JP2004143599A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2004143599A5
JP2004143599A5 JP2003360088A JP2003360088A JP2004143599A5 JP 2004143599 A5 JP2004143599 A5 JP 2004143599A5 JP 2003360088 A JP2003360088 A JP 2003360088A JP 2003360088 A JP2003360088 A JP 2003360088A JP 2004143599 A5 JP2004143599 A5 JP 2004143599A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
composition
diffusion
halide salt
partial layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003360088A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004143599A (ja
JP4541683B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US10/273,727 external-priority patent/US6969457B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2004143599A publication Critical patent/JP2004143599A/ja
Publication of JP2004143599A5 publication Critical patent/JP2004143599A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4541683B2 publication Critical patent/JP4541683B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Claims (10)

  1. 基板(70)の表面から少なくとも1つの被覆膜(74)を選択的に除去する電気化学的方法において、前記基板を電流が流れる組成物(3)の中に浸漬する工程から成り、前記組成物(3)は少なくとも1つのハロゲン化物塩又はその前駆物質を含む方法。
  2. 前記ハロゲン化物塩は0.1Mから5Mの範囲内のレベルで存在している請求項1記載の方法。
  3. 超合金基板(70)から拡散プラチナ−アルミナイド被覆膜(72、74)の付加部分層(74)を選択的に除去する電気化学的方法において、前記基板を直流電流が流れる組成物(3)に浸漬する工程から成り、
    前記組成物(3)は少なくとも1つのハロゲン化物塩又はその前駆物質から成り、前記付加部分層(74)が除去されている間、前記付加部分層(74)と前記基板(70)との間の拡散部分層(72)は大きな影響を受けない方法。
  4. 前記ハロゲン化物塩は塩化ナトリウムである請求項記載の方法。
  5. 基板(70)上に塗布された摩耗又は損傷した拡散アルミナイド被覆膜(74)を交換する方法において、
    (i)前記基板(70)を直流電流が流れ、少なくとも1つのハロゲン化物塩又はその前駆物質を含む組成物(3)に浸漬することにより、摩耗又は損傷した被覆膜(74)を電気化学的に除去する工程と、
    (ii)次に、前記基板(70)上に新たな被覆膜を塗布する工程から成る方法。
  6. 前記拡散アルミナイド被覆膜(72、74)は前記基板(70)上に位置する拡散部分層(72)と、前記拡散部分層(72)の上に位置する付加部分層(74)とを含む請求項記載の方法。
  7. 基板から拡散アルミナイド被覆膜を選択的に除去するための電気化学的剥離組成物(3)において、前記組成物は、0.1Mから5Mの範囲の濃度で前記組成物中に存在している少なくとも1つのハロゲン化物塩を含む電気化学適剥離組成物。
  8. 抑制剤、拡散剤、界面活性剤、湿潤剤、安定剤、沈降防止剤及びpH緩衝剤より成る群から選択された少なくとも1つの添加剤を更に含む請求項記載の電気化学的剥離組成物。
  9. 基板(6)から拡散アルミナイド被覆膜を電気化学的に除去する装置(1)において、
    (a)少なくとも1つのハロゲン化物塩又はその前駆物質を含む電解質(3)と、
    (b)被覆された基板(6)及び電極(4、5)に接続されることが可能である直流(DC)電源(10)と、
    (c)前記電源(10)が前記電解質(3)を介して前記被覆された基板に電流を印加することができる少なくとも1つの電極(4、5)とを具備する装置。
  10. 前記基板(6)はタービンエンジン構成要素である請求項記載の装置。
JP2003360088A 2002-10-21 2003-10-21 基板の表面から被覆膜を部分的に剥ぎ取る方法、それに関連する物品及び組成 Expired - Fee Related JP4541683B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/273,727 US6969457B2 (en) 2002-10-21 2002-10-21 Method for partially stripping a coating from the surface of a substrate, and related articles and compositions

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004143599A JP2004143599A (ja) 2004-05-20
JP2004143599A5 true JP2004143599A5 (ja) 2006-12-07
JP4541683B2 JP4541683B2 (ja) 2010-09-08

