された球を搬送するための搬送部220と、搬送部220により搬送される球を研磨するための研磨部230とを有している。以下、各部について順次説明する。
[4.2 Ball polishing equipment]
As shown in FIG. 2, the ball polishing apparatus 200 conveys the introduced sphere, and an introduction part 210 for introducing the sphere T discharged from the outlet 101 d of the lower tank 100 to the lower end of the sphere polishing apparatus 200. A transport unit 220 for polishing, and a polishing unit 230 for polishing a sphere transported by the transport unit 220. Hereinafter, each part will be described sequentially.
<(1)導入部>
図8は、図2の搬送部220の下部および導入部210Aを示す縦断面図である。また、図9は、改善された導入部210Bの一例を示す断面図である。導入部210Aは球導入路211を有し、その球導入路211Aの他端側(X2側)が下部タンク100の出口101dに連結されている球導入路211Aの一端側(X1側)を、図8および図9に示すように、搬送部220の搬送ガイド225の下端部に開けられた入口227に結合して構成されている。
<(1) Introduction part>
FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing the lower part of the transport unit 220 and the introduction unit 210A of FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of the improved introduction part 210B. The introduction portion 210A has a sphere introduction path 211, and the other end side (X2 side) of the sphere introduction path 211A is connected to one end side (X1 side) of the sphere introduction path 211A connected to the outlet 101d of the lower tank 100. As shown in FIGS. 8 and 9, it is configured to be coupled to an inlet 227 opened at the lower end portion of the transport guide 225 of the transport unit 220.
ところで、球導入路211Aの一端側(X1側)を、図8に示すように小さな傾斜角度で下り傾斜させて入口227に結合した場合は、その傾斜角度と球Tの重量によっては、球Tに加わるスクリューコンベア221の中心軸222方向の圧力が足りなくなる虞がある。そのため、回転するスクリューコンベア221の後述する帯板223に、球Tが接触したとき、球Tがスクリューコンベア221から離反する方向に転がり(球導入路211に戻され)、球Tがスクリューコンベア221の中心軸222に接触する位置(すなわち搬送待機位置WP)に到達することができないので、搬送されにくい場合がある。
By the way, when one end side (X1 side) of the sphere introduction path 211A is inclined downward with a small inclination angle and coupled to the inlet 227 as shown in FIG. 8, depending on the inclination angle and the weight of the sphere T, the sphere T There is a possibility that the pressure in the direction of the central axis 222 of the screw conveyor 221 is insufficient. Therefore, when the ball T comes into contact with a band plate 223 (described later) of the rotating screw conveyor 221, the ball T rolls away from the screw conveyor 221 (returns to the ball introduction path 211), and the ball T moves to the screw conveyor 221. Since it cannot reach the position in contact with the central axis 222 (that is, the transport standby position WP), it may be difficult to transport.
図9は、この問題を解決するため改善された導入部210Bを示す。この導入部210Bの球導入路211Bは、傾斜部211B1と垂直落下部211B2とを有する。傾斜部211B1は、その上端部が下部タンク100の出口101dに連結されている。垂直落下部211B2は、その上端部が傾斜部211B1の下端部に接続され、垂直落下部211B2の下端部は搬送部220の搬送路226の入口227に接続されている。好ましい実施の形態においては、垂直落下部211B2の下端部は、スクリューコンベア221の帯板223の傾斜角度と等しい傾斜角度をもって入口227に接続されている。
FIG. 9 shows an improved introduction part 210B to solve this problem. The ball introduction path 211B of the introduction part 210B has an inclined part 211B1 and a vertical drop part 211B2. The upper end of the inclined portion 211B1 is connected to the outlet 101d of the lower tank 100. The vertical drop part 211B2 has an upper end connected to the lower end of the inclined part 211B1 and a lower end of the vertical drop part 211B2 connected to the inlet 227 of the transfer path 226 of the transfer unit 220. In a preferred embodiment, the lower end portion of the vertical drop part 211B2 is connected to the inlet 227 with an inclination angle equal to the inclination angle of the strip 223 of the screw conveyor 221.
このような構成により、球導入路211Bの傾斜部211B1から垂直落下部211B2に落下した球Tは、球Tの進行方向側の球ほど大きい圧力を受ける。そのため、進行方向の球Tが、回転しているスクリューコンベア221の帯板223に接触しても、その球Tがスクリューコンベア221から後退せずに、搬送待機位置WPに到達する。したがって、球Tが円滑かつ確実に搬送(揚送)される。
With such a configuration, the sphere T falling from the inclined portion 211B1 of the sphere introduction path 211B to the vertical dropping portion 211B2 receives a larger pressure as the sphere T moves toward the traveling direction side. For this reason, even when the ball T in the traveling direction comes into contact with the belt plate 223 of the rotating screw conveyor 221, the ball T does not move backward from the screw conveyor 221, but reaches the transport standby position WP. Accordingly, the ball T is smoothly and reliably conveyed (lifted).
なお、垂直落下部211B2は、文字通り垂直でなくても良い。すなわち、垂直落下部211B2は、その中に導入される球Tのうち進行方向側の球Tがスクリューコンベア221の空間224内に進入するだけの圧力を受ける程度の傾斜を有するものでもよい。
Note that the vertical drop part 211B2 does not have to be literally vertical. In other words, the vertical drop portion 211B2 may have a slope enough to receive a pressure sufficient for the ball T on the traveling direction side of the balls T introduced therein to enter the space 224 of the screw conveyor 221.
図10は、図9に示す導入部210Bにおいて、球Tを導入する球導入路211Bが1列設けられている構成を示す横断面図である。図11は、図9に示す導入部210Bにおいて、球Tを導入する球導入路211Bが2列設けられている構成を示す横断面図である。図10に示すように、スクリューコンベア221に球Tを導入する球導入路211Bが1列のみ設けられる構成としても良いが、図11に示すように、球導入路211Bが2列設けられる構成としても良い。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a configuration in which one row of ball introduction paths 211B for introducing the balls T is provided in the introduction part 210B shown in FIG. FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a configuration in which two rows of ball introduction paths 211B for introducing the balls T are provided in the introduction unit 210B illustrated in FIG. As shown in FIG. 10, the ball conveyor path 221 may be provided with only one row of ball introduction paths 211B for introducing the balls T. However, as shown in FIG. 11, as shown in FIG. Also good.
なお、図11に示す構成では、搬送部220の搬送ガイド225には、縦を上下方向(Z方向)とすると縦2列の搬送路226が設けられている。また、かかる縦2列の搬送路226に対応して、2つの入口227が設けられており、それぞれの入口227に導入部210Bの垂直落下部211B2の先端側を接続して、球Tを2列導入するように構成されている。このような2つの導入部210Bおよび2列の搬送路226を有する球研磨装置200を用いる場合、下部タンク100から上部タンク300への球の単位時間当たりの球供給量を、1つの導入部210Bおよび1列の搬送路226を有する球研磨装置200の2倍にすることができる。しかしながら、球導入路211Bが3列以上設けられる構成としても良く、その場合には、搬送路226および入口227の数は、3つ以上としても良い。
In the configuration shown in FIG. 11, the conveyance guide 225 of the conveyance unit 220 is provided with two columns of conveyance paths 226 when the vertical direction is the vertical direction (Z direction). Further, two inlets 227 are provided corresponding to the two vertical rows of the conveyance paths 226, and the tip side of the vertical drop part 211B2 of the introduction part 210B is connected to each of the inlets 227, so that the sphere T can be divided into two. Configured to introduce columns. When such a ball polishing apparatus 200 having two introduction sections 210B and two rows of conveyance paths 226 is used, the amount of balls supplied from the lower tank 100 to the upper tank 300 per unit time is set as one introduction section 210B. And twice that of the ball polishing apparatus 200 having one row of the conveyance paths 226. However, the ball introduction paths 211B may be provided in three or more rows. In that case, the number of the conveyance paths 226 and the inlets 227 may be three or more.
<(2)搬送部>
次に、搬送部220について説明する。搬送部220は、図2および図9に示すように、スクリューコンベア221を有している。このスクリューコンベア221は、中心軸222と帯板223を備えているが、中心軸222の外周に螺旋状の帯板223の内周側端部が接合された構成となっている。また、搬送部220は、搬送ガイド225を有している。その搬送ガイド225は、スクリューコンベア221の外側を上下方向(Z方向)の全長に亘って包囲している。そして、搬送ガイド225とスクリューコンベア221との間には、上下方向(Z方向)に延伸する搬送路226が形成されている。
<(2) Conveying unit>
Next, the conveyance unit 220 will be described. The conveyance part 220 has the screw conveyor 221 as shown in FIG. 2 and FIG. The screw conveyor 221 includes a central shaft 222 and a strip 223, and is configured such that the inner peripheral side end of the spiral strip 223 is joined to the outer periphery of the central shaft 222. Further, the transport unit 220 includes a transport guide 225. The conveyance guide 225 surrounds the outside of the screw conveyor 221 over the entire length in the vertical direction (Z direction). And between the conveyance guide 225 and the screw conveyor 221, the conveyance path 226 extended | stretched to an up-down direction (Z direction) is formed.
その他、搬送部220は、好ましくは回転速度の変更が可能なステッピングモータやDCモータのような、スクリューコンベア221を回転させる動力源としてのモータ228を有すると共に、スクリューコンベア221を垂直状態で回転自在に支持する上下の軸受部229,2210(図2参照)を有している。なお、以下の説明では、モータ228を球搬送モータ228として説明する。また、DCモータを球搬送モータ228として用いる場合、エンコーダのような回転速度の検出を可能とする手段を共に用いることが好ましい。
In addition, the conveyance unit 220 preferably has a motor 228 as a power source for rotating the screw conveyor 221 such as a stepping motor or a DC motor capable of changing the rotation speed, and the screw conveyor 221 can be rotated in a vertical state. And upper and lower bearing portions 229 and 2210 (see FIG. 2). In the following description, the motor 228 is described as a ball transport motor 228. Further, when a DC motor is used as the ball transport motor 228, it is preferable to use together a means that enables detection of the rotational speed, such as an encoder.
上述した搬送ガイド225の内径は、スクリューコンベア221の外径よりもわずかに大きいが、搬送ガイド225の円周方向の一部(図10や図11においては入口227側の部位)は、その搬送ガイド225の全長に亘って拡大されている。なお、搬送ガイド225の拡大された部分の円弧形状がなす直径は、その拡大された部分以外の搬送ガイド225の円弧形状よりも小径に設けられている。そして、搬送ガイド225の拡大された部分の内面からスクリューコンベア221の中心軸222の外周面までの最短距離は、球Tの直径よりもやや大きく設定されており、そのような拡大部分とスクリューコンベア221の間の部分は、搬送ガイド225の長手方向(Z方向)に連続する搬送路226となっている。
The inner diameter of the conveyance guide 225 described above is slightly larger than the outer diameter of the screw conveyor 221, but a part of the conveyance guide 225 in the circumferential direction (portion on the inlet 227 side in FIGS. 10 and 11) is conveyed. The entire length of the guide 225 is enlarged. The diameter formed by the arc shape of the enlarged portion of the conveyance guide 225 is smaller than the arc shape of the conveyance guide 225 other than the enlarged portion. The shortest distance from the inner surface of the enlarged portion of the conveyance guide 225 to the outer peripheral surface of the central axis 222 of the screw conveyor 221 is set to be slightly larger than the diameter of the sphere T. A portion between 221 is a conveyance path 226 that is continuous in the longitudinal direction (Z direction) of the conveyance guide 225.
したがって、スクリューコンベア221が球搬送モータ228により所定方向に回転されるときは、搬送路226に入り込んだ球Tは、スクリューコンベア221の帯板223の間の空間224に嵌り込むが、その空間224は同時に搬送路226でもある。そのため、帯板223の回転に伴い、球Tは搬送路226を上方に向かい搬送される。また、搬送部220の回転駆動手段である球搬送モータ228は、図2においては、スクリューコンベア221の上側(Z1側)に設けられているが、スクリューコンベア221の下側(Z2側)に設けられてもよい。
Therefore, when the screw conveyor 221 is rotated in a predetermined direction by the ball conveyor motor 228, the sphere T that has entered the conveyance path 226 fits into the space 224 between the strips 223 of the screw conveyor 221. Is also a transport path 226. Therefore, the ball T is transported upward along the transport path 226 as the belt plate 223 rotates. Further, in FIG. 2, the ball transport motor 228 that is a rotation driving unit of the transport unit 220 is provided on the upper side (Z1 side) of the screw conveyor 221, but is provided on the lower side (Z2 side) of the screw conveyor 221. May be.
<(3)スクリューコンベア>
次に、上記のスクリューコンベア221の構成の詳細について、以下に説明する。図12は、比較例としてのスクリューコンベア221´が球Tを搬送する際のイメージを示す図であり、(a)は研磨布243付近のスクリューコンベア221´の構成を示す部分的な側断面図であり、(b)は球Tが受ける力の様子を示す図である。図13は、本実施の形態のスクリューコンベア221が球Tを搬送する際のイメージを示す図であり、(a)は研磨布243付近のスクリューコンベア221の構成を示す部分的な側断面図であり、(b)は球Tが受ける力の様子を示す図である。
<(3) Screw conveyor>
Next, the detail of a structure of said screw conveyor 221 is demonstrated below. FIG. 12 is a diagram showing an image when a screw conveyor 221 ′ as a comparative example conveys a ball T, and FIG. 12 (a) is a partial sectional side view showing the configuration of the screw conveyor 221 ′ in the vicinity of the polishing pad 243. (B) is a diagram showing the state of the force that the sphere T receives. FIG. 13 is a diagram showing an image when the screw conveyor 221 of the present embodiment conveys the ball T, and (a) is a partial sectional side view showing the configuration of the screw conveyor 221 in the vicinity of the polishing pad 243. Yes, (b) is a diagram showing the state of the force received by the sphere T. FIG.
なお、以下の説明では、比較例のスクリューコンベアをスクリューコンベア221´として説明し、比較例のその他の構成についても「´」を付した符号を用いて説明する。
In the following description, the screw conveyor of the comparative example will be described as a screw conveyor 221 ′, and other configurations of the comparative example will be described using reference numerals with “′”.
図13(a)に示すように、本実施の形態のスクリューコンベア221は、帯板223の中心軸222からの突出寸法が、図12(a)の比較例におけるスクリューコンベア221´の帯板223´の突出寸法よりも短く設けられている。具体的には、図12(a)のスクリューコンベア221´では、中心軸222´の外周面から帯板223´の頂面223a´までの突出寸法が、球Tの半径よりも長くなるように設けられている。一方、本実施の形態のスクリューコンベア221では、図13(a)に示すように、中心軸222の外周面から帯板223の頂面223aまでの突出寸法が、球Tの半径よりも短くなるように設けられている。
As shown in FIG. 13A, the screw conveyor 221 of the present embodiment has a protruding dimension from the central axis 222 of the band plate 223, and the band plate 223 of the screw conveyor 221 ′ in the comparative example of FIG. It is shorter than the projecting dimension of ′. Specifically, in the screw conveyor 221 ′ of FIG. 12A, the protruding dimension from the outer peripheral surface of the central shaft 222 ′ to the top surface 223a ′ of the strip 223 ′ is longer than the radius of the sphere T. Is provided. On the other hand, in the screw conveyor 221 of the present embodiment, as shown in FIG. 13A, the protruding dimension from the outer peripheral surface of the central shaft 222 to the top surface 223a of the strip 223 is shorter than the radius of the sphere T. It is provided as follows.
本実施の形態では、かかる図13(a)に示すような構成とすることにより、図12(a)の比較例のような構成とする場合と比べて、球Tを研磨布243側に押し付ける力を増大させることができる。すなわち、図12(b)に示すように、比較例のスクリューコンベア221´では、球Tが帯板223´から受ける力F1は、帯板223´の表面に対しての垂直抗力となっている。なお、図12(b)に示すように、力F1は、研磨布243方向の力Fy1と、移動方向の力Fz1の合力となっている。
In the present embodiment, the configuration shown in FIG. 13A is used to press the ball T toward the polishing cloth 243 compared to the configuration shown in FIG. 12A. The power can be increased. That is, as shown in FIG. 12B, in the screw conveyor 221 ′ of the comparative example, the force F1 received by the ball T from the strip 223 ′ is a normal resistance against the surface of the strip 223 ′. . As shown in FIG. 12B, the force F1 is a resultant force of the force Fy1 in the direction of the polishing pad 243 and the force Fz1 in the moving direction.
一方、図13(b)に示すように、本実施の形態のスクリューコンベア221では、帯板223と球Tとの接触点については、その接触点から垂直方向に垂直線を延伸しても、その垂直線は球Tの中心を通らない。そのため、球Tは、中心軸222の外周面から離れるような状態(球Tが倒れ込むような状態)となる。そのため、球Tが力F2を受ける方向は、球Tと帯板223の接触点と、球Tと中心軸222の接触点とを結んだ直線の垂直方向となる。このとき、図13(b)に示すように、力F2は、研磨布243方向の力Fy2と、移動方向の力Fz2の合力となっている。
On the other hand, as shown in FIG. 13B, in the screw conveyor 221 of the present embodiment, the contact point between the strip 223 and the ball T can be extended from the contact point in the vertical direction, The vertical line does not pass through the center of the sphere T. Therefore, the sphere T is in a state where the sphere T is separated from the outer peripheral surface of the central axis 222 (a state where the sphere T falls down). Therefore, the direction in which the sphere T receives the force F2 is a vertical direction of a straight line connecting the contact point between the sphere T and the strip 223 and the contact point between the sphere T and the central axis 222. At this time, as shown in FIG. 13B, the force F2 is a resultant force of the force Fy2 in the polishing cloth 243 direction and the force Fz2 in the moving direction.
ここで、図12(b)と図13(b)の比較から明らかなように、本実施の形態では、帯板223の中心軸222からの突出寸法が、比較例におけるスクリューコンベア221´の帯板223´の突出寸法よりも短くなることで、力F2のうち研磨布243方向の力Fy2が、大幅に増大している。それにより、球Tを研磨布243に押し付ける力を大幅に向上させることができ、短い移送距離でありながらも球Tを効率良く研磨(清掃)することができる。
Here, as is clear from the comparison between FIG. 12B and FIG. 13B, in this embodiment, the protruding dimension from the central axis 222 of the band plate 223 is the band of the screw conveyor 221 ′ in the comparative example. By being shorter than the projecting dimension of the plate 223 ′, the force Fy2 in the direction of the polishing pad 243 out of the force F2 is significantly increased. Thereby, the force which presses the sphere T against the polishing cloth 243 can be greatly improved, and the sphere T can be efficiently polished (cleaned) even with a short transfer distance.
また、研磨布243を球Tに押し付けるためのバネ等のような付勢手段が不要となり、部品点数を減らすことでコストの低減を図ることができる。また、バネ等のような付勢手段を用いずに済むので、研磨部230の小型化を図ることも可能となる。
Further, an urging means such as a spring for pressing the polishing cloth 243 against the ball T becomes unnecessary, and the cost can be reduced by reducing the number of parts. In addition, since it is not necessary to use an urging means such as a spring, the size of the polishing unit 230 can be reduced.
また、バネのような付勢手段を用いる場合には、球Tが研磨布243に常に押圧され、その押圧力は、球搬送モータ228の負荷となって、球搬送モータ228の発熱が大きくなってしまう。しかし、本実施の形態のようにバネを用いない構成を採用することで、たとえば球搬送モータ228の停止状態では、球Tが上昇(揚送)されていないことで研磨布243への押圧力を小さくすることができ、結果として球搬送モータ228の発熱を低減することができる。
Further, when an urging means such as a spring is used, the ball T is always pressed against the polishing pad 243, and the pressing force becomes a load on the ball transport motor 228, and the heat generated by the ball transport motor 228 increases. End up. However, by adopting a configuration that does not use a spring as in the present embodiment, for example, when the ball transport motor 228 is stopped, the ball T is not lifted (lifted), so that the pressing force to the polishing pad 243 is reduced. As a result, the heat generation of the ball transport motor 228 can be reduced.
また、スクリューコンベア221の回転により球Tを上昇させる一方で、研磨布243は球Tとは逆側の下方に送ることにより、球Tの研磨布243に対する接触位置が変化する。それにより、移送される球Tでは、その広範囲の球面が研磨布243と接触し、それによって球Tの研磨効率(清掃効率)を向上させることができる。加えて、研磨布243を球Tの搬送方向とは逆の下方に送ることにより研磨布243が撓んだり皺が発生するのを防止可能となり、これらの防止によって本来の研磨能力(清掃能力)を発揮させることができる。また、後述するように、研磨布243と研磨カセット240の背面壁241dとの間には、クッション材が設けられている。そのため、球Tが研磨布243に押し付けられると、その押し付け部分は、研磨布243の他の部分よりも、背面壁241d側に凹む部分が生じ、研磨布243が球Tに対して接触する球面の範囲を広げることができる。それにより、球Tの研磨効率(清掃効率)を向上させることができる。
Further, while the sphere T is raised by the rotation of the screw conveyor 221, the contact position of the sphere T with the polishing cloth 243 is changed by sending the polishing cloth 243 downward on the opposite side of the sphere T. Thereby, in the sphere T to be transferred, a wide range of spherical surfaces come into contact with the polishing pad 243, whereby the polishing efficiency (cleaning efficiency) of the sphere T can be improved. In addition, it is possible to prevent the polishing cloth 243 from being bent or generating wrinkles by sending the polishing cloth 243 downward in the direction opposite to the conveying direction of the ball T. By preventing these, the original polishing ability (cleaning ability) can be prevented. Can be demonstrated. Further, as will be described later, a cushion material is provided between the polishing cloth 243 and the back wall 241 d of the polishing cassette 240. Therefore, when the sphere T is pressed against the polishing cloth 243, a portion of the pressing portion that is recessed toward the back wall 241 d is generated with respect to the other portion of the polishing cloth 243, and the spherical surface on which the polishing cloth 243 contacts the sphere T Can be expanded. Thereby, the polishing efficiency (cleaning efficiency) of the sphere T can be improved.
さらに、後述するように、クッション材に設けられている起毛は、その根元から先端に向かうと、研磨布243の送り方向に向かうように斜めに傾斜している。そのため、球Tにより、研磨布243が自身の送り方向とは逆方向に移動するのが防止可能となる。加えて、研磨布243が撓んだり皺が発生するのを防止可能となり、これらの防止によって本来の研磨能力(清掃能力)を発揮させることができる。
Furthermore, as will be described later, the raised portions provided in the cushion material are inclined obliquely so as to go in the feeding direction of the polishing pad 243 when going from the root to the tip. Therefore, it is possible to prevent the polishing cloth 243 from moving in the direction opposite to its own feeding direction by the ball T. In addition, the polishing cloth 243 can be prevented from being bent or wrinkled, and the original polishing ability (cleaning ability) can be exhibited by preventing these.
なお、図13(a)に示すような突出寸法の短い帯板223は、スクリューコンベア221のうち研磨本体部231(特に研磨布243と対向する部位)にのみ設ける構成とし、スクリューコンベア221の他の部分は、図12(a)に示すような突出寸法の長い帯板223としても良い。
Note that the strip 223 having a short projecting dimension as shown in FIG. 13A is provided only on the polishing main body 231 (particularly the portion facing the polishing cloth 243) of the screw conveyor 221, and other than the screw conveyor 221. This part may be a strip 223 having a long projecting dimension as shown in FIG.
<(4)研磨部の第1構成例>
図14は、研磨部230の第1構成例を示す斜視図であり、研磨カセット240が分離された状態で示されている。図15は、図14の研磨部230の研磨本体部231における搬送ガイド236が蛇行されている状態を示す斜視図である。
<(4) First configuration example of polishing unit>
FIG. 14 is a perspective view illustrating a first configuration example of the polishing unit 230, in which the polishing cassette 240 is separated. FIG. 15 is a perspective view showing a state where the conveyance guide 236 in the polishing main body 231 of the polishing unit 230 of FIG. 14 is meandering.
なお、図14および図15で示される構成は、図11に示すような導入部210Bが2つ、搬送路226が2列存在する場合の構成に対応している。ここで、研磨部230は、研磨本体部231と研磨カセット240とを有しており、研磨本体部231に研磨カセット240をセットすることにより研磨部230が構成される。しかしながら、研磨部230の概念には、研磨カセット240が含まれないものとしても良い。また、研磨部230の概念には、研磨カセット240は含まれるが、研磨布243が含まれないものとしても良く、研磨カセット240も研磨布243も含まれるものとしても良い。
14 and 15 corresponds to the configuration in the case where there are two introduction sections 210B and two rows of conveyance paths 226 as shown in FIG. Here, the polishing unit 230 includes a polishing main body 231 and a polishing cassette 240, and the polishing unit 230 is configured by setting the polishing cassette 240 in the polishing main body 231. However, the concept of the polishing unit 230 may not include the polishing cassette 240. The concept of the polishing unit 230 includes the polishing cassette 240 but may not include the polishing cloth 243, and may include both the polishing cassette 240 and the polishing cloth 243.
<(4.1)研磨本体部>
図14および図15に示すように、研磨本体部231は、取付部材232、モータ固定部材233、モータ234、ギヤカバー235a、歯車235b、搬送ガイド236等を主要な構成要素としている。これらのうち、取付部材232は、上部軸受部229よりも下方に向かって延伸しているが、この取付部材232は、金属板等の板状部材が適宜折り曲げられた形態となっている。この取付部材232には、モータ固定部材233を介して小型のモータ234が取り付けられており、そのモータ234は研磨部230の動力源である。以下の説明では、モータ234を研磨用モータ234という。
<(4.1) Polishing main body>
As shown in FIGS. 14 and 15, the polishing main body 231 includes an attachment member 232, a motor fixing member 233, a motor 234, a gear cover 235a, a gear 235b, a conveyance guide 236, and the like as main components. Among these, the attachment member 232 extends downward from the upper bearing portion 229. However, the attachment member 232 has a form in which a plate-like member such as a metal plate is appropriately bent. A small motor 234 is attached to the attachment member 232 via a motor fixing member 233, and the motor 234 is a power source of the polishing unit 230. In the following description, the motor 234 is referred to as a polishing motor 234.
また、モータ固定部材233には、ギヤカバー235aが取り付けられ、そのギヤカバー235aで覆われた部位には、図示を省略する支持部材を介して、研磨用モータ234の出力軸側のウオーム、さらにはウオームギヤ(いずれも図示省略)といったギヤ機構が設けられているが、そのギヤ機構は歯車(第1の歯車)235bに駆動力を伝達している。
Further, a gear cover 235a is attached to the motor fixing member 233, and a worm on the output shaft side of the polishing motor 234, and further, a worm gear are attached to a portion covered with the gear cover 235a via a support member (not shown). A gear mechanism (all of which are not shown) is provided, and the gear mechanism transmits a driving force to the gear (first gear) 235b.
なお、後述するように、研磨カセット240は、搬送ガイド236に対して斜めとなるように取り付けられる。そのため、研磨用モータ234および歯車235bも、研磨カセット240に存在するギヤ247と噛み合うように、取付部材232の上下方向(Z方向)に対して斜めに取り付けられている。
As will be described later, the polishing cassette 240 is attached so as to be inclined with respect to the transport guide 236. Therefore, the polishing motor 234 and the gear 235b are also mounted obliquely with respect to the vertical direction (Z direction) of the mounting member 232 so as to mesh with the gear 247 present in the polishing cassette 240.
また、取付部材232の図14および図15におけるX1側の部位には、搬送部220の上端側が取り付けられているが、その搬送部220を覆うように研磨カセット240が着脱可能に取り付けられている。
14 and 15, the upper end side of the conveyance unit 220 is attached to the attachment member 232, and the polishing cassette 240 is detachably attached so as to cover the conveyance unit 220. .
また、図14および図15に示すように、搬送部220の搬送路226には、研磨本体部231を構成する搬送ガイド236が設けられている。搬送ガイド236は、球Tを蛇行させつつガイドするものであり、またそのガイドに際して、球Tの正面側(Y1側)を後述する研磨布243に接触させる。それにより、球Tの拭き取り(研磨または清掃)が行われる構成となっている。
As shown in FIGS. 14 and 15, the conveyance path 226 of the conveyance unit 220 is provided with a conveyance guide 236 that constitutes the polishing body 231. The conveyance guide 236 guides the sphere T while meandering, and makes the front side (Y1 side) of the sphere T contact a polishing cloth 243 described later. Thereby, the sphere T is wiped (polished or cleaned).
この搬送ガイド236は、球蛇行領域2314において遊技島Aの正面方向(Y1方向)に開口する溝状に設けられていると共に、一定のピッチで蛇行している。この搬送ガイド236は、互いに対向する端壁236a,236bにより形成されている。この端壁236a,236bは、全体としては上下方向(Z方向)に沿いつつも、X方向での若干の往復を繰り返すように蛇行している。
The transport guide 236 is provided in a groove shape that opens in the front direction (Y1 direction) of the game island A in the spherical meandering region 2314 and meanders at a constant pitch. The transport guide 236 is formed by end walls 236a and 236b facing each other. The end walls 236a and 236b meander along the vertical direction (Z direction) as a whole so as to repeat a slight reciprocation in the X direction.
