JP2004077624A

JP2004077624A - 光導波路の位置合わせ方法および光素子

Info

Publication number: JP2004077624A
Application number: JP2002235313A
Authority: JP
Inventors: Mototoshi Nishizawa; 西沢　元亨; Masayuki Kato; 加藤　雅之; Masatoshi Ishii; 石井　雅俊; Takeshi Aoki; 青木　剛
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 2002-08-13
Filing date: 2002-08-13
Publication date: 2004-03-11

Abstract

【課題】光導波路同士を位置合わせして精度良く光学的に接続する。
【解決手段】第２の導波路部２０に形成されている凹部２６に、第１の導波路部１０を配置する。このとき、第１，第２の導波路部に形成されている第１，第２の反射膜領域１４，２４に光を照射して反射光を検出し、第１，第２の導波路部１０，２０の相互の位置を認識してコア１３，２３同士の位置を合わせる。そして、紫外線硬化型接着剤３１を硬化させ、第２の導波路部２０に第１の導波路部１０を固定する。光を利用して相互の導波路の位置を認識しながら調整し、位置合わせした状態で固定するため、その位置ずれが低減される。
【選択図】　　　　図４

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光導波路の位置合わせ方法および光素子に関し、特に光偏向器などにあって光導波路同士がその位置を合わせて光学的に接続されている光素子を形成するための光導波路の位置合わせ方法および光素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光通信の伝送帯域は、増加の一途をたどっている。また、近年では、波長の異なる複数の光信号を多重化し、１本の光ファイバによる大容量伝送を可能とするための波長多重化（ＷＤＭ：Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ　Ｍｕｌｔｉｐｌｅｘ）技術が進展してきている。このような中で、基幹通信ネットワークにおける光ファイバ網のハードウェアのインフラを構築するためには、光の偏向方向を変化させて光信号の伝達先を切り替える光偏向器が必要になる。
【０００３】
従来の光偏向器には、主に機械式のマイクロミラーが用いられるが、より高集積、高速、低損失を実現するため、強誘電体の電気光学効果による屈折率変化を利用した光偏向素子が開発されている。例えば、Ｔｉ拡散型導波路やプロトン交換型導波路を形成したＬｉＮｂＯ_３単結晶ウエハを用いたプリズム型ドメイン反転光偏向素子、プリズム型電極光偏向素子などが知られている（Ｑ．Ｃｈｅｎ　ｅｔ　ａｌ．，Ｊ．　Ｌｉｇｈｔｗａｖｅ　Ｔｅｃｈ．，　ｖｏｌ．１２　（１９９４）　１４０１）。
【０００４】
これに対し、特開平９−５７９７号公報では、ＮｂドープＳｒＴｉＯ_３導電性単結晶基板の（１００）面上に、エピタキシャルＰＬＺＴ（１２／４０／６０）からなる厚さ６００ｎｍの薄膜光導波路を形成した光偏向素子が提案されている。この光偏向素子は、印加電圧を−１２Ｖから１２Ｖに掃引した場合に、偏向角度１０．８度を得ることを可能としている。これは、光導波路を構成するＰＬＺＴが高い電気光学定数を有していることに起因している。
【０００５】
ところで、このような光偏向素子を利用した光偏向器を用いて光クロスコネクト装置を実用化しようとした場合、入射した光を各光導波路に切り替えて伝播する多数のチャネルをひとつの基板に形成して光偏向器を構成する方が都合が良い。
【０００６】
しかし、例えば６４チャネル以上の光偏向器では、チャネル間のピッチを例えば０．７ｍｍとすれば、光偏向器は最低でも４４．８ｍｍの幅になる。現状では、この程度のサイズに見合う大型のＳｒＴｉＯ_３単結晶基板を形成することは技術的に不可能である。
【０００７】