Family

ID=32092879

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003360088A Expired - Fee Related JP4541683B2 (ja) 2002-10-21 2003-10-21 基板の表面から被覆膜を部分的に剥ぎ取る方法、それに関連する物品及び組成

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6969457B2 (ja)
EP (1) EP1418256A3 (ja)
JP (1) JP4541683B2 (ja)
BR (1) BRPI0304000B1 (ja)
CA (1) CA2444171C (ja)
SG (1) SG140451A1 (ja)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060219655A1 (en) * 2003-08-21 2006-10-05 Yasuo Cho Ferroelectric thin-film production method, voltage-application etching apparatus, ferroelectric crystal thin-film substrate, and ferroelectric crystal wafer
KR100580946B1 (ko) 2004-06-28 2006-05-17 한국산업기술대학교산학협력단 초미세바늘전극의 제조장치 및 그 방법
DE102005011011A1 (de) * 2005-03-10 2006-09-14 Mtu Aero Engines Gmbh Bauteil, insbesondere Gasturbinenbauteil
US20060226025A1 (en) * 2005-03-16 2006-10-12 Colorado School Of Mines Electrochemical removal of die coatings
DE102005033856A1 (de) * 2005-07-12 2007-01-18 Siemens Ag Elektrodenanordnung und Verfahren zum Entfernen einer Metall umfassenden Schicht von einer Werkstückoberfläche
US20070034524A1 (en) * 2005-08-12 2007-02-15 United Technologies Corporation Masking techniques for electrochemical stripping
US20070296967A1 (en) * 2006-06-27 2007-12-27 Bhupendra Kumra Gupta Analysis of component for presence, composition and/or thickness of coating
EP1932954A1 (de) * 2006-12-05 2008-06-18 Siemens Aktiengesellschaft, A German Corporation Verfahren zum Beschichten eines mit Öffnungen versehenen Bauteils
US8021491B2 (en) * 2006-12-07 2011-09-20 Lawrence Bernard Kool Method for selectively removing coatings from metal substrates
US20080202552A1 (en) * 2006-12-07 2008-08-28 Lawrence Bernard Kool Method for selectively removing coatings from metal substrates
CN101220501B (zh) * 2007-01-12 2010-05-19 金益鼎企业股份有限公司 含贵金属物质的再利用系统以及方法
DE102007022832A1 (de) * 2007-05-15 2008-11-20 Mtu Aero Engines Gmbh Verfahren zur Entschichtung eines Bauteils
CA2590490A1 (en) * 2007-05-30 2008-11-30 Kuzo Holding Inc. Pulsed electrolysis apparatus and method of using same
CA2590421A1 (en) * 2007-05-30 2008-11-30 Kuzo Holding Inc. Multi-cell single voltage electrolysis apparatus and method of using same
US8535507B1 (en) * 2008-01-11 2013-09-17 Pacesetter, Inc. Electrochemical drilling system and process for improving electrical porosity of etched anode foil
DE102009021561A1 (de) * 2009-05-15 2010-11-18 Rolls-Royce Deutschland Ltd & Co Kg Verfahren und Vorrichtung zum Oberflächenätzen von integral beschaufelten Rotoren
US8492009B1 (en) * 2009-08-25 2013-07-23 Wd Media, Inc. Electrochemical etching of magnetic recording layer
SI2504469T1 (sl) * 2009-11-23 2018-11-30 Metcon, Llc Postopki elektropoliranja
TWI507573B (zh) 2010-04-15 2015-11-11 Corning Inc 剝除氮化物塗膜之方法
US20110272287A1 (en) * 2010-05-07 2011-11-10 International Business Machines Corporation Method for patterning magnetic films
US9175568B2 (en) 2010-06-22 2015-11-03 Honeywell International Inc. Methods for manufacturing turbine components
DE102010046372A1 (de) * 2010-09-24 2012-03-29 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Verfahren zum Entschichten von Werkstücken
US8580103B2 (en) 2010-11-22 2013-11-12 Metcon, Llc Electrolyte solution and electrochemical surface modification methods
US9085980B2 (en) 2011-03-04 2015-07-21 Honeywell International Inc. Methods for repairing turbine components
US8506836B2 (en) 2011-09-16 2013-08-13 Honeywell International Inc. Methods for manufacturing components from articles formed by additive-manufacturing processes
CN103088399B (zh) * 2011-10-31 2016-01-06 通用电气公司 多步骤电化学去金属涂层方法
US9266170B2 (en) 2012-01-27 2016-02-23 Honeywell International Inc. Multi-material turbine components
US9120151B2 (en) 2012-08-01 2015-09-01 Honeywell International Inc. Methods for manufacturing titanium aluminide components from articles formed by consolidation processes
JP5823626B2 (ja) * 2012-10-11 2015-11-25 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 多段階電気化学的ストリッピング法
US9163322B2 (en) * 2013-07-01 2015-10-20 General Electric Company Method and apparatus for refurbishing turbine components
US10030298B2 (en) 2015-08-21 2018-07-24 General Electric Company Method for altering metal surfaces
CN107523856B (zh) 2016-06-17 2020-11-06 通用电气公司 对工件进行加工的系统和方法以及制品
CN109957830B (zh) * 2017-12-25 2021-02-23 比亚迪股份有限公司 一种铝合金表面阳极氧化膜退镀液及铝合金表面阳极氧化膜的退镀方法

