JP2004109342A - 偏光分離素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機複屈折膜を接着する透明基板に、透明基板より大きいヤング率の膜を形成し、基板の剛性を高めたことで、有機複屈折膜の熱収縮に起因する透明基板の反りが低減できる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、生産性が高く、信頼性の高い偏光分離素子及びその製造方法に関し、特に偏光分離素子の接着方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、光記録媒体に情報を記録再生する光ヘッドの小型化が盛んに行なわれている。特に光ヘッドの小型化を実現する要素として、偏光分離素子を用いた光ヘッドが提案されている。偏光分離素子に関する技術を開示した技術文献として、以下に示すものが知られている。
【0003】
【特許文献1】
特開昭63−314502号公報
【特許文献2】
特開2000−75130号公報
【特許文献3】
特開2000−47014号公報
【0004】
特開昭63−314502号公報、特開2000−75130号公報では、簡単な工程で安価に作製できる偏光分離素子として、透明基板上、同一平面に回折格子を有する複屈折膜と、その上に等方性のオーバーコート層が被覆あるいは装荷されている構造のものを提案している。これらの中には良好な光学的特性を得るために両面の平坦性の向上を目的とした構成となっている。これはあらかじめ、透明基板(BK−7)に有機複屈折膜等を接着剤で接着し、この透明基板上の有機複屈折フィルムの同一平面に回折格子を形成し、その回折格子を等方性接着剤で覆い、この等方性接着剤が接着層も兼ねて対向透明基板と接着しているために、素子として強度があり、かつ生産性の高い構成となっているものである。この構成を図21に示す。
【0005】
また、特開2000−47014号公報では、ニオブ酸リチウム基板と、ニオブ酸リチウム基板の結晶のX面もしくはY面の所定の部分がプロトン交換されたプロトン交換層と、プロトン交換層によりニオブ酸リチウム基板に生じる応力を補正するプロトン交換層とを備えることにより、光学素子そのものには反りが生じないようにしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
直交する2つの偏光成分を分離する為、透明基板上に入射光の異なる振動面に対し屈折率が異なる有機複屈折膜を接着する偏光分離素子の有機複屈折膜の接着において、有機複屈折膜が延伸した高分子材料であり, 紫外線硬化時の熱による有機複屈折膜が熱収縮や、その後の微細加工プロセスにおけるフォトリソグラフィプロセスで、有機複屈折膜が熱収縮し、その結果, 接着した透明基板が有機複屈折膜側に反るという問題がある。また、用いる接着剤も1〜10%程度の硬化収縮があり、基板の反りが発生する問題がある。この有機複屈折膜接着基板の反りはフォトリソグラフィプロセスにおける露光時の焦点位置変動による焦点合わせ不良や波面収差低下等の問題を発生する。
【0007】
接着剤硬化後は透明基板と同等の屈折率が必要であり、また、光の吸収がない特性が要求される等制約が多い問題がある。また、LiNbO3 のような材料を基板に用いて偏光分離素子を作成する方法は高価な光学結晶が必要となり、材料コストが高く、また、プロセスも複雑になりコストも高くなる。
【0008】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、低コスト化と透明基板が有機複屈折膜を接着した後の微細加工等で発生する有機複屈折膜の熱収縮で基板が反るのを低減した偏光分離素子、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
係る目的を達成するために請求項1記載の発明は、透明基板に、該透明基板より大きいヤング率材料で構成する膜を形成し、該膜を形成した透明基板上に有機複屈折膜を接着して偏光分離素子を形成したことを特徴とする。
【0010】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、透明基板に形成した膜が引張り応力を有していることを特徴とする。
【0011】
請求項3記載の発明は、請求項1記載の発明において、透明基板に形成した膜が圧縮応力の膜を有していることを特徴とする。
【0012】
請求項4記載の発明は、請求項1記載の発明において、透明基板に形成した膜は、引張り応力と圧縮応力を有する膜を交互に積層したことを特徴とする。
【0013】
請求項5記載の発明は、請求項1記載の発明において、透明基板の少なくとも片面に、該透明基板より大きいヤング率の引張り応力を有する膜と圧縮応力を有する膜とを交互に積層したことを特徴とする。
【0014】
請求項6記載の発明は、請求項1記載の発明において、透明基板の両面に、該透明基板より大きいヤング率の引張り応力を有し、両面の応力を略同等とした膜を形成したことを特徴とする。
【0015】
請求項7記載の発明は、請求項1記載の発明において、透明基板の両面に、該透明基板より大きいヤング率の圧縮応力を有し、両面の応力を略同等とした膜を形成したことを特徴とする。
