JP2004030941A - Application device and application method - Google Patents

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JP2004030941A
JP2004030941A JP2002181027A JP2002181027A JP2004030941A JP 2004030941 A JP2004030941 A JP 2004030941A JP 2002181027 A JP2002181027 A JP 2002181027A JP 2002181027 A JP2002181027 A JP 2002181027A JP 2004030941 A JP2004030941 A JP 2004030941A
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Takashi Yoshiyama
吉山 高史
Yasuki Shimizu
清水 泰樹
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an application method and an application device for manufacturing good products with workability higher than that of a conventional one without causing reduction in precision. <P>SOLUTION: In this application method, there is a rib pattern area having ribs formed in parallel on a base board.When paste is discharged from a discharge hole into a groove between the ribs, the discharge hole and the base board are moved relatively for application. There are a plurality of rib pattern areas, and intervals between the rib pattern areas are separated from each other by clearance areas, and paste is also applied to the clearance areas. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ペーストを塗布する場所が予め溝などにより規定されたガラスなどの平板に、ペースト塗布する装置に関し、特にプラズマディスプレイパネル背面板の大型高精度化、低コスト化を目的とした、いわゆる多面取りに関する装置、およびその塗布方法である。
【0002】
【従来の技術】
基板上に形成されたリブ間の溝にペーストを塗布するためには、溝の中心にノズルの吐出孔を位置合わせした後、リブに平行して相対移動させながらペーストを吐出する。こうした装置において、複数の吐出孔を有したノズルにより塗布する装置が特開平10−27543にて考案されている。
【0003】
かかる装置では、溝と吐出孔の位置合わせにおいて、溝の位置は基板に設けた位置決めマークまたはリブの先端により判断されるが、吐出孔の位置は直接判断されず、取り付けられたノズルの位置情報に基づき位置合わせされる。従って、多数の吐出孔を有するノズルを使用した場合は、ノズルの加工精度の限界による吐出孔のピッチバラツキや、基板のリブパターンの歪みなどが影響して、ノズルの孔と溝の位置が正確に合わせられない問題があった。
【0004】
またこの結果、ノズルは大型化できず、1枚の基板を塗布するには複数回の塗布動作が必要となり、時間が掛かり量産装置としては不十分であった。
【0005】
さらに、本方式をいわゆる多面取りに対応させるには、上記理由に加えて、基板が大きくなることによる、基板の熱収縮によるゆがみや、装置大型化にともなう精度維持が困難となる問題が有る。
【0006】
ここで、多面取りとは、例えば図2に示す基板では、溝のある部材が箇所にわたって断続的に形成されている状態を言う。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
塗布基板の製造コストの低減を図るには工程タクトの短縮や設備コストの削減が必要であり、その中でも、一枚の基板の中で、一度の処理で複数の部材が製作できる多面取りが効果的である。しかし、特にPDPの基板においては、基板サイズが大きいことが、例えば基板固有の問題として熱収縮のバラツキによる精度の劣化や設備の大型化のための精度劣化が大きな問題となる。これは、ノズルを基板全幅の塗布位置に対応させた多孔ノズルを用いて1回の塗布動作で基板の全幅に渡り一括塗布する方法においては、致命的になりかねない。本件は、その問題を鑑みて、精度を落とすこなく、良品を今まで以上の生産性で製造する方法、装置を提供する。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を達成する本発明は、基本的には以下の通りの構成を有する。即ち、
「基板上に、並列して形成されたリブを有するリブパターン領域が存在し、該リブの間の溝へ、吐出孔からペーストを吐出する際に、吐出孔と基板を相対移動させて、塗布する塗布方法において、該リブパターン領域が複数存在し、かつ該リブパターン領域の間は間隙領域により隔てられており、該間隙領域にもペーストを塗布することを特徴とする塗布方法」である。
【0009】
または、
「基板上に、並列して形成された溝と該溝に挟まれたリブが存在する複数のリブパターン領域を有する基板において、該溝へノズル内に蓄えたペーストを吐出孔から吐出させながら、ノズルと基板を相対移動させて、ペーストを塗布する塗布装置において、二つ以上のノズルを配置して、それぞれのノズル孔位置と塗布すべき溝中央を一致調整し、それぞれの該リブとの位置に関連付けられた基板上のマークを基準にして、相対的に実質同一場所から塗布を開始することを特徴とする塗布装置」である。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明するが何等これに限定されるものではない。図1は、本発明に係るペースト塗布装置の一例の概略斜視図である。まず、テーブルとノズルを相対的に移動させて該被塗布部材上に塗液を塗布するための移動手段について説明する。即ち、図1において、基板1はテーブル2の上に載置され、テーブル2に設けた固定手段、例えば吸着装置等(図示しない)により固定される。テーブル2はその中心を軸として、回転を可能とするθ軸(図示しない)により支持されている。このθ軸はY軸搬送部3に搭載され、Y軸搬送部3はX軸搬送部4に設けられたリニアガイド3a,3bに沿って機台5のY軸方向に移動する。X軸搬送部4は機台5に設けられたリニアガイド4a,4bに沿って機台5のX軸方向に移動する。このX、Y軸搬送部は直交するように調整されている。X軸搬送部4は基板にペーストを塗布するための相対移動手段であって、塗布動作においてテーブル2をX軸移動させる。前記X、Y軸搬送部やθ軸はテーブル側を移動させる移動手段であるが、これに限定されるものではなく、ノズル側に移動手段を有していても良いし、両方に移動手段を有していても良い。
【0011】
機台5の中央部上方には、X軸搬送部4によって移動されるテーブル2が通過するように門型の支持台6が、X軸と直交する形で設けられている。支持台6の奥側(以下、下流側と言う。なお、下流又は、上流とは工程流れに従った呼び名であり、上流側から下流側へ被処理部材が搬送されていくものである。但し、被処理部材側から見れば、被処理部材の下流側から上流側へ処理が進んでいく。)側面の両サイドには、テーブル2の面に対して垂直方向に移動するZ軸搬送部7a,7bが設けられ、該Z軸搬送部にはペーストを吐出するノズル8がテーブル2のY軸方向中央を基準にして取り付けられる。ノズル8は着脱式で、該Z軸搬送部に取り付けたときに、テーブル2のX軸移動方向に直交して、該Z軸搬送部に設けたチャック(図示しない)により固定される。このノズルは塗布する基板のサイズや仕様(孔径、孔数、孔ピッチなど)に合わせて選択され、その基板に形成された所望の全ての溝に対して1回の塗布動作で塗布を完了するための吐出孔が略一直線状に配列して設けられている。例えば、塗布する基板がプラズマディスプレイの背面板の場合は、R,G,B何れか1色の蛍光体を含んだペーストを塗布する。従って、ノズルにはその塗布する溝に対応したピッチで吐出孔が設けられる。
【0012】
ノズル8は内部にペースト溜まり部を有し、ノズルに塗液を供給する供給手段として、ペーストを供給するための配管が接続され、この配管の反対側先にはペーストの供給をコントロールする開閉バルブ9を介して、ペーストタンク11が接続される。ペーストタンクには所望圧力の気体圧力源12が配管を介して接続されている。また、ノズル8には、吐出孔からペーストを吐出させるための気体圧力を供給する配管が接続され、この配管の反対側先は気体圧力の切換バルブ10を介して、一方は所望圧力の気体圧力源12に接続され、他の一方は大気に開放されている。
【0013】
ノズル8へのペースト供給は、切換バルブ10を大気開放にした状態で開閉バルブ9を開くことにより行われる。このときペーストは、例えば液面高さを検出するセンサを設けておき、ペーストの溜まり部上部に空間を残す形で所定量が蓄えられる。ペーストの吐出は切換バルブを気体圧力源12に切り換えて、この空間に気体圧力を供給することにより行われる。
【0014】
支持台6の手前側(上流側と言う)側面には、Y軸方向に各々独立して移動可能なY1搬送部13、Y2搬送部14、Y3搬送部15が設けられ、各々の搬送部にはX、Z軸方向の微調整機構を介して基板の位置を計測する位置センサが取り付けられる。この位置センサにはCCDカメラを用いることが好ましく、本装置ではカメラ16,17,18が取り付けられている。このY1〜Y3搬送部は支持台6の上流側側面に設けられたリニアガイド6a,6bによって、Y軸方向に移動した場合においてもテーブル面からの高さが一定になるよう調整されている。なお、これら搬送部のX、Z軸方向の微調整機構は、後で述べるカメラの基準位置合わせにおいて用いる。
【0015】
以上これまでに述べた全ての軸は、図示されないサーボモータにより駆動され、サーボモータは制御部からの制御信号によりコントロールされる。また、制御部はマイクロコンピュータやRAM、ハードディスクなどにて構成され、基板やノズルの位置計測、ノズルへのペースト供給および吐出口からの吐出制御を行うとともに、塗布条件を入力表示するタッチパネル部を有している。また、各カメラはモニタテレビに接続され視野の画像を表示できるように構成される。
【0016】
本発明における基板は、基板上に、並列して形成されたリブを有するリブパターン領域が存在し、しかも、該リブパターン領域が基板上に複数存在し、かつ該リブパターン領域の間は間隙領域により隔てられている。これはプラズマディスプレイ用部材などが好適な例であり、一枚の基板で、複数の前記部材を得ることが出来る。前記リブの間には溝が有り、特に限定されるものではないが前記溝は、深さ50〜150μm、幅70〜550μm、長さ450〜900mm程度であり、溝を隔てるリブは、幅20〜150μm程度である。又、溝の形状は、おおよそ、底部は基板平面に略水平な平面であるが塗布開始前の溝底面には、すでに電極および誘電体層が形成されているために微少な凹凸が存在する。さらに、溝に垂直の方向に、リブの高さ以内であり、かつ、溝を隔てるリブより狭い幅の横方向の第2のリブを設ける場合や、必ずしも溝を隔てるリブが直線であるとは限らない。側壁部は基板平面に略垂直な(底面と側壁の成す角はおおよそ90〜115°程度)平面である。間隙領域は前記リブパターン領域を隔てる領域であり、実質上リブは存在しない。基板平面上での個々のリブパターン領域の間隔(間隙領域の長さ)は、好ましくは20〜50mm(より好ましくは20〜30mm)である。前記数値範囲の下限値を下回ると後工程での基板切断が困難となり、一方、上限値を上回ると無駄な基板の領域が大きくなり好ましくない。
【0017】
図2は2つのリブパターン領域を形成した基板(2つのリブパターン領域の間に溝が無い間隙領域を有している基板)を上から見た一例の図である。基板のそれぞれの部材(1)(2)の各々の四隅付近には、基板面に形成されたリブパターンとの位置関係を示すアライメントマークA1〜A4、A5〜A8が設けられている。このアライメントマークはリブパターンを形成するときに一緒に作成される。こうすることによりパターンとの位置関係が精度良く形成される。
