JP2004119756A - 発光ダイオード - Google Patents
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Abstract
【課題】発光ダイオードにおいて、素子内部での光の干渉による光の減衰を防止し、発光効率を向上させる。
【解決手段】サファイア基板11上に、GaNバッファ層12、n−AlxGa1−xN層13、n−AlyGa1−yN層14、InzGa1−zN層15、p−AlyGa1−yN層16およびp−GaN層17をこの順に積層する。p−GaN層17の全面にp側電極18を形成し、n−AlyGa1−yN層14の一部が露出されてできた面上にn側電極19を形成する。n−AlxGa1−xN層13、n−AlyGa1−yN層14、InzGa1−zN層15、p−AlyGa1−yN層16およびp−GaN層17は、それぞれの層の発光波長λにおける屈折率をNとし、膜厚をdとしたとき、N×d=mλ/2(ただし、mは正の整数)の関係を満足するように組成および膜厚を選択する。
【選択図】 図1
【解決手段】サファイア基板11上に、GaNバッファ層12、n−AlxGa1−xN層13、n−AlyGa1−yN層14、InzGa1−zN層15、p−AlyGa1−yN層16およびp−GaN層17をこの順に積層する。p−GaN層17の全面にp側電極18を形成し、n−AlyGa1−yN層14の一部が露出されてできた面上にn側電極19を形成する。n−AlxGa1−xN層13、n−AlyGa1−yN層14、InzGa1−zN層15、p−AlyGa1−yN層16およびp−GaN層17は、それぞれの層の発光波長λにおける屈折率をNとし、膜厚をdとしたとき、N×d=mλ/2(ただし、mは正の整数)の関係を満足するように組成および膜厚を選択する。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上に複数の半導体層を積層してなる積層体からなり、半導体層の積層面と平行な端面から光を発する発光ダイオードに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
発光ダイオードのパワー変換効率(Wallplug efficiency)ηwpは、
ηwp=ηv×ηi×ηext
で表される。なお、ηvは電圧効率を示し、ηiは内部量子効率を示し、ηextは光の外部取り出し効率を示す。
【0003】
発光ダイオードから放出される無指向性の光を外部に取り出すには、その構造が重要とされている。pn接合面からの光が表面に達したとき、臨界角以下の光が一部透過するだけで、外部に取り出せる光は数十%程度にしかならない。このため、素子を屈折率の高い樹脂等でドーム状にし、接合面からの光が臨界角以内で表面に入射するようにし、これによって外部に取り出せる光を数十倍にすることが可能となっている。
【0004】
一方、近年、印刷、画像処理あるいは高密度光記録装置等における情報量の増大に伴って青紫域の面発光ダイオード素子の開発が広く行われている(例えば、非特許文献1参照)。
【0005】
【非特許文献1】
「OPTRONICS」、2002、No.1、p127−129
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
青紫域の発光ダイオードを構成する材料は、通常、その屈折率が2以上と高く、チップ周囲を構成する材料は、空気、乾燥空気、窒素あるいはエポキシ等であり、これらの屈折率は、約1〜1.9である。このため、チップ内からの光の取り出し効率は数十%程度と低い。また、キャリアの閉じ込め効率あるいは光の閉じ込め効率を向上させるため、異なる屈折率の層を積層した構造が採られるが、このような構造の場合、層と層との界面で、光の干渉により発光光が消失するという問題がある。また、素子周囲の端面で反射されチップ内部で干渉が起こり、外部に発光される光をさらに消失させているという問題もある。さらに素子内に設けられる各機能層間における屈折率の違いによる反射が、この層内の屈折率と厚さとの積、および発光光の進む角度により、層内で発光光が干渉し、発光強度の減衰が生じる。
【0007】
発光ダイオードの発光量を上げるために、チップ内部での干渉による発光光の減衰を減らして、チップからの発光光の外部取り出し効率を向上させることが要求される。
【0008】
本発明は上記事情に鑑みて、発光効率が向上され、発光量が増大された発光ダイオードを提供することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の発光ダイオードは、基板上に、発光領域を含む複数の半導体層を積層してなる積層体からなり、半導体層の積層面と平行な端面から光が取り出される発光ダイオードにおいて、少なくとも一つの半導体層の、発光波長における屈折率と厚さとの積が、発光波長の1/2の整数倍であることを特徴とするものである。
【0010】