【0016】
請求項8記載の発明は、請求項1から7の何れか一項に記載の発明において、膜を形成した前記透明基板を2枚以上積層して積層基板を形成し、該積層基板上に前記有機複屈折膜を接着して偏光分離素子を形成したことを特徴とする。
【0017】
請求項9記載の発明は、請求項8記載の発明において、有機複屈折膜と、前記積層基板とを接着する接着剤が、接着面のコーティング膜と同じ屈折率の光硬化型の材料からなることを特徴とする。
【0018】
請求項10記載の発明は、請求項8記載の発明において、積層基板は、平行な2つの面で挟み、平行状態で光硬化接着して形成したことを特徴とする。
【0019】
請求項11記載の発明は、請求項1から10の何れか一項に記載の発明において、有機複屈折膜は、分子鎖を配向させた高分子膜であることを特徴とする。
【0020】
請求項12記載の発明は、透明基板に、該透明基板より大きいヤング率材料で構成する膜を形成し、該膜を形成した透明基板上に有機複屈折膜を接着して偏光分離素子を形成することを特徴とする。
【0021】
請求項13記載の発明は、請求項12記載の発明において、透明基板に形成する膜が引張り応力を有していることを特徴とする。
【0022】
請求項14記載の発明は、請求項12記載の発明において、透明基板に形成する膜が圧縮応力の膜を有していることを特徴とする。
【0023】
請求項15記載の発明は、請求項12記載の発明において、透明基板に形成する膜は、引張り応力と圧縮応力を有する膜を交互に積層することを特徴とする。
【0024】
請求項16記載の発明は、請求項12記載の発明において、透明基板の少なくとも片面に、該透明基板より大きいヤング率の引張り応力を有する膜と圧縮応力を有する膜とを交互に積層することを特徴とする。
【0025】
請求項17記載の発明は、請求項12記載の発明において、透明基板の両面に、該透明基板より大きいヤング率の引張り応力を有し、両面の応力を略同等とした膜を形成することを特徴とする。
【0026】
請求項18記載の発明は、請求項12記載の発明において、透明基板の両面に、該透明基板より大きいヤング率の圧縮応力を有し、両面の応力を略同等とした膜を形成することを特徴とする。
【0027】
請求項19記載の発明は、請求項12から18の何れか一項に記載の発明において、膜を形成した前記透明基板を2枚以上積層して積層基板を形成し、該積層基板上に前記有機複屈折膜を接着して偏光分離素子を形成することを特徴とする。
【0028】
請求項20記載の発明は、請求項19記載の発明において、有機複屈折膜と、前記積層基板とを接着する接着剤が、接着面のコーティング膜と同じ屈折率の光硬化型の材料からなることを特徴とする。
【0029】
請求項21記載の発明は、請求項19記載の発明において、積層基板は、平行な2つの面で挟み、平行状態で光硬化接着して形成したことを特徴とする。
【0030】
請求項22記載の発明は、請求項12から21の何れか一項に記載の発明において、有機複屈折膜は、分子鎖を配向させた高分子膜であることを特徴とする。
【0031】
【発明の実施の形態】
次に添付図面を参照しながら本発明に係る実施の形態を詳細に説明する。図1〜図20を参照すると本発明に係る実施の形態が示されている。
【0032】
本実施形態の構成を図1に示した。夫々のBK−7基板1の片面にMgF2 /TiO2 多層膜2をコーティングし、これを積層接着(3)した上に有機複屈折膜4を接着剤5で接着し、有機複屈折膜表面を微細加工により回折格子(凹凸)を形成した後、等方性接着剤6で凹部の埋め込みと対向透明基8との接着を実施し、所定の大きさに切断して1 素子とした。
【0033】
次に、図2〜図9を参照しながら第1の製造方法を説明する。
両面光学研磨されたφ4インチ, 板厚0.5mm、オリフラ付きのBK−7基板1の片面にヤング率が約205GPaのTiO2 (2A)を電子ビーム加熱真空蒸着法で膜圧が500nmとなるように形成する(図2参照)。なお、ここで用いたBK−7基板1のヤング率は約80GPaである。
【0034】
次に、光学研磨された石英ガラス製の接着ジグ11上に、このBK−7基板1上に形成したTiO2 薄膜(2A)を上向きに載置し、この中心TiO2 膜(2A)とほぼ同じ屈折率2.2の紫外線硬化型接着剤3、粘度500cpを0.1ml滴下する。
【0035】
次に、電子ビーム加熱真空蒸着法でTiO2 薄膜(2A)をコーティングしたもう一方の両面光学研磨されたφ4インチ, 板厚0.5mm、オリフラ付きのBK−7基板1をもう一つ用意し、紫外線硬化型接着剤3が塗布された基板1とTiO2 薄膜が接着面となるように重ね合わせ、上部に光学研磨された石英ガラス製の加圧ジグ10を載置し、図示しない加圧装置でφ4インチ全面を荷重200gf/cm2 で均等に加圧し、接着剤3をBK−7基板1全面にひろげる(図3参照)。
【0036】
この状態で、2 分間保持した後、図示しない紫外線照射装置で、加圧ジグ10上面から紫外線強度40mW/cm2 の光をφ4インチ全面に照射し、接着剤3を硬化する。その後、加圧を解除し、接着、加圧ジグ10から積層接着したBK−7基板1(以下、積層基板12という)を取り出す。接着剤の厚みは約5μmとする(図4参照)。