【0018】
アライメントマークはA1とA3、A5とA7を結ぶ直線がリブパターンと平行するように、A1とA2、A5とA6を結ぶ直線がリブパターンと直交するように設けた。アライメントマークの間隔XA,YAおよび基準溝位置Ysは基板情報として制御部に与える。基準溝位置YsはYAのほぼ中央リブ間の溝中心であって、次に述べるノズル基準孔とのY軸方向の位置合わせを行う位置とし、アライメントマークA1からの距離で与える。
【0019】
図3は図1の2付近を上および横から見た一部分の図である。X軸搬送部4の上流側(図3の左側)端面には、ノズル8の位置を検出する位置センサとしてカメラ19が、機台のY軸方向中央の位置に取り付けられている。また、ノズル8の下面には、略一線状に並べられた吐出孔が有り、その中央近傍に、基板の基準溝に対応した基準孔の位置を示すマークMが付されている。従って、X軸を操作して視野内に納めることにより、カメラ19によってノズルの基準孔の位置が計測される。
【0020】
以下、最初に装置の具体的な調整手順および動作について図5に示すフローチャートに従って説明する。まず、装置の立ち上げ時に初期調整を行うかを判断する(ステップ100)。初期の立ち上げ時は基板の位置を計測するカメラ16〜18と、ノズルの位置を計測するカメラ19との位置関係が定まっていないため、基板とノズルの位置合わせはできない。従って、これらカメラの基準位置調整(ステップ200)を行う。
【0021】
このステップ200の詳細を図6に従って説明する。図3に示したように、基準マーク20をカメラ19の上にセットする(ステップ201)。基準マーク20は、例えば透明ガラスの表面にクロスヘアーラインを描いたものを用い、高さはテーブル面に基板を搭載したときの基板面の位置に合わせるものとする。本装置の例では、基準マークは着脱式であってテーブルに取り付ける。この基準マークは、カメラまたはテーブルに移動式として取り付け、カメラの上に移動するようにしても良い。即ち、カメラ上下方向に移動可能な機構に基準マーク20を取り付けておき、必要に応じてカメラ上に移動する。または、テーブル2のY軸方向に移動可能な機構に基準マーク20を設け、必要に応じてカメラ上に移動するようにしてもよい。又、この例では、カメラ19はX軸搬送部に取り付けられているが、Y軸搬送部3または、テーブル2に取り付けられていても良い。基準マーク20またはカメラ19の位置を調整して、カメラ19の視野中心と基準マーク20の中心を位置合わせする(ステップ202)。このとき、テーブル2のY軸とθ軸は中央ゼロの位置にしておく。
【0022】
次に、基準マーク20をテーブル2に固定した状態で、X軸搬送部4を操作してカメラ17の下に移動する。(ステップ203)。カメラ17のY2軸14とテーブル2のX軸を調整して、基準マーク20の位置にカメラ17の視野中心を合わせる。(ステップ204)。このときのY2軸の座標とテーブル2のX軸座標を記憶保存する。このY2軸座標は同カメラの基準点とする。X軸座標はアライメント検出カメラ位置(Xa)とする(ステップ205)。
【0023】
次は、カメラ17を基準マーク上から退避し、カメラ16を基準マーク20の上に移動する。(以降、この位置調整が終了するまでテーブルは移動しない)(ステップ206)。カメラ16のY1軸13を調整して、基準マーク20にカメラ16のY軸方向視野中心を合わせる。X軸方向については、カメラ16のX軸微調整機構を調整して、基準マーク20がX軸方向の視野中心になるよう位置合わせする(ステップ207)。カメラ16のY1軸の座標を記憶する。この座標は同カメラの基準点とする(ステップ208)。
【0024】
続けて、カメラ16を基準マーク20の上から退避し、カメラ18を基準マーク20の上に移動する(ステップ209)。同様に、カメラ18のY3軸15を調整して、基準マーク20にカメラ18のY軸方向視野中心を合わせる。X軸方向はカメラ18のX軸微調整機構を調整して、マークがX軸方向視野中心になるよう位置合わせする(ステップ210)。カメラ18のY3軸座標を記憶する。この座標は同カメラの基準点とする(ステップ211)。テーブルおよび各カメラを初期位置に戻し基準マークを外す(ステップ212)。
【0025】
以上の調整によってカメラ19の位置、つまりテーブルのX座標とカメラ16〜18の相対位置関係が決定される。なお、この位置調整において、基準マークとカメラ16〜18の焦点合わせを、各々のZ軸微調整機構を調整して行う。このステップ200の基準位置調整で得られたカメラの位置情報は、制御部に記憶保存しておくことで、装置を立ち上げる度にこの調整を行う必要がなくなる。
【0026】
図5に戻り、次は装置の初期設定(ステップ300)を行う。この初期設定では、塗布する基板情報や塗布条件を設定した後、カメラ16〜18を各々の検出位置に移動する。この基板情報や塗布条件は、基板の型式や名称などに対応して事前に装置に記憶しておき、その型式や名称を選択することで呼び出すようにすれば、設定の操作を省略することができる。
【0027】
ステップ300の詳細を図7に従って説明する。基板サイズ、アライメントマークの間隔、基準溝位置などの基板情報を制御部に設定する(ステップ301)。これらの情報は、カメラ16および18の位置を決める情報として使用する。塗布開始位置や終了位置、ペースト吐出圧力などの塗布条件を設定する(ステップ302)。塗布開始および終了位置は、アライメントマークからのX軸方向の距離で設定する。基板はアライメントマークをカメラ16の位置を基準にして位置決めするので、この塗布位置はテーブルの位置(X軸座標)に相対設定することになる。さらに、後で説明するステップ800のノズル位置計測で測定記憶した基板位置決めカメラからノズル孔までの距離を加えることで、ノズルの位置に対して塗布位置を相対設定が可能となる。
【0028】
カメラ17をステップ205で記憶した同カメラの基準点に位置決めする(ステップ303)。次に、カメラ16を同カメラの基準点からプラス方向に、基準溝位置Ysの値だけ移動する。なお、カメラのY軸は基準点をゼロとして、ノズルに向かって左方向をプラス、右方向をマイナスとする(ステップ304)。さらに、カメラ18を同カメラの基準点からマイナス方向に、アライメント間隔YAから基準溝位置Ysを減じた値だけ移動する(ステップ305)。以上で機台5のY軸方向中央を基準にして、基板の基準溝とアライメント位置に対応した位置検出カメラの位置が定まる。
【0029】
再び図5に戻って、前記の初期設定で基板サイズを変え、基板の検出位置が変更されたかを判断(ステップ400)し、変更された場合は次のカメラ位置補正量測定(ステップ500)を行う。なお、初めて初期設定を行った場合もこのカメラ位置補正量測定を行う。
【0030】
前記の初期設定にて、基板のアライメント間隔YAが変わると、YAに対応してカメラ16,18の位置がY軸方向に移動される。これらカメラのY軸はX軸と直交するよう構成されているが、機械精度の限界によりY軸の位置によってX軸方向に、例えば20μm程度の僅かなずれが生じる。基板の位置はこのカメラを基準に測定するため、ずれがあると基板の傾きを求めたときに誤差を生じ、その結果により傾きを調整してもテーブルのX軸と基板のリブ方向が平行にならず、リブに沿って塗布できなくなる。リブのピッチが狭くこのずれ量が大きいと隣接する溝に斜め塗布することにもなる。補正量測定ではこうした問題をなくすため、カメラのX軸方向の位置ずれ量を求めておき、位置ずれした位置においても、正確に基板の位置を測定できるようにする。
【0031】
ところで、基板はサイズが大きくなると、パターンのマスク精度や基板の歪みが原因で、リブ方向とアライメントマークのY軸方向の直交精度が無視できなくなる。この問題は、前記カメラのX軸ずれと同じ問題となって現れる。従って、この補正量測定においては塗布するロットの代表基板を用い、その基板のアライメントマークを利用することでパターンの歪みによる誤差も吸収するように調整する。
【0032】
次に、このカメラ位置補正量測定のステップ500について図8を用いて詳細説明する。カメラ16〜18はステップ300の初期設定において、アライメントマークの位置に対応して位置決めされている状態とする。
【0033】
テーブル2を上流側端部に移動し、Y軸およびθ軸は中央ゼロの位置でテーブル面のほぼ中央に塗布する代表基板を搭載し、リブがテーブルのX軸方向とほぼ平行となる状態にして吸着固定する(ステップ501)。基板をテーブルの中央にかつリブとテーブルのX軸方向をほぼ平行状態にするには、例えばテーブル2の両サイドおよび上流側に、基板の端面をサイズに対応して押し出しする機構(センタリング装置と言う)を設けて位置寄せする方法などにより行う。テーブル2のX,Y軸を操作して、基板のアライメントマークA1をカメラ16の視野中心に位置合わせする。なお、このときのX,Y軸座標をアライメント検出位置X,Yとして記憶しておく(ステップ502)。
【0034】
次に、図4に示すように、テーブル2を下流方向にアライメントマーク間隔XAだけX軸移動して、基板のアライメントマークA3をカメラ10の視野に入れる(ステップ503)。カメラ10の視野中心からA3(図ではA3´)のY軸方向位置を測定する(ステップ504)。この位置がカメラ視野のY軸中心にあれば、テーブル2のX軸走査方向と基板のリブが平行状態にあると判断(ステップ505)されるのでステップ506に移る。
【0035】
Y軸方向位置にずれがあると判断(ステップ505)される場合、例えば5μm以上ある場合は、そのずれ量とテーブルの移動量XAから基板の傾きθ´を計算し、その角度に応じてテーブルのθ軸を回転(ステップ506)した後、再び前項のステップ502の動作に戻りY軸方向のずれが無いと判断されるまで繰り返す。
【0036】
Y軸方向の位置にずれがない場合は、図4に示したようにカメラ18の視野にはアライメントマークA2が確認されるので、視野中心からのX軸方向ずれ量を測定し補正値dXAとして記憶保存する(ステップ507)。このアライメントマークA2の位置は、X軸とリブが平行となる位置なので、基板の位置を測定するときは、この位置を基準にする。つまり、カメラの視野中心からアライメントマークA2の位置を求め、補正値dXAを減算することで、基板の正確な位置が測定できることになる。ところで、このA2の位置がカメラ視野のY軸方向中心からずれることがある。このずれは、カメラの位置決め精度や基板の歪みなどが原因して発生するが、基板の傾きを求める場合において無視できるものである。つまり、基板の位置測定における基板の傾きθは、アライメントマークA1とA2のX軸方向のずれ量(図4においてはdX)と、アライメントマーク間隔YAにより求められ、Y軸方向のずれはYAに比べて十分小さいためである。
【0037】
さらにこの時点で、カメラ17の視野内ほぼ中央に基準溝の画像が確認されるので、溝の中心を基準にして画像登録する(ステップ508)。但し、リブはアライメントマークA1とA2を結ぶ直線の位置まで形成されているものとする。この場合も、カメラの視野中心から少しずれた位置に基準溝がくる場合が多い。原因は前記の基板歪みなどによるものであるが、ずれ量は溝幅より十分小さいため視野の中央に位置する溝を基準溝と判断して差し支えない。ここで画像を登録するのは、基準溝の位置を測定するときに、パターンマッチング法により判断するためであって、画像処理により溝幅を測定しその中心位置を求める方法で行っても良い。
【0038】
このカメラ位置補正量測定が終わると図5に戻って、ノズル交換を行うかの判断(ステップ600)をする。基板サイズを変えた場合やペーストを交換する場合はノズルの交換を行う。ノズルがまだ取り付けられていない場合は取り付ける。ノズルを取り付けたあとはノズル位置計測を行う。一度ノズルを取り付けて位置計測を行えば、次にノズルを交換するまで位置計測の必要はなく、塗布を開始するかの判断(ステップ900)に移る。
【0039】
ノズルの交換作業(ステップ700)は先に述べたようにZ軸搬送部に設けたチャックを開閉することにより行う。ノズルはチャックにより固定すると、中央基準孔のX・Y軸方向の位置が機台5の所定位置に所定範囲内(例えば±0.5mm以内)で取り付けられる。ノズルを取り付けた後は、ノズルの吐出面がテーブル面に対して平行で所望の高さになるようZ軸搬送部により調整する。なお、ノズルの交換は、ペーストを供給する配管部を外してノズルだけ交換する場合や、タンクごと交換を行う場合がある。
【0040】
ノズルを交換した後は、ノズルの位置計測(ステップ800)を行う。ノズルを交換すると基準孔の位置は、前記の所定範囲内でバラツキを生じる。この精度では基板の基準溝と位置合わせができないので、ノズルの基準孔の正確な位置を測定する。
【0041】