また、このような端壁236a,236bにより形成される搬送ガイド236は、その横断面形状がコ字形または円弧状の縦長部材に設けられ、正面側(Y1側)が開口している。この搬送ガイド236の開口は、球Tの直径よりもわずかに小さな幅を有している。また、搬送ガイド236の正面側(Y1側)には、後述する研磨布243が位置する。そのため、搬送ガイド236に位置する球Tは、開口を介して研磨布243によって拭き取られる(研磨または清掃される)状態となっている。
Further, the conveyance guide 236 formed by such end walls 236a and 236b is provided in a vertically long member having a U-shaped or arc-shaped cross section, and the front side (Y1 side) is open. The opening of the conveyance guide 236 has a width slightly smaller than the diameter of the sphere T. A polishing cloth 243 described later is positioned on the front side (Y1 side) of the conveyance guide 236. Therefore, the sphere T located on the conveyance guide 236 is in a state of being wiped off (polished or cleaned) by the polishing pad 243 through the opening.
なお、搬送ガイド236の奥側(Y2側)には、上述のようにスクリューコンベア221が設けられている。そのため、球搬送モータ228の駆動によってスクリューコンベア221が回転させられると、球Tは搬送ガイド236に沿って蛇行しつつも、上方側(Z1側)に向かって移動する。
In addition, the screw conveyor 221 is provided in the back | inner side (Y2 side) of the conveyance guide 236 as mentioned above. Therefore, when the screw conveyor 221 is rotated by driving the ball conveyance motor 228, the ball T moves toward the upper side (Z1 side) while meandering along the conveyance guide 236.
また、図13の右側に拡大して示すように、スクリューコンベア221の駆動と、上述した搬送ガイド236による球Tの蛇行によって、搬送ガイド236を搬送される球Tは不規則な回転をする。したがって、球Tの全球面が研磨布243に接触するので、研磨効率が向上する。
Further, as shown enlarged on the right side of FIG. 13, the sphere T conveyed by the conveyance guide 236 rotates irregularly by driving the screw conveyor 221 and meandering the sphere T by the conveyance guide 236 described above. Therefore, since the entire spherical surface of the sphere T is in contact with the polishing pad 243, the polishing efficiency is improved.
また、図13に示すように、搬送路226は、搬送部220の上端部において横方向に開口された出口2315を有する。本実施の形態のように、球Tを2列で研磨する場合には、ほぼ同じ方向に開口する出口2315が2個設けられる。
As shown in FIG. 13, the transport path 226 has an outlet 2315 that is opened in the lateral direction at the upper end of the transport unit 220. When the spheres T are polished in two rows as in this embodiment, two outlets 2315 that open in substantially the same direction are provided.
<(4.2)スクリューコンベアおよび搬送ガイドの変形態様>
スクリューコンベア221および搬送ガイド236は、上述した構成には限られず、種々変形可能であるが、そのような変形態様について、以下に説明する。図16は、スクリューコンベア221の変形例を示し、部分的な斜視図と中心軸222の平面断面図を示している。この図16に示すスクリューコンベア221は、図10および図11に示すような、断面形状が円形状の中心軸222とは異なり、中心軸222の形状が楕円形状となっている。このような楕円形状の中心軸222を有するスクリューコンベア221では、図17に示すような動作を実現できる。
<(4.2) Modification of Screw Conveyor and Transport Guide>
The screw conveyor 221 and the conveyance guide 236 are not limited to the above-described configuration and can be variously modified. Such deformation modes will be described below. FIG. 16 shows a modification of the screw conveyor 221, showing a partial perspective view and a plan sectional view of the central shaft 222. The screw conveyor 221 shown in FIG. 16 is different from the central axis 222 having a circular cross section as shown in FIGS. 10 and 11, and the shape of the central axis 222 is elliptical. The screw conveyor 221 having such an elliptical center axis 222 can realize the operation shown in FIG.
図17は、搬送ガイド236の内部における球Tの研磨布243への押し付け状態を説明するための平面断面図であり、(a)は楕円形状の中心軸222の短軸側と球Tが向き合う状態を示し、(b)は楕円形状の中心軸222の長軸側と球Tが向き合う状態を示している。この図17(a)に示すように、楕円形状の中心軸222の短軸側が球Tと向き合うとき、中心軸222は球Tを研磨布243に対してほとんど押圧しないか、または軽く押圧する状態となる。そのため、研磨布243の球Tに対する接触部分の凹みは、最も小さい状態となる。
FIG. 17 is a plan cross-sectional view for explaining a state in which the sphere T is pressed against the polishing pad 243 inside the conveyance guide 236. FIG. 17A is a diagram in which the sphere T faces the short axis side of the elliptical central axis 222. (B) shows a state in which the long axis side of the elliptical central axis 222 and the sphere T face each other. As shown in FIG. 17A, when the short axis side of the elliptical central axis 222 faces the sphere T, the central axis 222 hardly presses the sphere T against the polishing pad 243 or lightly presses it. It becomes. Therefore, the dent of the contact part with respect to the ball | bowl T of the polishing pad 243 will be the smallest state.
一方、図17(b)に示すように、楕円形状の中心軸222の長軸側が球Tと向き合うとき、中心軸222は球Tを研磨布243に対して強く押圧する。そのため、研磨布243の球Tに対する接触部分の凹みは、最も大きい状態となる。このように、中心軸222の断面形状を楕円形状とすることで、球Tの研磨布243に対する押圧を変化させることができ、それによって球Tと研磨布243との間の摩擦を変化させることができる。このように、中心軸222の断面形状が円形状の場合と比較すると、スクリューコンベア221の中心軸222は、球Tの研磨布243側への押圧力を変化させながら球Tを上方へ搬送させることができる。それにより、中心軸222は球Tに対して不規則な回転を与えることが可能となり、球Tの全球面が研磨布243に接触するので、研磨効率が向上する。なお、このような押圧の変化を与える中心軸222は、球Tに対するカム軸と見立てることも可能である。
On the other hand, as shown in FIG. 17B, when the major axis side of the elliptical central axis 222 faces the sphere T, the central axis 222 strongly presses the sphere T against the polishing pad 243. Therefore, the dent of the contact part with respect to the ball | bowl T of the polishing pad 243 will be the largest state. In this way, by making the cross-sectional shape of the central axis 222 elliptical, the pressure of the sphere T against the polishing cloth 243 can be changed, thereby changing the friction between the sphere T and the polishing cloth 243. Can do. Thus, compared with the case where the cross-sectional shape of the central shaft 222 is circular, the central shaft 222 of the screw conveyor 221 conveys the sphere T upward while changing the pressing force of the sphere T toward the polishing cloth 243. be able to. As a result, the central axis 222 can give an irregular rotation to the sphere T, and the entire spherical surface of the sphere T comes into contact with the polishing pad 243, so that the polishing efficiency is improved. It should be noted that the central shaft 222 that gives such a change in pressure can be regarded as a cam shaft for the sphere T.
ここで、中心軸222の断面形状は、楕円形状に限られるものではなく、中心軸222の中心から外周面までの距離が一定でない(変化する)ものであれば、どのような断面形状であっても良い。そのような例を、図18から図20に示す。図18は、中心軸の平面断面形状が略三角形状である場合のスクリューコンベア221の部分的な斜視図と中心軸222の平面断面図を示している。図18に示すような中心軸222の外周面には、平面部222aと弧状の曲面222bとが存在しており、それにより、平面部222aと曲面222bとの間で球Tが移行することで、球Tの研磨布243側への押圧力に急激な変化を生じさせることができる。
Here, the cross-sectional shape of the central axis 222 is not limited to an elliptical shape, and any cross-sectional shape can be used as long as the distance from the center of the central axis 222 to the outer peripheral surface is not constant (changes). May be. Such an example is shown in FIGS. FIG. 18 shows a partial perspective view of the screw conveyor 221 and a planar sectional view of the central shaft 222 when the planar sectional shape of the central axis is substantially triangular. As shown in FIG. 18, a flat surface portion 222a and an arcuate curved surface 222b exist on the outer peripheral surface of the central axis 222, and thereby the sphere T moves between the flat surface portion 222a and the curved surface 222b. A sudden change in the pressing force of the sphere T toward the polishing cloth 243 can be caused.
また、図19は、中心軸222の外周を平行にカットした一対の平面部222aが存在する態様のスクリューコンベア221の斜視図と中心軸222の平面断面図を示している。この図19に示す構成においても、中心軸222の外周面には、平面部222aと弧状の曲面222bとが存在している。そのため、平面部222aと曲面222bとの間で球Tが移行することで、球Tの研磨布243側への押圧力に急激な変化を生じさせることができる。
FIG. 19 shows a perspective view of the screw conveyor 221 and a cross-sectional plan view of the central shaft 222 in a form in which there is a pair of flat portions 222 a obtained by cutting the outer periphery of the central shaft 222 in parallel. Also in the configuration shown in FIG. 19, a flat surface portion 222 a and an arcuate curved surface 222 b exist on the outer peripheral surface of the central shaft 222. Therefore, when the sphere T moves between the flat surface portion 222a and the curved surface 222b, it is possible to cause a sudden change in the pressing force of the sphere T toward the polishing pad 243.
図20は、平面断面形状が円形状の中心軸222に、突出部222cが存在する態様のスクリューコンベア221の斜視図と中心軸222の平面断面図を示している。この図20に示す構成では、突出部222cに球Tが差し掛かる際に、より急激に、研磨布243側への球Tの押圧力を変化させることができる。このように、図18〜図20に示すスクリューコンベア221の形状であっても、球Tに対して不規則な回転を与えることが可能となり、球Tの全球面が研磨布243に接触するので、研磨効率が向上する。
FIG. 20 shows a perspective view of the screw conveyor 221 and a plan sectional view of the central shaft 222 in a form in which the protruding portion 222c exists on the central shaft 222 having a circular planar sectional shape. In the configuration shown in FIG. 20, the pressing force of the sphere T toward the polishing cloth 243 can be changed more rapidly when the sphere T approaches the protrusion 222c. Thus, even if it is the shape of the screw conveyor 221 shown in FIGS. 18-20, it becomes possible to give irregular rotation with respect to the sphere T, and since the whole spherical surface of the sphere T contacts the polishing pad 243, Polishing efficiency is improved.
<(4.3)研磨カセット>
次に、研磨カセット240について説明する。図21は、研磨カセット240の一つの箱体241bを取り除くと共に、収容空間242内の収容物の断面状態を示す斜視図である。図22は、研磨カセット240の構成を示す分解斜視図である。図23は、研磨布243を除去した状態の研磨カセット240を示す図であり、(a)は正面側から見た斜視図、(b)は背面図、(c)は底面図である。また、図24は、研磨カセット240を構成する2つの箱体241A,241Bのうち箱体241Bを取り外した状態を示す平面図である。
<(4.3) Polishing cassette>
Next, the polishing cassette 240 will be described. FIG. 21 is a perspective view showing a cross-sectional state of an object in the storage space 242 while removing one box 241b of the polishing cassette 240. FIG. FIG. 22 is an exploded perspective view showing the configuration of the polishing cassette 240. FIG. 23 is a view showing the polishing cassette 240 with the polishing cloth 243 removed, wherein (a) is a perspective view seen from the front side, (b) is a rear view, and (c) is a bottom view. FIG. 24 is a plan view showing a state in which the box 241B is removed from the two boxes 241A and 241B constituting the polishing cassette 240.
図22に示すように、研磨カセット240は、カセット本体241を構成する箱体241A,241Bを備えており、箱体241A,241Bにより構成されるカセット本体241に、各部材が取り付けられ、また研磨布243が収納されている。カセット本体241に取り付けられる部材としては、研磨布送り手段244を構成するギヤローラ245a,245b、回転軸246a,246bがあり、また回転軸246a,246bのうち箱体241A側に位置する側の端部にはギヤ247が取り付けられている(詳細は後述)。なお、図22には、ギヤローラ245aとギヤローラ245bとは、それぞれ3つずつ回転軸246a,246bに取り付けられている状態が示されている。
As shown in FIG. 22, the polishing cassette 240 includes box bodies 241A and 241B constituting the cassette body 241, each member is attached to the cassette body 241 constituted by the box bodies 241A and 241B, and polishing is performed. A cloth 243 is stored. The members attached to the cassette body 241 include gear rollers 245a and 245b and rotating shafts 246a and 246b that constitute the polishing cloth feeding means 244, and the end of the rotating shafts 246a and 246b on the side of the box 241A. Is attached with a gear 247 (details will be described later). FIG. 22 shows a state where three gear rollers 245a and three gear rollers 245b are attached to the rotary shafts 246a and 246b, respectively.
また、カセット本体241には、ギヤローラ245a,245bに近接する状態で、研磨布ガイド248A,248Bが取り付けられている(詳細は後述)。また、カセット本体241の端面壁241f側には、付勢部材253が取り付けられている。付勢部材253は、折返し部251A2,251B2が対向している部位の出口部分252から引き出された研磨布243を壁部材251B側に押圧している(詳細は後述)。
Further, polishing cloth guides 248A and 248B are attached to the cassette body 241 in a state of being close to the gear rollers 245a and 245b (details will be described later). An urging member 253 is attached to the end wall 241f side of the cassette body 241. The urging member 253 presses the polishing cloth 243 pulled out from the exit portion 252 at the portion where the folded portions 251A2 and 251B2 face each other toward the wall member 251B (details will be described later).
図21から図24に示すように、研磨カセット240は、密閉された略縦長の箱状に形成されたカセット本体241を有している。カセット本体241は、箱体241A,241Bに二分割して構成されている。なお、箱体241A,241Bの分割構造は必ずしも等分に限らず、器と蓋の形態でもよい。2つの箱体241A,241Bをその開口面の周縁を突き合わせ、両箱体241A,241Bの周縁の四隅に形成してある舌片2411に存在する孔(たとえばネジ孔等)2412にネジを捻じ込む等により、2つの箱体241A,241Bが結合される。通常の作業としては、カセット本体241が単一体として入れ替えができるため、メンテナンスが容易である。そして、箱体241Aと箱体241Bとを二つに分割した状態で、収容空間242の研磨布243の交換が可能になる。したがって、無端帯状の研磨布243および研磨カセット240のリサイクル性に優れている。
As shown in FIGS. 21 to 24, the polishing cassette 240 has a cassette body 241 formed in a sealed, substantially vertically long box shape. The cassette body 241 is divided into two boxes 241A and 241B. In addition, the division structure of the boxes 241A and 241B is not necessarily equally divided, and may be in the form of a vessel and a lid. The two box bodies 241A and 241B are brought into contact with the peripheral edges of the opening surfaces, and screws are screwed into holes (for example, screw holes) 2412 existing in the tongue pieces 2411 formed at the four corners of the peripheral edges of the two box bodies 241A and 241B. For example, the two boxes 241A and 241B are combined. As a normal operation, since the cassette body 241 can be replaced as a single body, maintenance is easy. Then, it is possible to replace the polishing cloth 243 in the accommodation space 242 in a state where the box body 241A and the box body 241B are divided into two. Therefore, the endless belt-like polishing cloth 243 and the polishing cassette 240 are excellent in recyclability.
また、2つの箱体241A,241Bが突き合わされることにより、カセット本体241には、側面壁241aと、底面壁241bと、正面壁241cと、背面壁241dと、一対の端面壁241e,241fが存在している。また、カセット本体241のうち背面壁241dの一方側端部には、収容空間242に連通するスリット形状の研磨布出口241gが設けられていて、この研磨布出口241gから研磨布243が引き出される。また、カセット本体241のうち背面壁241dの他方側端部には、収容空間242に連通するスリット形状の研磨布入口241hが設けられていて、この研磨布入口241hから研磨布243が収納される。
Further, the two box bodies 241A and 241B are abutted to each other, so that the cassette body 241 has a side wall 241a, a bottom wall 241b, a front wall 241c, a back wall 241d, and a pair of end wall 241e and 241f. Existing. In addition, a slit-shaped polishing cloth outlet 241g communicating with the accommodation space 242 is provided at one end of the back wall 241d of the cassette body 241, and the polishing cloth 243 is pulled out from the polishing cloth outlet 241g. A slit-shaped polishing cloth inlet 241h communicating with the accommodation space 242 is provided at the other end of the back wall 241d of the cassette body 241, and the polishing cloth 243 is received from the polishing cloth inlet 241h. .
また、図21および図23(b)に示すように、カセット本体241の背面壁241dには、その幅方向の端部側に、ガイドリブ241rが設けられている。ガイドリブ241rは、研磨布243の進行をガイドするものである。すなわち、研磨布243が進行するにつれて、背面壁241dからずれるように移動しようとすることがあるが、ガイドリブ241rは、そのようなずれ方向への移動を抑えるものである。そのため、ガイドリブ241rは、背面壁241dから若干突出して設けられ、しかも研磨布243の進行方向に平行な長尺形状に設けられている。
Further, as shown in FIG. 21 and FIG. 23B, a guide rib 241r is provided on the rear wall 241d of the cassette body 241 on the end side in the width direction. The guide rib 241r guides the progress of the polishing pad 243. That is, as the polishing cloth 243 advances, it may try to move away from the back wall 241d, but the guide rib 241r suppresses such movement in the displacement direction. Therefore, the guide rib 241r is provided so as to slightly protrude from the rear wall 241d, and is provided in a long shape parallel to the traveling direction of the polishing pad 243.
図23(b)に示す構成では、ガイドリブ241rは一対設けられていて、その一対のガイドリブ241rは、背面壁241dの幅方向の端部側にそれぞれ設けられている。なお、ガイドリブ241rは、長尺状に設けられる構成としても良いが、長さを短くしたリブを間欠的に配置する構成としても良い。また、研磨布243が背面壁241dの幅方向におけるいずれか一方側にのみ移動する場合には、ガイドリブ241rを一対設ける構成とはせずに、背面壁241dの幅方向の端部側のうち研磨布243が移動するのを抑える側に配置する構成としても良い。
In the configuration shown in FIG. 23 (b), a pair of guide ribs 241r are provided, and the pair of guide ribs 241r are provided on the end side in the width direction of the back wall 241d. The guide rib 241r may be configured to be long, but may be configured to intermittently arrange ribs having a short length. In addition, when the polishing cloth 243 moves only to one side in the width direction of the back wall 241d, the pair of guide ribs 241r is not provided, and the polishing is performed on the end side in the width direction of the back wall 241d. It is good also as a structure arrange | positioned at the side which suppresses the cloth 243 moving.
図21、図22および図24に示すように、カセット本体241の中の収容空間242には、無端帯状の研磨材、例えば研磨布243が蛇腹状に詰めて収容されている。研磨布243は、収容空間242内の蛇腹状から、外部の平面状を経て再び蛇腹状に繰り返し変形可能であるので、研磨材料として好適である。
As shown in FIGS. 21, 22, and 24, an endless strip-shaped abrasive material, for example, a polishing cloth 243 is accommodated in the accommodating space 242 in the cassette body 241 in a bellows shape. The polishing cloth 243 can be repeatedly deformed from the bellows shape in the accommodation space 242 to the bellows shape again through the external planar shape, and thus is suitable as a polishing material.
研磨布243は、カセット本体241の長手状の外壁である背面壁241dの外側面に沿うように引き出され、それによって研磨布243は背面壁241dを覆う状態となる。すなわち、研磨布243は長手方向の一部がカセット本体241の背面壁241dの外側に露出し、その研磨布243にテンションが付与されることで、研磨布243が背面壁241dに沿う状態となっている。そして、背面壁241dのうち研磨布243が沿う部分が、後述するような球Tの研磨領域PFを提供する。
The polishing cloth 243 is pulled out along the outer side surface of the back wall 241d, which is the longitudinal outer wall of the cassette body 241, so that the polishing cloth 243 covers the back wall 241d. That is, a part of the polishing cloth 243 in the longitudinal direction is exposed to the outside of the back wall 241d of the cassette body 241, and the polishing cloth 243 is in a state along the back wall 241d by applying tension to the polishing cloth 243. ing. A portion along the polishing pad 243 of the back wall 241d provides a polishing region PF of a sphere T as will be described later.
収容空間242内には、研磨布入口241hの内側に研磨布243を所定方向に送る研磨布送り手段244(研磨材送り手段に対応)が設けられている。研磨布送り手段244は、研磨布入口241hの内側に、回転軸246a,246bにより回転自在に支持される2本のギヤローラ245a,245bを有している。ギヤローラ245a,245bは、そのギヤピッチが等しく設けられている。なお、ギヤローラ245aは、ギヤ247と同軸に設けられている。以下では、必要に応じて、ギヤ247と同軸のギヤローラ245aを駆動ギヤローラ245aとし、その駆動ギヤローラ245aと噛み合うギヤローラ245bを、従動ギヤローラ245bとする。
In the accommodation space 242, abrasive cloth feeding means 244 (corresponding to abrasive material feeding means) for feeding the polishing cloth 243 in a predetermined direction is provided inside the polishing cloth inlet 241h. The polishing cloth feed means 244 has two gear rollers 245a and 245b that are rotatably supported by rotating shafts 246a and 246b inside the polishing cloth inlet 241h. The gear rollers 245a and 245b have the same gear pitch. The gear roller 245a is provided coaxially with the gear 247. Hereinafter, as necessary, the gear roller 245a coaxial with the gear 247 is referred to as a driving gear roller 245a, and the gear roller 245b meshing with the driving gear roller 245a is referred to as a driven gear roller 245b.
一方側の駆動ギヤローラ245aは、その取付位置が固定的であるが、他方のギヤローラ245bは一方のギヤローラ245aに接近する方向に付勢される構成としても良いが、付勢されない構成としても良い。また、一方のギヤローラ245aの回転軸246aは、箱体241Aの底面壁241bを貫通して外方に突出しており、その外方への突出部分には、ギヤ247(第2の歯車)が取り付けられている。ギヤ247は、歯車(第1の歯車)234bと噛み合うことで、研磨用モータ234からの駆動力が与えられる。
The drive gear roller 245a on one side is fixed in its mounting position, but the other gear roller 245b may be biased in a direction approaching the one gear roller 245a, or may be configured not to be biased. Further, the rotation shaft 246a of one gear roller 245a projects outward through the bottom wall 241b of the box 241A, and a gear 247 (second gear) is attached to the outward projecting portion. It has been. The gear 247 meshes with the gear (first gear) 234b, so that a driving force from the polishing motor 234 is applied.
このようなギヤローラ245a,245bの間を研磨布243が通るが、その際に、ギヤローラ245a,245bによって研磨布243に永久変形が生じない程度の力で、研磨布243がギヤローラ245a,245bの間に挟圧されている。
The polishing cloth 243 passes between the gear rollers 245a and 245b. At this time, the polishing cloth 243 is between the gear rollers 245a and 245b with a force that does not cause permanent deformation of the polishing cloth 243 by the gear rollers 245a and 245b. It is pinched by.
したがって、研磨用モータ234の駆動によってギヤ247(第2の歯車)を所定方向に回すと、カセット本体241の背面壁241dを覆っている研磨布243がカセット本体241の研磨布入口241hから収容空間242内部に引き込まれ、蛇腹状に折畳まれるように構成されている。ここで、研磨布入口241hが研磨布出口241gよりも下方側に位置していることから明らかなように、研磨布243は、研磨領域PFにおいて搬送部220の球Tの搬送方向と逆の方向に移動される。
Accordingly, when the gear 247 (second gear) is rotated in a predetermined direction by driving the polishing motor 234, the polishing cloth 243 covering the back wall 241d of the cassette body 241 is accommodated from the polishing cloth inlet 241h of the cassette body 241. It is drawn inside 242 and is configured to be folded into a bellows shape. Here, as apparent from the fact that the polishing cloth inlet 241h is positioned below the polishing cloth outlet 241g, the polishing cloth 243 is in the direction opposite to the conveying direction of the balls T of the conveying unit 220 in the polishing region PF. Moved to.
上述の研磨カセット240は、図14に示すように、搬送部220の上端部付近に存在する球蛇行領域2314と対向する状態で、取付部材232その他の部分に取り付けられる。その取り付けでは、ギヤ247が歯車235bと噛み合う。また、この取り付けでは、研磨領域PFに位置する研磨布243が球蛇行領域2314の表面に沿う状態となる。そのため、研磨用モータ234を駆動すると、研磨布243が球蛇行領域2314の表面に沿って下方に移動する。ただし、研磨カセット240は、後述するように、上下方向に対して若干斜めとなるように取り付けられている。
As shown in FIG. 14, the above-described polishing cassette 240 is attached to the attachment member 232 and other portions in a state of facing the spherical meandering region 2314 existing near the upper end portion of the transport unit 220. In the attachment, the gear 247 meshes with the gear 235b. In this attachment, the polishing pad 243 located in the polishing region PF is in a state along the surface of the spherical meandering region 2314. Therefore, when the polishing motor 234 is driven, the polishing pad 243 moves downward along the surface of the spherical meandering region 2314. However, as will be described later, the polishing cassette 240 is attached so as to be slightly inclined with respect to the vertical direction.
このような研磨カセット240の取り付けにより、球蛇行領域2314を不規則な回転をしながら搬送される球Tは、その全球面が研磨布243と接触するので、研磨効率が向上する。また、研磨布243が球Tの搬送方向と逆方向に移動されるので、球の移動距離に対して研磨布243が球Tに接触する長さが増すため、研磨能力が向上する。さらに、研磨布243が球Tの搬送方向と逆方向に移動されることにより、研磨布243の撓みやしわの発生が抑制される。
By attaching the polishing cassette 240 as described above, the sphere T conveyed while irregularly rotating the sphere meandering region 2314 is in contact with the polishing cloth 243, so that the polishing efficiency is improved. Further, since the polishing cloth 243 is moved in the direction opposite to the conveying direction of the sphere T, the length of the polishing cloth 243 that contacts the sphere T with respect to the moving distance of the sphere increases, so that the polishing ability is improved. Furthermore, when the polishing pad 243 is moved in the direction opposite to the conveying direction of the sphere T, the occurrence of bending and wrinkling of the polishing pad 243 is suppressed.
なお、研磨用モータ234による研磨布243の送りは、送りと休止を間欠的に行なうことが好ましい。このように研磨用モータ234を駆動することにより、研磨布243の弛み対策となり(弛みを防止できる)、また研磨用モータ234の寿命延長を図ることができる。
It is preferable that the polishing cloth 243 is fed by the polishing motor 234 intermittently between feeding and pausing. By driving the polishing motor 234 in this manner, the polishing cloth 243 can be prevented from slackening (slacking can be prevented), and the life of the polishing motor 234 can be extended.
図25は、研磨カセット240を研磨本体部231に取り付ける形態を示し、(a)はカセット本体241の長手方向がスクリューコンベア221の中心軸222に平行な状態を示し、(b)は(a)とは異なり斜めの状態を示している。図25(a)に示すように、研磨カセット240は、カセット本体241の長手方向を搬送部220のスクリューコンベア221の中心軸222と平行な状態で取付けても良い。しかしながら、このような取付態様では、研磨布243の研磨有効範囲(ロ)が、研磨布243の長手方向と平行な細長い範囲(網掛け範囲)に限定されてしまう。そのため、それ以外の範囲(白範囲)(イ)は使用されないので、研磨布243の使用効率が低い。なお、図25(a)では、研磨布243の研磨有効範囲(ロ)と、蛇行する搬送ガイド236による球Tの搬送ルート(ハ)とは、概ね一致している。
FIG. 25 shows a form in which the polishing cassette 240 is attached to the polishing body 231, (a) shows a state in which the longitudinal direction of the cassette body 241 is parallel to the central axis 222 of the screw conveyor 221, and (b) shows (a). Unlike FIG., It shows an oblique state. As shown in FIG. 25A, the polishing cassette 240 may be attached in a state where the longitudinal direction of the cassette body 241 is parallel to the central axis 222 of the screw conveyor 221 of the transport unit 220. However, in such an attachment mode, the polishing effective range (B) of the polishing pad 243 is limited to an elongated range (shaded range) parallel to the longitudinal direction of the polishing pad 243. Therefore, since the other range (white range) (A) is not used, the use efficiency of the polishing pad 243 is low. In FIG. 25A, the effective polishing range (B) of the polishing pad 243 and the transport route (C) of the sphere T by the meandering transport guide 236 substantially coincide with each other.