【0037】
次に、X,Y,Z軸が移動可能な移動ステージ16に固定した接着基板ホルダ15上に、積層基板12を載置し、図示しない真空吸着機構により接着基板ホルダ15に固定する。この接着基板ホルダ15は外径がφ5インチと積層基板12より1サイズ大きく、真空吸着溝をφ96−98mmに設けてある。なお、接着基板ホルダ15は光学研磨された石英ガラス製で出来ており、平面度がλ/50、平行度が1μm以下、表面粗さRa=5nm以下である。
【0038】
積層基板12の上方には、図示しない接着剤滴下装置と接着剤の中心と有機複屈折膜の中心を測定するためのX,Y方向に移動可能な測定系を設けてある。本実施例の測定系では接着剤、積層基板のオリフラ及び有機複屈折膜4端部の反射光を検出し、位置を読み取るCCDレーザ変位計13を用いて、位置情報をそれぞれの移動装置にフィードバックする。図示しないフィードバック回路と、有機複屈折膜4の端部を保持するための保持装置14を基板ホルダ15に対し平行に配置し、これに図示しないモーメントを発生する装置で構成されている。
【0039】
次に、積層基板12の中心に積層基板とほぼ同じ屈折率1.52のUV硬化型接着剤5、スリーボンド社製TB3042を0.2ml滴下し、この上に110mm×120mmに切断した有機複屈折膜4の端部を真空吸着により保持し、おおよそBK−7基板中心位置に固定した後、図示しないモーメント発生装置によりU字形に変形した有機複屈折膜4の表面形状をCCDレーザ変位計13により測定してU字形状の中心位置を検出し、あらかじめ測定しておいた接着剤の凸形状の頂点位置情報より移動量を演算し、X−Y移動装置により有機複屈折膜4のU字形状の中心を接着剤凸中心に位置合わせを行う。積層基板−接着剤−有機複屈折膜の位置合わせを完了した後、基板ホルダ15を上昇し、接着剤と有機複屈折膜それぞれの頂点で接触する位置で停止し、その後、有機複屈折膜の左右のモーメント力をゆるやかに解除しながら有機複屈折膜を透明基板上に載置して行く(図5参照)。
【0040】
次に平面度がλ/50、以下、表面粗さRa=2nm以下に光学研磨された石英ガラス製の直径φ130mm、厚み30mmの石英ガラス製押圧装置17を有機複屈折膜4上に載せ、全面均等加圧し、接着剤が積層基板12全面に広がった点で加圧を停止し、石英ガラス製押圧装置17を通して図示しない紫外線照射装置(以下、UV装置)で光強度40mW/cm2 の紫外線を有機複屈折膜4側から200秒間照射し、接着剤を硬化する(図6参照)。
【0041】
接着剤硬化後、押厚装置17を取り外し、積層基板12のφ100mm外径に沿って、余分な有機複屈折膜4を切断し、その後、基板ホルダ15の真空吸着を解除して積層基板12を取り出し、有機複屈折膜4付き基板とする。このようにフィルム中央から基板に接触することで、面接触で接着する従来法では目視レベルで確認できる気泡の巻き込みが発生していたのに対し、本法では気泡の巻き込みがない貼り合わせが実現できる。位置合わせは本実施例のほか、CCDカメラと画像処理により積層基板12と接着剤の形状を認識し、中心を割りだし、位置合わせする方法等も実施可能である。また、ここではアクリル樹脂系の光硬化型の接着剤を用いて接着したが、エポキシ樹脂系の光硬化型の接着剤を用いてもよい。同様にBK−7積層基板1外に石英ガラスやパイレックス(登録商標)ガラス、結晶性ガラス(商品名:ネオセラム)等を積層した基板を用いてもよい。
【0042】
有機複屈折膜4はハンドリング性から厚みは0.01mm以上が望ましいが、延伸により光学的特性を得ることを考慮すると、最大厚み0.5mmの範囲で用いるのが好ましい。より望ましくは0.05〜0.2mmがよい。本実施例では厚み0.1mmのポリエステル系の有機複屈折膜を用いた。
【0043】
この接着した有機複屈折膜をイソプロピルアルコール等の有機溶媒と純水の順で洗浄する。その後、日本ゼオン化社製ZEP−520レジストスピンコートにより0.5μm厚のレジスト膜18を形成し、100℃で30分間ベークする(図7参照)。この時、有機複屈折膜の熱歪が起因する応力で積層基板12に引張り応力が発生するが、TiO2 コート膜により基板全体の剛性が高いため、積層基板自体の反りが小さい。レジストを剥離して有機複屈折膜4表面の反りを測定した結果、コーティング膜なしのBK−7基板に有機複屈折膜を接着したものと比べ、有機複屈折膜面の反り量が低減することを確認した。
【0044】
日本ゼオン化社製ZEP−520レジストをスピンコートにより0.5μm厚のレジスト膜を形成し、100℃で300 分間ベークし、ステッパへの積層基板真空吸着可否とレジスト表面の焦点合わせ合否を調べ、問題が無かった場合「○」、手作業による修正が必要であるができる場合を「△」、できなかった場合を「×」とした結果を表1に示す。基板のコーテイング数が2面以上の積層基板で効果があった。
【0045】
【表1】
【0046】
その後、ステッパ装置を用い、有機複屈折膜4上にライン&スペース2μmのパターンを8mmピッチで300周期繰り返し形成し、回折格子1素子とした。回折格子は素子外形8×8mmの中心に略形状1×2mmで形成する。
