JP2004037945A5

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Publication number: JP2004037945A5
Application number: JP2002196459A
Authority: JP
Filing date: 2002-07-04
Publication date: 2005-10-27
Anticipated expiration: 2022-07-04

Claims

反射部と透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、前記反射部に備えられてなる反射層と、着色層と、を含み、
前記反射部と重なる領域における前記反射層と前記着色層との間に、前記基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための調整層を備え、
当該調整層は前記透過部と重なる領域には設けられていないことを特徴とする電気光学装置。
反射部と透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、前記反射部に備えられてなる反射層と、を含み、もう一つの電気光学装置用基板が、第２の基板と、着色層と、を含み、
前記反射部と重なる領域における前記第２の基板と前記着色層との間に、前記電気光学物質の厚さを調整するための調整層を備え、
当該調整層は前記透過部と重なる領域には設けられていないことを特徴とする電気光学装置。
反射部と透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、前記反射部に備えられてなる反射層と、着色層と、を含み、
当該反射層と、前記着色層との間に、前記基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための調整層を備えるとともに、当該調整層の前記透過部と重なる領域に、薄肉部を設けることを特徴とする電気光学装置。
反射部と透過部を備えた画素を有し、対向する第１の基板と第２の基板とを含む一対の電気光学装置用基板、およびその間に電気光学物質を含む電気光学装置において、
前記一つの電気光学装置用基板が、第１の基板と、前記反射部に備えられてなる反射層と、を含み、もう一つの電気光学装置用基板が、第２の基板と、着色層と、を含み、
前記第２の基板と、前記着色層との間に、前記電気光学物質の厚さを調整するための調整層を備えるとともに、当該調整層の前記透過部と重なる領域に、薄肉部を設けることを特徴とする電気光学装置。
前記調整層の厚さをｔ１とし、前記着色層の厚さをｔ２としたときに、ｔ１／ｔ２で表される比率を０．１〜１０の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記調整層の端部をテーパ状とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記調整層の可視光透過率を９０％以上の値とすることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記着色層上に保護膜を備えるとともに、当該保護膜の前記透過部と重なる領域に、凹部を設けることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記着色層または前記保護膜上に配向膜を備えるとともに、当該配向膜の表面に凹部を設けることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
前記第１の基板または前記第２の基板の表面に凹部を設けるとともに、当該凹部と重なる領域に、前記透過部を設けることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記反射層が、表面に独立して形成された複数の凸部を有する反射基部と、その上の反射膜とを含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記透過部を実質的に覆う着色層と、前記反射部を部分的に覆う着色層とを、同種または同一の着色剤から構成することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記透過部を実質的に覆う着色層の下方に、当該着色層の厚さを調整するための厚さ調整層を設けることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の電気光学装置。
前記反射部と重なる領域における電気光学物質の厚さをｔａとし、前記透過部と重なる領域における電気光学物質の厚さをｔｂとしたとき、下記式を満足することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
ｔａ＜ｔｂ＜２ｔａ
前記電気光学物質の屈折率異方性をΔｎとしたとき、下記式を満足することを特徴とする請求項１３に記載の電気光学装置。
Δｎ・ｔａ＜Δｎ・ｔｂ＜Δｎ・２ｔａ
反射部と透過部を備えた画素を有し、基板と、反射部に備えられてなる反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板において、
前記反射層と、前記着色層との間に、前記基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための調整層を備えるとともに、
当該調整層の前記透過部と重なる領域に、凹部を設けることを特徴とする電気光学装置用基板。
反射部と透過部を備えた画素を有し、基板と、前記反射部に備えられてなる反射層と、着色層と、を含む電気光学装置用基板の製造方法において、
前記基板上に、前記反射層を形成する工程と、
当該反射層上に、前記基板表面からの着色層の高さ位置を調整するための調整層であって、前記透過部と重なる領域に、凹部を有する調整層を形成する工程と、
当該調整層上に、着色層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
請求項１〜１５のいずれか一項に記載された電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器。