これに対して、図25(b)に示すように、カセット本体241の長手方向を搬送部220のスクリューコンベア221の中心軸222(搬送方向)に対して斜めとなるように研磨カセット240を研磨本体部231に取り付ける態様を考える。この場合、蛇行する搬送ガイド236による球Tの搬送ルート(ハ)が、研磨布243の長手方向に対して斜めになる。そのため、研磨布243の送り(移動)を考慮すると、研磨布243の研磨有効範囲(ロ)が、研磨布243の全幅に跨るように広げられる。それにより、研磨布送り手段244により送られる研磨布243の全面が球Tの研磨(清掃)に使用されることとなり、研磨布243の使用効率が向上する。
On the other hand, as shown in FIG. 25B, the polishing cassette 240 is polished such that the longitudinal direction of the cassette body 241 is inclined with respect to the central axis 222 (conveying direction) of the screw conveyor 221 of the conveying unit 220. Consider a mode of attachment to the main body 231. In this case, the transport route (c) of the sphere T by the meandering transport guide 236 is inclined with respect to the longitudinal direction of the polishing pad 243. Therefore, when feeding (moving) of the polishing pad 243 is taken into consideration, the effective polishing range (B) of the polishing pad 243 is expanded so as to straddle the entire width of the polishing pad 243. Thereby, the entire surface of the polishing pad 243 fed by the polishing pad feeding means 244 is used for polishing (cleaning) the sphere T, and the use efficiency of the polishing pad 243 is improved.
本実施の形態では、このような図25(b)の斜め送りの場合の研磨有効面積は、図25(a)の平行送りの場合の約2.3倍となっている。したがって、球研磨装置200の消耗品コストの低減が可能である。また、研磨布243の面積が有効に使用されるので、研磨布243の送り頻度、すなわち、研磨用モータ234の駆動頻度を少なくすることができる。加えて、研磨布243の交換頻度を少なくすることができる。したがって、球研磨装置200の運転コスト、メンテナンスコストの低減も可能である。
In the present embodiment, the effective polishing area in the case of the oblique feed shown in FIG. 25B is about 2.3 times that in the parallel feed shown in FIG. Therefore, it is possible to reduce the consumables cost of the ball polishing apparatus 200. Further, since the area of the polishing pad 243 is used effectively, the feeding frequency of the polishing pad 243, that is, the driving frequency of the polishing motor 234 can be reduced. In addition, the replacement frequency of the polishing pad 243 can be reduced. Therefore, the operation cost and maintenance cost of the ball polishing apparatus 200 can be reduced.
なお、図12、図13および図25では、球研磨装置200の搬送部220および研磨部230が球Tを2列で球研磨する場合の例を図示している。しかし、球Tを3列以上で球研磨する構造とすることもできる。
12, FIG. 13, and FIG. 25 illustrate an example in which the transport unit 220 and the polishing unit 230 of the ball polishing apparatus 200 perform ball polishing of the balls T in two rows. However, it is also possible to adopt a structure in which the spheres T are sphere polished in three or more rows.
以上のような研磨本体部231および研磨カセット240を有する研磨部230の動作について説明する。図26は、図25(b)に示すような斜めの状態で取り付けられた研磨カセット240を背面壁241d側から見た状態を示す斜視図である。図27は、斜めの状態で取り付けられた研磨カセット240の研磨布243に接する搬送中の球Tの動きを示す図である。
The operation of the polishing unit 230 having the polishing main body 231 and the polishing cassette 240 as described above will be described. FIG. 26 is a perspective view showing a state in which the polishing cassette 240 attached in an oblique state as shown in FIG. 25B is viewed from the back wall 241d side. FIG. 27 is a diagram illustrating the movement of the ball T during conveyance in contact with the polishing pad 243 of the polishing cassette 240 attached in an oblique state.
スクリューコンベア221の中心軸には歯車(図示省略)が固着され、その歯車は球搬送モータ228の回転軸に固着されている歯車(図示省略)と噛合されている。したがって、球搬送モータ228を所定方向に回転すると、スクリューコンベア221が回転されるため、導入部210からスクリューコンベア221の帯板223の間の空間224に進入した球Tは回転している帯板223により搬送路226を搬送(揚送)される。すると、図26および図27に示すように、搬送される球Tは、研磨本体部231の球蛇行領域2314において搬送ガイド236により蛇行されながら、研磨カセット240の研磨布243に接触し、その接触によって球Tが研磨(清掃)される。
A gear (not shown) is fixed to the central axis of the screw conveyor 221, and the gear is engaged with a gear (not shown) fixed to the rotation shaft of the ball transport motor 228. Accordingly, when the ball transport motor 228 is rotated in a predetermined direction, the screw conveyor 221 is rotated, so that the ball T that has entered the space 224 between the strips 223 of the screw conveyor 221 from the introduction unit 210 is rotating. The conveyance path 226 is conveyed (lifted) by 223. Then, as shown in FIGS. 26 and 27, the sphere T to be conveyed comes into contact with the polishing cloth 243 of the polishing cassette 240 while being meandered by the conveyance guide 236 in the sphere meandering region 2314 of the polishing body 231. Thus, the sphere T is polished (cleaned).
<(5)研磨部の第2構成例>
次に、球研磨装置200の研磨部230の第2構成例について説明する。図28は、球研磨装置200の研磨部230の第2構成例を示す分解斜視図である。図29は、図28の状態においてギヤカバー235aの一部を省略して研磨部230の駆動部位を示す斜視図である。図30は、図28の研磨部230の研磨本体部231における搬送ガイド236が蛇行されている状態を示す斜視図である。
<(5) Second configuration example of polishing unit>
Next, a second configuration example of the polishing unit 230 of the ball polishing apparatus 200 will be described. FIG. 28 is an exploded perspective view showing a second configuration example of the polishing unit 230 of the sphere polishing apparatus 200. FIG. 29 is a perspective view showing a drive part of the polishing unit 230 with a part of the gear cover 235a omitted in the state of FIG. FIG. 30 is a perspective view showing a state where the conveyance guide 236 in the polishing main body 231 of the polishing unit 230 of FIG. 28 is meandering.
なお、研磨部230の第2構成例は、基本的な構成が第1構成例の研磨部230と同様である。そのため、第2構成例の研磨部230についても、第1構成例の研磨部230と同じ符号を用いて説明する。なお、第2構成例の図28、図30は、第1構成例の図14、図15にそれぞれ対応する。
The basic configuration of the second configuration example of the polishing unit 230 is the same as that of the polishing unit 230 of the first configuration example. Therefore, the polishing unit 230 of the second configuration example will be described using the same reference numerals as the polishing unit 230 of the first configuration example. 28 and 30 of the second configuration example correspond to FIGS. 14 and 15 of the first configuration example, respectively.
図28から図30に示す構成では、搬送路226は1列のみ設けられている。そのため、研磨部230の第2構成例では、搬送ガイド236が2列ではなく、1列のみ設けられた構成となっている。このような1列のみの搬送ガイド236が設けられる構成は、特に、球Tが少ない遊技機Bに用いることが可能である。特に、球Tが遊技機B内に予め封入されているような非開放型の遊技機では、図28から図30に示すような搬送路226が1列のみの第2構成例が適したものとなっている。それとは逆に、開放型である単体島Aのような構成では、使用される球Tの数が多いので、上述したような搬送路226が2列設けられているような第1構成例が適したものとなっている。
In the configuration shown in FIGS. 28 to 30, only one row of the conveyance paths 226 is provided. Therefore, in the second configuration example of the polishing unit 230, the conveyance guides 236 are not provided in two rows but only in one row. Such a configuration in which only one row of conveyance guides 236 is provided can be used particularly for the gaming machines B having a small number of balls T. In particular, in a non-open type gaming machine in which the ball T is encapsulated in the gaming machine B in advance, the second configuration example in which the conveying path 226 has only one row as shown in FIGS. 28 to 30 is suitable. It has become. On the other hand, in the configuration like the single island A that is an open type, since the number of the balls T used is large, there is a first configuration example in which two rows of the transport paths 226 as described above are provided. It is suitable.
また、第2構成例では、図14と図28の比較等で明らかなように、搬送ガイド236が1列のみ設けられていることに起因して、研磨カセット240の幅は、第1構成例の研磨カセット240の幅と比較して、狭くすることが可能である。
Further, in the second configuration example, as apparent from the comparison between FIG. 14 and FIG. 28, the width of the polishing cassette 240 is the first configuration example due to the fact that the conveyance guide 236 is provided in only one row. The width of the polishing cassette 240 can be made narrower.
なお、図29では、研磨用モータ234等のような研磨部230の駆動部位が示されている。この図29に示すように、研磨用モータ234の出力軸234aには、ウォームギヤ234bが取り付けられており、そのウォームギヤ234bはウォームホイール235cと噛み合っている。なお、ウォームホイール235cは、歯車235bと同軸かつ一体的に回転するように設けられている。このようなウォームギヤ234bを用いた構成とすることにより出力軸234a側からのみ作動可能になり、例えば研磨用モータ234の停止時に研磨布243が不要に移動することを防止できる。すなわち、研磨布243の弛みを防止できる。
In FIG. 29, a driving part of the polishing unit 230 such as the polishing motor 234 is shown. As shown in FIG. 29, a worm gear 234b is attached to the output shaft 234a of the polishing motor 234, and the worm gear 234b meshes with the worm wheel 235c. The worm wheel 235c is provided so as to rotate coaxially and integrally with the gear 235b. Such a configuration using the worm gear 234b can be operated only from the output shaft 234a side, and can prevent the polishing cloth 243 from moving unnecessarily when the polishing motor 234 is stopped, for example. That is, loosening of the polishing pad 243 can be prevented.
また、上部軸受部229には、球搬送モータ228の出力軸に取り付けられた駆動プーリ229aと、スクリューコンベア221の中心軸222の上端側に取り付けられた従動プーリ229bとが設けられている。そして、駆動プーリ229aと従動プーリ229bの間にはベルト229cが張設されている。このような構成により、球搬送モータ228の駆動力がスクリューコンベア221に伝達されて、当該スクリューコンベア221が回転駆動させられる。
Further, the upper bearing portion 229 is provided with a drive pulley 229 a attached to the output shaft of the ball transport motor 228 and a driven pulley 229 b attached to the upper end side of the central shaft 222 of the screw conveyor 221. A belt 229c is stretched between the driving pulley 229a and the driven pulley 229b. With such a configuration, the driving force of the ball transport motor 228 is transmitted to the screw conveyor 221 and the screw conveyor 221 is rotationally driven.
また、図31は、第2構成例の研磨カセット240を研磨本体部231に取り付ける形態を示し、(a)はカセット本体241の長手方向がスクリューコンベア221の中心軸222に平行な状態を示し、(b)は(a)とは異なり斜めの状態を示している。なお、この図31は、第1構成例に関する図25に対応する。第2構成例では、球Tの搬送ルート(ハ)が1本しかない。第1構成例のように球Tの搬送ルート(ハ)が2本ある場合には、2つの搬送ルート(ハ)とその間の部分が、第1構成例の場合よりも大きな幅を占める。そのため、第1構成例の研磨領域PFと第2構成例の研磨領域PFとが同じ面積であるとすると、第2構成例では、球Tの搬送ルート(ハ)が占める幅が狭くなり、それによって研磨カセット240の傾斜角度を大きくすることができる。
FIG. 31 shows a mode in which the polishing cassette 240 of the second configuration example is attached to the polishing body 231, (a) shows a state in which the longitudinal direction of the cassette body 241 is parallel to the central axis 222 of the screw conveyor 221, (B), unlike (a), shows an oblique state. FIG. 31 corresponds to FIG. 25 relating to the first configuration example. In the second configuration example, there is only one transport route (c) of the sphere T. When there are two transport routes (c) of the sphere T as in the first configuration example, the two transport routes (c) and the portion between them occupy a larger width than in the first configuration example. Therefore, assuming that the polishing area PF of the first configuration example and the polishing area PF of the second configuration example have the same area, in the second configuration example, the width occupied by the transport route (c) of the sphere T becomes narrower. Thus, the inclination angle of the polishing cassette 240 can be increased.
また、傾斜角度を大きくすることは、研磨布243の対角方向の長さを確保することにもつながり、それにより、第1構成例と研磨布243の研磨領域PFの長さが同じ場合には、十分な長さの研磨行路(搬送ルート)を確保することが可能となる。また、第1構成例と第2構成例の研磨行路(搬送ルート)を同じ長さとする場合には、研磨布243の長さを短くすることが可能となり、それによって研磨カセット240のコンパクト化を図ることができる。
Increasing the inclination angle also leads to securing the diagonal length of the polishing pad 243, and accordingly, when the length of the polishing region PF of the first configuration example and the polishing pad 243 is the same. Can secure a sufficiently long polishing path (conveyance route). In addition, when the polishing path (conveyance route) of the first configuration example and the second configuration example have the same length, the length of the polishing cloth 243 can be shortened, thereby reducing the size of the polishing cassette 240. Can be planned.
図32は、図31(b)に示すような斜めの状態で取り付けられた研磨カセット240を背面壁241d側から見た状態を示す斜視図である。図33は、斜めの状態で取り付けられた研磨カセット240の研磨布243に接する搬送中の球Tの動きを示す図である。これら第2構成例に関する図32、図33は、それぞれ第1構成例に関する図26、図27に対応するものである。そのため、この詳細についての説明は省略する。
FIG. 32 is a perspective view showing a state where the polishing cassette 240 attached in an oblique state as shown in FIG. 31B is viewed from the back wall 241d side. FIG. 33 is a diagram illustrating the movement of the ball T during conveyance in contact with the polishing cloth 243 of the polishing cassette 240 attached in an oblique state. FIGS. 32 and 33 relating to these second configuration examples correspond to FIGS. 26 and 27 relating to the first configuration example, respectively. Therefore, the description about this detail is abbreviate | omitted.
<(6)研磨布>
次に、研磨布243について説明する。なお、この研磨布243については、その構成のみならず、研磨布243の仕様も併せて説明する。
<(6) Abrasive cloth>
Next, the polishing pad 243 will be described. In addition, about this polishing cloth 243, not only the structure but the specification of the polishing cloth 243 is also demonstrated.
図34は、本実施の形態の研磨布243の仕様を示す図である。なお、(a)は素材である細長布243Mを接合する前、(b−1)と(b−2)は細長布243Mを接合する態様を示し、(c)は接合して研磨布243を形成した状態を示している。図34(a)に示すように、本実施の形態では、素材である細長布243Mのうち、長手方向の端部である長手方向端部243Pを斜めにカットする。なお、以下における「接合」とは、圧着でも良く、溶着でも良く、その他の手法を用いても良い。また、溶着を行う場合においても、加熱による溶着であっても良いが、たとえば図34(b−2)のような重ね合わせ部243Sが存在する場合には超音波により溶着しても良い。
FIG. 34 is a diagram showing the specifications of the polishing pad 243 of the present embodiment. In addition, (a) before joining the elongate cloth 243M which is a raw material, (b-1) and (b-2) show the aspect which joins elongate cloth 243M, (c) is joined, and polishing cloth 243 is joined. The formed state is shown. As shown in FIG. 34A, in the present embodiment, out of the elongated cloth 243M that is a material, a longitudinal end 243P that is an end in the longitudinal direction is cut obliquely. In the following, “joining” may be pressure bonding, welding, or other methods. Also, in the case of performing welding, welding by heating may be used, but when there is an overlapping portion 243S as shown in FIG. 34 (b-2), welding may be performed by ultrasonic waves.
次に、図34(b−1)に示すように、長手方向の両端部に長手方向端部243Pが存在する細長布243Mをリング状とし、カットされた長手方向端部243P同士を突き合わせて、突合せ部243Qを形成し、その突合せ部243Qを接合する。なお、この接合では、突合せ部243Qを形成する長手方向端部243P同士が、接合される。すると、図34(c)に示すように、長手方向に対して斜めとなる接合部243Rを有するリング状の研磨布243が形成される。
Next, as shown in FIG. 34 (b-1), the elongated cloth 243 </ b> M having the longitudinal ends 243 </ b> P at both ends in the longitudinal direction is formed into a ring shape, and the cut longitudinal ends 243 </ b> P are butted together. A butt portion 243Q is formed, and the butt portion 243Q is joined. In this joining, the longitudinal end portions 243P forming the butt portion 243Q are joined together. Then, as shown in FIG. 34C, a ring-shaped polishing cloth 243 having a joint portion 243R that is inclined with respect to the longitudinal direction is formed.
ここで、図34(b−2)に示すように、斜めにした部分を突き合わせるのに代えて、カットした部分同士を若干重ね、その重ね合わせた重ね合わせ部243Sを接合しても良い。
Here, as shown in FIG. 34 (b-2), instead of matching the inclined portions, the cut portions may be slightly overlapped, and the overlapped portion 243S may be joined.
このように、接合部243Rを有するリング状の研磨布243においては、製造過程において研磨布243の長さを調整することができる。すなわち、上述したような接合部243Rの存在しない、シームレスの研磨布243´では、その研磨布243´を製造する製造装置における、糸や繊維を巻き付ける円筒状の巻付部分の直径が定まってしまうと、その製造装置に対して大掛かりな変更を施さない限りは、研磨布243´の長さを変更することができない。これに対して、本実施の形態の研磨布243では、斜めにカットされる長手方向端部243Pを形成する位置を、細長布243Mにおいて変更するだけで、研磨布243の長さを変更できる。それにより、球研磨装置200の設計変更により研磨布243の長さを変更したい場合でも、研磨布243の長さ変更を容易に行える。
Thus, in the ring-shaped polishing cloth 243 having the joint portion 243R, the length of the polishing cloth 243 can be adjusted during the manufacturing process. That is, in the seamless polishing cloth 243 ′ without the joining portion 243R as described above, the diameter of the cylindrical winding portion around which the yarn or fiber is wound is determined in the manufacturing apparatus for manufacturing the polishing cloth 243 ′. The length of the polishing pad 243 ′ cannot be changed unless the manufacturing apparatus is significantly changed. On the other hand, in the polishing pad 243 of the present embodiment, the length of the polishing pad 243 can be changed only by changing the position at which the longitudinal end 243P cut obliquely is changed in the elongated cloth 243M. Thereby, even when it is desired to change the length of the polishing pad 243 by changing the design of the ball polishing apparatus 200, the length of the polishing pad 243 can be easily changed.
また、図24に示すように、研磨布243が進行すると、接合部243Rがギヤローラ245aに巻き付くような状態となり、その後に、接合部243Rがギヤローラ245aとギヤローラ245bの間を通過する。
As shown in FIG. 24, when the polishing pad 243 advances, the joining portion 243R is wound around the gear roller 245a, and then the joining portion 243R passes between the gear roller 245a and the gear roller 245b.
図35は、研磨布243の接合部243Rが斜めである場合の作用を説明する図である。図35(a)では、接合部243Rがギヤローラ245aに差し掛かる前の状態を示している。しかし、図35(b)に示すように接合部243Rがギヤローラ245aに巻き付き、その後、図35(c)に示すように接合部243Rがギヤローラ245aとギヤローラ245bの間を通過する。
FIG. 35 is a diagram for explaining the operation when the bonding portion 243R of the polishing pad 243 is oblique. FIG. 35A shows a state before the joint portion 243R reaches the gear roller 245a. However, the joint 243R is wound around the gear roller 245a as shown in FIG. 35 (b), and then the joint 243R passes between the gear roller 245a and the gear roller 245b as shown in FIG. 35 (c).
ここで、接合部が研磨布243の幅方向に垂直である(短手方向に沿っている)ような従来構成の場合には、その研磨布243の幅全体に亘る接合部が、一度に同時にギヤローラ245aとギヤローラ245bの間に挟み込まれる。接合部は、熱圧着等により形成されるので、研磨布243の他の部分に比べて硬くなってしまうのが通常である。そのような硬い部分が、幅方向の全体に亘って一度に(同時に)ギヤローラ245aとギヤローラ245bの間に挟み込まれると、ギヤローラ245a,245bに対する負荷が増大してしまう。
Here, in the case of a conventional configuration in which the joint portion is perpendicular to the width direction of the polishing cloth 243 (along the short side direction), the joint portion over the entire width of the polishing cloth 243 is simultaneously It is sandwiched between the gear roller 245a and the gear roller 245b. Since the joining portion is formed by thermocompression bonding or the like, it is usually harder than other portions of the polishing pad 243. When such a hard portion is sandwiched between the gear roller 245a and the gear roller 245b at the same time (at the same time) over the entire width direction, the load on the gear rollers 245a and 245b increases.
これに対して、本実施の形態では、図34に示すように、硬い接合部243Rが研磨布243の幅方向に対して斜めとなる長手方向端部243Pを有している。それにより、図35(c)に示すように、ギヤローラ245a,245bの間に、硬い接合部243Rが、研磨布243の幅方向の全体に亘って一度に(同時に)挟み込まれるのを防止可能となり、接合部243Rの一部ずつが順次、ギヤローラ245a,245bの間を通過する。それにより、ギヤローラ245a,245bに対する負荷を軽減させることが可能となり、ひいては研磨用モータ234への負荷も軽減可能となる。それにより、ギヤローラ245a,245bや研磨用モータ234といった駆動部位の耐久性を向上させることができる。また、研磨用モータ234には、大型のモータを使用する必要が無い。
On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 34, the hard joint portion 243 </ b> R has a longitudinal end portion 243 </ b> P that is inclined with respect to the width direction of the polishing pad 243. As a result, as shown in FIG. 35 (c), it is possible to prevent the hard joint 243R from being sandwiched at once (simultaneously) across the entire width direction of the polishing pad 243 between the gear rollers 245a and 245b. Then, a part of the joint portion 243R sequentially passes between the gear rollers 245a and 245b. As a result, the load on the gear rollers 245a and 245b can be reduced, and the load on the polishing motor 234 can also be reduced. Thereby, durability of driving parts such as the gear rollers 245a and 245b and the polishing motor 234 can be improved. Further, it is not necessary to use a large motor for the polishing motor 234.
また、研磨布243には、長手方向や幅方向に対して斜めとなる接合部243Rが存在することにより、接合部が研磨布243の幅方向に垂直である(短手方向に沿っている)ような従来構成と比べて、接合部243Rの長さを長くすることができる。そのため、接合部243Rに対しての引っ張り強度を向上させることができる。
In addition, since the polishing cloth 243 has a bonding portion 243R that is inclined with respect to the longitudinal direction and the width direction, the bonding portion is perpendicular to the width direction of the polishing cloth 243 (along the short direction). Compared to such a conventional configuration, the length of the joint 243R can be increased. Therefore, the tensile strength with respect to the joint part 243R can be improved.
なお、上述の説明では、長手方向端部243Pは、平面方向で見た場合に、斜めにカットされたものとしている。しかしながら、長手方向端部243Pは、かかる平面方向における斜めのカットと共に、または平面方向における斜めのカットとは別に、厚み方向で見た場合に斜めにカットされる構成としても良い。
In the above description, the longitudinal end portion 243P is assumed to be cut obliquely when viewed in the planar direction. However, the longitudinal end 243P may be cut obliquely when viewed in the thickness direction, together with the oblique cut in the planar direction, or separately from the oblique cut in the planar direction.
また、接合部243R(長手方向端部243P)が研磨布243(細長布243M)の長手に対してなす傾斜角度αは、どのような角度でも良い。しかし、傾斜角度αが幅方向に対して平行に近付くような角度となると、ギヤローラ245a,245bに一度に(同時に)挟み込まれる接合部243Rの長さが長くなる。また、傾斜角度αが幅方向に対して垂直に近付くような角度となると、場合によっては図25(b)や図31(b)に示すような搬送ルート(ハ)と重なる長さが長くなってしまう状態となる。そのため、傾斜角度αは、たとえば45度程度とするのが最も好ましいが、たとえば30度から60度の範囲のように、他の角度範囲とすることもできる。
In addition, the inclination angle α formed by the joint portion 243R (longitudinal end portion 243P) with respect to the length of the polishing pad 243 (elongate cloth 243M) may be any angle. However, when the inclination angle α becomes an angle that approaches parallel to the width direction, the length of the joint portion 243R that is sandwiched at the same time (simultaneously) by the gear rollers 245a and 245b becomes longer. In addition, when the inclination angle α becomes an angle that approaches perpendicularly to the width direction, the length that overlaps the transport route (c) as shown in FIGS. 25B and 31B becomes longer in some cases. It will be in a state to end up. Therefore, it is most preferable that the inclination angle α is, for example, about 45 degrees, but other angle ranges such as a range of 30 degrees to 60 degrees can also be used.
ここで、図25(b)や図31(b)に示す場合では、研磨カセット240自体が傾斜して取り付けられる。そのため、研磨カセット240が傾斜して取り付けられる場合、傾斜している接合部243R(長手方向端部243P)は、図25(b)や図31(b)の紙面において、左下から右上に上がるような傾斜よりは、右下から左上に上がるような傾斜であることが好ましい。
Here, in the case shown in FIG. 25B or FIG. 31B, the polishing cassette 240 itself is inclined and attached. Therefore, when the polishing cassette 240 is attached with an inclination, the inclined joint part 243R (longitudinal end part 243P) rises from the lower left to the upper right on the paper surface of FIG. 25 (b) and FIG. 31 (b). It is preferable that the slope is such that it rises from the lower right to the upper left rather than a gentle slope.
すなわち、接合部243R(長手方向端部243P)が、研磨布243の幅方向や長手方向に対しては同じ傾斜角度であっても、研磨カセット240に対する研磨布243の裏表等の取り付けの相違によっては、傾斜の向きが図25(b)や図31(b)の紙面において左下から右上に上がるような傾斜と、右下から左上に上がるような傾斜とが実現される。しかし、図25(b)や図31(b)の紙面において左下から右上に上がるような傾斜では、接合部243Rが搬送ルート(ハ)に差し掛かる長さが長くなり、研磨(清掃)能力が低下する虞がある。そのため、接合部243R(長手方向端部243P)が図25(b)や図31(b)の紙面において、右下から左上に上がるような傾斜とすることで、接合部243R(長手方向端部243P)が搬送ルート(ハ)を横切る長さを短くすることが可能となり、研磨(清掃)能力を向上させることができる。
That is, even if the joint portion 243R (longitudinal end portion 243P) has the same inclination angle with respect to the width direction and the longitudinal direction of the polishing cloth 243, the difference in attachment of the back and front of the polishing cloth 243 to the polishing cassette 240 is caused. In FIG. 25 (b) and FIG. 31 (b), the inclination is such that the inclination increases from the lower left to the upper right and the inclination increases from the lower right to the upper left. However, in the inclination of the paper surface of FIG. 25 (b) or FIG. 31 (b) rising from the lower left to the upper right, the length of the joining portion 243R reaching the transport route (c) is increased, and the polishing (cleaning) capability is increased. May decrease. Therefore, the joining portion 243R (longitudinal end portion 243P) is inclined such that the joining portion 243R (longitudinal end portion 243P) rises from the lower right to the upper left in the paper surface of FIG. 25 (b) or FIG. 31 (b). 243P) can shorten the length of crossing the transport route (c), and the polishing (cleaning) ability can be improved.
また、接合部243Rの幅を、球Tの直径よりも小さくした場合には、球Tが接合部243Rに接する面積が減るので、研磨(清掃)効率が良い。また、研磨布243をナイロン繊維とポリエステル繊維の混合繊維製とした場合は、溶着が容易にでき、かつ、球の汚れを吸着しやすい利点がある。
Further, when the width of the joint portion 243R is made smaller than the diameter of the sphere T, the area where the sphere T is in contact with the joint portion 243R is reduced, so that the polishing (cleaning) efficiency is good. Further, when the polishing cloth 243 is made of a mixed fiber of nylon fiber and polyester fiber, there are advantages that welding can be easily performed and dirt on the sphere can be easily adsorbed.
<(7)研磨部の望ましい付加構成>
次に、研磨部230の望ましい付加構成について説明する。
(a)研磨カセット240の研磨布入口241hにおける研磨布243のダメージ軽減
研磨布243を挟持するギヤローラ245a,245bの長さが、研磨布243の幅(図36における高さ方向の寸法)よりも長い場合、研磨布送り時にギヤローラ245a,245bに挟み込まれた研磨布243の両端部分でのダメージが大きく、ホツレが発生する虞がある。特に、後述する図37(b)に示すようなヒートカット処理部243Hが存在する研磨布243´では、そのホツレが顕著となる。
<(7) Desirable additional configuration of polishing section>
Next, a desirable additional configuration of the polishing unit 230 will be described.
(A) Damage reduction of polishing cloth 243 at polishing cloth inlet 241h of polishing cassette 240 The length of gear rollers 245a and 245b sandwiching polishing cloth 243 is larger than the width of polishing cloth 243 (the dimension in the height direction in FIG. 36). When the polishing cloth is long, damage at both end portions of the polishing cloth 243 sandwiched between the gear rollers 245a and 245b during feeding of the polishing cloth is large, and there is a risk of fraying. In particular, the polishing cloth 243 ′ having the heat cut processing unit 243H as shown in FIG.
このようなホツレを防止するための、好ましい実施の形態を以下に説明する。図36は、研磨布243の端部におけるダメージ軽減を図るための構成例を説明する図であり、(a)はギヤローラ245a,245bの長さを研磨布243の幅より短くした構成を示し、(b)はギヤなし部245cを有するギヤローラ245a,245bを示す図である。
A preferred embodiment for preventing such a fray will be described below. FIG. 36 is a diagram illustrating a configuration example for reducing damage at the end of the polishing pad 243. FIG. 36A illustrates a configuration in which the length of the gear rollers 245a and 245b is shorter than the width of the polishing pad 243. (B) is a figure which shows the gear rollers 245a and 245b which have the gearless part 245c.
