JP2004101912A

JP2004101912A - 光走査光学系および光走査装置および画像形成装置

Info

Publication number: JP2004101912A
Application number: JP2002264190A
Authority: JP
Inventors: Koji Sakai; 酒井　浩司
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2002-09-10
Filing date: 2002-09-10
Publication date: 2004-04-02

Abstract

【課題】被走査面上の光スポットの光強度分布におけるサイドローブの影響を有効に軽減し、スポット径の増大を抑える。
【解決手段】光源１からの光ビームをカップリングレンズ２で以後の光学系にカップリングし、カップリングレンズ２よりも下流側に配置されたアパーチャ３によりビーム整形を行い、光偏向器５により偏向させ、走査結像光学系６、７により被走査面９上に所望スポット径の光スポットとして集光し、被走査面の光走査を行う光学系であって、アパーチャ３による回折により光スポットに生じる光強度分布のサイドローブが、主走査方向および／または副走査方向において、メインローブに対して略対称的に発生するようにアパーチャ３の位置を設定した。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は光走査光学系および光走査装置および画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光走査装置は、デジタル複写装置や光プリンタ、光プロッタ、ファクシミリ装置等の画像形成装置に関連して広く知られている。
【０００３】
このような光走査装置に対して近来、光走査の「書込密度」として１２００ｄｐｉや２４００ｄｐｉといった高密度が要請されている。このような高密度で画像を形成するには、被走査面上に形成する光スポットも小径化が必要となる。
【０００４】
光スポットのスポット径を小さくすると、それに伴い「ねらいとするスポット径からのずれが許容されるデフォーカスの範囲」である深度余裕が狭くなり、光走査光学系における各種部品の加工精度や組付け精度の要求が厳しくなる。
【０００５】
要求される加工精度や組付け精度が十分に満たされないと、各光学素子を光ビームが通過する際に波面収差が劣化し、被走査面上で光スポットのスポット径の増大を招く。このようなスポット径の増大が「光スポットの光強度分布のサイドローブ」に起因することが知られている。
【０００６】
光走査装置において光源として一般に用いられる半導体レーザから放射される光束は、一般に「主光線を対称軸とするガウス分布状の光強度分布」を有する。良く知られたように、ガウス分布状の光強度分布をもつ光ビームを、結像光学系で光スポットとして結像させたときの光スポットの光強度分布は、光源側の光強度分布のフーリエ変換に対応するものである。従って、光源側の光強度分布が完全なガウス分布であれば、光スポットの光強度もガウス分布となる。
【０００７】
しかし、光源側の光ビームは、被走査面上に所望のスポット径・光スポット形状を実現するため、アパーチャによりビーム整形される。このビーム整形により、光源側の光ビームにおけるガウス分布状の光強度分布の「裾野部分」が遮光される。このように裾野部分がカットされると、光スポットの光強度分布には、中央の光強度の大きいガウス分布型部分（「メインローブ」）の回りに、周辺へ行くほど振幅の小さくなる波状の分布が現れる。この波状の分布が「サイドローブ」と呼ばれるものである。
【０００８】
光走査光学系における各光学部品が設計通りのものであり、これを設計通りに組付けた理想的な場合であれば、サイドローブは発生してもその振幅（光強度）は小さく、光学性能（特に光スポットのスポット径）に殆ど影響しないが、部品公差や取付け公差の組合せによっては、サイドローブが「メインローブの片側に極端に大きく」発生することがあり、スポット径の増大を招来する。
【０００９】
このような「極端に大きなサイドローブ」の発生を抑えるには、各公差を非常に厳しく設定すればよいが、このような厳しい公差設定は非現実的であり、仮にできたとしても著しいコストアップを招く。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたものであり、被走査面上の光スポットの光強度分布におけるサイドローブの影響を有効に軽減し、スポット径の増大を抑えることを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