【0047】
この後、酸素ガスを主成分とするエッチングガス雰囲気中で、住友金属社製ECR(Electron Cyclotron Resonance: 電子サイクロトロン共鳴)エッチング装置で幅2μm、深さ3μmのラインと2μm幅のスペースを300周期繰り返した回折格子を形成する。他のフォトリソは一般に知られているプロセスを採用しており、詳細は省略する。
【0048】
次に、図8に示した平面加工したφ200mm、厚み50mmのステンレス台上に回折格子を形成した積層基板を載置し、この回折格子面にアクリル樹脂系の光硬化型の等方性接着剤をマイクロシリンジで0.25ml計量滴下し、この上面に両面光学研磨した外径φ100mm、厚み0.5mmのBK−7対向透明基板を載置し、さらにこの上に光学研磨した石英ガラス製押圧装置を載せ対向透明基板に100gf/cm2 の圧力を印加し、等方性接着剤を被接着面全面に広げる。この状態で、図示しない紫外線照射装置でBK−7対向透明基板を通し、150mm上面から照射照度40mW/ cm2 の紫外光を1 0分間照射し硬化接着する。その後、ダイシング装置により、8×8mm□に切り出し1素子とする。素子の断面を図9に示す。なお、積層構造部分は省略する。
【0049】
上記偏光分離素子の等方性接着剤は粘性や屈折率等の特性制御の容易さや接着力および透明性の点から紫外線硬化型アクリル系の接着剤を用いたが、紫外線硬化型エポキシ系でも同様なことが可能である。これらの接着剤は紫外線で硬化するので、加圧中硬化が可能であり、プロセスを簡略できる。また、用いた接着剤の屈折率を接着するコーティング膜と同等としたことで、光学的に均質な層となり、光の利用効率の向上が可能となった。
【0050】
また、有機複屈折膜はポリエチレンテレフタレート等の高分子膜を布で擦ってラビング処理して配向膜を形成し、この配向膜上にポリジアセチレンモノマーを真空蒸着して配向させた後、紫外光を照射してポリマー化して異方性膜とする方法(参考文献:J.Appl.phys.,72,No,3,P938−947)があるが、工程が複雑でコスト高となるため、ここでは、分子鎖が配向した高分子膜で、特性の均一性を考慮して延伸された有機複屈折膜を用いた。
【0051】
なお、本実施例では基板の積層数を2 枚としたが、2 枚に限定されるものではない。また、TiO2 膜に限定されるものではなく、Al2 O3 ,ZrO2 ,MgO等の酸化物をコーテイングしてもよい。
【0052】
次に、本発明に係る第2の製造方法を説明する
両面光学研磨されたφ4インチ,板厚0.45mm、オリフラ付きのBK−7基板1の両面にヤング率が約205GPaのTiO2 膜2Aを電子ビーム加熱真空蒸着法で膜厚が500nmとなるように形成する(図10参照)。
【0053】
このTiO2 薄膜2Aを形成したBK−7基板1を光学研磨した石英ガラス製の接着ジグ11上に載置し、この中心にTiO2 膜とほぼ同じ屈折率2.22 の紫外線硬化型接着剤3、粘度500cpを0.1ml滴下した後、前記基板と同様に電子ビーム加熱真空蒸着法でTiO2 薄膜2Aを両面コーティングしたもう一方のBK−7基板1のオリフラを合わせて重ね、接着剤3をBK−7基板1全面にひろげ、上部に光学研磨された平行平面な石英ガラス製の加圧ジグ10を載置し、図示しない加圧装置でφ4インチ全面を200gf/cm2 の加圧力で均等に加圧する。この状態で、2分間保持した後、図示しない紫外線照射装置で、加圧ジグ10上面から紫外線強度40mW/cm2 の光をφ4インチ全面に照射し、接着剤3を硬化する(図11参照)。
【0054】
その後、加圧を解除し、接着、加圧ジグ10ら積層接着したBK−7基板1(以下、積層基板12という)を取り出す(図12参照)。このときの接着剤厚みは約5μmである。この積層基板12に有機複屈折膜4を接着する工程、この有機複屈折膜4に回折格子を形成するフォトリソグラフィ、エッチング工程、この回折格子形成基板に対向透明基板8を接着する工程は上記第1の製造方法と同じ工程で実施する。
【0055】
第1の製造方法と同様に本積層基板12に日本ゼオン化社製ZEP−520レジスト18をスピンコートにより0.5μm厚のレジスト膜18を形成し、100℃で30分間ベークし、ステッパへの積層基板真空吸着可否とレジスト表面の焦点合わせ合否を調べた結果、基板2枚積層でコーティング面が4面となり、さらに剛性が向上し、ステッパへの積層基板真空吸着に問題は無く、レジスト表面の焦点合わせではさらなる基板の反り低減効果がある。
【0056】
なお、本実施例では基板の積層数を2枚としたが、2枚に限定されるものではない。また、TiO2 膜に限定されるものではなく、Al2 O3 ,ZrO2 ,MgO等の酸化物をコーテイングしてもよい。
【0057】
次に、本発明に係る第3の製造方法を説明する。
両面光学研磨されたφ4インチ, 板厚0.45mm、オリフラ付きのBK−7基板1の両面にMgF2 を電子ビーム加熱真空蒸着法で膜厚が500nmとなるよう形成する。このMgF2 膜は引張り応力を有しているが、応力が釣り合うように両面に形成しているため、基板の反りが小さく、剛性の大きい積層基板12となっている。図13に膜の状態を誇張して示した。