このステップ800の詳細を図9に従って説明する。図3で示したように、X軸搬送部4を移動して、カメラ19をノズル検出位置(Xn)に移動する(ステップ801)。Z軸を操作してノズルの基準孔がカメラ焦点に合うようノズル高さを調整する(ステップ802)。カメラで撮影した画像を画像処理することにより、基準孔のマークを判断して基準孔を認識する(ステップ803)。マークの判断は、例えば事前にその画像を登録しておき、パターンマッチング法により判断する。なお、該マークは基準孔から所定位置に刻んでおくものとし、該マークから所定の位置にある孔を基準孔として判断するものとする。カメラ19の視野中心からの、基準孔の中心位置ΔX、ΔYを測定する(ステップ804)。
【0042】
この結果より、ノズルの位置データは次のように記憶する。ΔYのついては、そのままノズルY軸位置ΔYとして記憶し、カメラ17により基板の基準溝Y軸方向を位置合わせするときに用いる。つまり、カメラ17と19のY軸方向の位置は、ステップ200の基準位置調整にて同じ位置に合わせているので、カメラ17の視野中心からΔYずらせた位置に基準溝の位置を合わせることでノズルの基準孔とのY軸方向位置合わせが行える。なお、この位置合わせについては、カメラ17の位置に基板を位置合わせした後に基板をΔYだけ移動させる方法や、カメラ17をΔY移動してカメラの視野中心に基板を位置合わせする方法などがあり、いずれの方法によってΔYの位置に基板を移動しても差し支えない。
【0043】
一方、ΔXは、ノズル検出位置(Xn)からステップ205で記憶したアライメント検出カメラ位置(Xa)を減じた値Xan(=Xn−Xa)と加算して、基板位置決めカメラとノズル間距離XO(ΔX+Xan)として記憶する(ステップ805)。この距離XOは、後で説明するステップ1200の中で、基板に塗布するときのペーストの吐出開始位置および停止位置に反映する。
【0044】
なお、これまでに記憶した全てのデータは装置の電源をOFFしても消えないものとする。
【0045】
再び図5に戻り、次に塗布を開始するかの判断(ステップ900)をする。この時点で塗布を行わず一旦終了し、装置を立ち上げ直し全く同じ条件で塗布する場合は、ステップ200の基準位置調整はもちろん、ステップ500のカメラ位置補正、ステップ700のノズル交換、ステップ800のノズル位置計測の全てを省略して基板搭載から開始することが可能である。
【0046】
以上のこれまで記載した動作については、主に手動の操作で行う。以降に記載する動作は、制御部にあらかじめプログラムしておき、自動で動作させるものである。
【0047】
塗布方法は、以下の実施例でも詳述している通り、間隙領域も塗布して後で間隙領域の塗布されたペーストを除去しても良いし、間隙領域は塗布せず、それぞれのリブパターン領域をそれぞれ、相対的に実質同一場所から塗布を開始する、即ち、それぞれのリブパターン領域は同じ塗布動作パターンにより個別に塗布しても良い。或いは、複数のノズルを備えた塗布装置を用いても良く、そのような塗布装置には、それぞれのノズルにはノズル拭取り手段が設置されていることが好ましく、又、それぞれのノズルでそれぞれのリブパターン領域を同時に塗布可能である機構を有することが好ましい。
【0048】
【実施例】
以下、実施例に基づき、本発明をより詳細に説明するが、何等これらに限定されるものではない。なお、各実施例において、共通する段階は同じ大文字英字を付し、若干異なるものにはダッシュ(’)を、全く異なるものには、小文字英字を更に加えて表記している。
【0049】
実施例1
(段階A)塗布を開始する場合はまず、ノズル内にペーストを供給する(ステップ1000)。ペーストの供給は前述したように図1の切換バルブ10を大気開放にした状態で開閉バルブ9を開いて、所定の量に達するまで供給する。
【0050】
(段階B)次に、ステップ1100の基板搭載に移る。この動作は前記ノズル内へのペースト供給と並行して行うことが可能で、ペースト供給の待ち時間を少なくすることができる。
【0051】
(段階C)テーブル2を上流側端部に移動する。Y軸およびθ軸は中央ゼロの位置でテーブル面のほぼ中央に外部移載機により塗布する基板を搭載し、リブがテーブルのX軸方向とほぼ平行となる状態にして吸着固定する。外部移載機は例えば多軸のロボットを用い、ロボットのアームで基板をテーブル上部に横持ちする。テーブルには複数の昇降可能なピンを設け、このピンを上昇して基板を受け取り、アームを退避させてピンを下降することにより基板をテーブル面に受け取る。なお、リブとテーブルの平行出しはステップ500の補正量測定の中で述べたセンタリング装置により行う。
【0052】
(段階D)次にステップ1200の基板位置決めを行う。この詳細を図10に従って説明する。テーブル2をステップ502で記憶したアライメント検出位置X,Yの位置に移動して、基板のアライメントマークA1,A2をカメラ16,18の視野に入れる(ステップ1201)。
【0053】
(段階E)次に、カメラ16の視野中心を基準にアライメントマークA1のX,Y方向のずれ量を求める。また、カメラ18の視野中心からアライメントマークA2のX,Y方向のずれ量を求める。このX軸方向のずれについては、ステップ507で記憶したX軸方向ずれ量の補正値dXAを減じた値をずれ量とする。このずれ量は、図4において、アライメントマークA2がA2´の位置にあったとするとdXとなる(ステップ1202)。この2つのX軸方向のずれ量とアライメントマークの間隔YAから基板の傾きと、傾きを修正したときのアライメントマークA1の移動量を求める(ステップ1203)。算出した結果に応じ、テーブルのθ軸を回転して基板の傾きを修正し、X,Y軸を移動してカメラ16の視野中心にアライメントマークA1を位置合わせする(ステップ1204)。
【0054】
(段階F)この時点で、カメラ17の視野内には基板の基準溝が観測されるので、ステップ508で登録した基準溝の画像と一致する溝の中心位置を判断し、カメラ視野中心からのY軸方向の位置ΔYSを測定する。(ステップ1205)。そして、ステップ804で測定記憶したノズルY軸位置ΔYからこのΔYSを減じた値だけテーブル2のY軸を移動することで、ノズルの基準孔と基板の基準溝中心とのY軸方向の位置を合わせる(ステップ1206)。
【0055】
(段階G)次にX軸方向の位置、つまり塗布開始位置および終了位置に対応するテーブル2のX軸座標を計算する。ステップ302で設定した塗布開始位置および終了位置の各々に、ステップ805で記憶保存した基板位置決めカメラとノズル間距離XOと現在のX軸座標値を加算することで、自動的にアライメントマークに対する相対値となり、ペースト吐出位置および停止位置として一時記憶する(ステップ1207)。一時記憶とするのは、基板位置決め毎にX軸座標が変化するため、ペーストの吐出および停止位置の計算データを更新するからである。
【0056】
(段階H)基板位置決めが終わるとペースト塗布(ステップ1300)の動作に移る。ノズル内へのペースト供給が完了していることを確認し(未完の場合は待ち)、テーブルのX軸を基板の位置決め位置から下流方向に予めプログラムした速度で移動させる。X軸座標が前記の一時記憶したアライメントマークA1、A3のいずれか、あるいは、両方と相関を持ったペースト吐出位置になったらノズルからペーストを吐出し、吐出停止位置になれば吐出を停止する。ペーストの吐出および停止は、図1に示した切換バルブ10により行う。なお、ここで予めプログラムした速度とは、例えば、ペースト吐出位置の少し手前までは高速移動、吐出位置および吐出停止位置付近では低速移動、吐出中は中速での定速移動として、塗布開始までの時間短縮をはかるとともに、ペーストの塗布開始端から終了端までの塗布状態を均一に仕上げるように動作させる。各速度および速度の切り替え位置を制御部入力から設定できるようにすれば、塗布状態を容易に調整することが可能となる。
【0057】
(段階I)ところで、ペーストの吐出中はノズルと基板間の距離を所定の範囲に保つことで、より均一な塗布状態を得られることが知られている。本実施の形態においても基板面の変位を検出するセンサをノズルの上流側に設け、この信号によりZ軸搬送部を制御して基板面とノズル間の距離を一定に保つようにすることは容易である。
【0058】
(段階J)1面目の所定のリブパターン領域に塗布を終了した後も、吐出を継続しつつ、2面目のリブパターン領域に継続して塗布を行う。このとき、2面目のリブパターン領域のノズル孔位置と溝位置の関係を、予め、内部情報として持っていることが好ましく、間隙領域を塗布している間に2面目塗布に対する位置の微調整を実行する。また、塗布したく無い部分である間隙領域、例えば、1面目と2面目のリブパターン領域の間には、わずかな粘着剤を付与したテープなどを、貼り付けるなどして剥離可能なシートを形成しておき、塗布後、これを剥離して塗布されたペーストを除去してしまうことも可能である。このテープ状のシートは、3色を塗布してから、剥がしても良いし、一色毎に剥がしても良い。
【0059】
(段階K)塗布を終了すると基板排出(ステップ1400)に移る。基板の排出はテーブルを下流端に移動し、吸着した基板を解除し、ピンを上昇して移載機により取り出す。移載機は上流側の基板搬入と下流側の排出専用に各1台配置することで、基板排出中に次に塗布する基板が準備できるので、基板搬入から排出までのタクトを短縮することができる。基板を排出した時点で一連の動作が終了となり、動作を停止するかの判断をする(ステップ1500)。停止の判断は、例えば制御部にあらかじめ塗布する基板の枚数を設定しておき、1枚塗布する毎に減算してゼロとなった時点で終了とする。連続して同じ仕様の基板に塗布する場合は、ステップ1000のペースト供給から開始する。
【0060】
実施例2
(段階A)塗布を開始する場合はまず、ノズル内にペーストを供給する(ステップ1000)。ペーストの供給は前述したように図1の切換バルブ10を大気開放にした状態で開閉バルブ9を開いて、所定の量に達するまで供給する。
【0061】
(段階B)次に、ステップ1100の基板搭載に移る。この動作は前記ノズル内へのペースト供給と並行して行うことが可能で、ペースト供給の待ち時間を少なくすることができる。
【0062】
(段階C)テーブル2を上流側端部に移動する。Y軸およびθ軸は中央ゼロの位置でテーブル面のほぼ中央に外部移載機により塗布する基板を搭載し、リブがテーブルのX軸方向とほぼ平行となる状態にして吸着固定する。外部移載機は例えば多軸のロボットを用い、ロボットのアームで基板をテーブル上部に横持ちする。テーブルには複数の昇降可能なピンを設け、このピンを上昇して基板を受け取り、アームを退避させてピンを下降することにより基板をテーブル面に受け取る。なお、リブとテーブルの平行出しはステップ500の補正量測定の中で述べたセンタリング装置により行う。
【0063】
(段階D)次にステップ1200の基板位置決めを行う。この詳細を図10に従って説明する。テーブル2をステップ502で記憶したアライメント検出位置X,Yの位置に移動して、基板のアライメントマークA1,A2をカメラ16,18の視野に入れる(ステップ1201)。
【0064】
(段階E)次に、カメラ16の視野中心を基準にアライメントマークA1のX,Y方向のずれ量を求める。また、カメラ18の視野中心からアライメントマークA2のX,Y方向のずれ量を求める。このX軸方向のずれについては、ステップ507で記憶したX軸方向ずれ量の補正値dXAを減じた値をずれ量とする。このずれ量は、図4において、アライメントマークA2がA2´の位置にあったとするとdXとなる(ステップ1202)。この2つのX軸方向のずれ量とアライメントマークの間隔YAから基板の傾きと、傾きを修正したときのアライメントマークA1の移動量を求める(ステップ1203)。算出した結果に応じ、テーブルのθ軸を回転して基板の傾きを修正し、X,Y軸を移動してカメラ16の視野中心にアライメントマークA1を位置合わせする(ステップ1204)。
【0065】
(段階F)この時点で、カメラ17の視野内には基板の基準溝が観測されるので、ステップ508で登録した基準溝の画像と一致する溝の中心位置を判断し、カメラ視野中心からのY軸方向の位置ΔYSを測定する。(ステップ1205)。そして、ステップ804で測定記憶したノズルY軸位置ΔYからこのΔYSを減じた値だけテーブル2のY軸を移動することで、ノズルの基準孔と基板の基準溝中心とのY軸方向の位置を合わせる(ステップ1206)。
【0066】
(段階G)次にX軸方向の位置、つまり塗布開始位置および終了位置に対応するテーブル2のX軸座標を計算する。ステップ302で設定した塗布開始位置および終了位置の各々に、ステップ805で記憶保存した基板位置決めカメラとノズル間距離XOと現在のX軸座標値を加算することで、自動的にアライメントマークに対する相対値となりペースト吐出位置および停止位置として一時記憶する(ステップ1207)。一時記憶とするのは、基板位置決め毎にX軸座標が変化するため、ペーストの吐出および停止位置の計算データを更新するからである。
【0067】