そのため、現在は、石英またはポリマー製の基板上に光導波路を形成したチャネル導波路部を形成してその一部に凹部を設け、この凹部に、ＳｒＴｉＯ_３単結晶基板上に光導波路を形成した光偏向用導波路部を複数実装するようにする。その際、チャネル導波路部と光偏向用導波路部の光導波路の位置、すなわち光導波路内で光の伝播経路となるコアの位置を合わせるように固定する。これにより、チャネル導波路部の光導波路を通る光を光偏向用導波路部の光導波路の一端側へと導き、光偏向用導波路部で偏向方向を変化させ、その他端側から再びチャネル導波路部の光導波路へと出力することができるようになる。このような構成とすることで、光偏向器の多チャネル化に対応することができるようになる。
【０００８】
このような構成の光偏向器を形成する場合、従来は、光偏向用導波路部を、Ｃｕ／Ｓｎの２層構造の半田バンプを用いてチャネル導波路部の凹部に固定していた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、チャネル導波路部の凹部に半田バンプを介して光偏向用導波路部を固定する場合、チャネル導波路部の光導波路のコアと固定後の光偏向用導波路部の光導波路のコアとの間に位置ずれが生じる場合があるといった問題点があった。
【００１０】
例えば、２００μｍφの電極パッド上に、２層構造のＣｕ／Ｓｎバンプ（Ｓｎ：膜厚６．０μｍ，Ｃｕ：膜厚９．０μｍ）を形成し、光偏向用導波路部を固定する場合を想定する。この場合、Ｓｎ，Ｃｕの公差がそれぞれ±０．５μｍ，±０．６μｍであるため、固定後の光偏向用導波路部の位置には最大で１．１μｍの位置ずれが生じる可能性がある。チャネル導波路部と光偏向用導波路部のコアが垂直方向に１．１μｍずれた場合、光偏向用導波路部の導波損失は約０．９ｄＢ程度になる。この０．９ｄＢという導波損失は、光クロスコネクト装置において光信号のスイッチ処理を行う光偏向器としては、未だ充分低い値とは言い難い。
【００１１】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、光導波路同士がその位置を精度良く合わせて光学的に接続された光素子を形成するための光導波路の位置合わせ方法および光素子を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記課題を解決するために、図１に示すフローによって実現可能な光導波路の位置合わせ方法が提供される。本発明の光導波路の位置合わせ方法は、光信号を伝播するための光導波路を有する第１の導波路部を、第２の導波路部の光導波路の位置に合わせて固定するための光導波路の位置合わせ方法において、第１の反射膜領域を有する第１の導波路部を形成し、第２の反射膜領域を有する第２の導波路部を形成し、前記第１の反射膜領域と前記第２の反射膜領域とに光を照射して反射光を検出することにより前記第１の導波路部の位置と前記第２の導波路部の位置とを共に認識し、前記第２の導波路部の光導波路の位置に前記第１の導波路部の光導波路の位置を合わせることを特徴とする。
このような光導波路の位置合わせ方法によれば、第１，第２の導波路部を光学的に接続する場合に、まず、第１，第２の反射膜領域をそれぞれ形成した第１，第２の導波路部を形成する（ステップＳ１，Ｓ２）。そして、第１，第２の反射膜領域に光を照射して反射光を検出し、第２の導波路部の光導波路の位置に、第１の導波路部の光導波路の位置を合わせる（ステップＳ５）。このように、光を利用して第１，第２の導波路部の位置をそれぞれ認識しながら調整し、光導波路の位置合わせを行うので、第１の導波路部の光導波路と第２の導波路部の光導波路との間の位置ずれが低減されるようになる。
【００１３】
また、本発明では、光信号を伝播するための光導波路を有し、前記光導波路の位置を合わせて配置された第１の導波路部と第２の導波路部とを有する光素子であって、前記第１の導波路部と前記第２の導波路部とに、光学的な反射面である反射膜領域が形成されていることを特徴とする光素子が提供される。
【００１４】
このような光素子によれば、第１，第２の導波路部の光導波路に反射膜領域が形成されているので、その反射膜領域に光を照射することで第１，第２の導波路部の位置を認識できる。したがって、第１，第２の導波路部の光導波路同士を位置ずれなく光学的に接続することができるようになる。これにより、導波損失が低く抑えられた光素子が実現される。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、光偏向器の製造に適用した場合を例に、図面を参照して説明する。