【0058】
このMgF2 薄膜を形成したBK−7基板1を光学研磨された石英ガラス製の接着ジグ上に載置し、この中心にMgF2 膜とほぼ同じ屈折率1.35の紫外線硬化型接着剤、粘度500cpを0.1ml滴下した後、前記基板と同様に電子ビーム加熱真空蒸着法でMgF2 薄膜を両面コーテイングしたもう一方のBK−7基板1のオリフラを合わせて重ね、接着剤3をBK−7基板1全面にひろげ、上部に光学研磨された平行平面な石英ガラス製の加圧ジグ10を載置し、加圧装置でφ4インチ全面を200gf/cm2 の加圧力で均等に加圧する。この状態で、2 分間保持した後、紫外線照射装置で、加圧ジグ10上面から紫外線強度40mW/cm2 の光をφ4インチ全面に照射し、接着剤3を硬化する。その後、加圧を解除し、接着、加圧ジグ10から積層接着したBK−7基板1(以下、積層基板12という)を取り出す(図14参照)。このときの接着剤厚みは約5μmであった。この積層基板12に有機複屈折膜4を接着する工程、この有機複屈折膜4に回折格子7を形成するフォトリソグラフィ、エッチング工程、この回折格子形成基板に対向透明基板8を接着する工程は上記第1の製造方法と同じ工程で実施した。
【0059】
第1の製造方法と同様に本積層基板に日本ゼオン化社製ZEP−520レジストをスピンコートにより0.5μm厚のレジスト膜18を形成し、100℃で30分間ベークし、ステッパへの積層基板真空吸着可否とレジスト表面の焦点合わせ合否を調べた結果、剛性が向上し、ステッパへの積層基板真空吸着に問題は無く、レジスト表面の焦点合わせではさらなる基板の反り低減効果があった。
【0060】
なお、本実施例では基板の積層数を2枚としたが、2枚に限定されるものではない。また、MgF2 膜に限定されるものではなく、CeF3 ,LiF,SnO等の酸化物をコーティングしてもよい。
【0061】
次に本発明に係る第4の製造方法を説明する。
両面光学研磨されたφ4インチ, 板厚0.45mm、オリフラ付きのBK−7基板1の両面にAl2 O3 を電子ビーム加熱真空蒸着法で膜厚が500nmとなるよう形成する。このAl2 O3 膜は圧縮応力を有しているが、応力が釣り合うように両面に形成しているため、基板の反りが小さく、剛性の大きい積層基板12となっている。図15に膜の状態を誇張して示した。
【0062】
このAl2 O3 薄膜を形成したBK−7基板1を光学研磨された石英ガラス製の接着ジグ11上に載置し、この中心にAl2 O3 膜とほぼ同じ屈折率1.62の紫外線硬化型接着剤、粘度500cpを0. 1ml滴下した後、前記基板と同様に電子ビーム加熱真空蒸着法でAl2 O3 薄膜を両面コーテイングしたもう一方のBK−7基板1のオリフラを合わせて重ね、接着剤3をBK−7基板1全面にひろげ、上部に光学研磨された平行平面な石英ガラス製の加圧ジグ10を載置し、加圧装置でφ4インチ全面を200gf/cm2 の加圧力で均等に加圧する。この状態で、2 分間保持した後、紫外線照射装置で、加圧ジグ10上面から紫外線強度40mW/cm2 の光をφ4インチ全面に照射し、接着剤3を硬化する。その後、加圧を解除し、接着、加圧ジグ10から積層接着したBK−7基板1(以下、積層基板12という)を取り出す(図16参照)。このときの接着剤厚みは約5μmであった。この積層基板12に有機複屈折膜4を接着する工程、この有機複屈折膜に回折格子7を形成するフォトリソグラフィ、エッチング工程、この回折格子形成基板に対向透明基板8を接着する工程は第1の製造方法と同一の工程で実施する。
【0063】
第1の製造方法と同様に本積層基板に日本ゼオン化社製ZEP−520レジストをスピンコートにより0.5μm厚のレジスト膜18を形成し、100℃で30分間ベークし、ステッパへの積層基板真空吸着可否とレジスト表面の焦点合わせ合否を調べた結果、剛性が向上し、ステッパへの積層基板真空吸着に問題は無く、レジスト表面の焦点合わせではさらなる基板の反り低減効果があった。
【0064】
なお、本実施例では基板の積層数を2枚としたが、2枚に限定されるものではない。また、MgF2 膜に限定されるものではなく、BaO,C,CeO3 ,TiO2 等の酸化物をコーティングしてもよい。
【0065】
次に、本発明に係る第5の製造方法について説明する。
両面光学研磨されたφ4インチ, 板厚0.45mm、オリフラ付きのBK−7基板1の片面にMgF2 とAl2 O3 を電子ビーム加熱真空蒸着法等で夫々の膜厚が500nmとなるよう形成する。このMgF2 膜は引張り応力、Al2 O3 膜は圧縮応力を有しているが、応力が釣り合うように交互に積層した、多層構造に形成しているため、基板の反りが小さく、剛性の大きい積層基板となっている。図17に膜の状態を誇張して示した。
【0066】