(段階H)基板位置決めが終わるとペースト塗布(ステップ1300)の動作に移る。ノズル内へのペースト供給が完了していることを確認し(未完の場合は待ち)、テーブルのX軸を基板の位置決め位置から下流方向に予めプログラムした速度で移動させる。X軸座標が前記の一時記憶したアライメントマークA1、A3のいずれか あるいは 両方と相関を持ったペースト吐出位置になったらノズルからペーストを吐出し、吐出停止位置になれば吐出を停止する。ペーストの吐出および停止は、図1に示した切換バルブ10により行う。なお、ここで予めプログラムした速度とは、例えば、ペースト吐出位置の少し手前までは高速移動、吐出位置および吐出停止位置付近では低速移動、吐出中は中速での定速移動として、塗布開始までの時間短縮をはかるとともに、ペーストの塗布開始端から終了端までの塗布状態を均一に仕上げるように動作させる。各速度および速度の切り替え位置を制御部入力から設定できるようにすれば、塗布状態を容易に調整することが可能となる。
【0068】
(段階Ia)実施例1とは、間隙領域は塗布しない外は同様にして行う。そのために、1面目の塗布を終了すると、2面目のアライメントを行なう。この動作は、上述のステップ1200以降の動作を実行することとなる。このとき、アライメントマークは、A5、A6を、上述のA1、A2と同様に扱う。あるいは、1面目の塗布前に、事前にA5、A6を測定しておいて、実際に塗布する前に、位置調整のみを実行してもかまわない。1、2面目のリブパターン領域は、それぞれのアライメントマークを基準とする相対位置に対する塗布パターン(塗液の放出開始/停止位置)は同一として、塗布速度(X方向)、塗液圧力、基板に対するノズルの相対高さなどは、リブパターン領域の微妙な出来上がりの差に対応するため、例えば塗液圧力のみ異なっていてもかまわない。つまり、第2面目のリブパターン領域に対しては、アライメントマークを、A5〜A8をそれぞれ、第1面目A1〜A4と見なして塗布パターンが展開される。
【0069】
(段階Ja)ここで、図示しないが、1枚の基板の中で複数の部材に塗布する場合、ノズルの孔の出口付近を充分拭取り、最初のリブパターン領域にペーストを吐出するときと、次のリブパターン領域の時で同一の状況を作っておくことも重要である。
【0070】
(段階K)塗布を終了すると基板排出(ステップ1400)に移る。基板の排出はテーブルを下流端に移動し、吸着した基板を解除し、ピンを上昇して移載機により取り出す。移載機は上流側の基板搬入と下流側の排出専用に各1台配置することで、基板排出中に次に塗布する基板が準備できるので、基板搬入から排出までのタクトを短縮することができる。基板を排出した時点で一連の動作が終了となり、動作を停止するかの判断をする(ステップ1500)。停止の判断は、例えば制御部にあらかじめ塗布する基板の枚数を設定しておき、1枚塗布する毎に減算してゼロとなった時点で終了とする。連続して同じ仕様の基板に塗布する場合は、ステップ1000のペースト供給から開始する。
実施例3
図11は、例えば、基板上に、リブパターン領域が2つある場合を示し、ノズルをリブパターン領域の数と同数である2個配置している。これは、例えば、さらに多くの部材と、ノズルを配置しても良いし、コストなどの面から、最適な配置を選ぶことも可能である。又、図示しないがそれぞれのノズルにノズル拭取り手段を有するものであり、それぞれ独立に拭取り動作が可能である。
【0071】
それぞれのノズルは、アライメントマークの、A1とA5の間隔と同一に正確に調整できる機能をもつことで、異なった二つのリブパターンに同時の塗布動作を実施することが出来る。また、上述した実施例1,2では、ステージ2によりのみY方向の位置調整を実施するが、本実施例では、それぞれのノズルもY方向に移動することとする。これは、ノズル取り付け時にぞれぞれのノズルの位置関係をそれぞれ塗布するべく溝の位置関係と同様にY方向にも事前に調整するためである。
【0072】
(段階A’)塗布を開始する場合はまず、複数のノズル内にペーストを供給する(ステップ1000)。ペーストの供給は前述したように図1の切換バルブ10を大気開放にした状態で開閉バルブ9を開いて、所定の量に達するまで供給する。
【0073】
(段階B)次に、ステップ1100の基板搭載に移る。この動作は前記ノズル内へのペースト供給と並行して行うことが可能で、ペースト供給の待ち時間を少なくすることができる。
【0074】
(段階C)テーブル2を上流側端部に移動する。Y軸およびθ軸は中央ゼロの位置でテーブル面のほぼ中央に外部移載機により塗布する基板を搭載し、リブがテーブルのX軸方向とほぼ平行となる状態にして吸着固定する。外部移載機は例えば多軸のロボットを用い、ロボットのアームで基板をテーブル上部に横持ちする。テーブルには複数の昇降可能なピンを設け、このピンを上昇して基板を受け取り、アームを退避させてピンを下降することにより基板をテーブル面に受け取る。なお、リブとテーブルの平行出しはステップ500の補正量測定の中で述べたセンタリング装置により行う。
【0075】
(段階D)次にステップ1200の基板位置決めを行う。この詳細を図10に従って説明する。テーブル2をステップ502で記憶したアライメント検出位置X,Yの位置に移動して、基板のアライメントマークA1,A2をカメラ16,18の視野に入れる(ステップ1201)。
【0076】
(段階E)次に、カメラ16の視野中心を基準にアライメントマークA1のX,Y方向のずれ量を求める。また、カメラ18の視野中心からアライメントマークA2のX,Y方向のずれ量を求める。このX軸方向のずれについては、ステップ507で記憶したX軸方向ずれ量の補正値dXAを減じた値をずれ量とする。このずれ量は、図4において、アライメントマークA2がA2´の位置にあったとするとdXとなる(ステップ1202)。この2つのX軸方向のずれ量とアライメントマークの間隔YAから基板の傾きと、傾きを修正したときのアライメントマークA1の移動量を求める(ステップ1203)。算出した結果に応じ、テーブルのθ軸を回転して基板の傾きを修正し、X.Y軸を移動してカメラ16の視野中心にアライメントマークA1を位置合わせする(ステップ1204)。
【0077】
(段階F)この時点で、カメラ17の視野内には基板の基準溝が観測されるので、ステップ508で登録した基準溝の画像と一致する溝の中心位置を判断し、カメラ視野中心からのY軸方向の位置ΔYSを測定する。(ステップ1205)。そして、ステップ804で測定記憶したノズルY軸位置ΔYからこのΔYSを減じた値だけテーブル2のY軸を移動することで、ノズルの基準孔と基板の基準溝中心とのY軸方向の位置を合わせる(ステップ1206)。
【0078】
(段階Fa)ここで、このあと、さらに、X軸を移動して、A5A6のアライメントを視野に入れる。2面目のリブパターン領域について、上記と同様の操作を実行する。なお、それぞれのノズルが、アライメントマークの、A1とA5の間隔と同一に調整できる機能をもつのと同様に、それぞれのアライメントの位置を認識するカメラも同様に複数設置して、それぞれX軸方向に対して、相対的に同一とすることで、アライメントの読みとり動作が同時に複数のリブパターン領域で可能となる。なお、A1A2のアライメント情報と、A5A6のアライメント情報から、Y方向の位置の違いが所定量を超えた場合には、それぞれのノズルY方向の位置を、最も誤差の小さくなる位置に移動することが好ましい。
【0079】
(段階G)次にX軸方向の位置、つまり塗布開始位置および終了位置に対応するテーブル2のX軸座標を計算する。ステップ302で設定した塗布開始位置および終了位置の各々に、ステップ805で記憶保存した基板位置決めカメラとノズル間距離XOと現在のX軸座標値を加算して、ペースト吐出位置および停止位置として一時記憶する(ステップ1207)。一時記憶とするのは、基板位置決め毎にX軸座標が変化するため、ペーストの吐出および停止位置の計算データを更新するからである。
【0080】
(段階H’)基板位置決めが終わるとペースト塗布(ステップ1300)の動作に移る。ノズル内へのペースト供給が完了していることを確認し(未完の場合は待ち)、テーブルのX軸を基板の位置決め位置から下流方向に予めプログラムした速度で移動させる。X軸座標が前記の一時記憶したペースト吐出位置になったらノズルからペーストを吐出し、吐出停止位置になれば吐出を停止する。ペーストの吐出および停止は、図1に示した切換バルブ10により行う。なお、ここで予めプログラムした速度とは、例えば、ペースト吐出位置の少し手前までは高速移動、吐出位置および吐出停止位置付近では低速移動、吐出中は中速での定速移動として、塗布開始までの時間短縮をはかるとともに、ペーストの塗布開始端から終了端までの塗布状態を均一に仕上げるように動作させる。各速度および速度の切り替え位置を制御部入力から設定できるようにすれば、塗布状態を容易に調整することが可能となる。
【0081】
(段階Ia)これらの作業は、ノズルの位置関係を、各部材のアライメントマークの位置に対して相対的に同一にすることにより、あたかも、単一の部材に、ひとつのノズルで加工するように複数の情報を持たずに、実行できる。あるいは、少なくともひとつの基本情報をベースとした、それぞれの微調整のみで実行できる。これは、それぞれ独立に塗布情報を構築する手間からすると、大きな時間削減となる。
【0082】
(段階K)塗布を終了すると基板排出(ステップ1400)に移る。基板の排出はテーブルを下流端に移動し、吸着した基板を解除し、ピンを上昇して移載機により取り出す。移載機は上流側の基板搬入と下流側の排出専用に各1台配置することで、基板排出中に次に塗布する基板が準備できるので、基板搬入から排出までのタクトを短縮することができる。基板を排出した時点で一連の動作が終了となり、動作を停止するかの判断をする(ステップ1500)。停止の判断は、例えば制御部にあらかじめ塗布する基板の枚数を設定しておき、1枚塗布する毎に減算してゼロとなった時点で終了とする。連続して同じ仕様の基板に塗布する場合は、ステップ1000のペースト供給から開始する。
【0083】
上述した実施例は、すべて、ステージが移動して、ノズルは、高さ方向にのみ移動する構成であるが、基板とノズルの、相対的な位置関係が、同様で有れば、ノズルが、X方向やY方向に、移動してもかまわない。また、カメラも同様である。
【0084】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、1枚の基板に対して、複数の部材が形成された基板にペーストを塗布するのが容易に実行できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施態様に係わる塗布装置全体の概略斜視図である。
【図2】ペーストを塗布する基板の一例を示す概略図である。
【図3】図1に示した装置の一部を上からと横から見た模式図である。
【図4】図8の補正量測定ステップにおける測定位置ずれ量の測定方法を説明するための図である。
【図5】図1に示した装置の調整および塗布動作の全体を示すフローチャートである。
【図6】図5における基準位置調整ステップの詳細を示すフローチャートである。
【図7】図5における初期設定ステップの詳細を示すフローチャートである。
【図8】図5における補正量測定ステップの詳細を示すフローチャートである。
【図9】図5におけるノズル位置計測ステップの詳細を示すフローチャートである。
【図10】図5における基板位置決めステップの詳細を示すフローチャートである。
【図11】本発明の一実施態様に係わる、複数のノズルを配置した塗布装置全体の概略斜視図である。
【符号の説明】
1:基板
2:テーブル
3:Y軸搬送部
3a,3b:リニアガイド
4:X軸搬送部
4a,4b:リニアガイド
5:機台
6:支持台
6a,6b:リニアガイド
7a,7b:Z軸搬送部
8:ノズル
9:開閉バルブ
10:切換バルブ
11:ペーストタンク
12:気体圧力源
13:Y1搬送部
14:Y2搬送部
15:Y3搬送部
16〜18:カメラ(基板位置計測手段)
19:カメラ(ノズル位置計測手段)
20:基準マーク
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an apparatus for applying paste to a flat plate such as glass where the paste is applied in advance by a groove or the like, and particularly for the purpose of increasing the size and precision of the plasma display panel back plate and reducing the cost. An apparatus relating to multi-panning and an application method thereof.