少なくとも一つの半導体層が、屈折率を積層方向に変化せしめられてなるものであり、該半導体層の屈折率が該半導体層の厚さ方向に亘って実効的に算出されるものであってもよい。
【0011】
発光領域に対して光が取り出される面と反対側の積層体中に、DBRミラーが設けられていてもよい。
【0012】
【発明の効果】
本発明の発光ダイオードによれば、少なくとも一つの半導体層の、発光波長における屈折率と厚さとの積を、発光波長の1/2の整数倍とすることにより、素子内部において位相が一致した特定波長のみが進行することとなり、半導体層の界面、あるいは素子周囲の端面での反射による素子内部での干渉による光の減衰を防止することができる。これにより、光の外部取り出し効率が向上し、発光量を増大させることができる。
【0013】
また、これまで、発光量を増大させるための電流注入量の増加により発熱量が増大するという問題が生じていたが、本発明により、ある一定の電流注入に対する発光量を向上させることとなるので、発熱量を抑えることができ、発熱による発光量の低下あるいは信頼性低下を防止することができる。
【0014】
また、発光領域に対して光が取り出される面と反対側の積層体中に、DBRミラーが設られていることにより、特定の周波数すなわち発光波長のみが反射されることとなり、素子内部での光の減衰を防止することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
【0016】
本発明の第1の実施の形態による発光波長が470nmの発光ダイオードについて説明する。その発光ダイオードの断面図を図1に示す。
【0017】
本実施の形態による発光ダイオードは、図1に示すように、サファイア基板11上に、GaNバッファ層12、n−AlxGa1−xN層13、n−AlyGa1−yN層14、InzGa1−zN層15(ZnおよびSiをドーピング)、p−AlyGa1−yN層16およびp−GaN層17がこの順に積層され、p−GaN層17の全面にp側電極18が形成され、n−AlyGa1−yN層14の一部が露出されてできた面上にn側電極19が形成されてなるものである。なお、上記組成比x、yおよびzは、0<x<1、0<y<1、0<z<1およびx<yの関係を満たす。
【0018】
n−AlxGa1−xN層13、n−AlyGa1−yN層14、InzGa1−zN層15、p−AlyGa1−yN層16およびp−GaN層17は、それぞれの層の発光波長λにおける屈折率をNとし、膜厚をdとしたとき、N×d=mλ/2(ただし、mは正の整数)の関係を満足するように、半導体の組成および膜厚が選択されて形成されている。
【0019】
p側電極18は、例えば、チタン層20〜80nm、アルミニウム層20〜80nm、チタン層20〜100nm、白金層50〜200nmおよび金層100〜500nmをこの順に積層したものを用いることができる。発光層からの光はこのp側電極18で反射され、サファイア基板11側に発光光20として取り出される構造となっている。
【0020】
このような発光ダイオードは、例えば、n側電極19上にさらに金メッキ層を1.5〜4μm程度積層してp側電極18面と同じ高さとしたものを、絶縁層を介して金による導出配線が設けられたヒートシンク上に、はんだによりボンディング(いわゆるフリップチップ実装)される。
【0021】
フリップチップ実装した場合、電極面とヒートシンクとが直接固設されており、放熱が効率良くほぼ均一に行われるため輝度ムラを減少させることができる。さらに、上記各層において、N×d=mλ/2(ただし、mは正の整数)とすることにより、特定波長のみを進行させるので、素子内部での光の干渉を防止することができ、光取り出し効率を4〜5%程度向上させることができる。
【0022】
なお、サファイア基板11の厚さは、発振波長×屈折率の数十倍と非常に厚いため、干渉の影響は小さい。しかし、サファイア基板11の裏面において、エポキシ樹脂を形成した場合はエポキシ樹脂あるいは空気との屈折率差により発光光が反射され、素子内部に戻され、光取り出し効率が低下し、発光量低下の原因となる。このような場合、サファイア基板の発光波長λにおける屈折率の平方根に近い屈折率を有し、かつ吸収の少ない材料によるコーティング、すなわち、薄膜の屈折率Nと厚さdとの積がλ/4の整数倍である層からなる無反射コートを行うことが望ましい。これにより光取り出し効率をさらに数%程度向上させることができる。
【0023】
また、本実施の形態において、サファイア基板11とGaNバッファ層12とを除く全ての半導体層について、Nd=mλ/2としたが、それらの少なくとも1つについて、Nd=mλ/2としてもよい。
【0024】
また、本実施の形態において、n−AlxGa1−xN層13を、Al組成比を変化させたn−AlxGa1−xN組成傾斜層(ただし、xをGaNバッファ層12側からn−AlyGa1−yN層14側に向かって、0から0.2まで直線的に増加させる)とした場合、n−AlxGa1−xN組成傾斜層の実効的に算出された屈折率と膜厚との積Ndが発光波長の1/2の整数倍となるように、組成と膜厚を調整すればよい。
【0025】