この発明の光走査光学系は「光源からの光ビームをカップリングレンズで以後の光学系にカップリングし、カップリングレンズよりも下流側に配置されたアパーチャによりビーム整形を行い、光偏向器により偏向させ、走査結像光学系により被走査面上に所望スポット径の光スポットとして集光し、被走査面の光走査を行う光学系」であって以下の如き特徴を有する。
【００１２】
即ち、アパーチャによる回折により光スポットに生じる「光強度分布のサイドローブ」が、主走査方向および／または副走査方向において、メインローブに対して略対称的に発生するようにアパーチャの位置を設定する。
【００１３】
上の説明において「カップリングレンズよりも下流側」とは、光源からの光ビームが進行する側、即ち、光源から被走査面に至る光路上で「カップリングレンズよりも被走査面側にある側」を意味する。また、「メインローブに対して対称的」とは、メインローブの中心に対して対称的」と言う意味である。
【００１４】
請求項１記載の光走査光学系における「アパーチュアの位置」は、被走査面上における光スポットの「少なくとも副走査方向におけるサイドローブ」がメインローブに対して略対称的に発生するように設定するのが好ましい（請求項２）。光スポットのスポット径は、主走査方向には、光源の駆動を電気的に補正することによりある程度の補正が可能であるが、副走査方向のスポット径に対してはこのような電気的な補正が一般に困難であるので、主走査方向と副走査方向についてのサイドローブの対称化は副走査方向を優先させるのが良い。
【００１５】
上記請求項１または２記載の光走査光学系は「アパーチャの位置を主走査方向および／または副走査方向に位置調整する調整機構」を有することができる（請求項３）。この場合も請求項２記載の場合と同じく、調整機構により「アパーチュアの位置を少なくとも副走査方向に調整する」ことが好ましい（請求項４）。
【００１６】
請求項１〜４の任意の１に記載の光走査光学系における「アパーチャの開口形状」は「矩形形状の４隅をまるめた形状」であることが好ましい（請求項５）。この請求項５記載の光走査光学系において、アパーチャの開口形状は「被走査面上の光スポット径を光強度分布の１／ｅ^２スレッシュで評価したときに４５μｍ以下となる」ように設定されることが好ましい。
【００１７】
この発明の光走査装置は「光源からの光ビームをカップリングレンズで以後の光学系にカップリングし、カップリングレンズよりも下流側に配置されたアパーチャによりビーム整形し、光偏向器により偏向させ、走査結像光学系により被走査面上に所望スポット径の光スポットとして集光し、被走査面の光走査を行う光走査光学系を用いる光走査装置」であって、上記請求項１〜６の任意の１に記載の光走査光学系を用いたことを特徴とする（請求項７）。
【００１８】
この請求項７記載の光走査装置は「カップリングレンズにより以後の光学系にカップリングされた光ビームが、線像結像光学系により主走査方向に長い線像として結像され、光偏向器が線像の結像位置近傍に偏向反射面を持つもの」であることができる（請求項８）。このような光走査装置は「光偏向器の偏向反射面の面倒れ」を補正する機能を持つ。
【００１９】
上記「線像結像光学系」は、温度変動による走査結像光学系の焦点距離変化をキャンセルするように設定された複数の光学素子から構成されることができ、そのような場合、アパーチャは「これら複数の光学素子の間」に配置されることができる。
【００２０】
請求項７または８記載の光走査装置は「光源が複数の発光部を有し、各発光部からの光ビームが光走査光学系により被走査面上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして形成され、複数走査線が同時に光走査されるマルチビーム走査方式の光走査装置」であることができる（請求項９）。
【００２１】
この発明の画像形成装置は、「感光性の像担持体に対して光走査装置による光走査を行って潜像を形成し、形成された潜像を可視化して画像を得る画像形成装置」であって、像担持体に対する光走査を行う光走査装置として、請求項７〜９の任意の１に記載の光走査装置を用いたことを特徴とする（請求項１０）。
【００２２】
「感光性の像担持体」としては種々のものの使用が可能である。例えば、像担持体として「銀塩フィルム」を用いることができる。この場合、光走査による書込みで潜像が形成されるが、この潜像は通常の銀塩写真プロセスによる処理で可視化することができる。このような画像形成装置は「光製版装置」や、ＣＴスキャン画像等を描画する「光描画装置」として実施できる。
【００２３】
感光性の像担持体としてはまた「光走査の際に光スポットの熱エネルギにより発色する発色媒体（ポジの印画紙）」を用いることもでき、この場合には、光走査により直接に可視画像を形成できる。