[0002]
[Prior art]
In order to apply the paste to the groove between the ribs formed on the substrate, the discharge hole of the nozzle is aligned with the center of the groove, and then the paste is discharged while being relatively moved in parallel with the rib. In such an apparatus, an apparatus for applying by a nozzle having a plurality of discharge holes has been devised in JP-A-10-27543.
[0003]
In such an apparatus, in aligning the groove and the discharge hole, the position of the groove is determined by the positioning mark or the tip of the rib provided on the substrate, but the position of the discharge hole is not directly determined, and the positional information of the attached nozzle is determined. Aligned based on Therefore, when a nozzle having a large number of discharge holes is used, the positions of the holes and grooves of the nozzle are not accurate due to variations in the pitch of the discharge holes due to the limit of the processing accuracy of the nozzles and the distortion of the rib pattern of the substrate. There was a problem that could not be adjusted.
[0004]
As a result, the size of the nozzle cannot be increased, and a plurality of coating operations are required to apply a single substrate, which is time consuming and is not sufficient for a mass production apparatus.
[0005]
Further, in order to make this method compatible with so-called multi-paneling, in addition to the above-mentioned reasons, there are problems that distortion due to thermal shrinkage of the substrate due to enlargement of the substrate and difficulty in maintaining accuracy due to enlargement of the apparatus are caused.
[0006]
Here, “multi-chamfering” refers to, for example, a state in which a member having a groove is formed intermittently over a portion of the substrate shown in FIG.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
In order to reduce the manufacturing cost of coated substrates, it is necessary to reduce the process tact time and the equipment cost. Among them, multi-paneling that can produce multiple members in one process on a single substrate is effective. It is a target. However, especially in the case of a PDP substrate, a large substrate size causes a serious problem, for example, as a problem inherent to the substrate, such as deterioration in accuracy due to variations in thermal contraction and deterioration in accuracy due to enlargement of equipment. This may be fatal in a method in which the nozzles are applied to the entire width of the substrate in a single coating operation using a multi-hole nozzle corresponding to the coating position of the entire width of the substrate. The present invention has been made in view of the above problem, and provides a method and apparatus for manufacturing a good product with higher productivity without lowering the accuracy.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The present invention that achieves the above-described object basically has the following configuration. That is,
`` On the substrate, there is a rib pattern region having ribs formed in parallel, and when discharging the paste from the discharge holes to the grooves between the ribs, the discharge holes and the substrate are relatively moved to apply the paste. A coating method, wherein a plurality of the rib pattern regions are present, the rib pattern regions are separated by a gap region, and a paste is also applied to the gap region.
[0009]
Or
`` On a substrate having a plurality of rib pattern regions in which grooves formed in parallel and ribs sandwiched between the grooves are formed on the substrate, while discharging the paste stored in the nozzle into the grooves from the discharge holes, In a coating apparatus that applies a paste by moving a nozzle and a substrate relative to each other, two or more nozzles are arranged, and the position of each nozzle hole is adjusted to coincide with the center of a groove to be applied, and the position of each rib is adjusted. A coating apparatus which starts coating relatively from substantially the same location with reference to a mark on the substrate associated with the coating apparatus.
[0010]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto. FIG. 1 is a schematic perspective view of an example of the paste application device according to the present invention. First, moving means for moving the table and the nozzle relatively to apply the coating liquid on the member to be coated will be described. That is, in FIG. 1, the substrate 1 is placed on a table 2 and fixed by fixing means provided on the table 2, for example, a suction device or the like (not shown). The table 2 is supported by a .theta. Axis (not shown), which is rotatable around its center. The θ-axis is mounted on the Y-axis transport unit 3, and the Y-axis transport unit 3 moves in the Y-axis direction of the machine base 5 along the linear guides 3 a and 3 b provided on the X-axis transport unit 4. The X-axis transport unit 4 moves in the X-axis direction of the machine base 5 along linear guides 4a and 4b provided on the machine base 5. The X and Y axis transport units are adjusted to be orthogonal. The X-axis transport unit 4 is a relative moving unit for applying the paste to the substrate, and moves the table 2 in the X-axis in the applying operation. The X, Y axis transport unit and the θ axis are moving means for moving the table side, but the moving means is not limited to this. The moving means may be provided on the nozzle side, or the moving means may be provided on both sides. You may have.
[0011]
A gate-shaped support base 6 is provided above the center of the machine base 5 so as to allow the table 2 moved by the X-axis transport unit 4 to pass therethrough so as to be orthogonal to the X-axis. The back side of the support base 6 (hereinafter referred to as the downstream side. Note that downstream or upstream is a name according to the process flow, and the member to be processed is transported from the upstream side to the downstream side. When viewed from the member to be processed, the processing proceeds from the downstream side to the upstream side of the member to be processed.) On both sides of the side surface, a Z-axis transport unit 7a that moves in a direction perpendicular to the surface of the table 2 , 7b are provided, and a nozzle 8 for discharging paste is attached to the Z-axis transport section with reference to the center of the table 2 in the Y-axis direction. The nozzle 8 is detachable, and is fixed by a chuck (not shown) provided in the Z-axis transport unit when it is attached to the Z-axis transport unit, at right angles to the X-axis movement direction of the table 2. This nozzle is selected according to the size and specifications (hole diameter, number of holes, hole pitch, etc.) of the substrate to be coated, and the coating is completed in one coating operation for all desired grooves formed on the substrate. Discharge holes are arranged in a substantially straight line. For example, when the substrate to be applied is a back plate of a plasma display, a paste containing a phosphor of any one of R, G, and B colors is applied. Therefore, ejection holes are provided in the nozzle at a pitch corresponding to the groove to be applied.
[0012]
The nozzle 8 has a paste reservoir therein, and is connected to a pipe for supplying paste as supply means for supplying a coating liquid to the nozzle, and an opening / closing valve for controlling the supply of paste is provided at the other end of the pipe. 9, a paste tank 11 is connected. A gas pressure source 12 having a desired pressure is connected to the paste tank via a pipe. The nozzle 8 is connected to a pipe for supplying gas pressure for discharging the paste from the discharge hole. The other end of the pipe is connected to a gas pressure switching valve 10, and one of the pipes is connected to a gas pressure of a desired pressure. The other is connected to a source 12 and open to the atmosphere.
[0013]
The paste is supplied to the nozzle 8 by opening the on-off valve 9 with the switching valve 10 opened to the atmosphere. At this time, for example, a sensor for detecting the liquid level is provided in the paste, and a predetermined amount of the paste is stored in such a manner that a space is left above the reservoir of the paste. Discharge of the paste is performed by switching the switching valve to the gas pressure source 12 and supplying gas pressure to this space.
[0014]
A Y1 transport unit 13, a Y2 transport unit 14, and a Y3 transport unit 15 that are independently movable in the Y-axis direction are provided on a front side (referred to as an upstream side) of the support base 6, and each of the transport units is provided. Is provided with a position sensor for measuring the position of the substrate via a fine adjustment mechanism in the X and Z axis directions. It is preferable to use a CCD camera as the position sensor, and cameras 16, 17, and 18 are attached to the apparatus. The Y1 to Y3 transport sections are adjusted by linear guides 6a and 6b provided on the upstream side surface of the support base 6 so that the height from the table surface is constant even when the transport sections are moved in the Y-axis direction. The X and Z-axis fine adjustment mechanisms of these transport units are used in the reference position adjustment of the camera described later.
[0015]
All axes described above are driven by a servo motor (not shown), and the servo motor is controlled by a control signal from a control unit. The control unit includes a microcomputer, a RAM, a hard disk, etc., and has a touch panel unit for measuring the position of the substrate and the nozzle, supplying the paste to the nozzle and controlling the discharge from the discharge port, and inputting and displaying the application conditions. are doing. Each camera is connected to a monitor television and configured to display an image of the field of view.
[0016]
The substrate according to the present invention has a rib pattern region having ribs formed in parallel on the substrate, a plurality of the rib pattern regions exist on the substrate, and a gap region between the rib pattern regions. Are separated by This is a preferable example of a member for a plasma display, and a plurality of the members can be obtained with one substrate. There is a groove between the ribs, and the groove is not particularly limited, but the groove has a depth of about 50 to 150 μm, a width of about 70 to 550 μm, and a length of about 450 to 900 mm. About 150 μm. The bottom of the groove is roughly a plane substantially horizontal to the substrate plane, but the bottom of the groove before the start of coating has minute irregularities because the electrodes and the dielectric layer have already been formed. Furthermore, in the case of providing a second rib in the horizontal direction that is within the height of the rib in the direction perpendicular to the groove and that is narrower than the rib that separates the groove, and that the rib that separates the groove is not necessarily a straight line Not exclusively. The side wall portion is a plane substantially perpendicular to the substrate plane (the angle between the bottom surface and the side wall is about 90 to 115 °). The gap region is a region separating the rib pattern region, and has substantially no rib. The interval (length of the gap region) between the individual rib pattern regions on the substrate plane is preferably 20 to 50 mm (more preferably 20 to 30 mm). If the value is below the lower limit of the above numerical range, it is difficult to cut the substrate in the subsequent process. On the other hand, if the value exceeds the upper limit, a wasteful substrate area becomes large, which is not preferable.
[0017]
FIG. 2 is a view of an example of a substrate in which two rib pattern regions are formed (a substrate having a gap region having no groove between the two rib pattern regions) as viewed from above. Near the four corners of each of the members (1) and (2) of the substrate, alignment marks A1 to A4 and A5 to A8 indicating a positional relationship with a rib pattern formed on the substrate surface are provided. This alignment mark is created together when forming the rib pattern. By doing so, the positional relationship with the pattern is formed with high accuracy.
[0018]
The alignment marks were provided such that the straight line connecting A1 and A3, the straight line connecting A5 and A7 was parallel to the rib pattern, and the straight line connecting A1 and A2 and A5 and A6 were orthogonal to the rib pattern. The intervals XA and YA of the alignment marks and the reference groove position Ys are given to the control unit as substrate information. The reference groove position Ys is substantially the center of the groove between the center ribs of YA, and is a position for performing alignment with the nozzle reference hole in the Y-axis direction described below, and is given by the distance from the alignment mark A1.
[0019]
FIG. 3 is a partial view of the vicinity of 2 in FIG. 1 as viewed from above and from the side. A camera 19 as a position sensor for detecting the position of the nozzle 8 is attached to the upstream end (left side in FIG. 3) of the X-axis transport unit 4 at the center of the machine base in the Y-axis direction. The lower surface of the nozzle 8 has ejection holes arranged in a substantially linear manner, and a mark M indicating the position of the reference hole corresponding to the reference groove of the substrate is provided near the center thereof. Therefore, the position of the reference hole of the nozzle is measured by the camera 19 by manipulating the X axis so as to be within the visual field.