このような組成傾斜層を設けた素子は、半導体層の界面で生じるバンドオフセットによる抵抗の増大を防止することができる。さらに、本発明により、光の外部取り出し効率を向上させることができるので、発光量を向上させることができ、また発熱を抑えることができる。
【0026】
なお、AlxGa1−xN組成傾斜層は、xをGaNバッファ層12側からn−AlyGa1−yN層14側に向かって、0から0.2まで直線的に変化させたもの、あるいは、0から0.2まで階段状(少なくとも5段階程度)に組成比を変化させたものであってもよい。
【0027】
次に、本発明の第2の実施の形態による発光波長が470nmの発光ダイオードについて説明する。その発光ダイオードの断面図を図2に示す。
【0028】
本実施の形態による発光ダイオードは、図2に示すように、サファイア基板31上に、GaNバッファ層32、DBRミラー33、n−GaN層34およびp−GaN層36をこの順に積層してなり、p−GaN層36の上に形成された透明電極37およびp側電極38を備え、n−GaN層34の一部を露出させた面上に形成されたn側電極39とを備えてなるものである。
【0029】
n−GaN層34およびp−GaN層36のそれぞれにおいて、発光波長λにおける屈折率をNとし、膜厚をdとしたとき、N×d=mλ/2(ただし、mは正の整数)の関係を満足するように、半導体の組成および膜厚が選択されて形成されている。
【0030】
DBRミラー33は、屈折率Nと膜厚dとの積Ndが発光波長λの1/4の整数倍である高屈折率層nHと低屈折率層nLとが複数層交互に積層されてなるものである。
【0031】
本実施の形態においては、接合面35からの発光光は、n−GaN層34と高屈折率層nHとの界面、低屈折率層nLと高屈折率層nHとの界面で、特定の周波数すなわち発光波長の光のみが反射される。反射した光は透明電極37から発光光40として放出される。
【0032】
透明電極としては、公知のITOおよびZnO等を用いることができる。
【0033】
青紫色発光ダイオードの用途として、例えば、発色する色が異なった少なくとも第1〜第3の感熱発色層が積層され、下層の感熱発色層ほど感熱度が低く、また表面側にある最上層の第1の感熱発色層とその下の第2の感熱発色層に対しては、それぞれ特有な波長域の紫外線による定着性が付与されたカラー感熱記録紙を用い、フルカラープリントが得られるようにしたカラー感熱プリンタの定着用光源を挙げることができる。本発明による発光ダイオードにおいて、各半導体層における組成と膜厚とを、発光波長からずらすことにより、逆にある特性の波長域の干渉を強め、発光波長分布を変更させることができる。すなわち、特定の波長域の発光を抑制することができるので、上記カラー感熱プリンタの最上層の定着時において、第2層目の感熱発色層が定着されることを防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態による発光ダイオードを示す断面図
【図2】本発明の第2の実施の形態による発光ダイオードを示す断面図
【符号の説明】
11 サファイア基板
12 GaNバッファ層
13 n−AlxGa1−xN層
14 n−AlyGa1−yN層
15 InzGa1−zN層
16 p−AlyGa1−yN層
17 p−GaN層
18 p側電極
19 n側電極
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上に複数の半導体層を積層してなる積層体からなり、半導体層の積層面と平行な端面から光を発する発光ダイオードに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
発光ダイオードのパワー変換効率(Wallplug efficiency)ηwpは、
ηwp=ηv×ηi×ηext
で表される。なお、ηvは電圧効率を示し、ηiは内部量子効率を示し、ηextは光の外部取り出し効率を示す。
【0003】
発光ダイオードから放出される無指向性の光を外部に取り出すには、その構造が重要とされている。pn接合面からの光が表面に達したとき、臨界角以下の光が一部透過するだけで、外部に取り出せる光は数十%程度にしかならない。このため、素子を屈折率の高い樹脂等でドーム状にし、接合面からの光が臨界角以内で表面に入射するようにし、これによって外部に取り出せる光を数十倍にすることが可能となっている。
【0004】
一方、近年、印刷、画像処理あるいは高密度光記録装置等における情報量の増大に伴って青紫域の面発光ダイオード素子の開発が広く行われている(例えば、非特許文献1参照)。
【0005】
【非特許文献1】
「OPTRONICS」、2002、No.1、p127−129
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