【００２４】
感光性の像担持体としてはまた「光導電性の感光体」を用いることができる。光導電性の感光体としては、酸化亜鉛紙のようにシート状のものを用いることもできるし、セレン感光体や有機光半導体等「ドラム状あるいはベルト状で繰り返し使用されるもの」を用いることもできる。
【００２５】
光導電性の感光体を像担持体として用いる場合には、感光体の均一帯電と、光走査装置による光走査により静電潜像が形成される。静電潜像は現像によりトナー画像として可視化される。トナー画像は、感光体が酸化亜鉛紙のようにシート状のものである場合は感光体上に直接的に定着され、感光体が繰り返し使用可能なものである場合には、転写紙やＯＨＰシート（オーバヘッドプロジェクタ用のプラスチックシート）等のシート状記録媒体に転写・定着される。
【００２６】
光導電性の感光体からシート状記録媒体へのトナー画像の転写は、感光体からシート状記録媒体へ直接的に転写（直接転写方式）しても良いし、感光体から一旦中間転写ベルト等の中間転写媒体に転写した後、この中間転写媒体からシート状記録媒体へ転写（中間転写方式）するようにしてもよい。
このような画像形成装置は、光プリンタや光プロッタ、デジタル複写装置、ファクシミリ装置等として実施できる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、実施の形態を説明する。
図１（ａ）は、光走査装置の実施の１形態を示している。
この光走査装置は「マルチビーム走査方式の光走査装置（請求項９）」であり、光源１は複数の発光部ｃｈ１〜ｃｈ４を有する半導体レーザアレイである。複数の発光部ｃｈ１〜ｃｈ４からの放射された４本の光ビームは発散光束であり、共通のカップリングレンズ２により以後の光学系にカップリングされる。
【００２８】
カップリングされた光ビームの形態は、以後の光学系の光学特性に応じ「弱い発散性の光束や弱い集束性の光束」であることも「平行光束」であることもできる。説明中の実施の形態では、説明の具体性のため、カップリングレンズ２は、各光ビームを平行光束に変換するものとする。
【００２９】
カップリングレンズ２を透過した光ビームは、カップリングレンズ２の下流側に配置されたアパーチャ３の開口部を通過する。アパーチャ３は、４本の光ビームに共通で、これら４本の光ビームが相互に交叉する位置（カップリング２の像側焦点面位置）近傍に配置され、各光ビームの光束周辺部を遮断して「ビーム整形」を行う。
【００３０】
アパーチャ３を通過した４本の光ビームは「線像結像光学系」であるシリンドリカルレンズ４に入射する。シリンドリカルレンズ４は、パワーのない方向を主走査方向に向け、副走査方向には正のパワーを持ち、入射してくる各光ビームを副走査方向に集束させ、「光偏向器」である回転多面鏡５の偏向反射面近傍に集光させて副走査方向に分離した「主走査方向に長い線像」として結像させる。
【００３１】
回転多面鏡５の偏向反射面により反射された光ビームは、回転多面鏡５の等速回転に伴い等角速度的に偏向しつつ、「走査結像光学系」を構成する２枚のレンズ６、７を透過し、折り曲げミラー８により光路を折り曲げられ、「被走査面」の実体をなす光導電性の感光体９上に、副走査方向に分離した４個の光スポットとして集光する。
これら光スポットは、被走査面の４走査線を同時に光走査する。
【００３２】
光ビームの１本は光走査に先立ってミラー１０に入射し、レンズ１１により受光素子１２に集光される。受光素子１２の出力に基づき、光走査の書込開始タイミングが決定される。
【００３３】
アパーチャ３は、図１（ｃ）に示すように、第１の変位調整機構３１に保持されている。変位調整機構３１は第２の変位調整機構３２に保持され、変位調整機構３２は光学系を組付けるベースＢ上に設けられている。第１の変位調整機構３１は、アパーチャ３を副走査方向ＤＳに位置調整するように構成され、第２の変位調整機構３２は変位調整機構３１とアパーチャ３とを一体として主走査方向ＤＭに位置調整するように構成されている。これら第１、第２の変位調整機構３１、３２としては「公知の１次元変位調整機構」を適宜に利用できる。
【００３４】
図１（ａ）における、光源１、カップリングレンズ２、アパーチャ３、シリンドリカルレンズ４、回転多面鏡５、走査結像光学系７、８、折り曲げミラー８は「光走査光学系」を構成している。
【００３５】
かかる光走査光学系における各光学素子や光学部品が設計通りに製造され、設計通りに組付けられれば、被走査面上における光スポットの光強度分布はメインローブを中心に、サイドローブが略対称的に発生した状態となる。しかしながら実際には加工誤差や組付け誤差が存在し、ある幅の中で誤差のばらつきを持って光走査装置が組立てられることになる。