[0020]
Hereinafter, first, a specific adjustment procedure and operation of the apparatus will be described with reference to a flowchart shown in FIG. First, it is determined whether or not to perform the initial adjustment at the time of starting the apparatus (step 100). At the initial start-up, since the positional relationship between the cameras 16 to 18 for measuring the position of the substrate and the camera 19 for measuring the position of the nozzle is not determined, the substrate and the nozzle cannot be aligned. Therefore, the reference positions of these cameras are adjusted (step 200).
[0021]
The details of step 200 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, the reference mark 20 is set on the camera 19 (step 201). The reference mark 20 is, for example, a cross-hair line drawn on the surface of transparent glass, and the height is adjusted to the position of the substrate surface when the substrate is mounted on the table surface. In the example of the present apparatus, the reference mark is detachable and attached to the table. The fiducial mark may be mounted on a camera or a table so as to be movable, and move above the camera. That is, the reference mark 20 is attached to a mechanism that can move in the vertical direction of the camera, and moves on the camera as needed. Alternatively, the reference mark 20 may be provided on a mechanism movable in the Y-axis direction of the table 2, and may be moved on the camera as needed. In this example, the camera 19 is attached to the X-axis transport unit, but may be attached to the Y-axis transport unit 3 or the table 2. The position of the reference mark 20 or the camera 19 is adjusted, and the center of the field of view of the camera 19 and the center of the reference mark 20 are aligned (step 202). At this time, the Y axis and the θ axis of the table 2 are set at the center zero position.
[0022]
Next, with the reference mark 20 fixed to the table 2, the X-axis transport unit 4 is operated to move below the camera 17. (Step 203). By adjusting the Y2 axis 14 of the camera 17 and the X axis of the table 2, the center of the field of view of the camera 17 is adjusted to the position of the reference mark 20. (Step 204). At this time, the coordinates of the Y2 axis and the X axis coordinates of the table 2 are stored and stored. This Y2-axis coordinate is used as a reference point of the camera. The X-axis coordinates are set to the alignment detection camera position (Xa) (step 205).
[0023]
Next, the camera 17 is retracted from above the reference mark, and the camera 16 is moved above the reference mark 20. (Hereafter, the table does not move until the position adjustment is completed) (step 206). The Y1 axis 13 of the camera 16 is adjusted so that the center of the field of view of the camera 16 in the Y-axis direction is aligned with the reference mark 20. In the X-axis direction, the X-axis fine adjustment mechanism of the camera 16 is adjusted so that the reference mark 20 is positioned at the center of the visual field in the X-axis direction (step 207). The coordinates of the Y1 axis of the camera 16 are stored. These coordinates are used as reference points for the camera (step 208).
[0024]
Subsequently, the camera 16 is retracted from above the reference mark 20, and the camera 18 is moved above the reference mark 20 (step 209). Similarly, the Y3 axis 15 of the camera 18 is adjusted so that the center of the camera 18 in the Y-axis direction is aligned with the reference mark 20. In the X-axis direction, the X-axis fine adjustment mechanism of the camera 18 is adjusted so that the mark is positioned at the center of the visual field in the X-axis direction (step 210). The Y3 axis coordinates of the camera 18 are stored. These coordinates are used as reference points for the camera (step 211). The table and each camera are returned to the initial positions and the reference marks are removed (step 212).
[0025]
With the above adjustment, the position of the camera 19, that is, the relative positional relationship between the X coordinate of the table and the cameras 16 to 18 is determined. In this position adjustment, the reference marks and the cameras 16 to 18 are focused by adjusting the respective Z-axis fine adjustment mechanisms. By storing and storing the camera position information obtained in the reference position adjustment in step 200 in the control unit, it is not necessary to perform this adjustment every time the apparatus is started up.
[0026]
Returning to FIG. 5, next, the apparatus is initialized (step 300). In this initial setting, the camera 16 to 18 is moved to each detection position after setting information on the substrate to be coated and the coating conditions. If the substrate information and the application conditions are stored in advance in the apparatus corresponding to the type and name of the substrate, and are called up by selecting the type and name, the setting operation can be omitted. it can.
[0027]
Details of step 300 will be described with reference to FIG. Substrate information such as substrate size, alignment mark interval, and reference groove position is set in the control unit (step 301). These pieces of information are used as information for determining the positions of the cameras 16 and 18. The application conditions such as the application start position, the application end position, and the paste discharge pressure are set (step 302). The application start and end positions are set by the distance in the X-axis direction from the alignment mark. Since the substrate positions the alignment mark with reference to the position of the camera 16, this application position is set relative to the position of the table (X-axis coordinate). Further, by adding the distance from the substrate positioning camera to the nozzle hole measured and stored in the nozzle position measurement in step 800 described later, the application position can be set relative to the nozzle position.
[0028]
The camera 17 is positioned at the reference point of the camera stored in step 205 (step 303). Next, the camera 16 is moved from the reference point of the camera in the plus direction by the value of the reference groove position Ys. The Y-axis of the camera has the reference point as zero, and the left direction toward the nozzle is plus, and the right direction is minus (step 304). Further, the camera 18 is moved in the minus direction from the reference point of the camera by a value obtained by subtracting the reference groove position Ys from the alignment interval YA (step 305). Thus, the position of the position detection camera corresponding to the reference groove of the substrate and the alignment position is determined with reference to the center of the machine base 5 in the Y-axis direction.
[0029]
Returning to FIG. 5 again, the substrate size is changed in the initial setting, and it is determined whether the detection position of the substrate has been changed (step 400). If the detection position has been changed, the next camera position correction amount measurement (step 500) is performed. Do. Note that this camera position correction amount measurement is also performed when initial setting is performed for the first time.
[0030]
When the alignment interval YA of the substrate changes in the initial setting, the positions of the cameras 16 and 18 are moved in the Y-axis direction in accordance with the YA. Although the Y-axis of these cameras is configured to be orthogonal to the X-axis, a slight shift of, for example, about 20 μm occurs in the X-axis direction depending on the position of the Y-axis due to the limitation of mechanical accuracy. Since the position of the substrate is measured with reference to this camera, if there is a deviation, an error will occur when the inclination of the substrate is calculated, and even if the inclination is adjusted based on the result, the X axis of the table and the rib direction of the substrate will be parallel. In other words, the coating cannot be performed along the ribs. If the pitch of the ribs is narrow and the amount of the deviation is large, oblique application to the adjacent groove is also required. In the correction amount measurement, in order to eliminate such a problem, the amount of displacement of the camera in the X-axis direction is obtained, and the position of the substrate can be accurately measured even at the position where the displacement has occurred.
[0031]
By the way, when the size of the substrate increases, the accuracy of orthogonality between the rib direction and the Y-axis direction of the alignment mark cannot be ignored due to mask accuracy of the pattern and distortion of the substrate. This problem appears as the same problem as the X-axis displacement of the camera. Therefore, in this correction amount measurement, the representative substrate of the lot to be coated is used, and the adjustment is made so as to absorb the error due to the distortion of the pattern by using the alignment mark of the substrate.
[0032]
Next, step 500 of the camera position correction amount measurement will be described in detail with reference to FIG. In the initial setting of step 300, the cameras 16 to 18 are positioned so as to correspond to the positions of the alignment marks.
[0033]
The table 2 is moved to the upstream end, and the representative substrate to be applied to the center of the table surface is mounted at a position where the Y axis and the θ axis are zero at the center, so that the ribs are substantially parallel to the X axis direction of the table. (Step 501). In order to bring the substrate to the center of the table and to make the X-axis direction of the rib and the table substantially parallel to each other, for example, on both sides and the upstream side of the table 2, a mechanism for extruding the end face of the substrate in accordance with the size (the centering device and the This is performed by a method of providing a position. By operating the X and Y axes of the table 2, the alignment mark A1 of the substrate is aligned with the center of the visual field of the camera 16. The X and Y axis coordinates at this time are stored as alignment detection positions X and Y (step 502).
[0034]
Next, as shown in FIG. 4, the table 2 is moved in the X direction by the alignment mark interval XA in the downstream direction, and the alignment mark A3 of the substrate is put in the field of view of the camera 10 (step 503). The position of A3 (A3 'in the figure) in the Y-axis direction is measured from the center of the field of view of the camera 10 (step 504). If this position is located at the center of the Y-axis of the camera's field of view, it is determined that the X-axis scanning direction of the table 2 is in parallel with the ribs of the substrate (step 505).
[0035]
When it is determined that there is a displacement in the Y-axis direction position (step 505), for example, when the displacement is 5 μm or more, the inclination θ ′ of the substrate is calculated from the displacement amount and the movement amount XA of the table. Is rotated (step 506), the operation returns to step 502 in the previous section, and is repeated until it is determined that there is no deviation in the Y-axis direction.
[0036]
If there is no deviation in the position in the Y-axis direction, the alignment mark A2 is confirmed in the field of view of the camera 18 as shown in FIG. 4, so the amount of deviation in the X-axis direction from the center of the field of view is measured and used as a correction value dXA. The information is stored (step 507). Since the position of the alignment mark A2 is a position where the X-axis and the rib are parallel to each other, this position is used as a reference when measuring the position of the substrate. That is, the position of the alignment mark A2 is obtained from the center of the field of view of the camera, and the correction value dXA is subtracted, whereby the accurate position of the substrate can be measured. Incidentally, the position of A2 may be shifted from the center of the camera field of view in the Y-axis direction. This shift is caused by the positioning accuracy of the camera, the distortion of the substrate, and the like, but can be ignored when obtaining the inclination of the substrate. In other words, the inclination θ of the substrate in the measurement of the position of the substrate is obtained from the amount of displacement (dX in FIG. 4) of the alignment marks A1 and A2 in the X-axis direction and the distance YA between the alignment marks, and the displacement in the Y-axis direction is YA. This is because it is sufficiently small.
[0037]
Further, at this point, since the image of the reference groove is confirmed substantially in the center of the field of view of the camera 17, the image is registered with reference to the center of the groove (step 508). However, it is assumed that the rib is formed up to the position of the straight line connecting the alignment marks A1 and A2. Also in this case, the reference groove is often located slightly off the center of the visual field of the camera. Although the cause is due to the substrate distortion and the like, the shift amount is sufficiently smaller than the groove width, and the groove located at the center of the visual field may be determined as the reference groove. Here, the image is registered in order to determine the position of the reference groove by the pattern matching method when measuring the position of the reference groove, and may be performed by a method of measuring the groove width by image processing and obtaining the center position thereof.
[0038]
When the camera position correction amount measurement is completed, the process returns to FIG. 5, and it is determined whether or not nozzle replacement is to be performed (step 600). When the substrate size is changed or when the paste is replaced, the nozzle is replaced. Install the nozzle, if not already installed. After installing the nozzle, measure the nozzle position. Once the nozzle is attached and the position is measured, the position measurement is not required until the next nozzle replacement, and the process proceeds to the determination of whether to start the application (step 900).
[0039]
The nozzle replacement operation (step 700) is performed by opening and closing the chuck provided in the Z-axis transport unit as described above. When the nozzle is fixed by the chuck, the position of the central reference hole in the X and Y axis directions is attached to a predetermined position of the machine base 5 within a predetermined range (for example, within ± 0.5 mm). After the nozzle is mounted, the Z-axis transport unit adjusts the discharge surface of the nozzle so that it is parallel to the table surface and has a desired height. The nozzle may be replaced by removing the piping for supplying the paste and replacing only the nozzle, or by replacing the entire tank.
[0040]
After replacing the nozzle, the position of the nozzle is measured (step 800). When the nozzle is replaced, the position of the reference hole varies within the above-mentioned predetermined range. Since the positioning cannot be performed with the reference groove of the substrate at this accuracy, the accurate position of the reference hole of the nozzle is measured.