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1908625B2 (de) * 1969-02-21 1971-08-12 Bergische Metallwarenfabrik Dillen berg & Co KG, 5601 Gruiten Bad zu elektrolytischen abloesen von metallueberzuegen von grundkoerpern aus rostfreiem stahl
DE2131078A1 (de) 1971-06-23 1972-12-28 Dillenberg Bergische Metall Bad zum elektrolytischen Abloesen von UEberzuegen aus Silber,Chrom oder Nickeloxyd von Grundkoerpern aus Kupfer,Kupferlegierung,Zinnlegierung,rostfreiem Stahl oder Superlegierungen
US3779879A (en) 1972-12-11 1973-12-18 Curtiss Wright Corp Method of stripping aluminide coatings
US4128463A (en) 1978-03-02 1978-12-05 Trw Inc. Method for stripping tungsten carbide from titanium or titanium alloy substrates
US4142954A (en) 1978-04-14 1979-03-06 Avco Corporation Electrolytic cleaning of a shrouded blade assembly
US4246083A (en) 1978-08-31 1981-01-20 Johnson, Matthey & Co., Limited Removal of surface material
US4324626A (en) 1979-11-13 1982-04-13 United Technologies Corporation Selective removal of nickel-based braze alloy from nickel-based metals
DE3107237A1 (de) * 1981-02-26 1982-09-09 Karl Schmidt Gmbh, 7107 Neckarsulm Dreischicht-verbundgleitlager
US4559729A (en) * 1981-11-12 1985-12-24 The Continental Group, Inc. Container having prize indicia on the interior thereof
US4400248A (en) 1982-03-08 1983-08-23 Occidental Chemical Corporation Electrolytic stripping process
US4520924A (en) * 1984-04-27 1985-06-04 Illinois Tool Works Inc. Multi-package and packaging device
US4678552A (en) 1986-04-22 1987-07-07 Pennwalt Corporation Selective electrolytic stripping of metal coatings from base metal substrates
EP0318886B1 (de) 1987-12-01 1992-07-22 BBC Brown Boveri AG Verfahren zum elektrolytischen Ablösen einer einen hohen Cr- und Ni- und/oder Co-Gehalt aufweisenden Oberflächenschutzschicht vom Grundkörper eines aus einer Superlegierung bestehenden Bauteils
US4851093A (en) 1988-06-06 1989-07-25 United Technologies Corporation Selective decomposition of a chromium carbide coating from a chromium carbide coated nickel alloy substrate
US4854093A (en) * 1988-09-02 1989-08-08 Kellom Gary J Fixture mount
US5056659A (en) * 1988-09-28 1991-10-15 Howes James P Prize holding container assemblies
JP2681422B2 (ja) * 1991-07-09 1997-11-26 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料
US5174870A (en) * 1991-08-09 1992-12-29 Pct Technology, Inc. Electrocleaning method
JPH05191290A (ja) 1991-10-07 1993-07-30 Mitsubishi Electric Corp D/a変換器
US5728227A (en) * 1996-06-17 1998-03-17 General Electric Company Method for removing a diffusion coating from a nickel base alloy
TW591125B (en) 1998-02-13 2004-06-11 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Method and apparatus for removing Ti-derived film
US6174448B1 (en) 1998-03-02 2001-01-16 General Electric Company Method for stripping aluminum from a diffusion coating
US5976265A (en) 1998-04-27 1999-11-02 General Electric Company Method for removing an aluminide-containing material from a metal substrate
US6176999B1 (en) 1998-12-18 2001-01-23 United Technologies Corporation Feedback controlled stripping of airfoils
US6042880A (en) 1998-12-22 2000-03-28 General Electric Company Renewing a thermal barrier coating system
US6174380B1 (en) * 1998-12-22 2001-01-16 General Electric Company Method of removing hot corrosion products from a diffusion aluminide coating
US6165345A (en) 1999-01-14 2000-12-26 Chromalloy Gas Turbine Corporation Electrochemical stripping of turbine blades
US6334907B1 (en) * 1999-06-30 2002-01-01 General Electric Company Method of controlling thickness and aluminum content of a diffusion aluminide coating
US6352636B1 (en) * 1999-10-18 2002-03-05 General Electric Company Electrochemical system and process for stripping metallic coatings
US6599416B2 (en) * 2001-09-28 2003-07-29 General Electric Company Method and apparatus for selectively removing coatings from substrates
US6743350B2 (en) * 2002-03-18 2004-06-01 General Electric Company Apparatus and method for rejuvenating cooling passages within a turbine airfoil

