JP2004037497A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 透過部と反射部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
   前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、前記反射部に備えられた反射層と、複数の着色層と、を含み、
   前記複数の着色層が、前記透過部と重なる領域に、厚肉部を備えるとともに、当該厚肉部の厚さを、前記複数の着色層に対応させて異ならせることを特徴とする電気光学装置。
2. 透過部と反射部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
   前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、前記反射部に備えられた反射層と、を含み、もう一つの電気光学装置用基板が、第２の基板と、複数の着色層と、を含み、
   前記複数の着色層が、前記透過部と重なる領域に、厚肉部を備えるとともに、当該厚肉部の厚さを、前記複数の着色層に対応させて異ならせることを特徴とする電気光学装置。
3. 前記着色層の厚肉部の厚さをｔ１とし、前記着色層の非厚肉部の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を１．２〜２．０の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
4. 前記透過部と重なる前記基板の領域に、前記厚肉部の厚さを調整するための厚さ調整層を設けることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記厚さ調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
6. 前記着色層上に保護膜を備えるとともに、当該保護膜の前記透過部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できる薄肉部を設けることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 前記着色層または保護膜上に配向膜を備えるとともに、当該配向膜の表面を平坦化することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. 前記基板の表面に凹部を設けるとともに、当該凹部と重なる領域に、前記透過部を設けることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
9. 前記反射層が、表面に独立して形成された複数の凸部を有する反射基部と、反射膜とを含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置。
10. 前記透過部を実質的に覆う着色層と、前記反射部を部分的に覆う着色層とを、同種または同一の着色剤から構成することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
11. 透過部と反射部を備えた画素を有し、基板と、前記反射部に備えられた反射層と、複数の着色層と、を含む電気光学装置用基板において、
    前記複数の着色層が、前記透過部と重なる領域に、厚肉部を備えるとともに、当該厚肉部の厚さを、前記複数の着色層において異ならせることを特徴とする電気光学装置用基板。
12. 透過部と反射部を備えた画素を有し、基板と、前記反射部に備えられた反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板の製造方法において、
    前記基板上に、前記反射層を形成する工程と、
    前記透過部と重なる領域に、厚さを異ならせた厚肉部を有する複数の着色層を形成する工程と、
    を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
13. 前記着色層を形成する工程において、ハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィ法により、前記厚さを異ならせた厚肉部を形成することを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
14. 前記透過部と重なる前記基板の領域に、前記厚肉部の厚さを調整するための厚さ調整層を設ける工程を含むことを特徴とする請求項１２または１３に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
15. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載された電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器。