図36(a)に示すように、ギヤローラ245a,245bの長さLを、研磨布243の幅Wよりも若干短くする場合、研磨布243の幅方向の両端部は、ギヤローラ245a,245bに接触し難くなり、それにより、研磨布243の幅方向の両端側の端部243Tは、ギヤローラ245a,245bに挟み込まれなくなる。したがって、端部243Tでのホツレを防止することができ、それによって研磨布243の寿命を延ばすことが可能となる。なお、かかる寿命の延長は、後述する図37(b)に示すようなヒートカット処理部243Hが存在する研磨布243´で、顕著となる。
As shown in FIG. 36A, when the length L of the gear rollers 245a and 245b is made slightly shorter than the width W of the polishing pad 243, both ends in the width direction of the polishing pad 243 are in contact with the gear rollers 245a and 245b. Accordingly, the end portions 243T on both ends in the width direction of the polishing pad 243 are not sandwiched between the gear rollers 245a and 245b. Accordingly, it is possible to prevent fraying at the end portion 243T, thereby extending the life of the polishing pad 243. Note that the extension of the life becomes significant in the polishing pad 243 ′ having the heat cut processing unit 243H as shown in FIG.
また、図36(b)に示すように、ギヤローラ245b,245bの両端側に、ギヤなし部245cを設ける構成とすることもできる。なお、このギヤなし部245cの半径は、ギヤローラ245a,245bのうち中心から歯の先端までの距離(半径)よりも小さく設けられている。ギヤなし部245cは、ギヤローラ245a,245bの歯が存在しないような構成としても良いし、または回転軸246a,246bにスペーサを取り付けて構成しても良い。
Further, as shown in FIG. 36 (b), a configuration may be adopted in which gearless portions 245c are provided on both ends of the gear rollers 245b and 245b. The radius of the gearless portion 245c is smaller than the distance (radius) from the center to the tooth tip of the gear rollers 245a and 245b. The gearless portion 245c may be configured such that the teeth of the gear rollers 245a and 245b do not exist, or may be configured by attaching a spacer to the rotating shafts 246a and 246b.
ここで、図36(a)に示す構成のような、ギヤなし部245cが存在しない状態では、研磨布243の両端側の端部243T側を支持する部材が存在していないので、長期間の間に、研磨布243の端部243Tと、それ以外の部分とで伸縮量に差が生じる懸念がある。また、端部243Tがホツレたり変形する懸念がある。そのため、図36(b)のような、ギヤローラ245a,245bの両端側にギヤなし部245cが存在する構成とすることで、研磨布243の端部243Tがギヤなし部245cに接触する(回転軸246a,246bの軸方向で収まる)構成とすることにより、上記のような伸縮量に差が生じるのを低減可能となる。また、端部243Tがホツレたり変形することを防止することが可能となる。
Here, in the state where the gearless portion 245c does not exist as in the configuration shown in FIG. 36A, there is no member that supports the end portions 243T side of the both ends of the polishing pad 243. There is a concern that there is a difference in the amount of expansion and contraction between the end portion 243T of the polishing pad 243 and the other portions. In addition, there is a concern that the end portion 243T is frayed or deformed. Therefore, as shown in FIG. 36 (b), the gearless portions 245c exist on both ends of the gear rollers 245a and 245b, so that the end portion 243T of the polishing pad 243 contacts the gearless portion 245c (rotating shaft). 246a and 246b), it is possible to reduce the difference in the amount of expansion and contraction as described above. In addition, the end portion 243T can be prevented from being frayed or deformed.
なお、ギヤローラ245a,245bのギヤ部分は、インボリュ−ト歯車が用いられることが好ましい。かかるインボリュ−ト歯車が用いられる場合、研磨布243がギヤローラ245a,245bの間に介在しても、スムーズな噛合を実現できる。また、スムーズな噛合の実現により、研磨布243へのダメージを軽減させることもできる。
Note that involute gears are preferably used for the gear portions of the gear rollers 245a and 245b. When such an involute gear is used, smooth meshing can be realized even if the polishing pad 243 is interposed between the gear rollers 245a and 245b. In addition, by realizing smooth engagement, damage to the polishing pad 243 can be reduced.
次に、研磨布243の幅方向の端部243Tの好ましい実施の形態を以下に説明する。本実施の形態の研磨布243では、幅方向の端部がカットされていなく端縁織込部243Nが存在するように構成することが好ましい。図37は、研磨布243の構成を示す平面図であり、(a)は本実施の形態における研磨布243を示し、(b)は比較例としての研磨布243´を示している。なお、上述の研磨カセット240には、本実施の形態の研磨布243も、比較例に関する研磨布243´を用いることも可能である。
Next, a preferred embodiment of the end portion 243T in the width direction of the polishing pad 243 will be described below. It is preferable that the polishing pad 243 of the present embodiment is configured such that the end portion in the width direction is not cut and the edge weaving portion 243N exists. FIG. 37 is a plan view showing the configuration of the polishing pad 243, (a) shows the polishing pad 243 in the present embodiment, and (b) shows a polishing pad 243 'as a comparative example. In the above-described polishing cassette 240, the polishing cloth 243 of the present embodiment can be the polishing cloth 243 ′ related to the comparative example.
長尺の無端帯状の研磨布243´をシームレスに形成する場合は、上述したような円筒状の巻付部分を有する製造装置を用いて、たとえば直径3m、高さ1mの円筒状の素材を作り、その素材を幅5〜8cm単位でヒートカットする方法が考えられる。しかし、この方法の場合、図37(b)に示すように、研磨布243´の幅方向の端縁部には、ヒートカット処理部243Hが形成される。このヒートカット処理部243Hは、ヒートカットの際の熱により溶着して硬くなっている。そのため、研磨カセット240の研磨布送り手段244のギヤローラ245a,245bの間に、硬いヒートカット処理部243Hが噛み込まれてしまい、研磨布243´が送れなくなる虞がある。また、シームレスの研磨布243は、製造コストが高くなることは、既述したとおりである。
When seamlessly forming a long endless belt-like polishing cloth 243 ', a cylindrical material having a diameter of 3 m and a height of 1 m, for example, is produced using a manufacturing apparatus having a cylindrical winding portion as described above. A method of heat-cutting the material in units of 5 to 8 cm in width is conceivable. However, in the case of this method, as shown in FIG. 37 (b), a heat cut processing part 243H is formed at the edge in the width direction of the polishing pad 243 ′. This heat cut processing part 243H is welded and hardened by heat at the time of heat cut. Therefore, the hard heat cut processing unit 243H may be caught between the gear rollers 245a and 245b of the polishing cloth feeding unit 244 of the polishing cassette 240, and the polishing cloth 243 'may not be fed. Further, as described above, the seamless polishing cloth 243 has a high manufacturing cost.
これに対して、本実施の形態の研磨布243を図37(a)に示す。図37(a)に示すように、本実施の形態の研磨布243は、綾織り等のような織り込みにより形成されていて、幅方向の端部にも綾織りによる端縁織込部243Nが存在している。すなわち、研磨布243には、溶着して硬くなっているヒートカット処理部243Hが存在しなく、その代わりに綾織り等で織り込んでいる端縁織込部243Nが存在する状態となっている。ここで、ヒートカット処理部243Hを形成する場合には、繊維(糸)のレベルでの接合バラつき等により、研磨布243を使用しているうちに繊維(糸)が解けるようなホツレや変形が生じることが多い。しかし、端縁織込部243Nでは、ヒートカット処理部243Hと比較してホツレや変形が生じ難くなる。そのため、ギヤローラ245a,245bにホツレた部分や変形した部分が絡まるのが防止される。それにより、研磨布243は、長期に亘って安定的に研磨(清掃)能力を発揮させることができる。
In contrast, the polishing pad 243 of the present embodiment is shown in FIG. As shown in FIG. 37 (a), the polishing cloth 243 of the present embodiment is formed by weaving such as a twill weave, and an edge weaving portion 243N by twill weaving is also provided at the end in the width direction. Existing. That is, the polishing pad 243 does not have the heat cut processing unit 243H that is welded and hardened, but instead has an edge weaving unit 243N that is woven by twill weaving or the like. Here, when the heat cut processing unit 243H is formed, a fray or deformation such that the fiber (yarn) can be unwound while the polishing cloth 243 is being used due to variations in bonding at the fiber (yarn) level. Often occurs. However, the edge weaving portion 243N is less likely to be frayed or deformed as compared with the heat cut processing portion 243H. For this reason, the gear roller 245a, 245b is prevented from being entangled with a part that is frayed or deformed. Thereby, the polishing pad 243 can exhibit the polishing (cleaning) ability stably over a long period of time.
また、上記のようなヒートカット処理部243Hが存在しなく、その代わりに端縁織込部243Nが存在するため、研磨布243を移動させる場合に、その研磨布243の全体を均等に使用して、球Tを研磨(清掃)することができる。それにより、研磨布243は、研磨(清掃)能力を大幅に向上させることができる。
In addition, since the heat cut processing unit 243H as described above does not exist, and the edge weaving unit 243N exists instead, the entire polishing cloth 243 is used evenly when the polishing cloth 243 is moved. Thus, the sphere T can be polished (cleaned). Thereby, the polishing pad 243 can greatly improve the polishing (cleaning) ability.
なお、比較例の研磨布243´でも、本実施の形態の研磨布243でも、無端状に形成されているものであれば、研磨布243´または研磨布243を移動させることで繰り返し使用可能となるので、研磨布243´または研磨布243を長期間に亘って使用することは勿論可能となる。
It should be noted that the polishing cloth 243 ′ of the comparative example and the polishing cloth 243 of the present embodiment can be used repeatedly by moving the polishing cloth 243 ′ or the polishing cloth 243 as long as they are formed in an endless shape. Therefore, it is of course possible to use the polishing pad 243 ′ or the polishing pad 243 for a long period of time.
(b)研磨カセット240の研磨布入口241hにおける研磨布243の巻き込み防止
図38は、図24の研磨カセット240の左側部分の拡大図である。図38に示すように、カセット本体241のうち、研磨布入口241hの近傍には、アシスト壁部241kが設けられている。カセット本体241の内壁面の一部をギヤローラ245a側に向けて張り出すように設けられている。しかも、アシスト壁部241kは、研磨布243のガイド性が良好となるように湾曲して設けられている。
(B) Prevention of Entrainment of Polishing Cloth 243 at Polishing Cloth Entrance 241h of Polishing Cassette 240 FIG. 38 is an enlarged view of the left side portion of the polishing cassette 240 of FIG. As shown in FIG. 38, an assist wall 241k is provided in the cassette body 241 in the vicinity of the polishing cloth inlet 241h. A part of the inner wall surface of the cassette body 241 is provided so as to protrude toward the gear roller 245a. Moreover, the assist wall portion 241k is provided to be curved so that the guide property of the polishing pad 243 is good.
なお、かかるアシスト壁部241kの存在により、ギヤローラ245aとアシスト壁部241kの間の通路241mの幅は、研磨布入口241hの幅と比べて大幅に狭くなっている。そのため、研磨布243が搬送される際に、研磨布243の挙動が不安定になり、研磨布243があばれてしまうのを防止可能となる。また、研磨布入口241hを通過した研磨布243がギヤローラ245aに接触するタイミングを早くすることが可能となる。
The presence of the assist wall 241k makes the width of the passage 241m between the gear roller 245a and the assist wall 241k significantly smaller than the width of the polishing pad 241h. Therefore, when the polishing cloth 243 is conveyed, the behavior of the polishing cloth 243 becomes unstable, and the polishing cloth 243 can be prevented from being exposed. In addition, the timing at which the polishing cloth 243 that has passed through the polishing cloth inlet 241h contacts the gear roller 245a can be accelerated.
ここで、背面壁241dのうち研磨布入口241h側の端部と、ギヤローラ245aの歯の頂面部分を結ぶ接線を考える。この接線に対し、アシスト壁部241kには交差する部分(接線を超えている部分;交差部241k1とする)が存在していることが好ましい。かかる交差部241k1が存在すれば、研磨布243をアシスト壁部241kに接触させる確実性を一層向上させることができる。また、研磨布入口241hを通過した研磨布243がギヤローラ245aに接触するタイミングを、一層早くすることが可能となる。
Here, a tangent line connecting the end of the rear wall 241d on the polishing cloth inlet 241h side and the top surface portion of the teeth of the gear roller 245a is considered. It is preferable that the assist wall portion 241k has an intersecting portion (portion exceeding the tangent; intersecting portion 241k1) with respect to the tangent. If such an intersection 241k1 exists, the certainty of bringing the polishing pad 243 into contact with the assist wall 241k can be further improved. In addition, the timing at which the polishing cloth 243 that has passed through the polishing cloth inlet 241h contacts the gear roller 245a can be made earlier.
また、図38に示すように、研磨カセット240の収容空間242のうち、ギヤローラ245aよりも研磨布入口241h側の部位には、その研磨布入口241h側から収容空間242における研磨布243の搬送方向の下流側に向かうように、弧状の周状壁面248A1を有する研磨布ガイド248Aが設けられている。この研磨布ガイド248Aは、収容空間242に引き込まれる研磨布243がギヤローラ245aに巻き込まれるのを防止するための部材である。
Further, as shown in FIG. 38, in the storage space 242 of the polishing cassette 240, the polishing cloth 243 is transported in the storage space 242 from the polishing cloth inlet 241 h side to the portion closer to the polishing cloth inlet 241 h than the gear roller 245 a. A polishing cloth guide 248A having an arcuate circumferential wall surface 248A1 is provided so as to go downstream. The abrasive cloth guide 248A is a member for preventing the abrasive cloth 243 drawn into the accommodation space 242 from being caught in the gear roller 245a.
また、研磨カセット240の収容空間242のうち、ギヤローラ245bを挟んでギヤローラ245aとは反対側の部位(図38ににおいて紙面上側の部位)には、研磨布ガイド248Bが設けられている。この研磨布ガイド248Bも、ギヤローラ245bを覆うように弧状の周状壁面を有している。
Further, a polishing cloth guide 248B is provided in a portion of the storage space 242 of the polishing cassette 240 opposite to the gear roller 245a with respect to the gear roller 245b (portion on the upper side in FIG. 38). The polishing pad guide 248B also has an arcuate circumferential wall surface so as to cover the gear roller 245b.
すなわち、ギヤローラ245a,245bが、それぞれ研磨布ガイド248A,248Bの周状壁面248A1,248B1で覆われていないとすると、研磨布243はギヤローラ245a,245bに巻き込まれてしまう。そのため、それぞれのギヤローラ245a,245bには、周状壁面248A1,248B1を有する研磨布ガイド248A,248Bが配置されている。そして、周状壁面248A1,248B1は、隙間249A,249Bをそれぞれ隔てて、ギヤローラ245a,245bと対向している。なお、研磨布ガイド248A,248Bは、それぞれネジB1,B2を介してカセット本体241の底面壁241bに固定される。
That is, if the gear rollers 245a and 245b are not covered with the circumferential wall surfaces 248A1 and 248B1 of the polishing cloth guides 248A and 248B, the polishing cloth 243 is wound around the gear rollers 245a and 245b. Therefore, abrasive cloth guides 248A and 248B having circumferential wall surfaces 248A1 and 248B1 are disposed on the gear rollers 245a and 245b, respectively. The circumferential wall surfaces 248A1 and 248B1 are opposed to the gear rollers 245a and 245b with gaps 249A and 249B therebetween, respectively. The polishing pad guides 248A and 248B are fixed to the bottom wall 241b of the cassette body 241 via screws B1 and B2, respectively.
しかし、図38に示すような周状壁面248A1,248B1を有するのみでは、隙間249A,249Bに研磨布243が入り込んでしまい、研磨布243を噛んでしまう虞がある。そこで、そのような研磨布243の噛み込みを防止するための研磨布ガイド248A,248Bの構成の詳細について、図39に基づいて説明する。
However, if only the circumferential wall surfaces 248A1 and 248B1 as shown in FIG. 38 are provided, the polishing cloth 243 may enter the gaps 249A and 249B, and the polishing cloth 243 may be bitten. Therefore, details of the configuration of the polishing pad guides 248A and 248B for preventing the polishing pad 243 from being bitten will be described with reference to FIG.
図39は、ギヤローラ245a,245b、回転軸246a,246bおよび研磨布ガイド248A,248Bの構成を示す斜視図であり、(a)は組み付け前の分解斜視図、(b)は組み付け状態を示す斜視図、(c)は研磨布243がギヤローラ245a,245bの間に挟み込まれた状態を示す斜視図である。図39に示すように、ギヤローラ245a,245bには、回転軸246a、246bの軸方向に沿って複数の小ギヤ部2451a,2451bが設けられていて、それぞれの小ギヤ部2451a,2451bの間には、間隙部2452a,2452bがそれぞれ設けられている。
39 is a perspective view showing the configuration of the gear rollers 245a and 245b, the rotating shafts 246a and 246b, and the polishing pad guides 248A and 248B. FIG. 39A is an exploded perspective view before the assembly, and FIG. 39B is a perspective view showing the assembled state. FIG. 4C is a perspective view showing a state in which the polishing pad 243 is sandwiched between the gear rollers 245a and 245b. As shown in FIG. 39, the gear rollers 245a and 245b are provided with a plurality of small gear portions 2451a and 2451b along the axial direction of the rotation shafts 246a and 246b, and between the small gear portions 2451a and 2451b. Are provided with gaps 2452a and 2452b, respectively.
一方、研磨布ガイド248A,248Bには、邪魔板部248A2,248B2が設けられていて、その邪魔板部248A2,248B2には、回転軸246a,246bと干渉せずに回転軸246a,246bの回転をガイドするための支持凹部248A3,248B3が設けられている。そして、図39(b)に示すように、このような邪魔板部248A2,248B2が、小ギヤ部2451a,2451bの間の間隙部2452a,2452bに入り込む。
On the other hand, the polishing cloth guides 248A and 248B are provided with baffle plate portions 248A2 and 248B2, and the baffle plate portions 248A2 and 248B2 do not interfere with the rotation shafts 246a and 246b and rotate with the rotation shafts 246a and 246b. Support recesses 248A3 and 248B3 are provided for guiding the above. Then, as shown in FIG. 39B, such baffle plate portions 248A2 and 248B2 enter the gap portions 2452a and 2452b between the small gear portions 2451a and 2451b.
なお、邪魔板部248A2,248B2の周状壁面248A1,248B1側の付け根部分は、周状壁面248A1,248B1の一端側から他端側まで延在している。そのため、研磨布243が隙間249A,249Bに入り込もうとしても、その研磨布243の入り込みは、邪魔板部248A2,248B2によって阻止される。それにより、研磨布243の噛み込みを確実に防止することが可能となっている。
Note that the base portions of the baffle plate portions 248A2 and 248B2 on the side of the circumferential wall surfaces 248A1 and 248B1 extend from one end side to the other end side of the circumferential wall surfaces 248A1 and 248B1. Therefore, even if the polishing cloth 243 tries to enter the gaps 249A and 249B, the entry of the polishing cloth 243 is blocked by the baffle plate portions 248A2 and 248B2. Thereby, it is possible to reliably prevent the polishing cloth 243 from being caught.
ここで、図39に示す構成の変形例を図40に示す。図40は、変形例に係るギヤローラ245a,245b、回転軸246a,246bおよび研磨布ガイド248A,248Bの構成を示す斜視図であり、(a)は組み付け前の分解斜視図、(b)は組み付け状態を示す斜視図、(c)は研磨布243がギヤローラ245a,245bの間に挟み込まれた状態を示す斜視図である。
Here, a modification of the configuration shown in FIG. 39 is shown in FIG. FIG. 40 is a perspective view showing the configuration of gear rollers 245a and 245b, rotating shafts 246a and 246b, and polishing cloth guides 248A and 248B according to a modification, (a) is an exploded perspective view before assembly, and (b) is assembly. FIG. 4C is a perspective view showing a state in which the polishing pad 243 is sandwiched between the gear rollers 245a and 245b.
この図40に示すように、研磨布ガイド248A,248Bの両端側には、それぞれ鍔部248A4,248B4が設けられている。鍔部248A4,248B4は、回転軸246a,246bの端部側に位置する小ギヤ部2451a,2451bが、振れてしまう(移動してしまう)のを抑えるための部分である。かかる鍔部248A4,248B4が存在する場合、次のような利点がある。
As shown in FIG. 40, flange portions 248A4 and 248B4 are provided on both ends of the polishing pad guides 248A and 248B, respectively. The flange portions 248A4 and 248B4 are portions for suppressing the small gear portions 2451a and 2451b located on the end side of the rotating shafts 246a and 246b from swinging (moving). When such flanges 248A4 and 248B4 are present, there are the following advantages.
すなわち、上述したような、幅方向の端縁部にヒートカット処理部243Hが存在するような研磨布243´においては、繊維(糸)のレベルでの接合バラつき等により、研磨布243´を使用しているうちに繊維(糸)が解けるようなホツレや変形が生じることが多い。そのため、ヒートカット処理部243Hに対して、小ギヤ部2451a,2451bが振れて(移動して)挟み込んでしまうと、ホツレや変形が生じ易くなる。このようなホツレや変形を防止するために、鍔部248A4,248B4によって、回転軸246a,246bの端部側に位置する小ギヤ部2451a,2451bが振れる(移動する)のを抑えている。それにより、上述のようなホツレや変形が生じるのを抑えることが可能となる。
That is, as described above, in the polishing cloth 243 ′ in which the heat cut processing part 243 H exists at the edge in the width direction, the polishing cloth 243 ′ is used due to bonding variation at the fiber (thread) level. In many cases, fraying or deformation that causes the fibers (yarns) to unravel occurs. Therefore, if the small gear portions 2451a and 2451b are swung (moved) and pinched with respect to the heat cut processing portion 243H, fraying and deformation are likely to occur. In order to prevent such fraying and deformation, the flange portions 248A4 and 248B4 prevent the small gear portions 2451a and 2451b located on the end side of the rotating shafts 246a and 246b from swinging (moving). Thereby, it is possible to suppress the occurrence of the above-described fraying and deformation.
なお、大きなホツレや変形が研磨布243´に生じると、研磨布243´の巻き込みが発生し易くなる。しかし、鍔部248A4,248B4の存在によって、上述のようにホツレや変形が生じるのを抑えることにより、研磨布243´の巻き込みを防止することが可能となる。また、前述の図36(b)の構成と同様な効果があり、研磨布243´の巻き込みを防止することが可能となる。
In addition, if large fraying or deformation occurs in the polishing pad 243 ', the polishing pad 243' is likely to be caught. However, the presence of the flanges 248A4 and 248B4 can prevent the polishing cloth 243 'from being caught by suppressing the occurrence of fraying and deformation as described above. In addition, there is an effect similar to the configuration of FIG. 36B described above, and it is possible to prevent the polishing cloth 243 'from being caught.
図41は、カセット本体241の研磨布入口241h付近の構成を示す部分的な平面図であり、(a)は研磨布入口241h付近の概略構成を示す図であり、(b)は可動壁2413の取付構成の一例を示す図である。図41(a)に示すように、研磨布入口241hを構成する部位には、可動壁2413が設けられている。可動壁2413は、研磨布入口241hの空間に面する入口壁面2413aを有している。
FIG. 41 is a partial plan view showing a configuration in the vicinity of the polishing cloth inlet 241h of the cassette body 241, (a) is a diagram showing a schematic configuration in the vicinity of the polishing cloth inlet 241h, and (b) is a movable wall 2413. It is a figure which shows an example of this attachment structure. As shown in FIG. 41 (a), a movable wall 2413 is provided at a site constituting the polishing pad inlet 241h. The movable wall 2413 has an inlet wall surface 2413a facing the space of the polishing pad inlet 241h.
この入口壁面2413aは、図41(a)に示すように、背面壁241dの壁面に沿って研磨布243が進行する方向で考えると、入口壁面2413aは、ギヤローラ245aの端面壁241e側の端部245a1よりも、研磨布入口241h側に突出している。すなわち、入口壁面2413aは端部245a1よりもK2だけ研磨布入口241hの空間側に突出している。なお、図41(a)では、寸法K2以外に、研磨布入口241hの幅を示す寸法K1も示されていて、当然ながらK1>K2となっている。
As shown in FIG. 41 (a), the inlet wall surface 2413a is an end portion on the end wall 241e side of the gear roller 245a when the polishing cloth 243 is considered to travel along the wall surface of the back wall 241d. It protrudes to the polishing cloth inlet 241h side from 245a1. That is, the inlet wall surface 2413a protrudes toward the space of the polishing pad inlet 241h by K2 from the end portion 245a1. In FIG. 41A, in addition to the dimension K2, a dimension K1 indicating the width of the polishing pad inlet 241h is also shown, and naturally K1> K2.
入口壁面2413aは、その上下方向(ここでは研磨布243の幅方向と同じ方向)に亘って研磨布入口241hの空間側に突出する位置が同じ位置となっている。かかる可動壁2413は、研磨布入口241hの幅を調整可能とするように、スライド可能に設けられている。このような幅を調整可能とすることで、研磨布入口241hに研磨布243を通す前後において、研磨布入口241hの幅を調整可能となる。それにより、研磨布243をセットする前のときには研磨布入口241hを通し易いように研磨布入口241hの幅を広げる状態とすることができる。
The inlet wall surface 2413a has the same position in the vertical direction (here, the same direction as the width direction of the polishing pad 243) protruding toward the space of the polishing pad inlet 241h. The movable wall 2413 is slidably provided so that the width of the polishing cloth inlet 241h can be adjusted. By making such a width adjustable, the width of the polishing cloth inlet 241h can be adjusted before and after the polishing cloth 243 is passed through the polishing cloth inlet 241h. Thereby, before setting the polishing cloth 243, the width of the polishing cloth inlet 241h can be widened so that the polishing cloth inlet 241h can be easily passed.
また、研磨布243をセットして研磨布入口241hを通した後には、研磨布入口241hの幅が狭くなるように空間側に入口壁面2413aを突出させることができる。それにより、研磨布入口241hを通過した研磨布243を、早くギヤローラ245aに接触させることができる。それにより、研磨布243に余分な弛み等が生じるのを防止可能となり、それによって研磨布243が、いわゆる暴れてしまうような挙動となるのを防ぐことができる。
Further, after the polishing cloth 243 is set and passed through the polishing cloth inlet 241h, the inlet wall surface 2413a can be protruded toward the space so that the width of the polishing cloth inlet 241h is narrowed. Thereby, the polishing cloth 243 that has passed through the polishing cloth inlet 241h can be brought into contact with the gear roller 245a quickly. As a result, it is possible to prevent the polishing cloth 243 from being excessively slackened, and thereby the polishing cloth 243 can be prevented from becoming a so-called violent behavior.
なお、スライド可能な可動壁2413を設けることは、メンテナンスの際にも有利となる。すなわち、研磨布入口241hが狭くてごみ他の異物が詰まり易いときには、メンテナンスの際に、研磨布入口241hを広げるように調整可能となる。また、研磨布243をセットした当初の段階では研磨布243の挙動が良好であっても、長期に亘る使用により研磨布243の挙動が良好でなくなる場合には、たとえば研磨布入口241hを狭めるように可動壁2413をスライドさせたり、逆に研磨布入口241hを広げるように可動壁2413をスライドさせることにより、長期に亘る使用後であっても、研磨布243の挙動の安定化を図ることができる。
Note that the provision of the slidable movable wall 2413 is advantageous also during maintenance. That is, when the polishing cloth inlet 241h is narrow and dust and other foreign matters are easily clogged, it can be adjusted to widen the polishing cloth inlet 241h during maintenance. Further, even if the polishing cloth 243 has a good behavior at the initial stage of setting the polishing cloth 243, if the polishing cloth 243 does not have a good behavior due to long-term use, for example, the polishing cloth inlet 241h is narrowed. By sliding the movable wall 2413 or sliding the movable wall 2413 so as to widen the polishing cloth inlet 241h, the behavior of the polishing cloth 243 can be stabilized even after long-term use. it can.
可動壁2413は、たとえば図41(b)に示すように構成することができる。図41(b)に示す構成では、舌片2411の裏面側に可動壁2413のフランジ部2413bが重ねられる。フランジ部2413bには、長孔2413cが設けられていて、その長孔2413cは孔2412と上下で重なるように配置される。そして、重ねられた長孔2413cと孔2412の双方に、ネジやボルトを通すことで、可動壁2413が固定される。なお、図41(b)に示す場合には、可動壁2413は、上下方向で2分割される構成とすることもできるが、そのようには2分割の構成とせずに、上下方向で1つに一体化された構成としても良い。この一体化構成の場合、舌片2411を省略する構成とすることもできるが、舌片2411やネジ等が入り込むような窪み(凹部)を可動壁2413の上下方向の中央部分に設けるようにしても良い。
The movable wall 2413 can be configured, for example, as shown in FIG. In the configuration shown in FIG. 41B, the flange portion 2413b of the movable wall 2413 is overlaid on the back surface side of the tongue piece 2411. The flange portion 2413b is provided with a long hole 2413c, and the long hole 2413c is arranged so as to overlap the hole 2412 vertically. And the movable wall 2413 is fixed by letting a screw or a bolt pass through both the elongated hole 2413c and the hole 2412 that are overlapped. In the case shown in FIG. 41 (b), the movable wall 2413 can be divided into two parts in the vertical direction. However, the movable wall 2413 can be divided into two parts in the vertical direction. It is good also as a structure integrated in. In the case of this integrated configuration, the tongue piece 2411 can be omitted. However, a recess (concave portion) into which the tongue piece 2411 or a screw or the like enters is provided in the central portion of the movable wall 2413 in the vertical direction. Also good.