【００１６】
図１は光偏向器の製造フローを示す図である。
光偏向器の製造においては、まず、光学的な反射面として認識可能な微小な第１の反射膜領域を有する光偏向用導波路部を、第１の導波路部として形成する（ステップＳ１）。
【００１７】
この第１の導波路部としての光偏向用導波路部は、屈折率の大きいコア層を、その屈折率よりも小さいクラッド層によって挟んだ積層構造の光導波路を有している。光は光導波路のコア層内を反射しながら伝播していくようになっている。
【００１８】
この光偏向用導波路部が有する第１の反射膜領域は、コア層とクラッド層との界面に、またはコア層内部であってコア層界面と略平行に、形成される。この第１の反射膜領域は、例えばＰｔなどを用いて形成され、光学的な反射面として機能する。
【００１９】
また一方で、微小な第２の反射膜領域を有するチャネル導波路部を、第２の導波路部として形成する（ステップＳ２）。
この第２の導波路部としてのチャネル導波路部は、上記光偏向用導波路部と同様、コア層がクラッド層で挟まれた積層構造の光導波路を有し、コア層が光の伝播経路となる。
【００２０】
チャネル導波路部は、その一部に、上記の光偏向用導波路部を実装できるように、光導波路が形成されていない凹部が形成されている。そして、この凹部に光偏向用導波路部が実装されたときに、チャネル導波路部のコア層と光偏向用導波路部のコア層とが光学的に接続され、光偏向器としての光の伝播経路が形成されるようになっている。
【００２１】
このようなチャネル導波路部である第２の導波路部の凹部に、あらかじめ紫外線硬化型接着剤を塗布し（ステップＳ３）、この凹部に、光偏向用導波路部である第１の導波路部を配置する（ステップＳ４）。
【００２２】
そして、第１，第２の反射膜領域にそれぞれ、例えばレーザ光など、測定用の光を照射し、各反射膜領域からの反射光を検出しながら第１の導波路部の位置を認識し、第１，第２の導波路部の光導波路の位置合わせを行う（ステップＳ５）。
【００２３】
最後に、第１の導波路部を位置合わせした状態で、紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化し、第２の導波路部に第１の導波路部を固定する（ステップＳ６）。
【００２４】
このような光偏向器の製造方法によれば、第１，第２の導波路部にそれぞれに形成した第１，第２の反射膜領域からの反射光を検出することにより、コア層の位置合わせを精度良く行うことができる。これにより、第１の導波路部と第２の導波路部との光導波路同士の接続の際に生じる導波損失を低減することができ、光偏向器の性能向上を図ることができるようになる。
【００２５】
以下、光偏向用導波路部の光導波路とチャネル導波路部の光導波路とを光学的に接続した光偏向器の製造について、具体的に説明する。
まず、光偏向器の光偏向用導波路部について述べる。
【００２６】
図２は光偏向用導波路部の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
光偏向用導波路部１０は、その基板に、厚さ約０．５ｍｍで透明のＮｂ１％ドープＳｒＴｉＯ_３単結晶基板（以下「ＳＴＯ基板」という。）１１を用いる。
【００２７】
このＳＴＯ基板１１上に、下部クラッド層１２として、（Ｐｂ_０．９１Ｌａ_０．０９）（Ｚｒ_０．６５Ｔｉ_０．３５）Ｏ_３（以下「ＰＬＺＴ」という。）が、膜厚１．５μｍで形成されている。この下部クラッド層１２は、波長６３３ｎｍでの屈折率が２．４２５である。
【００２８】
下部クラッド層１２上には、コア層１３として、Ｐｂ（Ｚｒ_０．５２Ｔｉ_０．４８）Ｏ_３（以下「ＰＺＴ」という。）が、膜厚２μｍで形成されている。このコア層１３は、波長６３３ｎｍでの屈折率が２．５２６である。
【００２９】
コア層１３の入射側および出射側のそれぞれの両側縁部、すなわちコア層１３の四隅には、第１の反射膜領域として、Ｐｔからなる微小な反射膜領域１４が形成されている。この反射膜領域１４は、測定用の光としてレーザ光が照射された場合に、そのレーザ光を反射する反射膜としての役割を果たす。
【００３０】
コア層１３上には、反射膜領域１４上を除き、上部クラッド層１５としてＰＬＺＴが、膜厚１．５μｍで形成されており、その屈折率は、波長６３３ｎｍで２．４２５である。
【００３１】
