JP2004037500A5

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Publication number: JP2004037500A5
Application number: JP2002190252A
Authority: JP
Filing date: 2002-06-28
Publication date: 2005-10-20
Anticipated expiration: 2022-06-28

Claims

反射部、非反射部、および透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、前記反射部に備えられた反射層と、着色層と、前記非反射部に重なる遮光層または透光層と、を含み、
前記着色層は、前記反射部、前記非反射部および前記透過部の全部または一部と重なるように配置されており、かつ、前記透過部に重なる前記着色層の厚さと前記非反射部に重なる前記着色層の厚さが異なることを特徴とする電気光学装置。
反射部、非反射部、および透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、前記反射部に備えられた反射層と、を含み、もう一つの電気光学装置用基板が、第２の基板と、着色層と、前記非反射部に重なる遮光層または透光層と、を含み、
前記着色層は、前記反射部、前記非反射部および前記透過部の全部または一部と重なるように配置されており、かつ、前記透過部に重なる前記着色層の厚さと前記非反射部に重なる前記着色層の厚さが異なることを特徴とする電気光学装置。
反射部、非反射部、および透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学的物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、前記反射部及び前記非反射部に備えられた反射層と、着色層と、前記非反射部に重なる遮光層または透光層と、を含み、
前記着色層は、前記反射部、前記非反射部および前記透過部の全部または一部と重なるように配置されており、かつ、前記透過部に重なる前記着色層の厚さと前記非反射部に重なる前記着色層の厚さが異なることを特徴とする電気光学装置。
前記基板と、前記反射層との間に、前記基板表面からの反射層の高さ位置を調整するための位置調整層を設けることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記非反射部の面積をＡ１とし、前記反射部の面積をＡ２としたときに、Ａ１／Ａ２で表される比率を０．１〜５の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記非反射部の面積をＡ１とし、前記透過部の面積をＡ３としたときに、Ａ１／Ａ３で表される比率を０．０５〜１の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記反射部の面積（Ａ２）に対する、前記透過部の面積（Ａ３）の比率（Ａ２／Ａ３）を０．３〜２の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記透過部に位置する着色層に、厚肉部を設けることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記着色層の厚肉部の厚さをｔ１とし、前記着色層の非厚肉部の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を１．２〜２．０の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記着色層が、複数の画素に対応しているとともに、前記複数の着色層における厚肉部の厚さを異ならせることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記着色層上に保護膜を備えるとともに、当該保護膜の前記透過部と重なる領域に、開口部または実質的に光が通過できる薄肉部を設けることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記着色層または保護膜上に配向膜を備えるとともに、当該配向膜の表面に凹部を形成するか、あるいは平坦化することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記基板の表面に凹部を設けるとともに、当該凹部と重なる領域に、前記透過部を設けることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記反射層が、表面に独立して形成された複数の凸部を有する反射基部と、反射膜とを含むことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記透過部を実質的に覆う着色層と、前記反射部を部分的に覆う着色層とを、同種または同一の着色剤から構成することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
反射部、非反射部、および透過部を備えた画素を有し、基板と、前記反射部に備えられた反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板において、
前記非反射部に重なる遮光層または透光層を有し、
前記着色層は、前記反射層の反射部、前記非反射部および前記透過部の全部または一部を実質的に覆うように配置されており、かつ、前記透過部に重なる前記着色層の厚さと前記非反射部に重なる前記着色層の厚さが異なる非反射部を備えることを特徴とする電気光学装置用基板。
反射部、非反射部、および透過部を備えた画素を有し、基板と、前記反射部および前記非反射部に備えられた反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板において、
前記非反射部に重なる遮光層を有し、
前記着色層は、前記反射層の反射部、前記非反射部および前記透過部の全部または一部を実質的に覆うように配置されており、かつ、前記透過部に重なる前記着色層の厚さと前記非反射部に重なる前記着色層の厚さが異なる非反射部を備えることを特徴とする電気光学装置用基板。
反射部、非反射部、および透過部を備えた画素を有し、基板と、前記反射部に備えられた反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板の製造方法において、
前記基板上に、前記反射層を形成するとともに、前記反射層の非反射部に、遮光層または透光層を形成する工程と、
前記反射部、非反射部、および透過部の全部または一部を実質的に覆うように前記着色層を配置する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
請求項１〜１５のいずれか一項に記載された電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器。