このMgF2 /Al2 O3 多層薄膜を形成したBK−7基板1を光学研磨された石英ガラス製の接着ジグ11上に載置し、この中心にAl2 O3 膜とほぼ同じ屈折率の紫外線硬化型接着剤、粘度500cpを0.1ml滴下した後、前記基板と同様に電子ビーム加熱真空蒸着法でMgF2 /Al2 O3 多層薄膜を片面コーテイングしたもう一方のBK−7基板1のオリフラを合わせて重ね、接着剤をBK−7基板1全面にひろげ、上部に光学研磨された平行平面な石英ガラス製の加圧ジグ10を載置し、加圧装置でφ4インチ全面を200gf/cm2 の加圧力で均等に加圧する。この状態で、2 分間保持した後、紫外線照射装置で、加圧ジグ10上面から紫外線強度40mW/cm2 の光をφ4インチ全面に照射し、接着剤3を硬化する。その後、加圧を解除し、接着、加圧ジグ10から積層接着したBK−7基板1(以下、積層基板12という)を取り出す(図18参照)。このときの接着剤厚みは約5μmであった。この積層基板12に有機複屈折膜4を接着する工程、この有機複屈折膜4に回折格子7を形成するフォトリソグラフィ、エッチング工程、この回折格子形成基板に対向透明基板8を接着する工程は実施例1と同じ工程で実施した。
【0067】
上述した第1の製造方法と同様に本積層基板に日本ゼオン化社製ZEP−520レジストをスピンコートにより0.5μm厚のレジスト膜18を形成し、100℃で30分間ベークし、ステッパへの積層基板真空吸着可否とレジスト表面の焦点合わせ合否を調べた結果、剛性が向上し、ステッパへの積層基板真空吸着に問題は無く、レジスト表面の焦点合わせではさらなる基板の反り低減効果があった。
【0068】
なお、本製造方法では、基板の積層数を2枚としたが、2枚に限定されるものではない。また、MgF2 /Al2 O3 多層薄膜に限定されるものではなく、LiF,CaF2 ,MgF2 ,SiO2 等とTiO2 ,Al2 O3 ,BaO,Ce2 O3 ,等の酸化物の多層膜でもよく、層数も2層に限定されるものではない。
【0069】
また、製造方法の1〜4でBK−7を透明基板として用いたが、石英ガラス基板や、FK5 ,BaK2 ZK3 ,SK3 ,K2 ,LaK2 ,F3 ,SF6 ,等を用いてもよい。
【0070】
次に、本発明に係る第6の製造方法について説明する。
両面光学研磨されたφ4インチ, 板厚0.45mm、オリフラ付きのBK−7基板1の片面にMgF2 を電子ビーム加熱真空蒸着法で膜厚が500nmとなるよう形成する。このMgF2 膜は引張り応力を有している。このMgF2 薄膜を形成したBK−7を光学研磨された石英ガラス製の接着ジグ上に載置し、この中心にMgF2 膜とほぼ同じ屈折率1.35の紫外線硬化型接着剤3、粘度500cpを0. 1ml滴下した後、前記基板と同様に電子ビーム加熱真空蒸着法でMgF2 薄膜を片面コーテイングしたもう一方のBK−7基板1のオリフラを合わせて重ね、コーテイング面の方向を揃えて積層し、接着剤3をBK−7基板1全面にひろげ、上部に光学研磨された平行平面な石英ガラス製の加圧ジグ10を載置し、加圧装置でφ4 インチ全面を200gf/cm2 の加圧力で均等に加圧する。この状態で、2 分間保持した後、紫外線照射装置で、加圧ジグ10上面から紫外線強度40mW/cm2 の光をφ4インチ全面に照射し、接着剤3を硬化した。その後、加圧を解除し、接着、加圧ジグ10から積層接着したBK−7基板1(以下、積層基板12という)を取り出す(図19参照)。
【0071】
この積層基板12のコーテイングしていない面に第1の製造方法と同じ工程で有機複屈折膜4を接着し、フォトリソプロセスを実施することで、コーティング膜の引張り応力と有機複屈折膜4の熱収縮による応力とが均衡し、積層基板12の反りを小さくする(図20参照)。その後、第1の製造方法と同じ工程で、この有機複屈折膜4に回折格子7を形成し、この回折格子形成基板に対向透明基板8を接着する。
【0072】
第1の製造方法と同様に本積層基板に日本ゼオン化社製ZEP−520レジストをスピンコートにより0.5μm厚のレジスト膜18を形成し、100℃で30分間ベークし、ステッパへの積層基板真空吸着可否とレジスト表面の焦点合わせ合否を調べた結果、コーテイングにより基板の剛性が向上し、ステッパへの積層基板真空吸着に問題は無く、レジスト表面の焦点合わせではさらなる基板の反り低減効果があった。
【0073】
なお、本実施例では基板の積層数を2枚としたが、2枚に限定されるものではない。また、MgF2 膜に限定されるものではなく、BaO,C,CeO3 ,TiO2 等の酸化物をコーティングしてもよい。
【0074】
以上のように本実施形態は、基板よりヤング率の大きい膜を基板にコーティングして積層接着し、所望の厚みとしたφ100mmBK−7積層基板としたことで、フォトリソグラフィプロセス等の熱工程を経た積層基板12と有機複屈折膜4の反りは10μm以下と、従来の反りの1/10から1/20と低減できた。これにより、基板の平面性の低下防止と、平面性低下に起因する露光時の焦点位置バラツキの低減による歩留まり向上と信頼性の高い偏光分離素子を提供することができる。
【0075】
なお、上述した実施形態は本発明の好適な実施の形態である。但し、これに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施が可能である。
【0076】
【発明の効果】
以上の説明より明らかなように請求項1、12記載の発明は、有機複屈折膜を接着する透明基板に、透明基板より大きいヤング率の膜を形成し、基板の剛性を高めたことで、有機複屈折膜の熱収縮に起因する透明基板の反りが低減できる。