【００３６】
このような誤差の存在下においては、各光学素子を光ビームが通過する際に波面収差の劣化が起きる。光スポットの小径化を達成するために、昨今は走査結像光学系のレンズ面に特殊な自由曲面を採用する場合が多く、それにより組付け公差等で波面収差が発生しやすい状況にある。
【００３７】
波面収差が劣化すると、光スポットの光強度分布は、図１（ｄ）に示すように、メインローブＭＲの「片側」にサイドローブＳＲが大きく発生することになり易い。図１（ｄ）における「鎖線ＬＳのレベル」が、感光体９における「感光の閾値」であるとすると、図１（ｄ）のような光強度分布を持つ光スポットではメインローブＭＲによる露光とともに、サイドローブＳＲによる露光も生じ「スポット径の増大」が生じてしまう。
【００３８】
図１（ｄ）に示すようなサイドローブＳＲは、サイドローブを形成する光（アパーチャ３による回折光）が偏って集中している状態であり、図１（ｃ）に示す第１、第２の変位調整機構３１、３２によりアパーチャ３を副走査方向ＤＳ、主走査方向ＤＭに変位調整し、光源１側からの光ビームに対する「アパーチャ３の開口部の位置」を調整することにより、図１（ｅ）に示すように、サイドローブＳＲがメインローブＭＲの両側にメインローブＭＲに対して略対称的に発生するようにする。
【００３９】
具体的には「被走査面に相当する位置における光スポットの光強度分布」をモニタし、サイドローブの対称性を良くするように、第１、第２の変位調整機構３１、３２によってアパーチャ３をずらす。
【００４０】
サイドローブＳＲを図１（ｅ）に示すように対称化すると、サイドローブＳＲの極大の大きさがメインローブＭＲの回りに平均化されるため、サイドローブの極大が感光の閾値ＬＳよりも低くなり、「サイドローブに起因するスポット径の増大」は有効に防止される。
【００４１】
この場合、サイドローブＳＲは、メインローブＭＲに関して主走査方向および副走査方向に対称化されるのが理想であるが、スポット径の増大が特に問題となるのは副走査方向であるので、サイドローブの対称化は副走査方向を優先させるのが良く、主走査方向におけるアパーチャの調整は省略することもできる。
【００４２】
なお「波面収差とサイドローブの関係」は、瞳上の波面収差の「４隅の状態」がサイドローブの大きさに影響することがわかっており、この点を鑑みると、サイドローブの大きさを抑えるのに「波面収差の４隅をカット」することが効果的である。このため、アパーチャ３における開口形状は、矩形形状ではなく「矩形形状の４隅をまるめた形状」が好ましい。
【００４３】
「４隅をまるめた開口形状」としては、図１（ｂ）における（ｂ−１）に示すような「略楕円形状」、（ｂ−２）に示すような「長円形状」、（ｂ−３）に示すような「８角形形状」等が好適である。上に説明した実施の形態でのアパーチャ３では、（ｂ−２）に示す「長円状の開口形状」が採用されている。
【００４４】
光スポットのスポット径は「最大強度（メインローブの最大値）の１／ｅ^２スレッシュ」で評価されるため、実際にはこのスレッシュよりも低くなるようにサイドローブのバランスを取る。サイドローブの影響が画像に顕著に影響するのは、スポット径が４５μｍ以下のような「小径の光スポット」であることが、この発明のための研究過程で明らかになってきた。
【００４５】
光スポットのスポット径が４５μｍ以上であれば「十分な深度余裕」が可能であり、公差により発生するサイドローブの影響を吸収できる。４５μｍ以下のスポット径では深度余裕が小さい。このため、この発明の適応は被走査面上の光スポット径が４５μｍ以下である場合に極めて有効である。上に説明した実施の形態においても、各光スポットのスポット径は主・副走査方向とも４５μｍ以下に設定されている。
【００４６】
また、アパーチャを、その開口の中央部を通る軸の回りに傾けるようにし「開口の長手方向が主走査方向に対して成す角」を調整することにより、メインローブを細く調整することが可能となり、光スポットの小径化に効果的である。
【００４７】
近年、走査光学系の温度変動による焦点距離変化を吸収するように光偏向器前の光学系を設計する温度補償光学系が提案されてきている。このような光学系を用いた場合には、温度補償光学系の内部にアパーチャを設定することが可能である。このように設定し温度補償光学系とアパーチャを一体型にすると、特に温度補償光学系を光走査装置に組み込んだ後に複雑な調整を必要としないため有利である。更に、このように設定するとアパーチャによる裏面反射を防止でき、光源への戻り光を防止することができる。
【００４８】