また、入口壁面2413aは、上下方向の中央部分が、上下方向の両端よりも空間側に多く突出する形態としても良い。この場合、上下方向の中央部分が両端よりも突出する中央凸形状となる。
In addition, the entrance wall surface 2413a may have a configuration in which a central portion in the vertical direction protrudes more toward the space than both ends in the vertical direction. In this case, the central portion in the vertical direction has a central convex shape protruding from both ends.
このような中央凸形状に入口壁面2413aを形成した場合、次のようなメリットがある。すなわち、研磨布243を長期に亘って使用していると、その研磨布243のうち球Tが通る搬送ルート(ハ)が摩耗により薄くなって行く。このとき、研磨布243を使用する態様によっては、研磨布243の幅方向の中央側が、幅方向の両端側よりも伸びてしまうような状態となることがある。しかし、上記のように可動壁2413の入口壁面2413aを中央凸形状に形成すると、研磨布243の幅方向の中央側が両端側よりも伸びていても、研磨布243の弛みを抑えつつ、研磨布243の幅方向の全体を入口壁面2413aに接触させることができる。
When the entrance wall surface 2413a is formed in such a central convex shape, there are the following merits. That is, when the polishing cloth 243 is used for a long period of time, the transport route (C) through which the ball T of the polishing cloth 243 passes becomes thinner due to wear. At this time, depending on the mode in which the polishing pad 243 is used, the center side in the width direction of the polishing pad 243 may be in a state where it extends beyond both ends in the width direction. However, when the entrance wall surface 2413a of the movable wall 2413 is formed in a central convex shape as described above, the polishing cloth 243 is restrained from slackening even if the center side in the width direction of the polishing cloth 243 extends from both ends. The entire width direction of 243 can be brought into contact with the inlet wall surface 2413a.
図42は、研磨布送り手段244を構成するギヤローラ245a,245bの配置関係の一例を示す図である。図42に示すように、ギヤローラ245a,245bの回転軸246a,246bの間の軸間距離L1は、ギヤローラ245a,245bが正常に噛み合う距離(バックラッシュを含む)である距離L0に、研磨布243の厚さDを加えた距離に設定されている。ここで研磨布243の厚さDを加えるのは、ギヤローラ245a,245bに過度な負荷をかけないためである。しかし、軸間距離L1としては、研磨布243の厚さDを加える場合には限られず、たとえば研磨布243の厚さDの1倍から2倍以内の距離を加えても良い。また、ギヤローラ245a,245bの間で研磨布243を搬送させるために必要な挟持力を持ちつつ駆動力を伝達可能であれば、厚さDの2倍以上の距離を加えるようにしても良い。なお、前述のようにギヤローラ245a,245bのギヤ部分はインボリュート歯車を用いれば上記のように軸間距離を変更しても正常に噛み合うことができる。
FIG. 42 is a diagram illustrating an example of an arrangement relationship between the gear rollers 245a and 245b constituting the polishing pad feeding means 244. As shown in FIG. As shown in FIG. 42, the inter-axis distance L1 between the rotation shafts 246a, 246b of the gear rollers 245a, 245b is a distance L0 that is a distance (including backlash) that the gear rollers 245a, 245b normally mesh with each other. It is set to the distance which added thickness D of this. The reason why the thickness D of the polishing pad 243 is added is that an excessive load is not applied to the gear rollers 245a and 245b. However, the inter-axis distance L1 is not limited to the case where the thickness D of the polishing pad 243 is added. For example, a distance within 1 to 2 times the thickness D of the polishing pad 243 may be added. Further, a distance more than twice the thickness D may be applied as long as the driving force can be transmitted while having a clamping force necessary for conveying the polishing pad 243 between the gear rollers 245a and 245b. As described above, the gear portions of the gear rollers 245a and 245b can be normally meshed even if the distance between the shafts is changed as described above by using an involute gear.
ここで、研磨布243が適度の柔軟性を有する場合には、軸間距離L1が一定(不変)であっても、ギヤローラ245a,245bが研磨布243を挟持する能力(すなわち研磨布243の送りの信頼度)に問題は生じない。しかし、上述のように研磨布243には溶着した接合部243Rが存在している。また、研磨布243には経時劣化が生じて、研磨布243の柔軟性が変化してしまう場合がある。
Here, when the polishing cloth 243 has appropriate flexibility, the gear rollers 245a and 245b can hold the polishing cloth 243 even when the inter-axis distance L1 is constant (ie, the feed of the polishing cloth 243). No problem arises in reliability. However, as described above, the welded portion 243R is present on the polishing pad 243. Further, the polishing cloth 243 may deteriorate with time, and the flexibility of the polishing cloth 243 may change.
このような場合にも、研磨布243を搬送するために必要な挟持する力を発揮させるために、図43に示すような構成とすることが好ましい。図43は、研磨布送り手段244を構成するギヤローラ245a,245bの配置関係の他の例を示す図である。図43に示すように、従動側のギヤローラ245bの回転軸246bを通すための孔部分245b1は、長孔形状に設けられている。なお、図43に示す構成では、長孔形状の孔部分245b1のうちギヤローラ245a寄りの部位に回転軸246bが位置したときに、ギヤローラ245a,245bの回転軸246a,246bの間の軸間距離が上述した距離L1に対応しているが、距離L1よりも短いものとしても良い。
Even in such a case, the structure shown in FIG. 43 is preferable in order to exert the clamping force necessary for conveying the polishing pad 243. FIG. 43 is a view showing another example of the arrangement relationship of the gear rollers 245a and 245b constituting the polishing pad feeding means 244. As shown in FIG. As shown in FIG. 43, the hole portion 245b1 through which the rotation shaft 246b of the driven-side gear roller 245b passes is provided in a long hole shape. In the configuration shown in FIG. 43, when the rotary shaft 246b is positioned near the gear roller 245a in the elongated hole portion 245b1, the distance between the rotary shafts 246a and 246b of the gear rollers 245a and 245b is as follows. Although it corresponds to the distance L1 described above, it may be shorter than the distance L1.
また、回転軸246bは、ギヤローラ245a側に付勢されている。この付勢に関する具体的な構成例を図44に示す。図44は、従動側のギヤローラ245bを駆動側のギヤローラ245aに付勢する構成例を示す図である。この図44に示すように、研磨布ガイド248Bは、付勢手段であるバネ250によって研磨布ガイド248A側(駆動側のギヤローラ245a側)に付勢されている。バネ250は、正面壁241cと研磨布ガイド248Bの間に位置していて、この研磨布ガイド248Bに研磨布ガイド248A側(駆動側のギヤローラ245a側)に向かう付勢力を与えている。
The rotating shaft 246b is biased toward the gear roller 245a. A specific configuration example relating to this biasing is shown in FIG. FIG. 44 is a diagram illustrating a configuration example in which the driven-side gear roller 245b is urged toward the driving-side gear roller 245a. As shown in FIG. 44, the polishing pad guide 248B is biased toward the polishing pad guide 248A (drive side gear roller 245a side) by a spring 250 that is a biasing means. The spring 250 is located between the front wall 241c and the polishing pad guide 248B, and applies an urging force toward the polishing pad guide 248A side (drive side gear roller 245a side) to the polishing pad guide 248B.
このような構成とすることにより、上述したように、ギヤローラ245a,245bは、通常は正常に噛み合う距離である距離L0に研磨布243の厚さDを加えた距離L1に保たれる。しかし、研磨布243の接合部243Rがギヤローラ245a,245bの間を通過するときや、研磨布243の柔軟性が減って研磨布243が硬くなったときには、バネ250の付勢力に抗して、ギヤローラ245bがギヤローラ245aから遠ざかるように移動する。また、上記の構成とすることで、研磨布243には、研磨布243を搬送するために必要な挟持力を与えることができ、それによってギヤローラ245a,245bの空転や研磨布243の詰まり等の発生を防止可能となる。
By adopting such a configuration, as described above, the gear rollers 245a and 245b are maintained at a distance L1 obtained by adding the thickness D of the polishing pad 243 to the distance L0, which is a distance that normally engages normally. However, when the joining portion 243R of the polishing cloth 243 passes between the gear rollers 245a and 245b, or when the polishing cloth 243 becomes harder due to a decrease in flexibility of the polishing cloth 243, the spring 250 resists the biasing force of the spring 250, The gear roller 245b moves away from the gear roller 245a. In addition, with the above-described configuration, the polishing cloth 243 can be given a clamping force necessary for transporting the polishing cloth 243, thereby causing idle rotation of the gear rollers 245a and 245b, clogging of the polishing cloth 243, and the like. Occurrence can be prevented.
(c)研磨カセット240の研磨布出口241gにおける研磨布243の巻き込み防止
図45は、図24の研磨カセット240の右側部分の拡大図である。この図45に示すように、研磨カセット240の収容空間242に収容されている研磨布243は、研磨布出口241gから引き出され、張設された状態で背面壁241dの壁面に沿って進行する。その後に、カセット本体241のうち研磨布出口241gとは反対側の研磨布入口241hから再び収容空間242に入り込んで、研磨布送り手段244で挟み込まれた後には、研磨布243は蛇腹状に折り畳まれる。
(C) Prevention of Entrainment of Polishing Cloth 243 at Polishing Cloth Outlet 241g of Polishing Cassette 240 FIG. 45 is an enlarged view of the right side portion of the polishing cassette 240 in FIG. As shown in FIG. 45, the polishing cloth 243 accommodated in the accommodation space 242 of the polishing cassette 240 is pulled out from the polishing cloth outlet 241g and proceeds along the wall surface of the back wall 241d in a stretched state. After that, after entering the accommodation space 242 again from the polishing cloth inlet 241h opposite to the polishing cloth outlet 241g in the cassette body 241, and being sandwiched by the polishing cloth feeding means 244, the polishing cloth 243 is folded in a bellows shape. It is.
ここで、図21、図24および図45に示すように、カセット本体241の内部のうち、研磨布出口241g側の部位には、一対の壁部材251A,251Bが設けられている。この壁部材251A,251Bは、収容空間242の内側を構成する壁部であるとしても良いが、その壁部材251A,251Bよりも外側に存在する端面壁241fが収容空間242の内側を構成している、としても良い。一対の壁部材251A,251Bは、終端壁部251A1,251B1と、折返し部251A2,251B2と、柱状部251A3,251B3を有している。
Here, as shown in FIGS. 21, 24, and 45, a pair of wall members 251 </ b> A and 251 </ b> B are provided in a portion of the inside of the cassette body 241 on the polishing cloth outlet 241 g side. The wall members 251A and 251B may be wall portions that constitute the inside of the accommodation space 242, but the end wall 241f that exists outside the wall members 251A and 251B constitutes the inside of the accommodation space 242. It's okay. The pair of wall members 251A and 251B have end wall portions 251A1 and 251B1, folded portions 251A2 and 251B2, and columnar portions 251A3 and 251B3.
このうち、終端壁部251A1,251B1は、研磨布243の進行方向の下流側に向かうにつれて、互いに近付くように設けられている。そのため、カセット本体241の長手に対しては、一対の終端壁部251A1,251B1は傾斜した状態で配置されている。
Among these, terminal wall part 251A1, 251B1 is provided so that it may mutually approach as it goes to the downstream of the advancing direction of the polishing pad 243. Therefore, the pair of end wall portions 251A1 and 251B1 are arranged in an inclined state with respect to the length of the cassette body 241.
図46は、図45に示す一対の壁部材251A,251Bを拡大して示すと共に、折返し部251A2,251B2および柱状部251A3,251B3の寸法関係を示す図である。図45および図46に示すように、一対の終端壁部251A1,251B1が互いに最も近付いた部位からは、カセット本体241の反対側のギヤローラ245a,245b側に向かうように一対の折返し部251A2,251B2が延出している。この一対の折返し部251A2,251B2は、互いに平行に設けられている。
46 is an enlarged view of the pair of wall members 251A and 251B shown in FIG. 45, and is a diagram showing a dimensional relationship between the folded portions 251A2 and 251B2 and the columnar portions 251A3 and 251B3. As shown in FIGS. 45 and 46, the pair of folded portions 251A2 and 251B2 are directed from the portion where the pair of end walls 251A1 and 251B1 are closest to each other toward the gear rollers 245a and 245b on the opposite side of the cassette body 241. Is extended. The pair of folded portions 251A2 and 251B2 are provided in parallel to each other.
また、一対の折返し部251A2,251B2の延出の先端側には、柱状部251A3,251B3がそれぞれ設けられている。柱状部251A3,251B3は、その外周側に滑らかな曲面を有する形状に設けられている。図45(b)および図46に示す構成では、柱状部251A3,251B3は円柱状に設けられている。折返し部251A2,251B2の幅方向の中心線は、柱状部251A3,251B3の径方向の中心を概ね通るように設けられている。また、柱状部251A3,251B3の直径は、折返し部251A2,251B2の幅よりも大きくなるように設けられている。
In addition, columnar portions 251A3 and 251B3 are provided on the distal end side of the extension of the pair of folded portions 251A2 and 251B2, respectively. The columnar portions 251A3 and 251B3 are provided in a shape having a smooth curved surface on the outer peripheral side thereof. In the configuration shown in FIGS. 45B and 46, the columnar portions 251A3 and 251B3 are provided in a columnar shape. The center lines in the width direction of the folded portions 251A2 and 251B2 are provided so as to pass substantially through the radial centers of the columnar portions 251A3 and 251B3. Further, the diameters of the columnar portions 251A3 and 251B3 are provided to be larger than the widths of the folded portions 251A2 and 251B2.
そのような寸法関係について、図46に基づいて説明する。柱状部251A3,251B3の間の間隔をA、折返し部251A2,251B2の間の間隔をDとすると、間隔D>間隔Aが成り立っている。なお、寸法の好ましい一例としては、研磨布243の厚さが0.2mmの場合、間隔Aが1mm、間隔Dが1.5mmとするものがある。また、柱状部251A3,251B3の半径をB、折返し部251A2,251B2のうち壁部材251A,251B1の内壁側から柱状部251A3,251B3の先端側までの寸法を寸法Cとする場合、それらの寸法の好ましい一例としては、研磨布243の厚さが0.2mmの場合、半径Bが1.3mm、寸法Cが5mmとするものがある。
Such a dimensional relationship will be described with reference to FIG. When the interval between the columnar portions 251A3 and 251B3 is A and the interval between the folded portions 251A2 and 251B2 is D, the interval D> the interval A is satisfied. In addition, as a preferable example of the dimension, when the thickness of the polishing pad 243 is 0.2 mm, the distance A is 1 mm and the distance D is 1.5 mm. Further, when the radius of the columnar portions 251A3 and 251B3 is B, and the dimension from the inner wall side of the wall members 251A and 251B1 to the distal end side of the columnar portions 251A3 and 251B3 among the folded portions 251A2 and 251B2, the dimensions C As a preferred example, when the thickness of the polishing pad 243 is 0.2 mm, the radius B is 1.3 mm and the dimension C is 5 mm.
このような構成においては、研磨布243が研磨布出口241gに向かって引き出される際には、研磨布243の巻き込みを防止することができる。特に、最も最初に研磨布243が接触する柱状部251A3,251B3においては、研磨布243が広く面的に接触するのが防止され、線状に接触する。そのため、汚れを吸着等している状態の研磨布243が柱状部251A3,251B3にへばりついてしまうのを防止可能となる。また、この柱状部251A3,251B3を研磨布243が通過する際には、研磨布243は柱状部251A3,251B3によって滑らかにガイドされて、引き出されていくので、研磨布243が何層も重なった状態で排出されるような巻き込み状態を回避可能となる。
In such a configuration, when the polishing cloth 243 is pulled out toward the polishing cloth outlet 241g, the polishing cloth 243 can be prevented from being caught. In particular, in the columnar portions 251A3 and 251B3 with which the polishing cloth 243 comes into contact first, the polishing cloth 243 is prevented from coming into wide contact and is in a linear contact. Therefore, it is possible to prevent the polishing cloth 243 in a state where dirt is adsorbed or the like from sticking to the columnar portions 251A3 and 251B3. In addition, when the polishing cloth 243 passes through the columnar portions 251A3 and 251B3, the polishing cloth 243 is smoothly guided and pulled out by the columnar portions 251A3 and 251B3, so that the polishing cloth 243 is overlapped in many layers. It becomes possible to avoid the entrainment state that is discharged in the state.
また、折返し部251A2,251B2が収容空間242の内部側に延出している構成のため、収容空間242の内部には、排出されるべき研磨布243が他の研磨布243の層から離れて広がることを可能とする余裕空間242Aが形成される。それによっても、研磨布243が何層も重なった状態で排出されるような巻き込み状態を回避可能となる。
In addition, since the folded portions 251A2 and 251B2 extend to the inside of the accommodation space 242, the polishing cloth 243 to be discharged spreads away from the other polishing cloth 243 layers in the accommodation space 242. A margin space 242A that enables this is formed. Also by this, it becomes possible to avoid the entrainment state in which the polishing cloth 243 is discharged in a state where many layers overlap.
(d)研磨領域PFにおける研磨布243の偏在防止
また、折返し部251A2,251B2が対向している部位の出口部分252から引き出された研磨布243は、付勢部材253で押圧される。付勢部材253は、薄い金属板又は合成樹脂板のような薄板部材から形成されていて、カセット本体241の端面壁241fのいずれかの部位に取り付けられている。この付勢部材253は、研磨布出口241g側に向かって徐々に終端壁部251B1に近接する(間隔を狭める)ように取り付けられていて、それによって研磨布243のガイド性を滑らかなものとしている。かかる付勢部材253の存在により、カセット本体241の背面壁241dの研磨領域PFに沿って張設されている研磨布243に適度な緊張が付与される。したがって、搬送される球Tが研磨領域PFにおける研磨布243に接触する際の力により、研磨布243が偏在することが防止される。
(D) Prevention of uneven distribution of polishing cloth 243 in polishing region PF Further, the polishing cloth 243 drawn out from the exit portion 252 of the portion where the folded portions 251A2 and 251B2 are opposed is pressed by the urging member 253. The urging member 253 is formed of a thin plate member such as a thin metal plate or a synthetic resin plate, and is attached to any part of the end surface wall 241f of the cassette body 241. This urging member 253 is attached so as to gradually approach the end wall portion 251B1 toward the polishing cloth outlet 241g side (to narrow the interval), thereby smoothing the guide property of the polishing cloth 243. . Due to the presence of the urging member 253, an appropriate tension is applied to the polishing cloth 243 stretched along the polishing region PF of the back wall 241d of the cassette body 241. Therefore, the polishing cloth 243 is prevented from being unevenly distributed due to the force when the conveyed ball T comes into contact with the polishing cloth 243 in the polishing region PF.
なお、球Tの研磨(清掃)、またはその他の原因によって、研磨布243には静電気が発生することがあるが、付勢部材253が導電性を有するものである場合、この付勢部材253は静電気を除去するアースとして機能させることができる。これは、球研磨効率の向上に資する。
Note that static electricity may be generated in the polishing pad 243 due to polishing (cleaning) of the sphere T or other causes, but when the biasing member 253 is conductive, the biasing member 253 is It can function as a ground for removing static electricity. This contributes to improvement of the sphere polishing efficiency.
(e)研磨領域PFのクッション材260
図47は、研磨カセット240のカセット本体241の背面壁241d付近の構成を示す断面図である。また、図48は、研磨布243と比較例のクッション材260を拡大して示す断面図である。図49は、研磨布243と好ましいクッション材260を拡大して示す断面図である。図50は、図49に示す研磨布243およびクッション材260に球Tが押し付けられた様子を示す断面図である。
(E) Cushion material 260 in the polishing region PF
FIG. 47 is a cross-sectional view showing a configuration near the rear wall 241d of the cassette body 241 of the polishing cassette 240. As shown in FIG. FIG. 48 is an enlarged cross-sectional view of the polishing pad 243 and the cushion material 260 of the comparative example. FIG. 49 is an enlarged cross-sectional view of the polishing pad 243 and the preferred cushion material 260. 50 is a cross-sectional view showing a state in which the sphere T is pressed against the polishing pad 243 and the cushion material 260 shown in FIG.
図47に示すように、研磨カセット240の背面壁241dには、研磨布243と接触するクッション材260が設けられている。クッション材260は、球Tが研磨布243を押す際に、適度に凹むように設けられている。なお、かかる適度な凹みは、たとえば1mmぐらいとするものがあるが、それよりも凹みが大きくても良く、また1mmよりも凹みが小さくても良い。
As shown in FIG. 47, the back wall 241d of the polishing cassette 240 is provided with a cushion material 260 that comes into contact with the polishing pad 243. The cushion material 260 is provided so as to be appropriately recessed when the ball T presses the polishing pad 243. In addition, although there exists a thing with about 1 mm of such moderate dents, a dent may be larger than that and a dent may be smaller than 1 mm.
クッション材260としては、たとえば図48に示すように、繊維の方向がランダムなフェルトを用いることができる。なお、かかる図48に示す比較例としてのクッション材260を、以下では、クッション材260´として説明する。ただし、図49に示すようなクッション材260の方が、図48に示すクッション材260´よりも好ましい。図49に示すクッション材260は、平坦な基布261の表面に研磨布243の移動方向に斜めに立つ起毛262を配置して構成されている。起毛262は、繊維を全面的に均一な高い密度で植毛されたものでなく、たとえば十数本の繊維束262aをほぼ均等な間隔を持って基布261に植毛することにより、各繊維束262aの間に中空部263を有するものであることが望ましい。
As the cushion material 260, for example, as shown in FIG. 48, a felt having a random fiber direction can be used. The cushion material 260 as a comparative example shown in FIG. 48 will be described below as a cushion material 260 ′. However, the cushion material 260 as shown in FIG. 49 is preferable to the cushion material 260 ′ shown in FIG. The cushion material 260 shown in FIG. 49 is configured by arranging raised 262 standing obliquely in the moving direction of the polishing cloth 243 on the surface of a flat base cloth 261. The raised 262 is not a fiber that has been planted at a uniform high density on the entire surface. For example, by placing dozens of fiber bundles 262a on the base fabric 261 at substantially equal intervals, each fiber bundle 262a It is desirable to have a hollow portion 263 between them.
この場合、起毛262は、その起毛262の長さをY、球圧による起毛262の沈み量をXとすると、Y>Xの関係が成り立つような弾性を有する材質であることが好ましい。なお、起毛262は、基布261に対して斜めに植毛されたパイル状(環状)の部材の一部をカットすることにより形成されるものとしても良いが、繊維束262aを基布261に対して斜めに植毛する構成としても良く、その他の方法によって形成されても良い。
In this case, the raised 262 is preferably made of a material having elasticity that satisfies the relationship of Y> X, where Y is the length of the raised 262 and X is the amount of sinking of the raised 262 due to ball pressure. The raised 262 may be formed by cutting a part of a pile-like (annular) member planted obliquely with respect to the base cloth 261, but the fiber bundle 262 a is attached to the base cloth 261. Alternatively, the hair may be obliquely planted or formed by other methods.
なお、クッション材260(特に起毛262)は、摺動性のある素材を用いるのが好ましい。具体的には例えば、フッソ系繊維等がそれに該当する。また、クッション材260(特に起毛262)は、摺動性と共に、弾性も兼ね備えていることが好ましい。
The cushion material 260 (particularly the raised 262) is preferably a slidable material. Specifically, for example, a fluorine-based fiber corresponds to this. Moreover, it is preferable that the cushion material 260 (particularly the raised 262) has both slidability and elasticity.
起毛262は、その先端側が基布261側である付け根側よりも研磨布243の送り方向に向かうように斜めに立つように植毛されている。そのため、研磨布243の送り方向に対する負荷は小さいが、その送り方向とは逆方向に研磨布243を移動させると大きな負荷が生じる。そのため、搬送される球Tによる研磨布243の逆方向の移動が防止され、研磨布243の撓みや皺の発生が抑制される。したがって、研磨布243の本来の研磨(清掃)能力が発揮される。
The raised 262 is planted so that the tip side thereof stands obliquely so as to face the feeding direction of the polishing cloth 243 from the base side that is the base cloth 261 side. Therefore, although the load with respect to the feed direction of the polishing pad 243 is small, if the polishing pad 243 is moved in the direction opposite to the feed direction, a large load is generated. Therefore, the movement of the polishing pad 243 in the reverse direction by the conveyed ball T is prevented, and bending of the polishing pad 243 and generation of wrinkles are suppressed. Therefore, the original polishing (cleaning) ability of the polishing pad 243 is exhibited.
図50は、搬送部220により搬送される球Tが通過するときに研磨布243とクッション材260が球Tによる圧力により変形される状況を示す。このようにクッション材260を用いることにより、搬送される球Tが研磨布243とクッション材260の凹みにより研磨布243との接触面積が広くなる。そのため、クッション材260がなく凹みが生じ難い場合と比較して、よりよい研磨(清掃)効果が得られる。なお、かかる研磨(清掃)効果は、図13に示すような帯板223の突出長さが短いスクリューコンベア221で得られるのは勿論、図12に示すような帯板223´の突出長さが長いスクリューコンベア221´でもそのような研磨(清掃)効果が得ることが可能となっている。
FIG. 50 shows a situation in which the polishing pad 243 and the cushion material 260 are deformed by the pressure of the sphere T when the sphere T conveyed by the conveyance unit 220 passes. By using the cushion material 260 in this way, the contact area between the ball T to be conveyed and the polishing pad 243 is widened by the depression of the polishing pad 243 and the cushioning material 260. Therefore, a better polishing (cleaning) effect can be obtained as compared with the case where there is no cushion material 260 and dents are hardly generated. Such a polishing (cleaning) effect is obtained not only by the screw conveyor 221 having a short protruding length of the strip 223 as shown in FIG. 13, but also by the protruding length of the strip 223 ′ as shown in FIG. Such a polishing (cleaning) effect can be obtained even with a long screw conveyor 221 '.
また、研磨領域PFを通過する球Tには静電気により塵埃や汗や油等の異物が付着している場合がある。しかし、図49および図50に示すクッション材260では、起毛262の間(特に基布261側)には中空部263が形成されている。そのため、その異物が研磨布243に転移浸透して起毛262に達し、その異物が中空部263に収容される。したがって、異物の収容量を多くすることができ、研磨布243とクッション材260の使用可能期間が長くなるという利点がある。
In addition, foreign matters such as dust, sweat, and oil may adhere to the sphere T passing through the polishing region PF due to static electricity. However, in the cushion material 260 shown in FIGS. 49 and 50, the hollow portion 263 is formed between the raised 262s (particularly on the base fabric 261 side). Therefore, the foreign matter is transferred and penetrated into the polishing pad 243 and reaches the raised 262, and the foreign matter is accommodated in the hollow portion 263. Therefore, there is an advantage that the amount of foreign matter can be increased and the usable period of the polishing pad 243 and the cushion material 260 becomes longer.
図49および図50に示すような、基布261を有するクッション材260は、カセット本体241の背面壁241dに接着等により取り付けられている。このようなクッション材260の変更例としては、図51に示すものが挙げられる。図51は、図49に示すクッション材260の変形例に係るクッション材260を示す図である。図51に示すクッション材260の構成では、クッション材260の基布261を、粘着性部材264によりカセット本体241の背面壁241dに貼り付けている。この粘着性部材264は、粘着性を有する粘着基台265と同じく粘着性を有する粘着層266を有している。粘着基台265は、背面壁241dに貼り付けられる部分であり、粘着層266は基布261が貼り付けられると共に異物を捕捉する部分である。かかる粘着層266で異物が捕捉されると、その異物が研磨布243側に戻り難くなる。
A cushion material 260 having a base cloth 261 as shown in FIGS. 49 and 50 is attached to the back wall 241d of the cassette body 241 by adhesion or the like. An example of such a change of the cushion material 260 is shown in FIG. 51 is a view showing a cushion material 260 according to a modification of the cushion material 260 shown in FIG. In the configuration of the cushion material 260 shown in FIG. 51, the base cloth 261 of the cushion material 260 is attached to the back wall 241 d of the cassette body 241 by the adhesive member 264. The adhesive member 264 includes an adhesive layer 266 having adhesiveness similar to the adhesive base 265 having adhesiveness. The adhesive base 265 is a part that is attached to the back wall 241d, and the adhesive layer 266 is a part that attaches the base cloth 261 and captures foreign matter. When the foreign matter is captured by the adhesive layer 266, the foreign matter is difficult to return to the polishing pad 243 side.