【0077】
また、請求項2、13記載の発明は、有機複屈折膜を接着する透明基板に、有機複屈折膜を接着した後の熱プロセスで発生する有機複屈折膜の熱収縮に起因する基板の反りとの均衡を取るよう透明基板より大きいヤング率の膜で引張り応力を有する膜を形成しことで、有機複屈折膜の熱収縮に起因する透明基板の反りが低減できる。
【0078】
請求項3、14記載の発明は、有機複屈折膜を接着する透明基板に、有機複屈折膜を接着した後の熱プロセスで発生する有機複屈折膜の熱収縮に起因する基板の反りとの均衡を取るよう透明基板より大きいヤング率の膜で圧縮応力を有する膜を形成したことで、有機複屈折膜の熱収縮に起因する透明基板の反りが低減できる。
【0079】
請求項4、5、15、16記載の発明は、積層する基板に引張り応力と圧縮応力との積層膜としたことで、有機複屈折膜を接着した後の熱プロセスで発生する有機複屈折膜の熱収縮に起因する基板の反り低減と膜形成プロセスの簡略化が可能となる。
【0080】
請求項6、17記載の発明は、積層する基板の両面に引張り応力の膜を形成したことで、有機複屈折膜を接着した後の熱プロセスで発生する有機複屈折膜の熱収縮に起因する基板の反り低減と膜形成プロセスの簡略化が可能となる。
【0081】
請求項7、18記載の発明は、積層する基板の両面に圧縮応力の膜を形成したことで、有機複屈折膜を接着した後の熱プロセスで発生する有機複屈折膜の熱収縮に起因する基板の反り低減と膜形成プロセスの簡略化が可能となる。
【0082】
請求項8、19記載の発明は、有機複屈折膜を接着する透明基板に、透明基板より大きいヤング率の膜を形成して、剛性を高めた基板を積層したことで、基板の剛性がさらに向上し、デバイスの厚みを変えることなく、有機複屈折膜の熱収縮に起因する透明基板の反りが低減できる。
【0083】
請求項9、20記載の発明は、有機複屈折膜と透明基板とを接着する接着剤を光硬化型のアクリル系、エポキシ系の材料としたことで、プロセスの簡略化とプロセスの低コスト化ができる。
【0084】
請求項10、21記載の発明は、透明基板を平行な2つの面で挟み込み光硬化接着することで、接着装置の低コスト化と信頼性の高いデバイスの製造が可能となる。
【0085】
請求項11、22記載の発明は、有機複屈折膜を延伸により、分子鎖を配向させた高分子膜としたことで、偏光分離素子の低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】偏光分離素子の構成を示す断面図である。
【図2】第1の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図3】第1の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図4】第1の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図5】第1の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図6】第1の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図7】第1の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図8】第1の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図9】第1の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図10】第2の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図11】第2の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図12】第2の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図13】第3の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図14】第3の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図15】第4の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図16】第4の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図17】第5の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図18】第5の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図19】第6の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図20】第6の製造方法の製造段階での構成を示す断面図である。
【図21】従来の偏光分離素子の構成を示す図である。
【符号の説明】