図１に実施の形態の形態を示した光走査光学系は、光源１からの光ビームをカップリングレンズ２で以後の光学系にカップリングし、カップリングレンズ２よりも下流側に配置されたアパーチャ３によりビーム整形を行い、光偏向器５により偏向させ、走査結像光学系６、７により被走査面９上に所望スポット径の光スポットとして集光し、被走査面９の光走査を行う光学系であって、アパーチャ３による回折により光スポットに生じる光強度分布のサイドローブＳＲが、主走査方向および／または副走査方向においてメインローブＭＲに対して略対称的に発生するようにアパーチャ３の位置を設定した光走査光学系（請求項１）であり、被走査面上における光スポットの、少なくとも副走査方向におけるサイドローブがメインローブに対して略対称的に発生するようにアパーチャの位置が設定され（請求項２）、アパーチャ３の位置を主走査方向および／または副走査方向に位置調整する調整機構３１、３２を有し（請求項３）、調整機構がアパーチュア３の位置を少なくとも副走査方向に調整する（請求項４）。
【００４９】
アパーチャ３の開口形状は矩形形状の４隅をまるめた形状で（請求項５）、アパーチャの開口形状は「被走査面上の光スポット径を光強度分布の１／ｅ^２スレッシュで評価したときに４５μｍ以下となる」ように設定される（請求項６）。
【００５０】
また、図１に実施の形態を示した光走査装置は、光源１からの光ビームをカップリングレンズ２で以後の光学系にカップリングし、カップリングレンズ２よりも下流側に配置されたアパーチャ３によりビーム整形し、光偏向器５により偏向させ、走査結像光学系６、７により被走査面９上に所望スポット径の光スポットとして集光し、被走査面９の光走査を行う光走査光学系を用いる光走査装置において、上記実施の形態の光走査光学系を用いたもの（請求項７）であり、カップリングレンズ２により以後の光学系にカップリングされた光ビームが線像結像光学系４により主走査方向に長い線像として結像され、光偏向器５が線像の結像位置近傍に偏向反射面を持つ（請求項８）。
【００５１】
また、光源１が複数の発光部ｃｈ１〜ｃｈ４を有し、各発光部からの光ビームが光走査光学系により被走査面９上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして形成され、被走査面９の複数走査線が同時に光走査されるマルチビーム走査方式のもの（請求項９）である。
【００５２】
図２に、画像形成装置の実施の１形態を示す。この画像形成装置はレーザプリンタである。
【００５３】
レーザプリンタ１０００は感光性の像担持体１１１０として「円筒状に形成された光導電性の感光体」を有している。像担持体１１１０の周囲には、帯電手段としての帯電ローラ１１２１、現像装置１１３１、転写ローラ１１４１、クリーニング装置１１５１が配備されている。帯電手段としては「コロナチャージャ」を用いることもできる。更に、レーザ光ビームＬＢにより光走査を行う光走査装置１１７１が設けられ、帯電ローラ１１２１と現像装置１１３１との間で「光書込による露光」を行うようになっている。
【００５４】
図２において、符号１１６１は定着装置、符号１１８１はカセット、符号１１９１はレジストローラ対、符号１２０１は給紙コロ、符号１２１１は搬送路、符号１２２１は排紙ローラ対、符号１２３１はトレイ、符号Ｐはシート状記録媒体としての転写紙を示している。
【００５５】
画像形成を行うときは、光導電性の感光体である像担持体１１１０が時計回りに等速回転され、その表面が帯電ローラ１１２１により均一帯電され、光走査装置１１７１のレーザ光ビームＬＢの光書込による露光を受けて静電潜像が形成される。形成された静電潜像は所謂「ネガ潜像」であって画像部が露光されている。この静電潜像は現像装置１１３１により反転現像され、像担持体１１１０上にトナー画像が形成される。
【００５６】
転写紙Ｐを収納したカセット１１８１は、画像形成装置１０００本体に脱着可能であり、図のごとく本体に装着された状態において、収納された転写紙Ｐの最上位の１枚が給紙コロ１２０１により給紙され、給紙された転写紙Ｐは、その先端部をレジストローラ対１１９１に銜えられる。レジストローラ対１１９１は、像担持体１１１０上のトナー画像が転写位置へ移動するのにタイミングを合わせて、転写紙Ｐを転写部へ送り込む。送り込まれた転写紙Ｐは、転写部においてトナー画像と重ね合わせられ転写ローラ１１４１の作用によりトナー画像を静電転写される。トナー画像を転写された転写紙Ｐは定着装置１１６１へ送られ、定着装置１１６１においてトナー画像を定着され、搬送路１２１１を通り、排紙ローラ対１２２１によりトレイ１２３１上に排出される。
【００５７】
トナー画像が転写された後の像担持体１１１０の表面は、クリーニング装置１１５１によりクリーニングされ、残留トナーや紙粉等が除去される。