青紫域の発光ダイオードを構成する材料は、通常、その屈折率が2以上と高く、チップ周囲を構成する材料は、空気、乾燥空気、窒素あるいはエポキシ等であり、これらの屈折率は、約1〜1.9である。このため、チップ内からの光の取り出し効率は数十%程度と低い。また、キャリアの閉じ込め効率あるいは光の閉じ込め効率を向上させるため、異なる屈折率の層を積層した構造が採られるが、このような構造の場合、層と層との界面で、光の干渉により発光光が消失するという問題がある。また、素子周囲の端面で反射されチップ内部で干渉が起こり、外部に発光される光をさらに消失させているという問題もある。さらに素子内に設けられる各機能層間における屈折率の違いによる反射が、この層内の屈折率と厚さとの積、および発光光の進む角度により、層内で発光光が干渉し、発光強度の減衰が生じる。
【0007】
発光ダイオードの発光量を上げるために、チップ内部での干渉による発光光の減衰を減らして、チップからの発光光の外部取り出し効率を向上させることが要求される。
【0008】
本発明は上記事情に鑑みて、発光効率が向上され、発光量が増大された発光ダイオードを提供することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の発光ダイオードは、基板上に、発光領域を含む複数の半導体層を積層してなる積層体からなり、半導体層の積層面と平行な端面から光が取り出される発光ダイオードにおいて、少なくとも一つの半導体層の、発光波長における屈折率と厚さとの積が、発光波長の1/2の整数倍であることを特徴とするものである。
【0010】
少なくとも一つの半導体層が、屈折率を積層方向に変化せしめられてなるものであり、該半導体層の屈折率が該半導体層の厚さ方向に亘って実効的に算出されるものであってもよい。
【0011】
発光領域に対して光が取り出される面と反対側の積層体中に、DBRミラーが設けられていてもよい。
【0012】
【発明の効果】
本発明の発光ダイオードによれば、少なくとも一つの半導体層の、発光波長における屈折率と厚さとの積を、発光波長の1/2の整数倍とすることにより、素子内部において位相が一致した特定波長のみが進行することとなり、半導体層の界面、あるいは素子周囲の端面での反射による素子内部での干渉による光の減衰を防止することができる。これにより、光の外部取り出し効率が向上し、発光量を増大させることができる。
【0013】
また、これまで、発光量を増大させるための電流注入量の増加により発熱量が増大するという問題が生じていたが、本発明により、ある一定の電流注入に対する発光量を向上させることとなるので、発熱量を抑えることができ、発熱による発光量の低下あるいは信頼性低下を防止することができる。
【0014】
また、発光領域に対して光が取り出される面と反対側の積層体中に、DBRミラーが設られていることにより、特定の周波数すなわち発光波長のみが反射されることとなり、素子内部での光の減衰を防止することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
【0016】
本発明の第1の実施の形態による発光波長が470nmの発光ダイオードについて説明する。その発光ダイオードの断面図を図1に示す。
【0017】
本実施の形態による発光ダイオードは、図1に示すように、サファイア基板11上に、GaNバッファ層12、n−AlxGa1−xN層13、n−AlyGa1−yN層14、InzGa1−zN層15(ZnおよびSiをドーピング)、p−AlyGa1−yN層16およびp−GaN層17がこの順に積層され、p−GaN層17の全面にp側電極18が形成され、n−AlyGa1−yN層14の一部が露出されてできた面上にn側電極19が形成されてなるものである。なお、上記組成比x、yおよびzは、0<x<1、0<y<1、0<z<1およびx<yの関係を満たす。
【0018】
n−AlxGa1−xN層13、n−AlyGa1−yN層14、InzGa1−zN層15、p−AlyGa1−yN層16およびp−GaN層17は、それぞれの層の発光波長λにおける屈折率をNとし、膜厚をdとしたとき、N×d=mλ/2(ただし、mは正の整数)の関係を満足するように、半導体の組成および膜厚が選択されて形成されている。
【0019】
p側電極18は、例えば、チタン層20〜80nm、アルミニウム層20〜80nm、チタン層20〜100nm、白金層50〜200nmおよび金層100〜500nmをこの順に積層したものを用いることができる。発光層からの光はこのp側電極18で反射され、サファイア基板11側に発光光20として取り出される構造となっている。
【0020】
このような発光ダイオードは、例えば、n側電極19上にさらに金メッキ層を1.5〜4μm程度積層してp側電極18面と同じ高さとしたものを、絶縁層を介して金による導出配線が設けられたヒートシンク上に、はんだによりボンディング(いわゆるフリップチップ実装)される。
【0021】
フリップチップ実装した場合、電極面とヒートシンクとが直接固設されており、放熱が効率良くほぼ均一に行われるため輝度ムラを減少させることができる。さらに、上記各層において、N×d=mλ/2(ただし、mは正の整数)とすることにより、特定波長のみを進行させるので、素子内部での光の干渉を防止することができ、光取り出し効率を4〜5%程度向上させることができる。