なお、粘着性部材264は、粘着基台265と粘着層266を有する2層構造であるが、いずれか1層のみを有する構成としても良く、粘着基台265と粘着層266以外の層を有する3層以上を有する構成としても良い。
The adhesive member 264 has a two-layer structure including the adhesive base 265 and the adhesive layer 266. However, the adhesive member 264 may have only one layer, and has a layer other than the adhesive base 265 and the adhesive layer 266. It is good also as a structure which has three or more layers.
また、上述したように、研磨用モータ234による研磨布243の送りについて、送りと休止を間欠的に行なう場合には、研磨用モータ234を連続的に駆動する場合と比較して、その送りまたは休止の際に、起毛262には起き上がる部分が生じ易くなる。そして、その起毛262の起き上がりにより、起毛262に起き上がり部分が生じ難い構成と比較して、球Tの研磨(清掃)能力を向上させることができる。
Further, as described above, when the polishing cloth 243 is fed by the polishing motor 234, when the feeding and the pause are intermittently performed, the feeding or the polishing cloth 243 is compared with the case where the polishing motor 234 is continuously driven. During the pause, the raised part 262 is likely to be raised. Further, the rising (raising) of the raised 262 can improve the polishing (cleaning) ability of the sphere T as compared with the configuration in which the raised portion is less likely to occur in the raised 262.
次に、起毛262が倒れている方向(倒れ方向)と、研磨布243の移動方向の関係について、図52に示す。図52は、起毛262の倒れ方向と研磨布243の進行方向を説明する斜視図であり、(a)は起毛262の倒れ方向が研磨布243の移動方向と平行な場合を示し、(b)は研磨布243の移動方向に向かうと起毛262の倒れ方向がクッション材260の幅方向の中心から離れるように傾斜している様子を示す斜視図である。
Next, FIG. 52 shows the relationship between the direction in which the raised 262 is inclined (the falling direction) and the moving direction of the polishing pad 243. FIG. 52 is a perspective view for explaining the falling direction of the raised 262 and the traveling direction of the polishing pad 243. FIG. 52A shows the case where the falling direction of the raised 262 is parallel to the moving direction of the polishing pad 243. FIG. 4 is a perspective view showing a state in which the falling direction of the raised 262 is inclined away from the center in the width direction of the cushion material 260 when moving in the moving direction of the polishing cloth 243.
図48から図51に示すクッション材260は、起毛262の倒れる方向は、研磨布243の移動方向に向かうように斜めに起立させることが考えられる。このような構成例が図52(a)に示すものである。かかる図52(a)に示す構成例では、クッション材260を備えた研磨カセット240を球研磨装置200の研磨部230に装着して、研磨用モータ234を駆動させると、研磨布243は、図52(a)に矢印で示す方向に誘導されるが、その誘導の方向は、研磨布243の送り方向と平行となっている。
The cushion material 260 shown in FIG. 48 to FIG. 51 can be considered to stand up diagonally so that the direction in which the raised 262 falls is directed to the moving direction of the polishing pad 243. An example of such a configuration is shown in FIG. In the configuration example shown in FIG. 52A, when the polishing cassette 240 having the cushion material 260 is mounted on the polishing unit 230 of the ball polishing apparatus 200 and the polishing motor 234 is driven, the polishing cloth 243 is shown in FIG. 52 (a) is guided in the direction indicated by the arrow, and the direction of the guidance is parallel to the feed direction of the polishing pad 243.
これに対して、クッション材260を図52(b)に示すような構成としても良い。図52(b)に示す構成では、一つの研磨カセット240に対して、幅方向(左右)に沿って2つのクッション材260L,260Rからクッション材260が構成されている。クッション材260Lとクッション材260Rとは、研磨布243の進行方向に向かうにつれて、互いに離れるように起毛262が傾斜している。換言すると、起毛262の付け根側(基布261側)から先端側に向かうと、クッション材260Lとクッション材260Rの境界部位から離れるように、起毛262が傾斜している。
On the other hand, the cushion material 260 may be configured as shown in FIG. In the configuration shown in FIG. 52 (b), the cushion material 260 is configured from two cushion materials 260L and 260R along the width direction (left and right) for one polishing cassette 240. In the cushioning material 260L and the cushioning material 260R, the raised hairs 262 are inclined so as to be separated from each other in the traveling direction of the polishing pad 243. In other words, the raising 262 is inclined so as to be away from the boundary portion between the cushioning material 260L and the cushioning material 260R from the root side (the base cloth 261 side) of the raising 262 toward the tip side.
クッション材260が図52(b)のように構成されている場合、研磨布243が進行すると、研磨領域PFにおけて、研磨布243の図52(b)における幅方向の左側半分は、図52(b)において左斜め上方に誘導され、同じく研磨布243の図52(b)における幅方向の右側半分は、図52(b)において右斜め上方に誘導される。したがって、移動される研磨布243は幅中心線から幅方向両端部方向に広げられ、それによって研磨布243は左右いずれの側にも偏ることなく、張力が付与された状態となる。それにより、研磨布243の偏りが防止されるので、研磨布243は、球Tに対して安定した研磨(清掃)能力を発揮させることができる。
When the cushion material 260 is configured as shown in FIG. 52 (b), when the polishing cloth 243 advances, the left half of the polishing cloth 243 in the width direction in FIG. 52 (b) is shown in the polishing region PF. 52 (b), the right half of the polishing pad 243 in the width direction in FIG. 52 (b) is guided obliquely upward to the right in FIG. 52 (b). Accordingly, the moved polishing cloth 243 is spread from the width center line toward both ends in the width direction, whereby the polishing cloth 243 is in a state where tension is applied without being biased to either the left or right side. Accordingly, the unevenness of the polishing pad 243 is prevented, and the polishing pad 243 can exhibit a stable polishing (cleaning) ability with respect to the sphere T.
また、図53は、図52(b)におけるクッション材260を示す斜視図であり、(a)は組違い防止手段267がない構成を示し、(b)は組違い防止手段267が存在する構成を示している。図53(b)に示すように、2つのクッション材260L,260Rを用いる場合、取り付ける際の幅方向の左右での組違いを防止する構成が存在することが望ましい。この組違い防止手段267は、図53(b)に示す構成では、それぞれのクッション材260L,260Rの隅部に設けられている切欠となっている。ここで、クッション材260とクッション材260Rとで、組違い防止手段267を設ける隅部を変えることで、2つのクッション材260Lとクッション材260Rとを識別することができる。
FIG. 53 is a perspective view showing the cushion material 260 in FIG. 52 (b). FIG. 53 (a) shows a configuration without the combination prevention means 267, and FIG. 53 (b) shows a configuration with the combination prevention means 267. Is shown. As shown in FIG. 53 (b), when two cushion materials 260L and 260R are used, it is desirable that there is a configuration that prevents a right / left combination in the width direction at the time of attachment. In the configuration shown in FIG. 53 (b), the combination preventing means 267 is a notch provided at the corner of each cushion material 260L, 260R. Here, the cushion material 260 and the cushion material 260R can distinguish the two cushion materials 260L and the cushion material 260R by changing the corners where the combination prevention means 267 is provided.
なお、図53(b)に示す構成では、組違い防止手段267としての切欠は2つ設けられていて、その2つの切欠は、クッション材260L,260Rの対角線方向に配置されている。しかも、その対角線方向を、クッション材260L,260Rを平面視した場合の起毛262の傾斜方向に近い方向とすることで、左右のクッション材260L,260Rの向きを識別し易くなる。
In the configuration shown in FIG. 53 (b), two cutouts as the combination preventing means 267 are provided, and the two cutouts are arranged in the diagonal direction of the cushion members 260L and 260R. Moreover, the direction of the left and right cushion members 260L and 260R can be easily identified by setting the diagonal direction to a direction close to the inclination direction of the raised 262 when the cushion members 260L and 260R are viewed in plan.
また、組違い防止手段267が切欠により構成される場合には、この切欠が入り込むノッチ等の突出部材を、カセット本体241の背面壁241dに設ける構成とするのが好ましい。
Further, in the case where the combination preventing means 267 is constituted by a notch, it is preferable that a protruding member such as a notch into which the notch is inserted is provided on the back wall 241d of the cassette body 241.
[4.3 上部タンク]
次に、上部タンク300について説明する。図54は、上部タンク300の構成を側面側から見た状態を示す断面図である。図55は、図54に示す上部タンク300をA−A線に沿って切断した状態を示す断面図である。図56は、図54に示す上部タンク300の分解斜視図である。また、図57は、図54に示す上部タンク300の斜視図である。図54から図57に示すように、上部タンク300は、球受入れ部330から球Tが導入される部分である。この上部タンク300は、タンク本体310と傾斜板320とを有し、複数段構造とされている。そして、上部タンク300は、一端側に球受入れ部330を有する。
[4.3 Upper tank]
Next, the upper tank 300 will be described. FIG. 54 is a cross-sectional view showing the configuration of the upper tank 300 as viewed from the side. 55 is a cross-sectional view showing a state in which the upper tank 300 shown in FIG. 54 is cut along the line AA. FIG. 56 is an exploded perspective view of the upper tank 300 shown in FIG. FIG. 57 is a perspective view of the upper tank 300 shown in FIG. As shown in FIGS. 54 to 57, the upper tank 300 is a portion into which the sphere T is introduced from the sphere receiving portion 330. The upper tank 300 has a tank body 310 and an inclined plate 320, and has a multi-stage structure. The upper tank 300 has a ball receiving portion 330 on one end side.
傾斜板320は、図56および図57に示すように、タンク本体310の中に緊密に嵌合することにより、ねじなどの固着具を用いずに固定することができる形状・寸法に形成されている。したがって、上部タンク300は、下部タンク100と同様に、工具レスで組み立て・分解が可能である。
As shown in FIGS. 56 and 57, the inclined plate 320 is formed into a shape and size that can be fixed without using a fixing tool such as a screw by tightly fitting into the tank body 310. Yes. Therefore, like the lower tank 100, the upper tank 300 can be assembled and disassembled without tools.
タンク本体310は、受入れ部330と反対側および幅方向一端側に下り傾斜する底壁311と、その底壁311の周辺から起立する周壁部分312a,312b,312c,312dとからなる周壁部分312とで、上方に開口する空所312eを有する箱状に形成されている。底壁311の受入れ部330側の周壁部分312dは、底壁311の同一側の辺の長さのほぼ半分の長さに形成されて、一端は周壁部分312aに接続または接近されている。そして、周壁部分312dの他端と周壁部分312cの先端との間が開口されている。周壁部分312cの、底壁311の幅方向傾斜下位側端部が接続される位置に、底壁311の上面を転動する球Tを外部に排出させる2つの出口313,314が設けられている。
The tank main body 310 includes a bottom wall 311 that slopes downward on the side opposite to the receiving portion 330 and one end in the width direction, and a peripheral wall portion 312 that includes peripheral wall portions 312a, 312b, 312c, and 312d that stand up from the periphery of the bottom wall 311. Thus, it is formed in a box shape having a space 312e that opens upward. The peripheral wall portion 312d on the receiving portion 330 side of the bottom wall 311 is formed to be approximately half the length of the side on the same side of the bottom wall 311 and one end thereof is connected to or close to the peripheral wall portion 312a. And between the other end of the surrounding wall part 312d and the front-end | tip of the surrounding wall part 312c is opened. Two outlets 313 and 314 for discharging the sphere T that rolls on the upper surface of the bottom wall 311 to the outside are provided at a position where the lower end portion in the width direction of the bottom wall 311 is connected to the peripheral wall portion 312c. .
図54に示すように、傾斜板320および底壁311は、長手方向の他端側(X2側)が一端側(X1側)よりも低くなるように傾斜していて、傾斜板320と底壁311とは平行となるように設けられている。そして、傾斜板320の上面には第1の球通路P5が形成されると共に、傾斜板320と底壁311との間には第2の球通路P6が形成される。
As shown in FIG. 54, the inclined plate 320 and the bottom wall 311 are inclined such that the other end side (X2 side) in the longitudinal direction is lower than the one end side (X1 side). It is provided so as to be parallel to 311. A first spherical passage P5 is formed on the upper surface of the inclined plate 320, and a second spherical passage P6 is formed between the inclined plate 320 and the bottom wall 311.
また、図55に示すように、傾斜板320は、その幅方向(Y方向)において傾斜しているが、図55においては幅方向の一端側(Y1側)から他端側(Y2側)に向かい下方に向かうように傾斜している。そして、傾斜板320の幅方向の他端側(Y2側)と傾斜板320を構成する周壁部分312aとの間には、連通部321が設けられていて、その連通部321を介して、傾斜板320は底壁311と連通している。したがって、第1の球通路P5の上面を転動する球Tは、連通部321を介して第2の球通路P6の傾斜上位側(図55のY2側)に落下し、その落下した球Tは、第2の球通路P6の傾斜下位側(Y1側)に向かい転動する。なお、かかる第1の球通路P5および第2の球通路P6において、球Tは、図54では長手方向(X方向)の他端側(X2側)に向かうように転動する。
As shown in FIG. 55, the inclined plate 320 is inclined in the width direction (Y direction), but in FIG. 55, from one end side (Y1 side) to the other end side (Y2 side) in the width direction. Inclined to face downward. A communication portion 321 is provided between the other end side (Y2 side) in the width direction of the inclined plate 320 and the peripheral wall portion 312a constituting the inclined plate 320, and the inclined portion is inclined via the communication portion 321. The plate 320 communicates with the bottom wall 311. Accordingly, the sphere T rolling on the upper surface of the first sphere passage P5 falls to the upper inclined side (Y2 side in FIG. 55) of the second sphere passage P6 via the communication portion 321, and the dropped sphere T Rolls toward the lower inclined side (Y1 side) of the second ball passage P6. In the first and second spherical passages P5 and P6, the sphere T rolls toward the other end side (X2 side) in the longitudinal direction (X direction) in FIG.
また、タンク本体310のうち第2の球通路P6に面する周壁部分312cには、出口313,314が設けられていて、その出口313,314は、第2の球通路P6に溜まった球Tを第1補給管2および第2補給管14に排出する部分である。出口313,314には、タンク本体310から第1補給管2および第2補給管14に供給される球を計数する計数器315,316が設けられている。
In addition, outlets 313 and 314 are provided in the peripheral wall portion 312c of the tank main body 310 facing the second spherical passage P6, and the outlets 313 and 314 are provided in the second spherical passage P6. Is a portion for discharging the first supply pipe 2 and the second supply pipe 14. The outlets 313 and 314 are provided with counters 315 and 316 that count the balls supplied from the tank body 310 to the first supply pipe 2 and the second supply pipe 14.
球受入れ部330は、図54、図56および図57に示すように、タンク本体310の傾斜板320の一端側(X1側)である傾斜上位側の外側に接続されている。この球入れ部330は、周壁部分312dの開口312d1を介して空所312eに連通している。球受入れ部330は、上面と一側面が開口された箱状に形成されており、その箱状は底壁331と周壁332とから構成されている。なお、周壁332には、底壁331の3辺において連続して起立する周壁332a,332b,332cが存在している。そして、球受入れ部330のうち周壁332の存在しない部位である開口332dとタンク本体310の周壁部分312dの開口312d1とを突き合わせた状態でタンク本体310と球受入れ部330とが接続される。それにより、底壁331の上面がタンク本体310の傾斜板320の傾斜上位側端部(X1側)に連続した状態となる。
As shown in FIG. 54, FIG. 56 and FIG. 57, the ball receiving portion 330 is connected to the outer side of the inclined upper side which is one end side (X1 side) of the inclined plate 320 of the tank body 310. The ball holder 330 communicates with the space 312e through the opening 312d1 of the peripheral wall portion 312d. The ball receiving portion 330 is formed in a box shape having an upper surface and one side surface opened, and the box shape includes a bottom wall 331 and a peripheral wall 332. The peripheral wall 332 includes peripheral walls 332 a, 332 b, and 332 c that stand continuously on three sides of the bottom wall 331. Then, the tank main body 310 and the ball receiving portion 330 are connected in a state where the opening 332 d that is a portion where the peripheral wall 332 does not exist in the ball receiving portion 330 and the opening 312 d 1 of the peripheral wall portion 312 d of the tank main body 310 are abutted. As a result, the upper surface of the bottom wall 331 is in a state of being continuous with the inclined upper side end (X1 side) of the inclined plate 320 of the tank body 310.
図58は、図54の上部タンク300の球受入れ部330に球研磨装置200の上端側が接続されている状態を示す斜視図である。図58に示すように、球受入れ部330は、幅方向(Y方向)の一端側においてタンク本体310と面一であるものの、球受入れ部330の幅は、タンク本体310の幅よりも大幅に狭い。そのため、球受入れ部330よりも他端側(Y2側)の部位には、周壁部分312dと周壁332cとで仕切られた凹部333が存在しており、その凹部333には、球研磨装置200の上端側の上部軸受部229が位置している。ここで、図58および図59に示すように、球受入れ部330のX1側かつY2側のコーナー部分は切欠された切欠部分334となっており、その切欠部分334からは球研磨装置200の2つの出口2315が球受入れ部330に向けて開口されている。
58 is a perspective view showing a state in which the upper end side of the ball polishing apparatus 200 is connected to the ball receiving portion 330 of the upper tank 300 in FIG. As shown in FIG. 58, the ball receiving portion 330 is flush with the tank body 310 on one end side in the width direction (Y direction), but the width of the ball receiving portion 330 is significantly larger than the width of the tank body 310. narrow. Therefore, a concave portion 333 that is partitioned by the peripheral wall portion 312d and the peripheral wall 332c exists at a portion on the other end side (Y2 side) from the ball receiving portion 330, and the concave portion 333 includes the concave portion 333. The upper bearing portion 229 on the upper end side is located. Here, as shown in FIGS. 58 and 59, the corner portion on the X1 side and the Y2 side of the ball receiving portion 330 is a cutout portion 334, and the cutout portion 334 starts from 2 of the ball polishing apparatus 200. Two outlets 2315 are opened toward the ball receiving portion 330.
図59は、図58の球研磨装置200の上端側に案内板335を取り付けない場合の球の貯留態様を示す平面図である。図60は、図58の球研磨装置200の上端側に案内板335を取り付けた場合の球の貯留態様を示す平面図である。図60に示すように、出口2315の上面には、案内部材として、たとえば薄い板で形成された案内板335が取り付けられている。案内板335は、球Tの進行方向を規定する部材であり、図60に示す構成では、案内板335は、出口2315から排出される球Tが、出口2315と反対側の周壁332aに向かって衝突する方向に規定するためのものである。
FIG. 59 is a plan view showing a sphere storage mode when the guide plate 335 is not attached to the upper end side of the sphere polishing apparatus 200 of FIG. FIG. 60 is a plan view showing a sphere storage mode when the guide plate 335 is attached to the upper end side of the sphere polishing apparatus 200 of FIG. As shown in FIG. 60, a guide plate 335 made of, for example, a thin plate is attached to the upper surface of the outlet 2315 as a guide member. The guide plate 335 is a member that defines the traveling direction of the sphere T. In the configuration shown in FIG. 60, the guide plate 335 is configured such that the sphere T discharged from the outlet 2315 is directed toward the peripheral wall 332a opposite to the outlet 2315. It is for prescribing in the collision direction.
図59に示すように、球研磨装置200の出口2315から球受入れ部330の内部に球Tが放出され、その球Tが上部タンク300内に満杯に近い状態まで溜まり、その後に球受入れ部330の中まで貯留される。このとき、図59に示すような案内板335を備えない場合、球受入れ部330の出口2315と反対側のコーナー部に球が溜まらないデッドスペースDSが生じてしまう傾向がある。かかるデッドスペースDSの形成は、上部タンク300の球貯留可能数量が抑制されることを意味する。
As shown in FIG. 59, the sphere T is discharged from the outlet 2315 of the sphere polishing apparatus 200 to the inside of the sphere receiving unit 330, and the sphere T is accumulated in the upper tank 300 until it is almost full. It is stored up to the inside. At this time, when the guide plate 335 as shown in FIG. 59 is not provided, there is a tendency that a dead space DS in which the sphere does not accumulate in the corner portion on the opposite side to the outlet 2315 of the sphere receiving portion 330 is generated. The formation of such a dead space DS means that the number of balls that can be stored in the upper tank 300 is suppressed.
これに対して、図60に示すように、案内板335を備える構成の場合、出口2315から勢い良く排出される球Tが、案内板335に案内されて出口2315と反対側の周壁332aに向かい斜め方向に進行する。そのため、球Tが上部タンク300内に溜まり、その後に球受入れ部330内に溜まると、その球受入れ部330の上部タンク300側の半分を占めた後に、球Tが出口2315と反対側のコーナー部を占める。そのため、デッドスペースが生じるのを防ぐことができる。したがって、上部タンク300の球貯留可能数量の抑制を排除することが可能である。
On the other hand, as shown in FIG. 60, in the case of the configuration including the guide plate 335, the ball T discharged from the outlet 2315 is guided by the guide plate 335 toward the peripheral wall 332a opposite to the outlet 2315. Progress diagonally. Therefore, when the sphere T accumulates in the upper tank 300 and then accumulates in the sphere receiving portion 330, the sphere T occupies a half of the sphere receiving portion 330 on the upper tank 300 side, and then the sphere T is a corner on the side opposite to the outlet 2315. Occupy part. Therefore, it is possible to prevent a dead space from occurring. Therefore, it is possible to eliminate the suppression of the number of balls that can be stored in the upper tank 300.
好ましい実施の形態では、案内板335はアルミニウムまたは銅といった金属の薄板などの導電性材料で形成されている。これにより、搬送される球が搬送部220および研磨部230を通過する際に帯びた静電気をこの案内板335により消滅させることができる。したがって、球Tの汚れ付着を防止し、球Tの艶を維持することができる。
In a preferred embodiment, the guide plate 335 is formed of a conductive material such as a thin metal plate such as aluminum or copper. As a result, the guide plate 335 can eliminate static electricity generated when the sphere to be conveyed passes through the conveyance unit 220 and the polishing unit 230. Therefore, the adhesion of the sphere T to dirt can be prevented and the gloss of the sphere T can be maintained.
球受入れ部330の底壁331の上面は水平でも良く、水平の場合には出口2315から次々と排出される球Tの転動力により、先に球受入れ部330に収容されている球Tは円滑にタンク本体310側に押されて進む。ただし、底壁331の上面は、タンク本体310側に向かいわずかに下り傾斜していることが好ましい。
The upper surface of the bottom wall 331 of the sphere receiving portion 330 may be horizontal, and in the case of being horizontal, the sphere T previously accommodated in the sphere receiving portion 330 is smooth by the rolling force of the sphere T discharged one after another from the outlet 2315. It is pushed to the tank body 310 side and proceeds. However, it is preferable that the upper surface of the bottom wall 331 is slightly inclined downward toward the tank body 310 side.
[4.4 制御システム]
本実施の形態に係る単体島Aは、球研磨装置200の駆動を制御するため、図61に示すような制御装置400を有する。制御装置400は、CPU、ROMやRAM、不揮発性メモリ等のメモリ、タイマその他の要素を中心として構成されている。図61では、制御装置400として1つのものが示されているが、メイン制御基板やサブ制御基板といった複数の制御基板から構成されていても良い。また、制御装置400は単体島Aや遊技機Bの制御装置であっても良く、単体島Aや遊技機Bの制御装置の一部であっても良く、単体島Aや遊技機Bの制御装置とは別体的で単体島Aや遊技機Bの制御装置から制御信号の送受を行うように構成されていても良い。また、制御装置400には、モータドライバが含まれる構成としても良いが、制御装置400とは別途にモータドライバが存在する構成としても良い。
[4.4 Control system]
The single island A according to the present embodiment has a control device 400 as shown in FIG. 61 in order to control the driving of the ball polishing device 200. The control device 400 is configured around a CPU, a ROM, a RAM, a memory such as a nonvolatile memory, a timer, and other elements. In FIG. 61, one control device 400 is shown, but it may be composed of a plurality of control boards such as a main control board and a sub control board. The control device 400 may be a control device for the single island A or the gaming machine B, or may be a part of a control device for the single island A or the gaming machine B. It may be configured to send and receive control signals from the control device of the single island A or the gaming machine B separately from the device. The control device 400 may include a motor driver. However, the control device 400 may include a motor driver separately from the control device 400.
制御装置400には、出力信号供給先として、球研磨装置200の搬送部220のスクリューコンベア221を回転させるための球搬送モータ228と、研磨部230の研磨用モータ234と、状態を報知する手段として、発光器である報知用LED401が接続されている。
The control device 400, as an output signal supply destination, a ball conveyance motor 228 for rotating the screw conveyor 221 of the conveyance unit 220 of the ball polishing device 200, a polishing motor 234 of the polishing unit 230, and a means for informing the state As shown, a notification LED 401, which is a light emitter, is connected.
また、制御装置400には、入力信号源として、導入部210に備えられた導入部センサ402と、上部タンク300に備えられた満杯センサ403と、空センサ404と、球搬送モータ228の作動を監視するための球搬送モータセンサ405と、研磨部230の研磨カセット240が取付けられているか否かを監視する研磨カセット検出センサ406と、研磨用モータ234の作動を監視する研磨用モータセンサ407とが接続されている。
Further, the control device 400 operates as an input signal source the operation of an introduction part sensor 402 provided in the introduction part 210, a full sensor 403 provided in the upper tank 300, an empty sensor 404, and a ball transport motor 228. A ball conveyance motor sensor 405 for monitoring, a polishing cassette detection sensor 406 for monitoring whether the polishing cassette 240 of the polishing unit 230 is attached, and a polishing motor sensor 407 for monitoring the operation of the polishing motor 234 Is connected.
導入部センサ402は、球導入路211A,211Bまたは垂直落下部211B2に一定数の球Tの存在を検知するためのセンサである。球導入路211A,211Bまたは垂直落下部211B2に一定数の球Tがない場合は、導入部210の先端に存在する球Tに加わる圧力が少ないため、その球Tはスクリューコンベア221の搬送待機位置WPに進入することができない場合がある。
The introduction part sensor 402 is a sensor for detecting the presence of a certain number of spheres T in the sphere introduction paths 211A and 211B or the vertical drop part 211B2. When there is no fixed number of spheres T in the sphere introduction paths 211A, 211B or the vertical drop part 211B2, the pressure applied to the sphere T existing at the tip of the introduction part 210 is small, so that the sphere T is the transport standby position of the screw conveyor 221. You may not be able to enter the WP.
その状態で搬送部220のスクリューコンベア221を回転すると、その先端の球Tが帯板223と搬送ガイド225の入口227の周辺との間に噛まれて、ロックしてしまう虞がある。しかし、導入部210に一定数の球Tが存在するときは、導入部210の先端に存在する球Tに十分な圧力が加わるため、その先端の球Tは搬送待機位置WPまで進入するので、球のロックは生じない。
If the screw conveyor 221 of the transport unit 220 is rotated in this state, the ball T at the front end may be caught between the band plate 223 and the periphery of the entrance 227 of the transport guide 225 and may be locked. However, when a certain number of spheres T are present in the introduction part 210, sufficient pressure is applied to the sphere T present at the tip of the introduction part 210, so the sphere T at the tip enters the transport standby position WP. The ball does not lock.
そこで、制御装置400は、導入部210の導入部センサ402の検知信号がOFFのときは、スクリューコンベア221を駆動する球搬送モータ228を始動させないように制御する。このようにして、制御装置400により、球Tが導入部210にロックすることが防止されている。
Therefore, when the detection signal of the introduction unit sensor 402 of the introduction unit 210 is OFF, the control device 400 performs control so that the ball conveyance motor 228 that drives the screw conveyor 221 is not started. In this way, the control device 400 prevents the ball T from being locked to the introduction unit 210.
好ましい実施の形態では、搬送路226の途中に球搬送モータ228の回転開始後、所定時間内に球Tの搬送を検知しない場合は、球ロック検知信号を出力するロックセンサ(図示省略)が設けてあり、そのロックセンサが球ロック検知信号を出力したときは、球搬送モータ228の逆回転と正回転を少なくとも1回行ってリトライ動作を行うことにより、球Tのロックを解除できるようにしてある。
In a preferred embodiment, a lock sensor (not shown) that outputs a ball lock detection signal is provided when the conveyance of the ball T is not detected within a predetermined time after the rotation of the ball conveyance motor 228 is started in the middle of the conveyance path 226. When the lock sensor outputs a ball lock detection signal, the ball transport motor 228 is rotated at least once in reverse and forward to perform a retry operation so that the lock of the ball T can be released. is there.
