JP2004056141A - 半導体装置の樹脂封止方法 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 52
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 36
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 abstract description 30
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 abstract 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 3
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 2
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 208000019651 NDE1-related microhydranencephaly Diseases 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O thiamine pyrophosphate Chemical compound CC1=C(CCOP(O)(=O)OP(O)(O)=O)SC=[N+]1CC1=CN=C(C)N=C1N AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
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Abstract
一括封止型半導体装置の実用的な樹脂封止方法を提供する。
【解決手段】
金型の片方に一括封止型半導体の基板を、他の一方に半固形状のエポキシ樹脂組成物を配置し、圧縮成形法にて加熱硬化させる。樹脂組成物は予め剥離紙に塗布した積層材料の形で又は予め金型の一方に充填して使用することが好ましい。樹脂組成物はシリカを93重量%以上含み、融点又は軟化点80℃以下の樹脂類(エポキシ樹脂、硬化剤)、硬化促進剤及びその他の添加剤等で構成される低熱膨張性のものが好ましい。又、その主成分として、粒径75μm以下の球状シリカ、液状又は半固形状のエポキシ樹脂、液状または固形酸無水物硬化剤、またはフェノール樹脂硬化剤であることが好ましい。
【選択図】 図2
Description
球状シリカ88部(SE−8N、トクヤマ)、エポキシ樹脂6部(828、油化シェルエポキシ)、酸無水物4部(Me−THPA、新日本理化)硬化促進剤0.2部(1B2MZ、四国化成)、カップリング剤0.5部(KBM−303、信越化学工業)及び顔料0.1部(MA600、三菱化学)を混合した後、加熱ニーダを用いて10分間混練した。
実施例と同じ一括封止型半導体基板を固形エポキシ樹脂組成物Bを用いて従来の移送成形法にて樹脂封止したところ、流動性不足に起因する不良(未充填や金線変形)を10%以上発生した。
樹脂組成物Aの代わりに従来の液状樹脂組成物Cを用いて実施例と同様に樹脂封止した。この場合、下型に剥離紙を敷きその上に樹脂組成物を塗布した。成形後に取り出した一括封止型半導体装置はお椀のような大きな反りが生じた。
12 基板
13 金線
15、21 樹脂組成物
16 切断面を示す破線
22 剥離紙
23 一括封止型半導体基板(半導体素子集合搭載基板)
25、26 金型
28 熱盤
29 圧縮成形機
31 切り込み
32 ブロック
33 隙間
Claims (12)
- 金型の片方に一括封止型半導体の基板を、他の一方に半固形状のエポキシ樹脂組成物を配置し圧縮成形法にて加熱硬化させることを特徴とする半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記エポキシ樹脂組成物は、予め剥離紙に塗布した積層材料の形であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記エポキシ樹脂組成物は、予め金型の一方に充填することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記エポキシ樹脂組成物は、シリカを93重量%以上含み、融点又は軟化点80℃以下の樹脂類(エポキシ樹脂、硬化剤)、硬化促進剤及びその他の添加剤等で構成されることを特徴とする請求項1から請求項3に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記エポキシ樹脂組成物は、主成分が粒径75μm以下の球状シリカ、液状または固形エポキシ樹脂、液状または固形酸無水物硬化剤またはフェノール樹脂硬化剤であることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記エポキシ樹脂組成物は、中央が凸状の形状であることを特徴とする請求項1から請求項5に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記エポキシ樹脂組成物は、切り込みが設けられていることを特徴とする請求項1から請求項5に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記切り込みは、格子状に設けられていることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記切り込みは、ほぼV字型の形状をしていることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記エポキシ樹脂組成物は、少なくとも2つ以上の独立したブロックの集合体から構成されていることを特徴とする請求項1から請求項5に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記ブロックは、平面上に配置されていることを特徴とする請求項10に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
- 前記ブロックは、隣り合うブロックの間に隙間を入れ配置されていることを特徴とする請求項11に記載の半導体装置の樹脂封止方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003274848A JP4270969B2 (ja) | 2002-07-16 | 2003-07-15 | 半導体装置の樹脂封止方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002207421 | 2002-07-16 | ||
JP2003274848A JP4270969B2 (ja) | 2002-07-16 | 2003-07-15 | 半導体装置の樹脂封止方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004056141A true JP2004056141A (ja) | 2004-02-19 |
JP4270969B2 JP4270969B2 (ja) | 2009-06-03 |
Family
ID=31949492
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003274848A Expired - Lifetime JP4270969B2 (ja) | 2002-07-16 | 2003-07-15 | 半導体装置の樹脂封止方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4270969B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8217504B2 (en) | 2007-03-12 | 2012-07-10 | Intel Mobile Communications GmbH | Article and panel comprising semiconductor chips, casting mold and methods of producing the same |
US8859341B2 (en) | 2008-09-05 | 2014-10-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Manufacturing method of semiconductor device |
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WO2018074221A1 (ja) | 2016-10-17 | 2018-04-26 | 株式会社ダイセル | シート状プリプレグ |
KR20210121056A (ko) | 2019-01-28 | 2021-10-07 | 주식회사 다이셀 | 팬아웃 패키지 밀봉용 시트상 프리프레그 |
US11660788B2 (en) * | 2019-08-23 | 2023-05-30 | Nagase Chemtex Corporation | Method for producing sealed structure |
-
2003
- 2003-07-15 JP JP2003274848A patent/JP4270969B2/ja not_active Expired - Lifetime
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CN105453254A (zh) * | 2013-08-09 | 2016-03-30 | 日东电工株式会社 | 带有隔膜的电子器件密封用树脂片组及带有隔膜的电子器件密封用树脂片的选择方法 |
WO2018074221A1 (ja) | 2016-10-17 | 2018-04-26 | 株式会社ダイセル | シート状プリプレグ |
KR20190069408A (ko) | 2016-10-17 | 2019-06-19 | 주식회사 다이셀 | 시트상 프리프레그 |
US11479637B2 (en) | 2016-10-17 | 2022-10-25 | Daicel Corporation | Sheet-shaped prepreg |
KR20210121056A (ko) | 2019-01-28 | 2021-10-07 | 주식회사 다이셀 | 팬아웃 패키지 밀봉용 시트상 프리프레그 |
US11660788B2 (en) * | 2019-08-23 | 2023-05-30 | Nagase Chemtex Corporation | Method for producing sealed structure |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP4270969B2 (ja) | 2009-06-03 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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