このように形成された下部クラッド層１２のＰＬＺＴ層、コア層１３のＰＺＴ層および上部クラッド層１５のＰＬＺＴ層の積層構造により、光偏向用導波路部１０の光導波路が構成されている。
【００３２】
このような構成の光偏向用導波路部１０の形成は、まず、ＳＴＯ基板１１上にゾルゲル法を用いてＰＬＺＴ層を形成する。その際、スピンコートには、市販のＰＬＺＴ塗布溶液（厚塗り用０．７ｍｏｌ／ｌ）を用いる。そして、ＰＬＺＴ溶液を滴下した後、５００ｒｐｍで５秒間、３０００ｒｐｍで２０秒間のスピンコートを行い、ホットプレート上温度１４０℃で５分間加熱して溶媒を蒸発させた後、温度３２０℃で５分間の熱分解を行う。さらに、赤外線集中加熱装置を用いて、温度６５０℃で１０分間の結晶化アニールを行う。以上のスピンコートから結晶化アニールまでの工程を繰り返し、所定の膜厚となるようＰＬＺＴ層を形成し、ＳＴＯ基板１１上に下部クラッド層１２を形成する。
【００３３】
次いで、下部クラッド層１２上に、ＰＺＴ層を形成する。このＰＺＴ層の形成は、スピンコートに市販のＰＺＴ塗布溶液（厚塗り用０．７ｍｏｌ／ｌ）を用いるほかは、下部クラッド層１２となるＰＬＺＴ層の形成方法と同じである。そして、所定の膜厚でＰＺＴ層を形成し、下部クラッド層１２上にコア層１３を形成する。その後、形成したコア層１３の四隅に、反射膜領域１４を形成する。
【００３４】
反射膜領域１４は、コア層１３の四隅にＰｔをスパッタ法により堆積して形成する。このＰｔスパッタは、圧力０．１Ｐａ、基板温度５５０℃の条件下でアルゴン（３０ｓｃｃｍ）をスパッタし、コア層１３の所定の領域に膜厚０．２μｍのＰｔ層を堆積する。
【００３５】
次いで、反射膜領域１４を有するコア層１３上に、ＰＬＺＴ層を形成する。このＰＬＺＴ層の形成方法は、下部クラッド層１２となるＰＬＺＴ層の形成方法と同じである。所定の膜厚でＰＬＺＴ層を形成し、コア層１３上に上部クラッド層１５を形成する。
【００３６】
そして、コア層１３上に形成した反射膜領域１４に対応する領域に形成されている上部クラッド層１５は、レジストプロセスによりパターニングし、フッ硝酸によりエッチングして除去する。これにより、コア層１３表面に形成されている反射膜領域１４を露出させる。
【００３７】
このように形成された下部クラッド層１２のＰＬＺＴ層、コア層１３のＰＺＴ層および上部クラッド層１５のＰＬＺＴ層は、ＳＴＯ基板１１上のエピタキシャル成長膜として形成されている。また、各層は、結晶化アニールを経て結晶化され、透明膜として形成される。
【００３８】
次に、光偏向器のチャネル導波路部について述べる。
図３はチャネル導波路部の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【００３９】
断面凹状のチャネル導波路部２０は、その基板に、石英基板２１を用い、石英基板２１は、チャネル導波路部２０における下部クラッド層２２を兼ねた構成になっている。この石英基板２１は透明で、また、一部を表面から掘り下げられた凹部２６が形成されている。
【００４０】
この凹部２６を除く石英基板２１上に、コア層２３として、Ｇｅドープ石英層が、膜厚３μｍで形成されている。コア層２３の屈折率は１．４６４である。このコア層２３には、後述するように、第２の反射膜領域として、Ｐｔからなる反射膜領域２４が形成されている。
【００４１】
反射膜領域２４が形成されたコア層２３上には、上部クラッド層２５として、石英層が膜厚１０μｍで形成されている。この上部クラッド層２５の屈折率は１．４５８である。
【００４２】
チャネル導波路部２０は、凹部２６の位置に、上記光偏向用導波路部１０が実装されるようになっている。コア層２３に形成される反射膜領域２４は、凹部２６に実装される光偏向用導波路部１０の反射膜領域１４に隣接して、または反射膜領域１４の近傍に、対向して配置されるように形成されている。
【００４３】
このように形成された下部クラッド層２２を兼ねた石英基板２１、コア層１３および上部クラッド層１５の積層構造により、チャネル導波路部２０の光導波路が構成されている。
【００４４】
このような構成のチャネル導波路部２０の形成は、まず、石英基板２１上に、凹部２６を除いて、熱ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により、Ｇｅドープ石英層を所定の膜厚で堆積し、コア層２３を形成する。
【００４５】