満杯センサ403は、図57に示すように、上部タンク300の球受入れ部330の出口2315と反対側の周壁332aに取り付けられている。この満杯センサ403は、球Tが球受入れ部330内において球Tの存在による状態変化を検出したときに満杯に対応した信号を制御装置400に出力する。また、空センサ404は、図57に示すように、上部タンク300のタンク本体310のうち満杯センサ403と同じ側に位置する周壁部分312cに取り付けられている。ただし、その取り付け位置は、タンク本体310のうち他端寄り(X2側の端部寄り)の位置となっている。この空センサ404は、球Tがタンク本体310内において球Tが存在しなくなったことによる状態変化を検出したときに空となったことに対応した信号を制御装置400に出力する。
As shown in FIG. 57, the full sensor 403 is attached to the peripheral wall 332a opposite to the outlet 2315 of the ball receiving portion 330 of the upper tank 300. The full sensor 403 outputs a signal corresponding to fullness to the control device 400 when the sphere T detects a change in state due to the presence of the sphere T in the sphere receiving unit 330. As shown in FIG. 57, the empty sensor 404 is attached to a peripheral wall portion 312c located on the same side as the full sensor 403 in the tank body 310 of the upper tank 300. However, the attachment position is a position closer to the other end (close to the end portion on the X2 side) of the tank main body 310. This empty sensor 404 outputs to the control device 400 a signal corresponding to the fact that the sphere T is empty when detecting a change in state due to the absence of the sphere T in the tank body 310.
図62は、制御装置400による搬送部220と研磨部230の動作を示すタイミングチャートである。すなわち、制御装置400は、導入部センサ402が導入部210内の球Tを検知する間は、球搬送モータ228を回転させ、その間に研磨用モータ234の所定時間T1、たとえば1秒間の回転と、所定時間T2、たとえば3秒間の停止を繰り返す。そして、満杯センサ403から満杯を検知する満杯検知信号が入力された場合等により、制御装置400が研磨停止信号を出力したときは、球搬送モータ228および研磨用モータ234の回転を停止させる。
FIG. 62 is a timing chart showing the operations of the transport unit 220 and the polishing unit 230 by the control device 400. That is, the control device 400 rotates the ball transport motor 228 while the introduction unit sensor 402 detects the ball T in the introduction unit 210, and during that time, the polishing motor 234 rotates for a predetermined time T1, for example, 1 second. The stop for a predetermined time T2, for example, 3 seconds is repeated. Then, when the controller 400 outputs a polishing stop signal, for example, when a full detection signal for detecting fullness is input from the full sensor 403, the rotation of the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 is stopped.
<(1)球搬送モータ228および研磨用モータ234の制御 第1例>
図63は、制御装置400による球搬送モータ228および研磨用モータ234の制御処理の第1例のフローチャートである。第1例は、球搬送モータ228を常に一定の速度で回転させる場合の制御処理である。図63に基づいて、この制御処理を説明する。
<(1) First Example of Control of Ball Transfer Motor 228 and Polishing Motor 234>
FIG. 63 is a flowchart of a first example of control processing of the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 by the control device 400. The first example is a control process in the case where the ball transport motor 228 is always rotated at a constant speed. This control process will be described with reference to FIG.
この図63に示す制御処理が開始されると、ステップ11(以下、ステップをsと表す。)において、停止指示(研磨停止信号)があるか否かを判断する。s11において停止指示がないとき(Nのとき)は、s12において始動指示があるまで待機する。始動指示があったとき(Yのとき)は、s13において球搬送モータ228の作動を開始する(球搬送モータONとする)。次いで、s14において研磨タイマの計測値が0か否かを判断する。制御装置400には、研磨用モータ234の作動パターンを決める研磨タイマの設定値が登録されている。その設定値は、たとえば4秒であり、その4秒の初めの1秒は研磨用モータ234のONタイミング(作動タイミング)を決定し、次の3秒はOFFタイミング(停止タイミング)を決定する。
When the control process shown in FIG. 63 is started, it is determined in step 11 (hereinafter, step is represented as s) whether or not there is a stop instruction (polishing stop signal). When there is no stop instruction in s11 (when N), the system waits until there is a start instruction in s12. When a start instruction is given (when Y), the operation of the ball transport motor 228 is started in s13 (assuming the ball transport motor is ON). Next, in s14, it is determined whether or not the measured value of the polishing timer is zero. In the control device 400, a setting value of a polishing timer that determines an operation pattern of the polishing motor 234 is registered. The set value is, for example, 4 seconds. The first 1 second of the 4 seconds determines the ON timing (operation timing) of the polishing motor 234, and the next 3 seconds determines the OFF timing (stop timing).
上記のように、研磨用モータ234の作動パターンを決める研磨タイマにONタイミング(作動タイミング)とOFFタイミング(停止タイミング)を設定することにより、制御装置400は、研磨用モータ234を間欠駆動させるように制御している。間欠駆動をさせる場合は、連続駆動をさせる場合に比し、研磨用モータ234の寿命の伸長や研磨用モータ234の小型化が可能になる。また、研磨布243を間欠的に移動させることにより、研磨カセット240内に送り込まれる研磨布243は、送り込み状態が一旦停止し、再び送り込み状態になる。そのため、研磨カセット240内に送り込まれた研磨布243に対して、蛇行させる契機を生じさせることができる。
As described above, by setting the ON timing (operation timing) and the OFF timing (stop timing) in the polishing timer that determines the operation pattern of the polishing motor 234, the control device 400 causes the polishing motor 234 to be intermittently driven. Is controlling. In the case of intermittent driving, the life of the polishing motor 234 can be extended and the polishing motor 234 can be downsized compared to the case of continuous driving. In addition, by moving the polishing cloth 243 intermittently, the polishing cloth 243 fed into the polishing cassette 240 temporarily stops the feeding state and then enters the feeding state again. Therefore, an opportunity to meander the polishing cloth 243 fed into the polishing cassette 240 can be generated.
上述のs14において研磨タイマが0でない場合(Nの場合)は、s15において研磨タイマを更新し、続いて、s16において研磨タイマの計測値が上限値よりも大または等しいか否かを判断する。その判断結果が肯定のとき(Yのとき)は、s17において研磨タイマを0クリアし、s18において、研磨用モータ234は作動タイミングであるか否かを判断する。s16の判断結果が否定のとき(Nのとき)は、s18に移行する。
When the polishing timer is not 0 in s14 described above (in the case of N), the polishing timer is updated in s15, and subsequently, in s16, it is determined whether or not the measured value of the polishing timer is greater than or equal to the upper limit value. If the determination result is affirmative (Y), the polishing timer is cleared to 0 in s17, and in s18, it is determined whether or not the polishing motor 234 is at an operation timing. If the determination result of s16 is negative (N), the process proceeds to s18.
s18における、研磨用モータ234が作動タイミングであるか否かの判断は、次のようになされる。たとえば研磨タイマを4秒としたときに、初めの1秒が研磨用モータ234の作動(ON)のタイミングであり、次の3秒が研磨用モータ234の停止(OFF)のタイミングとするように、研磨タイマでの計測内で作動のタイミングが到来したか否かの判断となっている。かかるs18での判断結果が肯定の場合(Yの場合)は、s19において研磨用モータ234をONとして(作動させて)、s11に戻る。
In s18, it is determined whether or not the polishing motor 234 is at the operation timing as follows. For example, when the polishing timer is set to 4 seconds, the first 1 second is the timing of operation (ON) of the polishing motor 234, and the next 3 seconds is the timing of stop (OFF) of the polishing motor 234. Whether or not the operation timing has come within the measurement by the polishing timer is determined. If the determination result at s18 is affirmative (Y), the polishing motor 234 is turned on (operated) at s19, and the process returns to s11.
s11において停止指示があるときは、s110に進んで球搬送モータ228を作動停止(OFF)とし、次いでs111に進んで研磨用モータ234を作動停止(OFF)とし、その後にs11に戻る。また、s14において研磨タイマの計測値が0の場合(Yの場合)、またはs18の判断結果が否定の場合は、いずれもs112において研磨用モータ234を停止(OFF)とした後、s11に戻る。すなわち、制御装置400は、球研磨装置200の搬送部220および研磨部230の騒音および消費電力を極力小さくするように球搬送モータ228および研磨用モータ234を制御する。
When there is a stop instruction in s11, the process proceeds to s110, the operation of the ball transport motor 228 is stopped (OFF), and then the process proceeds to s111, where the polishing motor 234 is stopped (OFF), and then the process returns to s11. In addition, when the measured value of the polishing timer is 0 in s14 (in the case of Y) or the determination result in s18 is negative, the polishing motor 234 is stopped (OFF) in s112, and then the process returns to s11. . That is, the control device 400 controls the ball conveyance motor 228 and the polishing motor 234 so as to minimize the noise and power consumption of the conveyance unit 220 and the polishing unit 230 of the ball polishing apparatus 200.
<(2)球搬送モータ228および研磨用モータ234の制御 第2例>
図64A、図64B、および図64Cは、制御装置400による球搬送モータ228および研磨用モータ234の制御処理の第2例のフローチャートである。第2例は、制御装置400が満杯センサ403からの検知信号と空センサ404からの検知信号に基づいて球搬送モータ228を制御するものである。
<(2) Second Example of Control of Ball Transfer Motor 228 and Polishing Motor 234>
64A, 64B, and 64C are flowcharts of a second example of control processing of the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 by the control device 400. FIG. In the second example, the control device 400 controls the ball transport motor 228 based on the detection signal from the full sensor 403 and the detection signal from the empty sensor 404.
図64Aのs21、s27、およびs28の処理内容は、図63のs11、s110、およびs111の処理内容と同一である。そのため、これらのステップの詳細についての説明は省略する。s21の停止指示の後に、始動指示の待機状態にてs22の始動指示があったとき(Yのとき)は、s23において、上述のs22の始動指示が球搬送モータ228の低速駆動に対応したものか否かを判断する。制御装置400は、満杯センサ403の検知信号がOFFで、かつ空センサ404の検知信号がONとなったとき、すなわち、満杯状態ではないが、空状態ではないときは、球搬送モータ228の低速駆動が必要であると判断する。s23の判断結果が肯定のとき(Yのとき)は、図64Bのs29に移行する。
The processing contents of s21, s27, and s28 in FIG. 64A are the same as the processing contents of s11, s110, and s111 in FIG. Therefore, the detailed description of these steps is omitted. When a start instruction for s22 is given in the start instruction standby state after the stop instruction for s21 (when Y), the start instruction for s22 described above corresponds to the low-speed driving of the ball transport motor 228 in s23. It is determined whether or not. When the detection signal of the full sensor 403 is OFF and the detection signal of the empty sensor 404 is ON, that is, when the control device 400 is not full but not empty, the control device 400 operates the low speed of the ball transport motor 228. It is determined that driving is necessary. When the determination result of s23 is affirmative (Y), the process proceeds to s29 in FIG. 64B.
図64Bのs29に移行したときは、球搬送モータ228を作動(ON)として、低速駆動を開始する。そして、s210において研磨タイマが0となったか否かを判断する。s210において研磨タイマの計測値が0でない場合(Nの場合)は、s211において研磨タイマを更新し、続いて、s212において研磨タイマの計測値が上限値よりも大または等しいか否かを判断する。その判断結果が肯定のとき(Yのとき)は、s213において研磨タイマを0クリアする。続いて、s214において、研磨用モータ234は作動タイミングであるか否かを判断する。なお、このs214における判断は、上述のs18における判断と同様である。
When the process proceeds to s29 in FIG. 64B, the ball transport motor 228 is activated (ON) and low-speed driving is started. In s210, it is determined whether or not the polishing timer has reached 0. If the measured value of the polishing timer is not 0 in s210 (in the case of N), the polishing timer is updated in s211. Subsequently, in s212, it is determined whether or not the measured value of the polishing timer is greater than or equal to the upper limit value. . If the determination result is affirmative (Y), the polishing timer is cleared to 0 in s213. Subsequently, in s214, it is determined whether or not the polishing motor 234 is in operation timing. The determination at s214 is the same as the determination at s18 described above.
また、s212の判断結果が否定のとき(Nのとき)は、s214に移行する。また、上述のs214の判断結果が肯定の場合(Yの場合)は、s215において研磨用モータ234をONとして(作動させて)低速駆動を開始した後、図64Aにおけるs21に戻る。
If the result of determination at s212 is negative (N), the process proceeds to s214. If the determination result of s214 is affirmative (Y), the polishing motor 234 is turned on (actuated) in s215 to start low-speed driving, and then the process returns to s21 in FIG. 64A.
一方、s210の判断結果が肯定のとき(Yのとき)、またはs214の判断結果が否定の場合(Nの場合)は、いずれも、s216に移行して、研磨用モータ234を停止と(OFFと)した後、s21に戻る。
On the other hand, when the determination result of s210 is affirmative (when Y) or when the determination result of s214 is negative (when N), the process proceeds to s216 and the polishing motor 234 is stopped (OFF). And return to s21.
s23の判断結果が否定(N)のときは、s24において、上述のs22の始動指示が球搬送モータ228の中速駆動に対応したものか否かを判断する。制御装置400は、満杯センサ403の検知信号がOFF、かつ空センサ404の検知信号がONとなったことに基づき球搬送モータ228の低速駆動を開始し(s29)、一定時間が経過しても満杯センサ403の検知信号がONにならないときは、球搬送モータ228の中速駆動が必要であると判断する。そこで、s24の判断結果が肯定のとき(Yのとき)は、図64Cのs217に移行する。
If the result of determination in s23 is negative (N), it is determined in s24 whether or not the above-described start instruction in s22 corresponds to the medium speed drive of the ball transport motor 228. The control device 400 starts low-speed driving of the ball transport motor 228 based on the detection signal of the full sensor 403 being OFF and the detection signal of the empty sensor 404 being ON (s29). When the detection signal of the full sensor 403 is not turned ON, it is determined that the medium speed driving of the ball transport motor 228 is necessary. Therefore, when the determination result of s24 is affirmative (Y), the process proceeds to s217 in FIG. 64C.
図64Cのs217に移行したときは、球搬送モータ228を作動(ON)として、中速駆動を開始する。そして、s218において研磨タイマの計測値が0か否かを判断する。研磨タイマの計測値が0でない場合は、s219において研磨タイマを更新する。続いて、s220において研磨タイマの計測値が上限値よりも大または等しいか否かを判断する。その判断結果が肯定のとき(Yのとき)は、s221において研磨タイマを0クリアする。次にs222において、そのとき研磨用モータ234は作動タイミングか否かを判断する。なお、この判断も、上述のs18と同様である。s220の判断結果が否定のとき(Nのとき)は、s222に移行する。また、s222の判断結果が肯定の場合(Yの場合)は、s223において研磨用モータ234を作動(ON)として中速駆動を開始した後、s21に戻る。
When the process proceeds to s217 in FIG. 64C, the ball transport motor 228 is activated (ON) and medium speed driving is started. In s218, it is determined whether or not the measured value of the polishing timer is zero. If the measured value of the polishing timer is not 0, the polishing timer is updated in s219. Subsequently, in s220, it is determined whether or not the measured value of the polishing timer is greater than or equal to the upper limit value. If the determination result is affirmative (Y), the polishing timer is cleared to 0 in s221. Next, in s222, it is determined whether or not the polishing motor 234 is in operation timing at that time. This determination is also the same as s18 described above. When the determination result of s220 is negative (when N), the process proceeds to s222. If the determination result of s222 is affirmative (Y), the polishing motor 234 is activated (ON) in s223 and medium speed driving is started, and then the process returns to s21.
一方、s218の判断結果が肯定のとき(Yのとき)、またはs222の判断結果が否定の場合(Nの場合)は、いずれもs224に移行し、研磨用モータ234を停止(OFF)とした後に、s21に戻る。
On the other hand, when the determination result of s218 is affirmative (when Y) or when the determination result of s222 is negative (in the case of N), the process proceeds to s224 and the polishing motor 234 is stopped (OFF). Later, the process returns to s21.
また、s23の判断結果およびs24の判断結果がいずれも否定のとき(Nのとき)は、s25において球搬送モータ228を作動(ON)とするが、このとき球搬送モータ228の高速駆動を開始する。これと共に、s26において研磨用モータ234を作動(ON)として連続駆動を開始した後に、s21に戻る。球搬送モータ228を高速回転させるときは、球搬送路の単位時間当たりの搬送量が多くなる。そのため、研磨布243の間欠送りを継続する場合は研磨(清掃)能力が不足することが考えられる。そこで、好ましい実施の形態においては、球搬送モータ228を高速回転させるときは、必要な研磨(清掃)能力を発揮させるために、研磨用モータ234を連続回転させている。研磨用モータ234を連続回転させる場合は、研磨布243のねじれ等が少ないという効果も得られる。
When the determination result of s23 and the determination result of s24 are both negative (N), the ball transport motor 228 is activated (ON) in s25, but at this time, the ball transport motor 228 starts to be driven at high speed. To do. At the same time, the polishing motor 234 is activated (ON) in s26 to start continuous driving, and then returns to s21. When the ball transport motor 228 is rotated at a high speed, the transport amount per unit time on the ball transport path increases. Therefore, when the intermittent feeding of the polishing pad 243 is continued, it is considered that the polishing (cleaning) ability is insufficient. Therefore, in a preferred embodiment, when the ball transport motor 228 is rotated at a high speed, the polishing motor 234 is continuously rotated in order to exhibit a necessary polishing (cleaning) capability. When the polishing motor 234 is continuously rotated, an effect that the polishing cloth 243 is less twisted or the like can be obtained.
なお、球搬送モータ228の高速駆動を行う場合としては、空センサ404が空状態を検知したときが挙げられる。また、中速駆動後に一定時間が経過しても満杯センサ403の検知信号がONにならないときは、s24において高速駆動が必要と判断(Nと判断)しても良い。
An example of a case where the ball transport motor 228 is driven at high speed is when the empty sensor 404 detects an empty state. Further, if the detection signal of the full sensor 403 does not turn on even after a certain time has elapsed after the medium speed driving, it may be determined that high speed driving is necessary (determined as N) in s24.
<(3)球搬送モータ228および研磨用モータ234の制御 第3例>
図65A〜図65Cは、制御装置400による球搬送モータ228および研磨用モータ234の制御処理の第3例のフローチャートである。この制御処理は、研磨布243の使用期間の経過により研磨布243の送りパターンを変えるものである。
<(3) Third Example of Control of Ball Transport Motor 228 and Polishing Motor 234>
65A to 65C are flowcharts of a third example of control processing of the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 by the control device 400. In this control process, the feed pattern of the polishing pad 243 is changed as the use period of the polishing pad 243 elapses.
図65Aのs31、s32、s34およびs35の処理内容は、図63のs11、s12、s110およびs111の処理内容、および図64Aのs21、s22、s27およびs28の処理内容とそれぞれ同一である。そのため、これらのステップの詳細についての説明は省略する。
The processing contents of s31, s32, s34, and s35 in FIG. 65A are the same as the processing contents of s11, s12, s110, and s111 in FIG. 63 and the processing contents of s21, s22, s27, and s28 in FIG. Therefore, the detailed description of these steps is omitted.
図65Aのs32において始動指示があったとき(Yのとき)は、s33において、研磨布243の使用期間は所定期間を超えたか否かを判断する。この判断は、研磨布243の使用開始時に制御装置400の内部時計に設定した使用開始日から積算される使用期間をその研磨布243について登録した使用可能期間と比較して行われる。s33において、使用期間は所定期間を超えていないと判断したとき(Nのとき)は、図65Bのs36に移行する。また、s33において使用期間は所定期間を超えていると判断したとき(Yのとき)は、図65Cのs314に移行する。
When a start instruction is given in s32 of FIG. 65A (Y), it is determined in s33 whether or not the usage period of the polishing pad 243 has exceeded a predetermined period. This determination is made by comparing the use period accumulated from the use start date set in the internal clock of the control device 400 at the start of use of the polishing pad 243 with the usable period registered for the polishing pad 243. When it is determined in s33 that the usage period does not exceed the predetermined period (N), the process proceeds to s36 in FIG. 65B. If it is determined in s33 that the usage period exceeds the predetermined period (Y), the process proceeds to s314 in FIG. 65C.
上述のs33において研磨布243の使用期間が所定期間を超えたと判断したときは、図65Bのs36において、球搬送モータ228を作動(ON)とし、その後に、s37において研磨タイマの計測値が0か否かを判断する。そのs36における判断結果が否定の場合(Nの場合)は、s38において研磨タイマを更新し、続いて、s39において研磨タイマの計測値が上限値よりも大または等しいか否かを判断する。なお、上限値として4秒が設定される場合には、その4秒よりも大であるか、または等しいか否かが判断される。
When it is determined in s33 that the usage period of the polishing pad 243 has exceeded the predetermined period, the ball transport motor 228 is activated (ON) in s36 of FIG. 65B, and then the measured value of the polishing timer is 0 in s37. Determine whether or not. If the determination result in s36 is negative (in the case of N), the polishing timer is updated in s38, and then it is determined in s39 whether the measured value of the polishing timer is greater than or equal to the upper limit value. When 4 seconds is set as the upper limit value, it is determined whether or not it is greater than or equal to 4 seconds.
s39における判断結果が肯定のとき(Yのとき)は、s310において研磨タイマを0クリアし、続いてs311において、そのとき研磨用モータ234は作動タイミングか否かを判断する。s311における判断結果が肯定の場合(Yの場合)は、s312において研磨用モータ234を作動(ON)とし、その後に、s31に戻る。研磨タイマに上限値としてたとえば4秒が設定された場合、その設定された4秒のうち、初めの1秒は研磨用モータ234のONタイミング(作動タイミング)とし、次の3秒は研磨用モータ234のOFFタイミング(停止タイミング)に使用される。
If the determination result in s39 is affirmative (Y), the polishing timer is cleared to 0 in s310, and then in s311, it is determined whether or not the polishing motor 234 is in operation timing. If the determination result in s311 is affirmative (if Y), the polishing motor 234 is activated (ON) in s312 and then the process returns to s31. When, for example, 4 seconds is set as the upper limit value in the polishing timer, the first 1 second of the set 4 seconds is the ON timing (operation timing) of the polishing motor 234, and the next 3 seconds are the polishing motor. 234 is used for OFF timing (stop timing).
また、s37の判断結果が肯定のとき(Yのとき)、またはs311の判断結果が否定の場合(Nの場合)は、いずれもs313に移行し、研磨用モータ234を停止(OFF)とし、その後に、s31に戻る。
Further, when the determination result of s37 is affirmative (when Y) or when the determination result of s311 is negative (in the case of N), the process proceeds to s313, the polishing motor 234 is stopped (OFF), Thereafter, the process returns to s31.
一方、s33において、使用期間は所定期間を超えていると判断したとき(Yのとき)は、図65Cのs314へ移行する。なお、図65Cのs314、s315およびs316は、図65Bのs36、s37およびs38と同様の処理となっている。そして、s314、s315およびs316の処理を行った後に、s317において研磨タイマの計測値が設定値の経過後上限値よりも大または等しいか否かを判断する。
On the other hand, when it is determined in s33 that the usage period exceeds the predetermined period (when Y), the process proceeds to s314 in FIG. 65C. Note that s314, s315, and s316 in FIG. 65C are the same processing as s36, s37, and s38 in FIG. 65B. Then, after performing the processes of s314, s315, and s316, it is determined in s317 whether the measured value of the polishing timer is greater than or equal to the upper limit value after the set value has elapsed.
なお、経過後上限値は、s33での判断で研磨布243の使用期間が所定期間を超えたと判断された場合に対応するものである。研磨布243の使用期間が所定期間を超えると、研磨布243に付着している汚れ等により、球Tの研磨(清掃)能力が悪化してくる場合がある。そのため、s317における経過後上限値は、s39における上限値よりも長く設定されている。たとえばs39における上限値を4秒と設定した場合、s317における経過後上限値を5秒と設定する場合があるが、その設定時間はどのような時間としても良い。
The upper limit value after the passage corresponds to the case where it is determined in s33 that the usage period of the polishing pad 243 has exceeded the predetermined period. When the use period of the polishing pad 243 exceeds a predetermined period, the polishing (cleaning) ability of the sphere T may deteriorate due to dirt or the like adhering to the polishing pad 243. Therefore, the post-elapse upper limit value in s317 is set longer than the upper limit value in s39. For example, when the upper limit value in s39 is set to 4 seconds, the upper limit value after elapse in s317 may be set to 5 seconds, but the set time may be any time.
また、研磨タイマに経過後上限値としてたとえば5秒が設定された場合、その設定された5秒のうち、初めの2秒は研磨用モータ234のONタイミング(作動タイミング)とし、次の3秒は研磨用モータ234のOFFタイミング(停止タイミング)に変更される。すなわち、研磨用モータ234の作動パターンを2秒ON(作動)/3秒OFF(停止)の間欠作動に変更する。
If, for example, 5 seconds is set as the upper limit value after the polishing timer has elapsed, the first 2 seconds of the set 5 seconds is the ON timing (operation timing) of the polishing motor 234, and the next 3 seconds. Is changed to the OFF timing (stop timing) of the polishing motor 234. That is, the operation pattern of the polishing motor 234 is changed to an intermittent operation of 2 seconds ON (operation) / 3 seconds OFF (stop).
また、s317の判断結果が肯定のとき(Yのとき)は、s318において研磨タイマを0クリアし、s319において、そのとき研磨用モータ234は作動タイミングか否かを判断する。s319の判断結果が肯定の場合(Yの場合)は、s320において研磨用モータ234を作動(ON)とした後、s31に戻る。s315の判断結果が肯定のとき(Yのとき)、またはs319の判断結果が否定の場合(Nの場合)には、いずれもs321に移行し、研磨用モータ234を停止(OFF)とした後、s31に戻る。
If the determination result in s317 is affirmative (Y), the polishing timer is cleared to 0 in s318, and in s319, it is determined whether or not the polishing motor 234 is in operation timing. If the determination result in s319 is positive (in the case of Y), the polishing motor 234 is activated (ON) in s320, and then the process returns to s31. When the determination result of s315 is affirmative (when Y), or when the determination result of s319 is negative (when N), the process proceeds to s321 and the polishing motor 234 is stopped (OFF). , Return to s31.
(4)球搬送モータ228および研磨用モータ234の制御 第4例
図66A、図66Bは、制御装置400による球搬送モータ228および研磨用モータ234の制御処理の第4例のフローチャートである。この制御処理は、上部タンク300に設けられた満杯センサ403および空センサ404からの、球Tが空であることを示す信号に基づいて、球搬送モータ228および研磨用モータ234を制御するものである。
(4) Control of Ball Transport Motor 228 and Polishing Motor 234 Fourth Example FIGS. 66A and 66B are flowcharts of a fourth example of control processing of the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 by the control device 400. This control process controls the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 based on a signal from the full sensor 403 and the empty sensor 404 provided in the upper tank 300 indicating that the ball T is empty. is there.
制御装置400は、この制御処理を開始すると、図66Aのs41において満杯センサ403の検知信号がOFFになったか否か、すなわち、満杯状態でなくなったか否かを監視する。そして、満杯センサ403の検知信号がOFFになったとき(s41においてYのとき)は、球搬送モータ228の低速回転を開始する(s42)。また、制御装置400は、図示されていない制御フローにより、球搬送モータ228を一定時間ごとに間欠回転させる。これにより、球研磨装置200の搬送部220は低騒音かつ少ない消費電力で下部タンク100から球Tを搬送し、かつ、搬送される球は研磨部230において研磨される。
When this control process is started, the control device 400 monitors whether or not the detection signal of the full sensor 403 is turned off in s41 of FIG. 66A, that is, whether or not the full state is lost. When the detection signal of the full sensor 403 is turned off (Y in s41), the low speed rotation of the ball transport motor 228 is started (s42). Further, the control device 400 intermittently rotates the ball transport motor 228 at regular intervals according to a control flow (not shown). Thereby, the conveyance unit 220 of the sphere polishing apparatus 200 conveys the sphere T from the lower tank 100 with low noise and low power consumption, and the conveyed sphere is polished by the polishing unit 230.
制御装置400は、低速回転開始後、s43において満杯センサ403の検知信号がONになったか否かを監視し、ONになったとき、すなわち満杯状態になったとき(s43においてYのとき)は、球搬送モータ228の低速回転を停止する(s44)。低速回転を停止した後は、s41に戻る。これは、大当たりが出ない通常の遊技における制御パターンである。
The control device 400 monitors whether or not the detection signal of the full sensor 403 is turned on in s43 after starting the low-speed rotation, and when turned on, that is, when full (when Y in s43). Then, the low-speed rotation of the ball transport motor 228 is stopped (s44). After stopping the low speed rotation, the process returns to s41. This is a control pattern in a normal game where a big hit is not made.
これに対して、制御装置400は、s42における搬送モータ228の低速回転開始後、満杯センサ403の検知信号がONにならないとき(s43でNのとき)は、s45においてタイマを始動させ、再び満杯センサ403の検知信号がONになったか否かを一定時間監視する(s46でN,s47でN)。s46において満杯センサ403の検知信号がONになった場合は、続いてs44の処理を行う。
On the other hand, if the detection signal of the full sensor 403 does not turn ON after s42 starts the low speed rotation of the transport motor 228 in s42 (when s43 is N), the control device 400 starts the timer in s45 and is full again. Whether or not the detection signal of the sensor 403 is turned on is monitored for a certain time (N in s46, N in s47). If the detection signal of the full sensor 403 is turned on in s46, the process of s44 is subsequently performed.