[0041]
Details of this step 800 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, the X-axis transport unit 4 is moved to move the camera 19 to the nozzle detection position (Xn) (Step 801). The height of the nozzle is adjusted by operating the Z axis so that the reference hole of the nozzle is in focus on the camera (step 802). By performing image processing on the image taken by the camera, the reference hole mark is determined and the reference hole is recognized (step 803). The mark is determined by, for example, registering the image in advance and using a pattern matching method. The mark is cut at a predetermined position from the reference hole, and the hole at a predetermined position from the mark is determined as the reference hole. The center positions ΔX and ΔY of the reference holes from the center of the visual field of the camera 19 are measured (step 804).
[0042]
Based on this result, the nozzle position data is stored as follows. The value of ΔY is stored as it is as the nozzle Y-axis position ΔY, and is used when the camera 17 positions the substrate in the reference groove Y-axis direction. That is, since the positions of the cameras 17 and 19 in the Y-axis direction are adjusted to the same position in the adjustment of the reference position in step 200, the position of the reference groove is adjusted to a position shifted by ΔY from the center of the field of view of the camera 17. Can be aligned with the reference hole in the Y-axis direction. As for the positioning, there are a method of moving the substrate by ΔY after positioning the substrate to the position of the camera 17 and a method of moving the camera 17 by ΔY to position the substrate at the center of the field of view of the camera. The substrate may be moved to the position of ΔY by any method.
[0043]
On the other hand, ΔX is added to a value Xan (= Xn−Xa) obtained by subtracting the alignment detection camera position (Xa) stored in step 205 from the nozzle detection position (Xn), and the distance XO (ΔX + Xan) between the substrate positioning camera and the nozzle is calculated. ) (Step 805). This distance XO is reflected in the start position and the stop position of the discharge of the paste when the paste is applied to the substrate in step 1200 described later.
[0044]
It is assumed that all data stored so far will not be lost even if the power of the apparatus is turned off.
[0045]
Returning to FIG. 5 again, it is determined whether the application is to be started next (step 900). At this point, if the application is temporarily stopped without performing the application, and the apparatus is restarted and the application is performed under exactly the same conditions, the reference position adjustment in step 200, the camera position correction in step 500, the nozzle replacement in step 700, the nozzle replacement in step 700, and the It is possible to omit all the nozzle position measurement and start from mounting the substrate.
[0046]
The above-described operations are mainly performed manually. The operations described below are programmed in the control unit in advance and automatically operated.
[0047]
As described in detail in the following embodiments, the application method may also apply to the gap region and then remove the paste applied to the gap region, or do not apply to the gap region, and each rib pattern The application of the regions may be started from relatively substantially the same place, that is, each rib pattern region may be individually applied by the same application operation pattern. Alternatively, a coating device having a plurality of nozzles may be used, and in such a coating device, it is preferable that each nozzle is provided with a nozzle wiping unit. It is preferable to have a mechanism capable of simultaneously applying the rib pattern regions.
[0048]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto. In each of the embodiments, common steps are denoted by the same uppercase alphabetic characters, and slightly different ones are indicated by a dash ('), and completely different ones are further indicated by a lowercase alphabetic letter.
[0049]
Example 1
(Step A) When starting the application, first, the paste is supplied into the nozzle (step 1000). As described above, the paste is supplied until the predetermined amount is reached by opening the opening / closing valve 9 with the switching valve 10 shown in FIG. 1 opened to the atmosphere.
[0050]
(Step B) Next, the process proceeds to step 1100 for mounting the substrate. This operation can be performed in parallel with the supply of the paste into the nozzle, and the waiting time for the supply of the paste can be reduced.
[0051]
(Step C) The table 2 is moved to the upstream end. The substrate to be applied is mounted on the Y-axis and the θ-axis at the position of zero center at almost the center of the table surface by the external transfer machine, and the suction is fixed with the ribs substantially parallel to the X-axis direction of the table. As the external transfer device, for example, a multi-axis robot is used, and the substrate is horizontally held on the table by the arm of the robot. The table is provided with a plurality of pins that can be moved up and down. The pins are raised to receive the substrate, and the arm is retracted to lower the pins to receive the substrate on the table surface. Note that the parallel setting of the rib and the table is performed by the centering device described in the measurement of the correction amount in step 500.
[0052]
(Step D) Next, substrate positioning in step 1200 is performed. This will be described in detail with reference to FIG. The table 2 is moved to the positions of the alignment detection positions X and Y stored in step 502, and the alignment marks A1 and A2 of the substrate are put in the field of view of the cameras 16 and 18 (step 1201).
[0053]
(Step E) Next, the amount of displacement of the alignment mark A1 in the X and Y directions is determined based on the center of the visual field of the camera 16. Further, the amount of displacement of the alignment mark A2 in the X and Y directions from the center of the visual field of the camera 18 is obtained. Regarding the shift in the X-axis direction, a value obtained by subtracting the correction value dXA of the shift amount in the X-axis direction stored in step 507 is set as the shift amount. This shift amount is dX when the alignment mark A2 is at the position of A2 'in FIG. 4 (step 1202). The inclination of the substrate and the amount of movement of the alignment mark A1 when the inclination is corrected are obtained from the two amounts of displacement in the X-axis direction and the interval YA between the alignment marks (step 1203). According to the calculated result, the inclination of the substrate is corrected by rotating the θ axis of the table, and the X and Y axes are moved to align the alignment mark A1 with the center of the visual field of the camera 16 (step 1204).
[0054]
(Step F) At this time, since the reference groove of the substrate is observed in the field of view of the camera 17, the center position of the groove that matches the image of the reference groove registered in step 508 is determined, and The position ΔYS in the Y-axis direction is measured. (Step 1205). Then, by moving the Y axis of the table 2 by a value obtained by subtracting this ΔYS from the nozzle Y axis position ΔY measured and stored in step 804, the position in the Y axis direction between the reference hole of the nozzle and the center of the reference groove of the substrate is determined. Match (step 1206).
[0055]
(Step G) Next, the X-axis coordinate of the table 2 corresponding to the position in the X-axis direction, that is, the application start position and the end position is calculated. By adding the distance XO between the substrate positioning camera and the nozzle stored in step 805 and the current X-axis coordinate value to each of the coating start position and the end position set in step 302, the relative value to the alignment mark is automatically obtained. Is temporarily stored as the paste discharge position and the stop position (step 1207). The temporary storage is performed because the calculation data of the paste discharge and stop positions is updated because the X-axis coordinate changes each time the substrate is positioned.
[0056]
(Step H) When the positioning of the substrate is completed, the operation proceeds to paste application (step 1300). Confirm that the supply of the paste into the nozzle is completed (if not completed, wait), and move the X axis of the table from the positioning position of the substrate in the downstream direction at a pre-programmed speed. The paste is discharged from the nozzle when the X-axis coordinate reaches a paste discharge position having a correlation with one or both of the temporarily stored alignment marks A1 and A3, and the discharge is stopped when the discharge stop position is reached. The discharge and stop of the paste are performed by the switching valve 10 shown in FIG. Here, the speed programmed in advance is, for example, a high-speed movement up to slightly before the paste discharge position, a low-speed movement near the discharge position and the discharge stop position, and a constant speed movement at a medium speed during the discharge, until the start of coating. In addition to reducing the time, the operation is performed so as to uniformly finish the application state from the paste application start end to the paste application end. If the speed and the switching position of the speed can be set from the control unit input, the application state can be easily adjusted.
[0057]
(Step I) By the way, it is known that a more uniform coating state can be obtained by keeping the distance between the nozzle and the substrate within a predetermined range during the discharge of the paste. Also in the present embodiment, it is easy to provide a sensor for detecting the displacement of the substrate surface on the upstream side of the nozzle and control the Z-axis transport unit by this signal to keep the distance between the substrate surface and the nozzle constant. It is.
[0058]
(Step J) Even after the application to the predetermined rib pattern area of the first surface is completed, the application is continuously performed to the rib pattern area of the second surface while the ejection is continued. At this time, it is preferable that the relationship between the nozzle hole position and the groove position of the rib pattern area on the second side is previously stored as internal information, and the fine adjustment of the position with respect to the application on the second side is performed while the gap area is being applied. Execute. In addition, a peelable sheet is formed by attaching a tape or the like to which a slight amount of adhesive is applied between gap regions that are portions that the user does not want to apply, for example, a rib pattern region on the first and second surfaces. After applying, it is also possible to remove the applied paste to remove the applied paste. This tape-shaped sheet may be peeled after applying three colors, or may be peeled for each color.
[0059]
(Step K) When the coating is completed, the process proceeds to substrate discharge (step 1400). To discharge the substrate, the table is moved to the downstream end, the sucked substrate is released, and the pins are lifted and taken out by the transfer machine. By arranging one transfer machine exclusively for loading the substrate on the upstream side and discharging it on the downstream side, the substrate to be applied next can be prepared during the discharging of the substrate, so that the tact from the loading of the substrate to the discharging can be shortened. it can. When the substrate is discharged, a series of operations is completed, and it is determined whether to stop the operation (step 1500). The determination of the stop is made, for example, by setting the number of substrates to be applied in advance in the control unit and subtracting each time one substrate is applied, and ending the process when it becomes zero. In the case of successive application to a substrate having the same specifications, the process starts from paste supply in step 1000.
[0060]
Example 2
(Step A) When starting the application, first, the paste is supplied into the nozzle (step 1000). As described above, the paste is supplied until the predetermined amount is reached by opening the opening / closing valve 9 with the switching valve 10 shown in FIG. 1 opened to the atmosphere.
[0061]
(Step B) Next, the process proceeds to step 1100 for mounting the substrate. This operation can be performed in parallel with the supply of the paste into the nozzle, and the waiting time for the supply of the paste can be reduced.
[0062]
(Step C) The table 2 is moved to the upstream end. The substrate to be applied is mounted on the Y-axis and the θ-axis at the position of zero center at almost the center of the table surface by the external transfer machine, and the suction is fixed with the ribs substantially parallel to the X-axis direction of the table. As the external transfer device, for example, a multi-axis robot is used, and the substrate is horizontally held on the table by the arm of the robot. The table is provided with a plurality of pins that can be moved up and down. The pins are raised to receive the substrate, and the arm is retracted to lower the pins to receive the substrate on the table surface. Note that the parallel setting of the rib and the table is performed by the centering device described in the measurement of the correction amount in step 500.
[0063]
(Step D) Next, substrate positioning in step 1200 is performed. This will be described in detail with reference to FIG. The table 2 is moved to the positions of the alignment detection positions X and Y stored in step 502, and the alignment marks A1 and A2 of the substrate are put in the field of view of the cameras 16 and 18 (step 1201).
[0064]
(Step E) Next, the amount of displacement of the alignment mark A1 in the X and Y directions is determined based on the center of the visual field of the camera 16. Further, the amount of displacement of the alignment mark A2 in the X and Y directions from the center of the visual field of the camera 18 is obtained. Regarding the shift in the X-axis direction, a value obtained by subtracting the correction value dXA of the shift amount in the X-axis direction stored in step 507 is set as the shift amount. This shift amount is dX when the alignment mark A2 is at the position of A2 'in FIG. 4 (step 1202). The inclination of the substrate and the amount of movement of the alignment mark A1 when the inclination is corrected are obtained from the two amounts of displacement in the X-axis direction and the interval YA between the alignment marks (step 1203). According to the calculated result, the inclination of the substrate is corrected by rotating the θ axis of the table, and the X and Y axes are moved to align the alignment mark A1 with the center of the visual field of the camera 16 (step 1204).