1 BK−7基板
3 接着剤
4 有機複屈折膜
5 接着剤
6 等方性接着剤
7 回折格子
8 対向透明基板
10 加圧ジグ
11 接着ジグ
12 積層基板
13 CCDレーザ変位計
14 有機複屈折膜保持装置
15 接着基板ホルダ
16 移動ステージ
17 押圧装置
Claims (22)
- 透明基板に、該透明基板より大きいヤング率材料で構成する膜を形成し、該膜を形成した透明基板上に有機複屈折膜を接着して偏光分離素子を形成したことを特徴とする偏光分離素子。
- 前記透明基板に形成した膜が引張り応力を有していることを特徴とする請求項1記載の偏光分離素子。
- 前記透明基板に形成した膜が圧縮応力の膜を有していることを特徴とする請求項1記載の偏光分離素子。
- 前記透明基板に形成した膜は、引張り応力と圧縮応力を有する膜を交互に積層したことを特徴とする請求項1記載の偏光分離素子。
- 前記透明基板の少なくとも片面に、該透明基板より大きいヤング率の引張り応力を有する膜と圧縮応力を有する膜とを交互に積層したことを特徴とする請求項1記載の偏光分離素子。
- 前記透明基板の両面に、該透明基板より大きいヤング率の引張り応力を有し、両面の応力を略同等とした膜を形成したことを特徴とする請求項1記載の偏光分離素子。
- 前記透明基板の両面に、該透明基板より大きいヤング率の圧縮応力を有し、両面の応力を略同等とした膜を形成したことを特徴とする請求項1 の偏光分離素子。
- 前記膜を形成した前記透明基板を2枚以上積層して積層基板を形成し、該積層基板上に前記有機複屈折膜を接着して偏光分離素子を形成したことを特徴とする請求項1から7の何れか一項に記載の偏光分離素子。
- 前記有機複屈折膜と、前記積層基板とを接着する接着剤が、接着面のコーティング膜と同じ屈折率の光硬化型の材料からなることを特徴とする請求項8記載の偏光分離素子。
- 前記積層基板は、平行な2つの面で挟み、平行状態で光硬化接着して形成したことを特徴とする請求項8記載の偏光分離素子。
- 前記有機複屈折膜は、分子鎖を配向させた高分子膜であることを特徴とする請求項1から10の何れか一項に記載の偏光分離素子。
- 透明基板に、該透明基板より大きいヤング率材料で構成する膜を形成し、該膜を形成した透明基板上に有機複屈折膜を接着して偏光分離素子を形成することを特徴とする偏光分離素子の製造方法。
- 前記透明基板に形成する膜が引張り応力を有していることを特徴とする請求項12記載の偏光分離素子の製造方法。
- 前記透明基板に形成する膜が圧縮応力の膜を有していることを特徴とする請求項12記載の偏光分離素子の製造方法。
- 前記透明基板に形成する膜は、引張り応力と圧縮応力を有する膜を交互に積層することを特徴とする請求項12記載の偏光分離素子の製造方法。
- 前記透明基板の少なくとも片面に、該透明基板より大きいヤング率の引張り応力を有する膜と圧縮応力を有する膜とを交互に積層することを特徴とする請求項12記載の偏光分離素子の製造方法。
- 前記透明基板の両面に、該透明基板より大きいヤング率の引張り応力を有し、両面の応力を略同等とした膜を形成することを特徴とする請求項12記載の偏光分離素子の製造方法。
- 前記透明基板の両面に、該透明基板より大きいヤング率の圧縮応力を有し、両面の応力を略同等とした膜を形成することを特徴とする請求項1 2の偏光分離素子の製造方法。
- 前記膜を形成した前記透明基板を2枚以上積層して積層基板を形成し、該積層基板上に前記有機複屈折膜を接着して偏光分離素子を形成することを特徴とする請求項12から18の何れか一項に記載の偏光分離素子の製造方法。
- 前記有機複屈折膜と、前記積層基板とを接着する接着剤が、接着面のコーティング膜と同じ屈折率の光硬化型の材料からなることを特徴とする請求項19記載の偏光分離素子の製造方法。
- 前記積層基板は、平行な2つの面で挟み、平行状態で光硬化接着して形成したことを特徴とする請求項19記載の偏光分離素子の製造方法。
- 前記有機複屈折膜は、分子鎖を配向させた高分子膜であることを特徴とする請求項12から21の何れか一項に記載の偏光分離素子の製造方法。
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JP2010210782A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Ricoh Co Ltd | マイクロミラー装置 |
CN101907736A (zh) * | 2010-07-09 | 2010-12-08 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 夹层式石英透射偏振分束光栅 |
WO2014163212A1 (ja) * | 2013-04-05 | 2014-10-09 | 住友化学株式会社 | 偏光板のセットおよび前面板一体型液晶表示パネル |
-
2002
- 2002-09-17 JP JP2002270141A patent/JP2004109342A/ja active Pending
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