【0022】
なお、サファイア基板11の厚さは、発振波長×屈折率の数十倍と非常に厚いため、干渉の影響は小さい。しかし、サファイア基板11の裏面において、エポキシ樹脂を形成した場合はエポキシ樹脂あるいは空気との屈折率差により発光光が反射され、素子内部に戻され、光取り出し効率が低下し、発光量低下の原因となる。このような場合、サファイア基板の発光波長λにおける屈折率の平方根に近い屈折率を有し、かつ吸収の少ない材料によるコーティング、すなわち、薄膜の屈折率Nと厚さdとの積がλ/4の整数倍である層からなる無反射コートを行うことが望ましい。これにより光取り出し効率をさらに数%程度向上させることができる。
【0023】
また、本実施の形態において、サファイア基板11とGaNバッファ層12とを除く全ての半導体層について、Nd=mλ/2としたが、それらの少なくとも1つについて、Nd=mλ/2としてもよい。
【0024】
また、本実施の形態において、n−AlxGa1−xN層13を、Al組成比を変化させたn−AlxGa1−xN組成傾斜層(ただし、xをGaNバッファ層12側からn−AlyGa1−yN層14側に向かって、0から0.2まで直線的に増加させる)とした場合、n−AlxGa1−xN組成傾斜層の実効的に算出された屈折率と膜厚との積Ndが発光波長の1/2の整数倍となるように、組成と膜厚を調整すればよい。
【0025】
このような組成傾斜層を設けた素子は、半導体層の界面で生じるバンドオフセットによる抵抗の増大を防止することができる。さらに、本発明により、光の外部取り出し効率を向上させることができるので、発光量を向上させることができ、また発熱を抑えることができる。
【0026】
なお、AlxGa1−xN組成傾斜層は、xをGaNバッファ層12側からn−AlyGa1−yN層14側に向かって、0から0.2まで直線的に変化させたもの、あるいは、0から0.2まで階段状(少なくとも5段階程度)に組成比を変化させたものであってもよい。
【0027】
次に、本発明の第2の実施の形態による発光波長が470nmの発光ダイオードについて説明する。その発光ダイオードの断面図を図2に示す。
【0028】
本実施の形態による発光ダイオードは、図2に示すように、サファイア基板31上に、GaNバッファ層32、DBRミラー33、n−GaN層34およびp−GaN層36をこの順に積層してなり、p−GaN層36の上に形成された透明電極37およびp側電極38を備え、n−GaN層34の一部を露出させた面上に形成されたn側電極39とを備えてなるものである。
【0029】
n−GaN層34およびp−GaN層36のそれぞれにおいて、発光波長λにおける屈折率をNとし、膜厚をdとしたとき、N×d=mλ/2(ただし、mは正の整数)の関係を満足するように、半導体の組成および膜厚が選択されて形成されている。
【0030】
DBRミラー33は、屈折率Nと膜厚dとの積Ndが発光波長λの1/4の整数倍である高屈折率層nHと低屈折率層nLとが複数層交互に積層されてなるものである。
【0031】
本実施の形態においては、接合面35からの発光光は、n−GaN層34と高屈折率層nHとの界面、低屈折率層nLと高屈折率層nHとの界面で、特定の周波数すなわち発光波長の光のみが反射される。反射した光は透明電極37から発光光40として放出される。
【0032】
透明電極としては、公知のITOおよびZnO等を用いることができる。
【0033】
青紫色発光ダイオードの用途として、例えば、発色する色が異なった少なくとも第1〜第3の感熱発色層が積層され、下層の感熱発色層ほど感熱度が低く、また表面側にある最上層の第1の感熱発色層とその下の第2の感熱発色層に対しては、それぞれ特有な波長域の紫外線による定着性が付与されたカラー感熱記録紙を用い、フルカラープリントが得られるようにしたカラー感熱プリンタの定着用光源を挙げることができる。本発明による発光ダイオードにおいて、各半導体層における組成と膜厚とを、発光波長からずらすことにより、逆にある特性の波長域の干渉を強め、発光波長分布を変更させることができる。すなわち、特定の波長域の発光を抑制することができるので、上記カラー感熱プリンタの最上層の定着時において、第2層目の感熱発色層が定着されることを防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態による発光ダイオードを示す断面図
【図2】本発明の第2の実施の形態による発光ダイオードを示す断面図
【符号の説明】
11 サファイア基板
12 GaNバッファ層
13 n−AlxGa1−xN層
14 n−AlyGa1−yN層
15 InzGa1−zN層
16 p−AlyGa1−yN層
17 p−GaN層
18 p側電極
19 n側電極
Claims (3)
- 基板上に、発光領域を含む複数の半導体層を積層してなる積層体からなり、前記半導体層の積層面と平行な端面から光が取り出される発光ダイオードにおいて、