【００５８】
光走査装置１１７１として「図１（ａ）に示すごとき光走査装置」を用いることにより、極めて良好な画像形成を実行することができる。
【００５９】
即ち、図２に実施の形態を示す画像形成装置は、感光性の像担持体１１１０に対して光走査装置１１７１による光走査を行って潜像を形成し、形成された潜像を可視化して画像を得る画像形成装置において、像担持体に対する光走査を行う光走査装置１１７１として、請求項８、９に記載の光走査装置を用いたもの（請求項１０）である。
【００６０】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば、光走査光学系および光走査装置および画像形成装置を実現できる。この発明の光走査光学系、光走査装置は、ビーム整形を行うアパーチャによる回折で光スポットに生じる「光強度分布のサイドローブ」が、主走査方向および／または副走査方向においてメインローブに対して略対称的に発生するようにアパーチャの位置を設定するので、サイドローブの光強度が極端に強くなる部分がなく、サイドローブに起因するスポット径の増大を有効に軽減することができる。従って、この発明の光走査装置を用いる画像形成装置はスポット径の増大のない良好な光スポットにより高密度の画像形成を良好に実施できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の光走査光学系及び光走査装置の実施の形態を説明するための図である。
【図２】画像形成装置の実施の１形態を説明するための図である。
【符号の説明】
１　　　光源
２　　　カップリングレンズ
３　　　アパーチャ
４　　　シリンドリカルレンズ
５　　　回転多面鏡
走査結像光学系
９　　　光導電性の感光体

Claims

光源からの光ビームをカップリングレンズで以後の光学系にカップリングし、上記カップリングレンズよりも下流側に配置されたアパーチャによりビーム整形し、光偏向器により偏向させ、走査結像光学系により被走査面上に所望スポット径の光スポットとして集光し、上記被走査面の光走査を行う光学系であって、
アパーチャによる回折により光スポットに生じる光強度分布のサイドローブが、主走査方向および／または副走査方向において、メインローブに対して略対称的に発生するように上記アパーチャの位置を設定したことを特徴とする光走査光学系。
請求項１記載の光走査光学系において、
被走査面上における光スポットの、少なくとも副走査方向におけるサイドローブがメインローブに対して略対称的に発生するようにアパーチャの位置を設定したことを特徴とする光走査光学系。
請求項１または２記載の光走査光学系において、
アパーチャの位置を主走査方向および／または副走査方向に位置調整する調整機構を有することを特徴とする光走査光学系。
請求項３記載の光走査光学系において、
調整機構が、アパーチュアの位置を少なくとも副走査方向に調整することを特徴とする光走査光学系。
請求項１〜４の任意の１に記載の光走査光学系において、
アパーチャの開口形状が、矩形形状の４隅をまるめた形状であることを特徴とする光走査光学系。
請求項５記載の光走査光学系において、
アパーチャの開口形状が、被走査面上の光スポット径を光強度分布の１／ｅ^２スレッシュで評価したときに４５μｍ以下となるように設定されたことを特徴とする光走査光学系。
光源からの光ビームをカップリングレンズで以後の光学系にカップリングし、上記カップリングレンズよりも下流側に配置されたアパーチャによりビーム整形し、光偏向器により偏向させ、走査結像光学系により被走査面上に所望スポット径の光スポットとして集光し、上記被走査面の光走査を行う光走査光学系を用いる光走査装置において、
請求項１〜６の任意の１に記載の光走査光学系を用いたことを特徴とする光走査装置。
請求項７記載の光走査装置において、
カップリングレンズにより以後の光学系にカップリングされた光ビームが線像結像光学系により主走査方向に長い線像として結像され、光偏向器が上記線像の結像位置近傍に偏向反射面を持つことを特徴とする光走査装置。
請求項７または８記載の光走査装置において、
光源が複数の発光部を有し、各発光部からの光ビームが光走査光学系により被走査面上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして形成され、被走査面の複数走査線を同時に光走査することを特徴とするマルチビーム走査方式の光走査装置。
感光性の像担持体に対して光走査装置による光走査を行って潜像を形成し、上記潜像を可視化して画像を得る画像形成装置において、
像担持体に対する光走査を行う光走査装置として、請求項７〜９の任意の１に記載の光走査装置を用いたことを特徴とする画像形成装置。