しかし、低速回転開始(s42)後、一定時間が経過しても満杯センサ403の検知信号がONにならないとき(s43でN,s46でN,s47でYのとき)は、球搬送モータ228の回転速度を低速回転から中速回転に切り替える(s48)。すなわち、この場合は、上部タンク300からの球Tの補給量が多いことを意味するものとして、下部タンク100から上部タンク300への球搬送速度を高める制御を行う。そして、制御装置400は、この上部タンク300への加速搬送により満杯センサ403の検知信号がONになったか否かを監視する(s49)。満杯センサ403の検知信号がONになったとき(s49においてYのとき)は、制御装置400は、球搬送モータ228の中速回転を停止する(s410)。中速回転を停止した後は、s41に戻る。これは、たとえば、単発の大当たりが出た場合の制御パターンである。
However, if the detection signal of the full sensor 403 does not turn on even after a certain period of time has elapsed after the start of low speed rotation (s42) (N in s43, N in s46, Y in s47), the ball transport motor 228 The rotation speed is switched from the low speed rotation to the medium speed rotation (s48). In other words, in this case, control that increases the ball conveyance speed from the lower tank 100 to the upper tank 300 is performed, which means that the replenishment amount of the balls T from the upper tank 300 is large. Then, the control device 400 monitors whether or not the detection signal of the full sensor 403 is turned ON by the accelerated conveyance to the upper tank 300 (s49). When the detection signal of the full sensor 403 is turned ON (Y in s49), the control device 400 stops the medium speed rotation of the ball transport motor 228 (s410). After stopping the medium speed rotation, the process returns to s41. This is, for example, a control pattern when a single hit is made.
また、制御装置400は、s48における中速回転開始後、s49においてなお満杯センサ403の検知信号がONにならないとき(s49においてNのとき)は、図66Bのs411に移行し、空センサ404の検知信号がOFFになったか否かを監視する。空センサ404の検知信号がOFFになったとき、すなわち、上部タンク300内の球数が一定量未満になったとき(s411においてYのとき)は、球搬送モータ228の回転速度を中速回転から高速回転に切り替える(s412)。これにより、球研磨装置200による搬送速度をさらに高めて、速やかに上部タンク300内の球数を増やすように制御する。したがって、上部タンク300からの補給不足の事態が発生することが防止される。このような制御は、たとえば、連発の大当たりの際に行われる制御パターンである。
If the detection signal of the full sensor 403 is not turned ON at s49 after the start of the medium speed rotation at s48 (when N at s49), the control device 400 proceeds to s411 in FIG. It is monitored whether the detection signal is turned off. When the detection signal of the empty sensor 404 is turned off, that is, when the number of balls in the upper tank 300 becomes less than a certain amount (Y in s411), the rotation speed of the ball transport motor 228 is rotated at medium speed. Is switched to high speed rotation (s412). Thereby, the conveyance speed by the ball polishing apparatus 200 is further increased, and control is performed so that the number of balls in the upper tank 300 is quickly increased. Therefore, it is possible to prevent a situation where supply from the upper tank 300 is insufficient. Such control is, for example, a control pattern that is performed in the case of a big hit of consecutive fires.
s49において満杯センサ403の検知信号がONにならず、また、s411において空センサ404の検知信号がOFFにならない場合は、s49に戻って満杯センサ403の検知信号がONになるのを待つ。
If the detection signal of the full sensor 403 is not turned on in s49 and the detection signal of the empty sensor 404 is not turned off in s411, the process returns to s49 and waits for the detection signal of the full sensor 403 to turn on.
制御装置400は、s412において高速回転に切り替えた後は、再びタイマーを始動させる(s413)とともに、満杯センサ403の検知信号がONになったか否かを判断する(s414)。満杯センサ403の検知信号がONになったとき(s414においてYのとき)は、球搬送モータ228の高速回転を停止(s415)した後、s41に戻る。
After switching to high speed rotation in s412, the control device 400 starts the timer again (s413) and determines whether or not the detection signal of the full sensor 403 is turned on (s414). When the detection signal of the full sensor 403 is turned ON (Y in s414), the high speed rotation of the ball transport motor 228 is stopped (s415), and then the process returns to s41.
しかし、s412において高速回転に切り替えた後、一定時間を経過しても満杯センサ403の検知信号がONにならないとき(s414においてN、s416においてYのとき)は、例えば、導入部210での球詰まり、またはその他の異常が発生したと考えられるので、高速回転を停止して(s417)、球研磨装置200の制御を中止する。
However, if the detection signal of the full sensor 403 does not turn on after a lapse of a certain time after switching to high speed rotation in s412 (N in s414 and Y in s416), for example, a ball in the introduction unit 210 Since clogging or other abnormalities are considered to have occurred, the high speed rotation is stopped (s417), and the control of the ball polishing apparatus 200 is stopped.
なお、s417において球搬送モータ228の高速回転を中止したときは、球搬送モータ228を微小時間、例えば2,3秒間逆回転させ、再び正回転させることが好ましい。この逆転により、導入部210と搬送部220の境界に球Tが噛まれている場合は、その球Tが球導入路211側に退避するので、その後の正回転時には球導入路211内の球が円滑に搬送待機位置WPに到達し、搬送路226を搬送される。したがって、球詰まりが解消される。
When the high speed rotation of the ball transport motor 228 is stopped in s417, it is preferable that the ball transport motor 228 is reversely rotated for a minute time, for example, for a few seconds, and then forward rotated again. When the sphere T is bitten at the boundary between the introduction unit 210 and the conveyance unit 220 due to this reverse rotation, the sphere T is retracted to the sphere introduction path 211 side. Smoothly reaches the transport standby position WP and is transported along the transport path 226. Therefore, the ball clogging is eliminated.
このような制御により、当たりの無い通常の遊技中では、低速運転により消費電力が節減されるとともに、騒音発生が抑えられる。また、遊技中に当たりが出た場合は、単発の大当たりか、連続の大当たりかに応じて、中速運転または高速運転を行って球供給の要求度に合理的に対応することができる。
With such control, during normal games without hits, power consumption is reduced by low-speed operation, and noise generation is suppressed. In addition, when a win occurs during the game, it is possible to rationally respond to the required degree of ball supply by performing a medium speed operation or a high speed operation depending on whether it is a single big hit or a continuous big hit.
既述したが、満杯センサ403および空センサ404は、図57に例示するように、それぞれの取付位置をタンク本体310の長手方向(X方向)または球受入れ部330の長手方向に移動して調整可能とされている。満杯センサ403および空センサ404の取付位置を変更可能とすることにより、球搬送モータ228の回転開始、回転速度切換え、あるいは回転停止のタイミング設定を、上部タンク300の球収容能力および上部タンク300に要求される供給量などに応じて柔軟に行うことができる。これにより、遊技中に上部タンク300の球不足という事態の発生をより確実に回避することが可能である。
As described above, the full sensor 403 and the empty sensor 404 are adjusted by moving the respective mounting positions in the longitudinal direction (X direction) of the tank body 310 or the longitudinal direction of the ball receiving portion 330 as illustrated in FIG. It is possible. By making it possible to change the mounting positions of the full sensor 403 and the empty sensor 404, the timing of starting rotation, switching the rotation speed, or stopping rotation of the ball transport motor 228 can be set in the ball capacity of the upper tank 300 and the upper tank 300. This can be done flexibly according to the required supply amount. Thereby, it is possible to more reliably avoid the occurrence of a situation where the upper tank 300 is short of balls during the game.
[5.他の実施の形態]
(1)非開放型遊技機
以上の実施の形態は、図1および図2に示すように、球研磨装置200の下側に下部タンク100が結合され、球研磨装置200の上側に上部タンク300が結合された例であるが、他の実施の形態として、遊技機に下部タンク100と上部タンク300を備えずに、図67に例示するような非開放型遊技機B´に球研磨装置200のみを備えて使用することもできる。以下の説明では、図67に示す球研磨装置200を球研磨装置200´として説明する。
[5. Other Embodiments]
(1) Non-open type gaming machine In the above embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the lower tank 100 is coupled to the lower side of the ball polishing apparatus 200, and the upper tank 300 is connected to the upper side of the ball polishing apparatus 200. However, as another embodiment, the gaming machine does not include the lower tank 100 and the upper tank 300, but the non-open gaming machine B ′ illustrated in FIG. It can also be used with only. In the following description, the spherical polishing apparatus 200 shown in FIG. 67 will be described as a spherical polishing apparatus 200 ′.
図67は、本実施の形態に係る球研磨装置200´を非開放型遊技機B´に用いた実施の形態を示す正面図である。図67に示すように、非開放型遊技機B´は、1台の遊技機に対して1台の球研磨装置200´が設置されるものであり、球Tが遊技機内に予め封入されている。そして、所定の発射待機位置に導かれた球Tを遊技者が遊技盤5の表面側の遊技領域13に向けて発射し、遊技領域13を流下した球Tを回収して再び所定の発射位置に導くものである。
FIG. 67 is a front view showing an embodiment in which the ball polishing apparatus 200 ′ according to the present embodiment is used in a non-open gaming machine B ′. As shown in FIG. 67, in the non-open type gaming machine B ′, one ball polishing device 200 ′ is installed for one gaming machine, and the ball T is enclosed in the gaming machine in advance. Yes. Then, the player launches the ball T guided to the predetermined launch standby position toward the game area 13 on the surface side of the game board 5, collects the ball T flowing down the game area 13, and again returns to the predetermined launch position. It leads to.
遊技者は、遊技機もしくは遊技機ごとに設けられた球貸し機または会員カードやビジターカード等の記憶媒体に記憶されている、遊技者が所有する遊技価値である持球データに基づき球を発射して遊技を行なう。球貸し機と通信可能な上位コンピュータに遊技機ごとの持球データを記憶させてもよい。また、遊技者が遊技機に付設された球貸し機にて球貸し操作を行なうことで、その操作に応じた貸球数のデータが持球データに加算される。遊技中は、発射された球に対応して持球データが減算され、各種入賞口に入賞した場合は、賞球数が持球数データに加算されるようになっている。
The player launches a ball based on the game data owned by the player, which is stored in a storage device such as a gaming machine or a ball lending machine provided for each gaming machine or a membership card or a visitor card. And play a game. The ball holding data for each gaming machine may be stored in a host computer that can communicate with the ball lending machine. In addition, when a player performs a ball lending operation with a ball lending machine attached to the gaming machine, data on the number of balls lent according to the operation is added to the ball holding data. During the game, the ball data is subtracted corresponding to the ball that has been fired, and when winning in various winning ports, the number of winning balls is added to the ball number data.
すなわち、図67に示すように、遊技機B´では、発射装置31により遊技盤5の遊技領域13に発射されて遊技領域13を流下した球Tは、外れ球回収口h1または入賞口h2等の各種入賞口を経由して、遊技盤5の裏面側に設けられた、収容能力がたとえば100個程度の球回収部33に回収される。球回収部33に回収された球Tは球回収部33の下側に設けられた球研磨装置200に球入口34から流入する。
That is, as shown in FIG. 67, in the gaming machine B ′, the ball T that has been launched by the launching device 31 into the game area 13 of the game board 5 and flowed down the game area 13 is a missed ball collection port h1 or a winning port h2 or the like. Through the various winning awards, the ball collecting unit 33 provided on the back side of the game board 5 has a capacity of, for example, about 100 balls. The sphere T collected by the sphere collection unit 33 flows into the sphere polishing apparatus 200 provided below the sphere collection unit 33 from the sphere inlet 34.
そして、球研磨装置200´に流入した球Tは、球研磨装置200´内を搬送され研磨された後、球研磨装置200´の球出口35から流出し、球揚送手段36により再び発射装置31の所定の発射待機位置37に導かれるように構成されている。なお、発射待機位置37および発射装置31を設ける位置は、図67に示された例に限らず、他の任意の位置とすることができる。
The sphere T flowing into the sphere polishing apparatus 200 ′ is conveyed and polished in the sphere polishing apparatus 200 ′, then flows out from the sphere outlet 35 of the sphere polishing apparatus 200 ′, and is again launched by the sphere lifting means 36. It is configured to be guided to 31 predetermined launch standby positions 37. Note that the position where the firing standby position 37 and the launching device 31 are provided is not limited to the example shown in FIG. 67, and may be any other position.
図67に示す遊技機B´においては、球研磨装置200´は、上述した球研磨装置200とは異なり、横置型のハウジング201´を有している。そして、このハウジング201´は遊技機B´の幅方向(X方向)を長手としている。
In the gaming machine B ′ shown in FIG. 67, the ball polishing apparatus 200 ′ has a horizontal housing 201 ′ unlike the ball polishing apparatus 200 described above. The housing 201 ′ has a longitudinal direction in the width direction (X direction) of the gaming machine B ′.
図68は、図67に示す球研磨装置200´において研磨カセット240を外してハウジング201´の内部構成を示す斜視図である。図69は図67に示す球研磨装置200´の内部構成を示す正面図である。図70はハウジング201´にセットされる研磨カセット240の構成を示す斜視図である。以下に、図67に示す球研磨装置200´の構成の詳細について説明する。
FIG. 68 is a perspective view showing the internal configuration of the housing 201 ′ with the polishing cassette 240 removed in the ball polishing apparatus 200 ′ shown in FIG. FIG. 69 is a front view showing an internal configuration of the ball polishing apparatus 200 ′ shown in FIG. FIG. 70 is a perspective view showing a configuration of the polishing cassette 240 set in the housing 201 ′. Details of the configuration of the ball polishing apparatus 200 ′ shown in FIG. 67 will be described below.
球研磨装置200´は、図68および図69に示すように、正面側(Y1側)が開口している箱状のハウジング201´を有している。そして、この箱状のハウジング201´の内部には、スクリューコンベア221´が回転自在となるように配置されており、そのスクリューコンベア221´を覆うように搬送ガイド236´が設けられている。搬送ガイド236´は、正面方向(Y1方向)に開口する溝状に設けられている。また、搬送ガイド236´は互いに対向する端壁236a´,236b´により形成されている。端壁236a´,236b´は、全体的な進行方向が幅方向の他方側(Y2側)に向かいつつも、上方側(Z1側)に向かって延伸している。しかし、進行方向に沿って進行すると、その全体的な進行方向に直交する方向での若干の往復を繰り返すように蛇行している。それにより、球Tが搬送ガイド236´を進行する際に蛇行する球蛇行領域2314´が形成される。
As shown in FIGS. 68 and 69, the spherical polishing apparatus 200 ′ includes a box-shaped housing 201 ′ having an open front side (Y1 side). And inside this box-shaped housing 201 ', screw conveyor 221' is arrange | positioned so that rotation is possible, and conveyance guide 236 'is provided so that the screw conveyor 221' may be covered. The conveyance guide 236 ′ is provided in a groove shape that opens in the front direction (Y1 direction). Further, the transport guide 236 ′ is formed by end walls 236a ′ and 236b ′ facing each other. The end walls 236a ′ and 236b ′ extend toward the upper side (Z1 side) while the overall traveling direction is toward the other side (Y2 side) in the width direction. However, when it travels along the traveling direction, it meanders so as to repeat a slight reciprocation in a direction orthogonal to the overall traveling direction. Thereby, a spherical meandering region 2314 ′ is formed which meanders when the sphere T travels along the transport guide 236 ′.
上述のスクリューコンベア221´は、箱状のハウジング201´の内面に固着された軸受部229´により回転可能に支持されている。このスクリューコンベア221´を駆動するために、ハウジング201´またはその外部(図68ではハウジング201´から飛び出しているケース202´)には球搬送モータ228´が設けられていて、その球搬送モータ228´の駆動力は複数のギヤGから構成されるギヤ輪列Gを介して、スクリューコンベア221´に伝達される。このようにして、スクリューコンベア221´は回転し、その回転により球Tは搬送ガイド236´により蛇行されつつ図68および図69の左上側に向かいガイドされる。
The above-described screw conveyor 221 ′ is rotatably supported by a bearing portion 229 ′ fixed to the inner surface of the box-shaped housing 201 ′. In order to drive the screw conveyor 221 ′, a ball transport motor 228 ′ is provided in the housing 201 ′ or outside thereof (in FIG. 68, a case 202 ′ protruding from the housing 201 ′), and the ball transport motor 228. The driving force of ′ is transmitted to the screw conveyor 221 ′ via a gear train G composed of a plurality of gears G. In this way, the screw conveyor 221 ′ rotates, and the rotation causes the ball T to be guided toward the upper left side of FIGS. 68 and 69 while meandering by the conveyance guide 236 ′.
また、搬送ガイド236´の一端側(X1側)には、第1連絡路203´の下端側(Z2側)が接続されている。なお、第1連絡路203´の上端部分は、球回収部33の球入口34と連結されていて、球回収部33から球Tを第1連絡路203´に導入可能としている。
Further, the lower end side (Z2 side) of the first connecting path 203 ′ is connected to one end side (X1 side) of the transport guide 236 ′. The upper end portion of the first connection path 203 ′ is connected to the ball inlet 34 of the sphere collection unit 33, so that the sphere T can be introduced from the sphere collection unit 33 into the first connection path 203 ′.
一方、搬送ガイド236´の他端側(X2側)には、第2連絡路204´の上端側(Z1側)が接続されている。図69に示すように、第2連絡路204´の下端部204a´は、ハウジング201´の側壁に向かうように曲げられていて、その先端側がハウジング201´の側壁において開口している球出口35と接続されている。そのため、搬送ガイド236´を搬送され、その後第2連絡路204´内に入り込んだ球Tは、球出口35から排出され、球揚送手段36に移行する。
On the other hand, the other end side (X2 side) of the transport guide 236 ′ is connected to the upper end side (Z1 side) of the second communication path 204 ′. As shown in FIG. 69, the lower end portion 204a ′ of the second communication path 204 ′ is bent toward the side wall of the housing 201 ′, and the tip end side thereof is open at the side wall of the housing 201 ′. Connected with. Therefore, the sphere T which is conveyed through the conveyance guide 236 ′ and then enters the second communication path 204 ′ is discharged from the sphere outlet 35 and moves to the sphere lifting means 36.
なお、ハウジング201´の内部には、回転検知センサ205´が設けられていて、スクリューコンベア221´の回転を検知可能としているが、かかる回転検知センサ205´を備えない構成としても良い。また、ハウジング201´の四隅の手前側(Y1側)の部位には、挿通孔207´を有する取付片206´が設けられている。そのため、挿通孔207´にネジ等を挿通させることで、遊技機B´の所定の部位に球研磨装置200´が取り付けられる。
Note that a rotation detection sensor 205 ′ is provided inside the housing 201 ′ so that the rotation of the screw conveyor 221 ′ can be detected. However, the rotation detection sensor 205 ′ may not be provided. Further, mounting pieces 206 ′ having insertion holes 207 ′ are provided at the front (Y1 side) portions of the four corners of the housing 201 ′. Therefore, the ball polishing apparatus 200 ′ is attached to a predetermined part of the gaming machine B ′ by inserting a screw or the like through the insertion hole 207 ′.
また、図68に示すように、ハウジング201´の内部空間208´には研磨布243を収納する研磨カセット240が取り付けられるが、その研磨布243を送るための駆動力を与えるために、ハウジング201´内には、研磨用モータ234´が設けられている。この研磨用モータ234´は、球研磨装置200´の研磨材動力源となる。この研磨用モータ234´の駆動力は、歯車235b´を介して研磨カセット240のギヤ247に伝達される。
As shown in FIG. 68, a polishing cassette 240 for storing the polishing cloth 243 is attached to the internal space 208 ′ of the housing 201 ′. In order to provide a driving force for feeding the polishing cloth 243, the housing 201 In ′, a polishing motor 234 ′ is provided. The polishing motor 234 ′ is an abrasive power source for the ball polishing apparatus 200 ′. The driving force of the polishing motor 234 ′ is transmitted to the gear 247 of the polishing cassette 240 via the gear 235b ′.
なお、図70に示すように、研磨カセット240には、図68の球移動ルートTRのうち第1連絡路203´に対応する部分を逃がすための逃がし部241Qが設けられている。
As shown in FIG. 70, the polishing cassette 240 is provided with an escaping portion 241Q for escaping a portion corresponding to the first connecting path 203 ′ in the ball movement route TR of FIG.
以上のような構成とすることで、球Tが搬送ガイド236´で送られる球移動ルートTRがハウジング201´の長手方向に対して傾斜した状態が主要部分となる。そのため、図70に示すように、研磨布243に球Tが接触する長さを長くすることができる。
With the above-described configuration, the main part is a state in which the ball moving route TR in which the ball T is sent by the transport guide 236 ′ is inclined with respect to the longitudinal direction of the housing 201 ′. Therefore, as shown in FIG. 70, the length of contact of the sphere T with the polishing pad 243 can be increased.
このような構成の球研磨装置200´においては、次のようなメリットがある。すなわち、一般的な開放型の遊技機(単体島を含む)では、球Tは外部に排出されるので、球研磨装置200を遊技島や遊技島の外部に設置することが可能となる。しかし、図67に示すような非開放型遊技機B´の場合、一般的な開放型の遊技機とは異なり、球Tが外部に排出されないので、非開放型遊技機B´の内部に球研磨装置200´を設置する必要がある。そのため、非開放型遊技機B´の内部において、球研磨装置200´を設置するためのスペースを確保する必要がある。
The sphere polishing apparatus 200 ′ having such a configuration has the following advantages. That is, in a general open type gaming machine (including a single island), the ball T is discharged to the outside, so that the ball polishing apparatus 200 can be installed outside the gaming island or the gaming island. However, in the case of a non-open game machine B ′ as shown in FIG. 67, unlike a general open game machine, the ball T is not discharged to the outside. It is necessary to install a polishing apparatus 200 ′. Therefore, it is necessary to secure a space for installing the ball polishing apparatus 200 ′ inside the non-open gaming machine B ′.
しかし、そのような設置スペースを確保するために、非開放型遊技機B´の横幅を広げてしまうと、非開放型遊技機B´の設置台数が減じられることになるので、非開放型遊技機B´の横幅を広げることはできない。このため、非開放型遊技機B´に球研磨装置200´を設置する場合、その設置場所は遊技盤5の下方側(Z1側)になる。しかし、下方側(Z1側)のスペースも余分にある訳ではないので、限られたスペースに球研磨装置200´を設置する必要がある。そこで、図67に示す非開放型遊技機B´では、図68および図69に示すように、スクリューコンベア221´が水平または垂直ではなく、水平および垂直に対して傾斜した配置となっており、それに伴って搬送ガイド236´も傾斜した配置となっている。
However, if the width of the non-open gaming machine B ′ is increased in order to secure such an installation space, the number of installed non-open gaming machines B ′ will be reduced. The width of the machine B ′ cannot be increased. Therefore, when the ball polishing apparatus 200 ′ is installed in the non-open gaming machine B ′, the installation location is on the lower side (Z1 side) of the game board 5. However, since there is no extra space on the lower side (Z1 side), it is necessary to install the ball polishing apparatus 200 'in a limited space. Therefore, in the non-open gaming machine B ′ shown in FIG. 67, as shown in FIGS. 68 and 69, the screw conveyor 221 ′ is not horizontal or vertical, but is inclined with respect to the horizontal and vertical, Accordingly, the conveyance guide 236 ′ is also inclined.
このようにスクリューコンベア221´および搬送ガイド236´を傾斜した配置とすることにより、搬送ガイド236´がハウジング201´の対角線方向に延伸するので、搬送ガイド236´の長さを長く確保することが可能となり、それによって研磨能力(清掃能力)が低下するのを抑えることができる。
By arranging the screw conveyor 221 ′ and the conveyance guide 236 ′ in an inclined manner in this manner, the conveyance guide 236 ′ extends in the diagonal direction of the housing 201 ′. It becomes possible, and it can suppress that the polishing capability (cleaning capability) falls.
(2)その他の変形例
上述の実施の形態においては、制御装置400は、搬送部220での球Tの搬送速度に応じて、研磨用モータ234の駆動速度を変更するように制御することもできる。このように構成する場合、たとえば搬送部220(球搬送モータ228)での球Tの搬送速度が高速である場合には研磨用モータ234を高速で駆動し、搬送部220(球搬送モータ228)での球Tの搬送速度が中速である場合には研磨用モータ234を中速で駆動し、さらに搬送部220(球搬送モータ228)での球Tの搬送速度が低速である場合には研磨用モータ234を低速で駆動するように制御することができる。
(2) Other Modifications In the above-described embodiment, the control device 400 may control to change the driving speed of the polishing motor 234 in accordance with the transport speed of the sphere T in the transport unit 220. it can. In such a configuration, for example, when the transfer speed of the sphere T in the transfer unit 220 (ball transfer motor 228) is high, the polishing motor 234 is driven at a high speed, and the transfer unit 220 (ball transfer motor 228). When the conveying speed of the sphere T at the medium speed is medium, the polishing motor 234 is driven at a medium speed, and when the conveying speed of the sphere T at the conveying section 220 (the sphere conveying motor 228) is low. The polishing motor 234 can be controlled to be driven at a low speed.
このように制御する場合、球Tの搬送速度に応じて研磨布243を送ることが可能となり、研磨(清掃)の効率を良好にすることができる。また、研磨用モータ234の駆動速度を、球Tの搬送速度に応じて変更できるので、球Tの搬送速度によって研磨布243に対する摩擦力が変化しても、研磨布243の送り速度を変えることで張力を維持でき、それによって研磨布243のねじれを少なくすることができる。
When controlling in this way, it becomes possible to send polishing cloth 243 according to the conveyance speed of sphere T, and it is possible to improve the efficiency of polishing (cleaning). Further, since the driving speed of the polishing motor 234 can be changed according to the conveying speed of the sphere T, even if the frictional force with respect to the polishing cloth 243 changes due to the conveying speed of the sphere T, the feeding speed of the polishing cloth 243 can be changed. Thus, the tension can be maintained, whereby the twist of the polishing pad 243 can be reduced.
また、上述の実施の形態では、制御装置400は、研磨用モータ234での駆動時間がランダムとなるように制御するようにしても良い。この場合、たとえば乱数を用いて、ランダムな制御を実現できる。このようにする場合、研磨用モータ234の間欠動作における駆動時間と停止時間とがランダムとなるので、球Tの研磨(清掃)の際に、球Tにより不規則な回転を与えることができる。そのため、球Tと研磨布243との接触状態をより変化させることができ、球Tについて研磨(清掃)できる面積を広げることができる。
In the above-described embodiment, the control device 400 may control the driving time of the polishing motor 234 to be random. In this case, random control can be realized using, for example, random numbers. In this case, since the driving time and the stop time in the intermittent operation of the polishing motor 234 are random, irregular rotation can be given by the sphere T when the sphere T is polished (cleaned). Therefore, the contact state between the sphere T and the polishing cloth 243 can be further changed, and the area where the sphere T can be polished (cleaned) can be increased.
さらに、上述の実施の形態においては、球搬送モータ228や研磨用モータ234がDCモータである場合、PWM制御によって制御駆動するようにしても良い。その場合、球搬送モータ228や研磨用モータ234からの発熱を一層抑えることが可能となる。なお、PWM制御においては、そのデューティ比を低くすることで、球搬送モータ228や研磨用モータ234からの発熱を抑えることも可能となる。
Furthermore, in the above-described embodiment, when the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 are DC motors, they may be controlled and driven by PWM control. In that case, heat generation from the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 can be further suppressed. In the PWM control, it is possible to suppress heat generation from the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 by reducing the duty ratio.
また、上述の実施の形態においては、球搬送モータ228や研磨用モータ234がDCモータである場合、それらのモータの駆動時間に基づいて発熱量計算を行い、計算された発熱量が所定の閾値に到達した際に、モータを停止させるように制御装置400で制御しても良い。特に、研磨用モータ234において、そのような発熱量計算に基づく制御を実施しても良い。このように制御する場合、モータが発熱によって焼損してしまうのを防止可能となる。
In the above-described embodiment, when the ball transport motor 228 and the polishing motor 234 are DC motors, the heat generation amount is calculated based on the drive time of those motors, and the calculated heat generation amount is a predetermined threshold value. The control device 400 may control the motor so as to stop the motor when it reaches. In particular, the polishing motor 234 may perform control based on such a calorific value calculation. When controlling in this way, it is possible to prevent the motor from being burned out due to heat generation.
また、上述の実施の形態では、研磨材として研磨布243を例示しているが、研磨材は研磨布243に限られるものではない。たとえば、薄い多孔質部材を研磨材として用いても良く、紙質のような部材を研磨材として用いても良い。
In the above-described embodiment, the polishing cloth 243 is exemplified as the abrasive, but the abrasive is not limited to the polishing cloth 243. For example, a thin porous member may be used as the abrasive, and a paper-like member may be used as the abrasive.
[その他の作用効果]
球研磨装置200は、スクリューコンベア221を回転させることにより、球Tを搬送路226において搬送し、その球Tを研磨布243に押しつける力を生じさせるので、球Tの研磨を効率よく行なう。これにより、短い搬送距離で効率の良い研磨が可能になる。
[Other effects]
Since the ball polishing apparatus 200 rotates the screw conveyor 221 to transfer the sphere T in the transfer path 226 and generate a force for pressing the sphere T against the polishing cloth 243, the sphere T is polished efficiently. Thus, efficient polishing can be performed with a short conveyance distance.