次いで、コア層２３上の反射膜領域２４が形成される領域を石英の基板でマスクした後、熱ＣＶＤ法を用いて石英層を所定の膜厚で堆積し、コア層２３上に上部クラッド層２５を形成する。
【００４６】
そして、上部クラッド層２５の形成後、マスクに用いていた基板を取り除き、この領域に、Ｐｔをスパッタ法により堆積し、チャネル導波路部２０の反射膜領域２４を形成する。その際、Ｐｔスパッタは、上記光偏向用導波路部１０の反射膜領域１４の形成方法と同じである。
【００４７】
このように形成されたコア層２３のＧｅドープ石英層および上部クラッド層２５の石英層は、透明膜として形成されている。
次に、光偏向用導波路部１０のチャネル導波路部２０への固定方法について述べる。
【００４８】
図４は光偏向器の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。光偏向用導波路部１０をチャネル導波路部２０に固定して光偏向器３０を形成する際には、まず、チャネル導波路部２０の凹部２６の底に、あらかじめ紫外線硬化型接着剤３１を、厚み１０μｍ程度に塗布する。
【００４９】
そして、この凹部２６に、光偏向用導波路部１０を、ＳＴＯ基板１１の底面側が接着されるように配置する。その際、レーザ測長装置としてレーザ光マイケルソン干渉方式を採用した位置決め装置を用い、反射膜領域１４，２４に照射されて反射してくるレーザ光を検出して測長し、位置合わせを行う。
【００５０】
この位置合わせにおいては、光偏向用導波路部１０とチャネル導波路部２０との間で、対向している反射膜領域１４と反射膜領域２４について、レーザ光を用いて測長する。そして、チャネル導波路部２０に対する光偏向用導波路部１０の位置を認識し、光導波路のコア層１３，２３の位置を合わせる。
【００５１】
位置合わせは、光偏向用導波路部１０およびチャネル導波路部２０にそれぞれ４箇所形成されている反射膜領域１４，２４について行う。４箇所すべての反射膜領域１４，２４について位置合わせを行うことにより、光偏向用導波路部１０のコア層１３を、チャネル導波路部２０のコア層２３に対して傾けることなく、固定することができるようになる。
【００５２】
反射膜領域１４，２４の位置合わせが終了した時点で、紫外線硬化型接着剤３１に紫外線を照射してこれを硬化し、凹部２６内に光偏向用導波路部１０を固定する。
【００５３】
上記固定方法による光偏向器３０の形成においては、光偏向用導波路部１０とチャネル導波路部２０との接着に、硬化しても体積収縮の小さい紫外線硬化型接着剤３１を用いることで、硬化時に発生することのある位置ずれが抑制される。そして、レーザ光を利用した位置合わせを行うことで、光偏向用導波路部１０のコア層１３とチャネル導波路部２０のコア層２３との間の位置ずれを０．１μｍ以下に低減することができる。これにより、導波損失を０．４ｄＢ以下に低減することが可能になる。
【００５４】
なお、上記の図２から図４の説明では、反射膜領域１４，２４を露出させる構成としたが、露出させずに、レーザ光などを、各層または基板を通過させて位置合わせを行うようにすることも可能である。
【００５５】
また、上記の説明では、反射膜領域１４，２４をコア層１３，２３上に形成した場合について述べたが、反射膜領域は、下部クラッド層上あるいはコア層の内部に形成することも可能である。
【００５６】
例えば、反射膜領域をコア層内部に形成する場合には、下部クラッド層上および石英基板上にそれぞれコア層を形成する段階において、反射膜領域を形成する。その際、スピンコートから結晶化アニールまでを繰り返し行う際に、途中で、Ｐｔスパッタを行って反射膜領域を形成する。その後、引き続きスピンコートから結晶化アニールまでを繰り返し行ってコア層の形成を行い、その上に上部クラッド層を形成する。また、反射膜領域を下部クラッド層上に形成する場合には、下部クラッド層の形成後、反射膜領域を形成し、その上にコア層、上部クラッド層を形成すればよい。
【００５７】
このように、反射膜領域は、コア層の界面または内部に形成されていればよく、特に、コア層の半分の膜厚の位置に形成しておけば、より精度良く位置合わせを行うことができる。
【００５８】
また、上記の説明では、凹部２６内に光偏向用導波路部１０を固定する際、ＳＴＯ基板１１と石英基板２１とを接着するようにしたが、チャネル導波路部の凹部の石英基板と、光偏向用導波路部の上部クラッド層とを接着し、光偏向器を形成することも可能である。この場合の光偏向用導波路部、チャネル導波路部および形成される光偏向器の例を、図５から図７を参照して説明する。