少なくとも一つの前記半導体層の、発光波長における屈折率と厚さとの積が、発光波長の1/2の整数倍であることを特徴とする発光ダイオード。 - 前記少なくとも一つの半導体層が、屈折率を積層方向に変化せしめられてなるものであり、該半導体層の前記屈折率が該半導体層の厚さ方向に亘って実効的に算出されるものであることを特徴とする請求項1記載の発光ダイオード。
- 前記発光領域に対して前記光が取り出される面と反対側の前記積層体中に、DBRミラーが設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の発光ダイオード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002282268A JP2004119756A (ja) | 2002-09-27 | 2002-09-27 | 発光ダイオード |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Cited By (7)
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WO2007086366A1 (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-02 | Rohm Co., Ltd. | 窒化物半導体発光素子 |
JP2008277500A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物化合物半導体発光素子 |
JP2009016505A (ja) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物化合物半導体発光素子 |
CN102169939A (zh) * | 2010-02-25 | 2011-08-31 | Lg伊诺特有限公司 | 发光器件、发光器件封装以及照明系统 |
JP2011233891A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Lg Innotek Co Ltd | 発光素子、発光素子パッケージ、及び照明システム |
JP2014007181A (ja) * | 2012-06-21 | 2014-01-16 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 |
CN103966621A (zh) * | 2014-01-21 | 2014-08-06 | 南京大学 | 一种布拉格反射镜增强InGaN电极、制备与利用 |
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007086366A1 (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-02 | Rohm Co., Ltd. | 窒化物半導体発光素子 |
JP2007200995A (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-09 | Rohm Co Ltd | 窒化物半導体発光素子 |
US8049235B2 (en) | 2006-01-24 | 2011-11-01 | Rohm Co., Ltd. | Nitride semiconductor light emitting element with bragg reflection layers and anti-reflection layers to improve light extraction efficiency |
JP2008277500A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物化合物半導体発光素子 |
JP2009016505A (ja) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物化合物半導体発光素子 |
CN102169939A (zh) * | 2010-02-25 | 2011-08-31 | Lg伊诺特有限公司 | 发光器件、发光器件封装以及照明系统 |
JP2011233891A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Lg Innotek Co Ltd | 発光素子、発光素子パッケージ、及び照明システム |
JP2014007181A (ja) * | 2012-06-21 | 2014-01-16 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 |
CN103966621A (zh) * | 2014-01-21 | 2014-08-06 | 南京大学 | 一种布拉格反射镜增强InGaN电极、制备与利用 |
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