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004143599A5 (ja)
EP1418256A3 (en) A method for partially stripping a coating from the surface of a substrate, and related apparatus and compositions
Zhang et al. Inhibition of copper corrosion in aerated hydrochloric acid solution by amino-acid compounds
ATE329083T1 (de) Rakel und verfahren bei deren herstellung
JP2001172799A (ja) 金属皮膜を剥離するための電気化学的システム及び方法
DE502007002680D1 (de) Vorrichtung und verfahren zur galvanischen beschichtung
JP2011517629A (ja) グラビア印刷シリンダの加工方法および加工装置
TW200902763A (en) Anodic oxidation coating remover composition and method of removing anodic oxidation coatings
JPWO2017195453A1 (ja) レジストの剥離液
CN103911645B (zh) 一种镁合金阳极氧化方法
JPS62136030A (ja) シリコンウエ−ハ−の研磨方法
DE69322686D1 (de) Elektrolytisches Reinigungsverfahren für Metalloberfläche von elektronischen Bauelementen
JP6078851B2 (ja) アルミニウム材の電解研磨処理方法
RU2699750C1 (ru) Способ изготовления печатной формы для офорта и травильный раствор для его осуществления
JP2004536971A5 (ja)
US8216654B2 (en) Components for a film-forming device and method for cleaning the same
JP5166772B2 (ja) 導電性パターンの形成方法
EP2679705B1 (en) Electrolytic stripping
WO2008065976A1 (fr) Procédé de formation de motif conducteur
JPS5911678B2 (ja) 多孔質銅薄膜の製造法
JPS6196087A (ja) ステンレス鋼製品に半田性を付与する方法
SG130129A1 (en) Masking techniques for electrochemical stripping
JP2003268576A (ja) 鋼材に付着する陰イオンの除去方法およびさび鋼材に付着する陰イオン除去装置
JP4595093B2 (ja) マグネシウム合金材の表面処理方法、及びそれによって処理されたマグネシウム合金材
JP3112381B2 (ja) 銅電解精製時の種板作製用母板の表面処理方法