【００５９】
図５は上部クラッド層を接着する場合の光偏向用導波路部の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側断面図である。
光偏向用導波路部１０ａは、ＳＴＯ基板１１ａ上に、下部クラッド層１２ａ、コア層１３ａおよび上部クラッド層１５ａが積層された光導波路を有している。この光偏向用導波路部１０ａでは、下部クラッド層１２ａとコア層１３ａとの界面に、反射膜領域１４ａが４箇所形成されている。
【００６０】
図６は光偏向用導波路部の上部クラッド層が接着される場合のチャネル導波路部の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側断面図である。
チャネル導波路部２０ａは、下部クラッド層２２ａを兼ねた石英基板２１ａ上に、コア層２３ａおよび上部クラッド層２５ａが積層された光導波路を有している。このチャネル導波路部２０ａでは、コア層２３ａ内部に、反射膜領域２４ａが形成されている。ここで、石英基板２１ａには、図３または図４に示したチャネル導波路部２０に比べて浅い凹部２６ａが形成されている。
【００６１】
図７はチャネル導波路部の石英基板と光偏向用導波路部の上部クラッド層とを接着した場合の光偏向器の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側断面図である。
【００６２】
光偏向用導波路部１０ａをチャネル導波路部２０ａに固定した光偏向器３０ａの形成は、凹部２６ａに、あらかじめ紫外線硬化型接着剤３１ａを塗布し、この凹部２６ａに、光偏向用導波路部１０ａの上部クラッド層１５ａを接着する。その際、反射膜領域１４ａ，２４ａにレーザ光を照射してその反射光を検出し、コア層１３ａ，２３ａの位置合わせを行う。そして、位置合わせが終了した時点で、紫外線硬化型接着剤３１ａを硬化し、チャネル導波路部２０ａに光偏向用導波路部１０ａを固定する。
【００６３】
このような固定方法によれば、光偏向用導波路部１０ａを固定するチャネル導波路部２０ａの石英基板２１ａを深く掘り下げなくて済むようになる。さらに、コア層１３ａ，２３ａの位置合わせの際には、ＳＴＯ基板１１ａおよび石英基板２１ａの厚みにばらつきがあっても、そのばらつきの影響を回避することができる。
【００６４】
以上説明したように、断面凹状のチャネル導波路部に光偏向用導波路部を固定する場合に、コア層表面またはその内部に、光を反射する反射膜領域を形成する。これにより、実装する際には、光を反射膜領域に照射して反射光を検出することにより、光偏向用導波路部の位置合わせを精度良く行うことができる。したがって、導波損失が低減され、光偏向器の性能を向上させることができるようになる。
【００６５】
なお、以上の説明における反射膜領域の数は、これに限定されるものではなく、光偏向用導波路部の光導波路およびチャネル導波路部の光導波路に、それぞれ２箇所以上形成されていれば、位置合わせを行うことは可能である。
【００６６】
また、反射膜領域は、コア層表面またはその内部に形成するようにしたが、コア層およびクラッド層の形成をサブミクロンオーダで制御可能であるため、コア層表面またはその内部以外の位置、すなわちコア層以外の領域にも形成可能である。
【００６７】
さらに、第１，第２の導波路部のうち、一方の導波路部の他方の導波路部に対する相対位置を認識することによって光導波路の接続が可能である場合には、いずれかの導波路部にのみ反射膜領域を形成してその位置を認識し、固定するようにしてもよい。
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように本発明では、第１，第２の導波路部に形成した反射膜領域に光を照射して反射光を検出し、第１，第２の導波路部の位置を認識し、第２の導波路部の光導波路の位置に第１の導波路部の光導波路の位置を合わせる。これにより、第１，第２の導波路部の光導波路同士の位置ずれが低減され、導波損失を低減することができ、光素子の性能向上を図ることができる。
【００６９】
