JP2004110019A - ポジ型感光性ペースト、それを用いたパターンの形成方法およびプラズマディスプレイの製造方法 - Google Patents
ポジ型感光性ペースト、それを用いたパターンの形成方法およびプラズマディスプレイの製造方法 Download PDFInfo
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Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006286429A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Jsr Corp | 転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| JP2007265853A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Toray Ind Inc | ディスプレイパネル用部材の製造方法 |
| US7442488B2 (en) | 2004-10-06 | 2008-10-28 | Beom-Wook Lee | Positive type photosensitive paste composition for PDP electrode, PDP electrode prepared therefrom, and PDP comprising the PDP electrode |
| WO2009001885A1 (ja) * | 2007-06-27 | 2008-12-31 | Mitsubishi Chemical Corporation | 感光性組成物、方法、硬化物及び液晶表示装置 |
| JP2009137284A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-25 | Tdk Corp | サーマルヘッド、サーマルヘッドの製造方法及び印画装置 |
| WO2010070988A1 (ja) * | 2008-12-16 | 2010-06-24 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 凸状パターン形成方法、露光装置及びフォトマスク |
| CN1936704B (zh) * | 2005-09-22 | 2011-04-13 | Jsr株式会社 | 用于形成着色层的放射线敏感性组合物和滤色器 |
| CN103198879A (zh) * | 2013-03-06 | 2013-07-10 | 东南大学 | 一种正性感光电极浆料及其制备方法 |
| JP2014055232A (ja) * | 2012-09-12 | 2014-03-27 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 金属ペースト組成物 |
| WO2014126034A1 (ja) * | 2013-02-14 | 2014-08-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット塗布用感光性樹脂組成物、熱処理物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、液晶表示装置、有機el表示装置、タッチパネル及びその製造方法、並びに、タッチパネル表示装置 |
| WO2015159655A1 (ja) * | 2014-04-16 | 2015-10-22 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、導電性パターンの製造方法、基板、素子およびタッチパネル |
-
2003
- 2003-08-29 JP JP2003306469A patent/JP2004110019A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7442488B2 (en) | 2004-10-06 | 2008-10-28 | Beom-Wook Lee | Positive type photosensitive paste composition for PDP electrode, PDP electrode prepared therefrom, and PDP comprising the PDP electrode |
| JP2006286429A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Jsr Corp | 転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| CN1936704B (zh) * | 2005-09-22 | 2011-04-13 | Jsr株式会社 | 用于形成着色层的放射线敏感性组合物和滤色器 |
| JP2007265853A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Toray Ind Inc | ディスプレイパネル用部材の製造方法 |
| WO2009001885A1 (ja) * | 2007-06-27 | 2008-12-31 | Mitsubishi Chemical Corporation | 感光性組成物、方法、硬化物及び液晶表示装置 |
| JP2009137284A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-25 | Tdk Corp | サーマルヘッド、サーマルヘッドの製造方法及び印画装置 |
| WO2010070988A1 (ja) * | 2008-12-16 | 2010-06-24 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 凸状パターン形成方法、露光装置及びフォトマスク |
| US8293434B2 (en) | 2008-12-16 | 2012-10-23 | V Technology Co., Ltd. | Method for forming convex pattern, exposure apparatus and photomask |
| JP5495135B2 (ja) * | 2008-12-16 | 2014-05-21 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 凸状パターン形成方法、露光装置及びフォトマスク |
| JP2014055232A (ja) * | 2012-09-12 | 2014-03-27 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 金属ペースト組成物 |
| WO2014126034A1 (ja) * | 2013-02-14 | 2014-08-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット塗布用感光性樹脂組成物、熱処理物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、液晶表示装置、有機el表示装置、タッチパネル及びその製造方法、並びに、タッチパネル表示装置 |
| JPWO2014126034A1 (ja) * | 2013-02-14 | 2017-02-02 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット塗布用感光性樹脂組成物、熱処理物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、液晶表示装置、有機el表示装置、タッチパネル及びその製造方法、並びに、タッチパネル表示装置 |
| CN103198879A (zh) * | 2013-03-06 | 2013-07-10 | 东南大学 | 一种正性感光电极浆料及其制备方法 |
| WO2015159655A1 (ja) * | 2014-04-16 | 2015-10-22 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、導電性パターンの製造方法、基板、素子およびタッチパネル |
| US10001704B2 (en) | 2014-04-16 | 2018-06-19 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive resin composition, method of manufacturing conductive pattern, substrate, element, and touch panel |
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