また、第１，第２の導波路部の光導波路に反射膜領域を形成することにより、光導波路同士を位置ずれなく光学的に接続することができるので、導波損失が低く抑えられた光素子が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】光偏向器の製造フローを示す図である。
【図２】光偏向用導波路部の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【図３】チャネル導波路部の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【図４】光偏向器の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【図５】上部クラッド層を接着する場合の光偏向用導波路部の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側断面図である。
【図６】光偏向用導波路部の上部クラッド層が接着される場合のチャネル導波路部の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側断面図である。
【図７】チャネル導波路部の石英基板と光偏向用導波路部の上部クラッド層とを接着した場合の光偏向器の構成例であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は側断面図である。
【符号の説明】
１０，１０ａ　光偏向用導波路部
１１，１１ａ　ＳＴＯ基板
１２，１２ａ，２２，２２ａ　下部クラッド層
１３，１３ａ，２３，２３ａ　コア層
１４，１４ａ，２４，２４ａ　反射膜領域
１５，１５ａ，２５，２５ａ　上部クラッド層
２０，２０ａ　チャネル導波路部
２１，２１ａ　石英基板
２６，２６ａ　凹部
３０，３０ａ　光偏向器
３１，３１ａ　紫外線硬化型接着剤

Claims

光信号を伝播するための光導波路を有する第１の導波路部を、第２の導波路部の光導波路の位置に合わせて固定するための光導波路の位置合わせ方法において、
第１の反射膜領域を有する第１の導波路部を形成し、
第２の反射膜領域を有する第２の導波路部を形成し、
前記第１の反射膜領域と前記第２の反射膜領域とに光を照射して反射光を検出することにより前記第１の導波路部の位置と前記第２の導波路部の位置とを共に認識し、前記第２の導波路部の光導波路の位置に前記第１の導波路部の光導波路の位置を合わせることを特徴とする光導波路の位置合わせ方法。
前記第２の導波路部の光導波路の位置に前記第１の導波路部の光導波路の位置を合わせた後、紫外線硬化型接着剤を用いて、前記第１の導波路部を前記第２の導波路部に固定することを特徴とする請求項１記載の光導波路の位置合わせ方法。
前記第２の導波路部の光導波路の位置に前記第１の導波路部の光導波路の位置を合わせる際には、前記第１の導波路部の光の入射側の両側縁部と前記第１の導波路部の光の出射側の両側縁部との４箇所で位置を合わせることを特徴とする請求項１記載の光導波路の位置合わせ方法。
光信号を伝播するための光導波路を有し、前記光導波路の位置を合わせて配置された第１の導波路部と第２の導波路部とを有する光素子であって、
前記第１の導波路部と前記第２の導波路部とに、光学的な反射面である反射膜領域が形成されていることを特徴とする光素子。
前記反射膜領域は、前記第１の導波路部と前記第２の導波路部との前記光導波路内にあって光信号の伝播経路となるコア層の表面に、または前記コア層の内部で前記コア層の表面と略平行に、形成されていることを特徴とする請求項４記載の光素子。
前記反射膜領域は、ひとつの前記光導波路に、２箇所以上形成されていることを特徴とする請求項４記載の光素子。
前記反射膜領域は、前記第１の導波路部の光の入射側の両側縁部と前記第１の導波路部の光の出射側の両側縁部との４箇所、およびこれらにそれぞれ対向する前記第２の導波路部の部分の４箇所に、それぞれ形成されていることを特徴とする請求項４記載の光素子。
前記反射膜領域は、白金を用いて形成されていることを特徴とする請求項４記載の光素子。
前記第２の導波路部は、前記第１の導波路部が配置される部分に、紫外線硬化型接着剤が塗布されていることを特徴とする請求項４記載の光素子。
前記反射膜領域は、前記第１の導波路部および前記第２の導波路部の前記光導波路内にあって光信号の伝播経路となるコア層の半分の膜厚の位置に形成されていることを特徴とする請求項４記載の光素子。