[0065]
(Step F) At this time, since the reference groove of the substrate is observed in the field of view of the camera 17, the center position of the groove that matches the image of the reference groove registered in step 508 is determined, and The position ΔYS in the Y-axis direction is measured. (Step 1205). Then, by moving the Y axis of the table 2 by a value obtained by subtracting this ΔYS from the nozzle Y axis position ΔY measured and stored in step 804, the position in the Y axis direction between the reference hole of the nozzle and the center of the reference groove of the substrate is determined. Match (step 1206).
[0066]
(Step G) Next, the X-axis coordinate of the table 2 corresponding to the position in the X-axis direction, that is, the application start position and the end position is calculated. By adding the distance XO between the substrate positioning camera and the nozzle stored in step 805 and the current X-axis coordinate value to each of the coating start position and the end position set in step 302, the relative value to the alignment mark is automatically obtained. Are temporarily stored as the paste discharge position and the stop position (step 1207). The temporary storage is performed because the calculation data of the paste discharge and stop positions is updated because the X-axis coordinate changes each time the substrate is positioned.
[0067]
(Step H) When the positioning of the substrate is completed, the operation proceeds to paste application (step 1300). Confirm that the supply of the paste into the nozzle is completed (if not completed, wait), and move the X axis of the table from the positioning position of the substrate in the downstream direction at a pre-programmed speed. The paste is discharged from the nozzle when the X-axis coordinate reaches a paste discharge position having a correlation with one or both of the temporarily stored alignment marks A1 and A3, and the discharge is stopped when the discharge stop position is reached. The discharge and stop of the paste are performed by the switching valve 10 shown in FIG. Here, the speed programmed in advance is, for example, a high-speed movement up to slightly before the paste discharge position, a low-speed movement near the discharge position and the discharge stop position, and a constant speed movement at a medium speed during the discharge, until the start of coating. In addition to reducing the time, the operation is performed so as to uniformly finish the application state from the paste application start end to the paste application end. If the speed and the switching position of the speed can be set from the control unit input, the application state can be easily adjusted.
[0068]
(Step Ia) The same operation as in Example 1 is performed except that the gap region is not coated. Therefore, when the application of the first surface is completed, the alignment of the second surface is performed. In this operation, the operation after step 1200 described above is executed. At this time, the alignment marks treat A5 and A6 in the same manner as A1 and A2 described above. Alternatively, A5 and A6 may be measured before application on the first side, and only the position adjustment may be performed before actual application. The rib pattern areas on the first and second surfaces have the same coating pattern (coating liquid discharge start / stop position) with respect to the relative position based on the respective alignment marks, and have the same coating speed (X direction), coating liquid pressure, The relative height of the nozzles and the like correspond to a delicate difference in the finished rib pattern area, and therefore, for example, only the coating liquid pressure may be different. In other words, in the rib pattern area on the second surface, the coating pattern is developed by regarding the alignment marks A5 to A8 as the first surfaces A1 to A4, respectively.
[0069]
(Step Ja) Here, although not shown, when applying to a plurality of members in one substrate, the vicinity of the exit of the nozzle hole is sufficiently wiped, and the paste is discharged to the first rib pattern region. It is also important to make the same situation in the next rib pattern area.
[0070]
(Step K) When the coating is completed, the process proceeds to substrate discharge (step 1400). To discharge the substrate, the table is moved to the downstream end, the sucked substrate is released, and the pins are lifted and taken out by the transfer machine. By arranging one transfer machine exclusively for loading the substrate on the upstream side and discharging it on the downstream side, the substrate to be applied next can be prepared during the discharging of the substrate, so that the tact from the loading of the substrate to the discharging can be shortened. it can. When the substrate is discharged, a series of operations is completed, and it is determined whether to stop the operation (step 1500). The determination of the stop is made, for example, by setting the number of substrates to be applied in advance in the control unit and subtracting each time one substrate is applied, and ending the process when it becomes zero. In the case of successive application to a substrate having the same specifications, the process starts from paste supply in step 1000.
Example 3
FIG. 11 shows, for example, a case where there are two rib pattern regions on a substrate, and two nozzles are arranged in the same number as the number of rib pattern regions. For example, more members and nozzles may be arranged, and it is also possible to select an optimal arrangement in terms of cost and the like. Although not shown, each nozzle has a nozzle wiping means, and the wiping operation can be performed independently of each other.
[0071]
Each of the nozzles has a function of accurately adjusting the interval between A1 and A5 of the alignment mark so that the coating operation can be performed simultaneously on two different rib patterns. In the first and second embodiments, the position adjustment in the Y direction is performed only by the stage 2. In the present embodiment, each nozzle is also moved in the Y direction. This is because the positional relationship between the respective nozzles is adjusted in advance in the Y direction as well as the positional relationship between the grooves in order to apply the respective positional relationships between the nozzles when the nozzles are mounted.
[0072]
(Step A ′) When starting the application, first, the paste is supplied into a plurality of nozzles (Step 1000). As described above, the paste is supplied until the predetermined amount is reached by opening the opening / closing valve 9 with the switching valve 10 shown in FIG. 1 opened to the atmosphere.
[0073]
(Step B) Next, the process proceeds to step 1100 for mounting the substrate. This operation can be performed in parallel with the supply of the paste into the nozzle, and the waiting time for the supply of the paste can be reduced.
[0074]
(Step C) The table 2 is moved to the upstream end. The substrate to be applied is mounted on the Y-axis and the θ-axis at the position of zero center at almost the center of the table surface by the external transfer machine, and the suction is fixed with the ribs substantially parallel to the X-axis direction of the table. As the external transfer device, for example, a multi-axis robot is used, and the substrate is horizontally held on the table by the arm of the robot. The table is provided with a plurality of pins that can be moved up and down. The pins are raised to receive the substrate, and the arm is retracted to lower the pins to receive the substrate on the table surface. Note that the parallel setting of the rib and the table is performed by the centering device described in the measurement of the correction amount in step 500.
[0075]
(Step D) Next, substrate positioning in step 1200 is performed. This will be described in detail with reference to FIG. The table 2 is moved to the positions of the alignment detection positions X and Y stored in step 502, and the alignment marks A1 and A2 of the substrate are put in the field of view of the cameras 16 and 18 (step 1201).
[0076]
(Step E) Next, the amount of displacement of the alignment mark A1 in the X and Y directions is determined based on the center of the visual field of the camera 16. Further, the amount of displacement of the alignment mark A2 in the X and Y directions from the center of the visual field of the camera 18 is obtained. Regarding the shift in the X-axis direction, a value obtained by subtracting the correction value dXA of the shift amount in the X-axis direction stored in step 507 is set as the shift amount. This shift amount is dX when the alignment mark A2 is at the position of A2 'in FIG. 4 (step 1202). The inclination of the substrate and the amount of movement of the alignment mark A1 when the inclination is corrected are obtained from the two amounts of displacement in the X-axis direction and the interval YA between the alignment marks (step 1203). According to the calculated result, the inclination of the substrate is corrected by rotating the θ axis of the table. By moving the Y axis, the alignment mark A1 is aligned with the center of the field of view of the camera 16 (step 1204).
[0077]
(Step F) At this time, since the reference groove of the substrate is observed in the field of view of the camera 17, the center position of the groove that matches the image of the reference groove registered in step 508 is determined, and The position ΔYS in the Y-axis direction is measured. (Step 1205). Then, by moving the Y axis of the table 2 by a value obtained by subtracting this ΔYS from the nozzle Y axis position ΔY measured and stored in step 804, the position in the Y axis direction between the reference hole of the nozzle and the center of the reference groove of the substrate is determined. Match (step 1206).
[0078]
(Step Fa) Here, thereafter, the X axis is further moved to put the alignment of A5A6 into view. The same operation as described above is performed for the rib pattern area on the second surface. In addition, similarly to the case where each nozzle has the function of adjusting the distance between A1 and A5 of the alignment mark in the same manner, a plurality of cameras for recognizing the respective alignment positions are similarly installed, and each of the cameras is arranged in the X axis direction On the other hand, by making them relatively the same, an alignment reading operation can be simultaneously performed in a plurality of rib pattern regions. When the difference in the Y-direction position exceeds a predetermined amount from the alignment information of A1A2 and the alignment information of A5A6, the position of each nozzle in the Y-direction can be moved to the position where the error becomes smallest. preferable.
[0079]
(Step G) Next, the X-axis coordinate of the table 2 corresponding to the position in the X-axis direction, that is, the application start position and the end position is calculated. The substrate positioning camera and the distance XO between the nozzles and the current X-axis coordinate value stored and stored in step 805 are added to each of the application start position and the end position set in step 302, and temporarily stored as the paste discharge position and the stop position. (Step 1207). The temporary storage is performed because the calculation data of the paste discharge and stop positions is updated because the X-axis coordinate changes each time the substrate is positioned.
[0080]
(Step H ′) When the positioning of the substrate is completed, the operation proceeds to the operation of paste application (step 1300). Confirm that the supply of the paste into the nozzle is completed (if not completed, wait), and move the X axis of the table from the positioning position of the substrate in the downstream direction at a pre-programmed speed. When the X-axis coordinate reaches the temporarily stored paste discharge position, the paste is discharged from the nozzle, and when the X-axis coordinate reaches the discharge stop position, the discharge is stopped. The discharge and stop of the paste are performed by the switching valve 10 shown in FIG. Here, the speed programmed in advance is, for example, a high-speed movement up to slightly before the paste discharge position, a low-speed movement near the discharge position and the discharge stop position, and a constant speed movement at a medium speed during the discharge, until the start of coating. In addition to reducing the time, the operation is performed so as to uniformly finish the application state from the paste application start end to the paste application end. If the speed and the switching position of the speed can be set from the control unit input, the application state can be easily adjusted.
[0081]
(Step Ia) In these operations, the positional relationship of the nozzles is made relatively the same with respect to the position of the alignment mark of each member, so that a single member can be processed with one nozzle. Can be executed without having multiple pieces of information. Alternatively, it can be executed with only each fine adjustment based on at least one piece of basic information. This saves a great amount of time when it is necessary to construct application information independently.
[0082]
(Step K) When the coating is completed, the process proceeds to substrate discharge (step 1400). To discharge the substrate, the table is moved to the downstream end, the sucked substrate is released, and the pins are lifted and taken out by the transfer machine. By arranging one transfer machine exclusively for loading the substrate on the upstream side and discharging it on the downstream side, the substrate to be applied next can be prepared during the discharging of the substrate, so that the tact from the loading of the substrate to the discharging can be shortened. it can. When the substrate is discharged, a series of operations is completed, and it is determined whether to stop the operation (step 1500). The determination of the stop is made, for example, by setting the number of substrates to be applied in advance in the control unit and subtracting each time one substrate is applied, and ending the process when it becomes zero. In the case of successive application to a substrate having the same specifications, the process starts from paste supply in step 1000.
[0083]
In all of the above-described embodiments, the stage is moved and the nozzle is moved only in the height direction. However, if the relative positional relationship between the substrate and the nozzle is the same, the nozzle becomes: It may move in the X direction or the Y direction. The same applies to cameras.
[0084]
【The invention's effect】
As is clear from the above description, it is easy to apply a paste to a substrate on which a plurality of members are formed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view of an entire coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic view showing an example of a substrate on which a paste is applied.
FIG. 3 is a schematic view of a part of the apparatus shown in FIG. 1 as viewed from above and from the side.
FIG. 4 is a view for explaining a method of measuring a measurement position shift amount in a correction amount measurement step of FIG. 8;
FIG. 5 is a flowchart showing an entire adjustment and coating operation of the apparatus shown in FIG. 1;
FIG. 6 is a flowchart showing details of a reference position adjusting step in FIG. 5;
FIG. 7 is a flowchart showing details of an initial setting step in FIG. 5;
FIG. 8 is a flowchart showing details of a correction amount measuring step in FIG. 5;
FIG. 9 is a flowchart illustrating details of a nozzle position measurement step in FIG. 5;
FIG. 10 is a flowchart showing details of a substrate positioning step in FIG. 5;
FIG. 11 is a schematic perspective view of the entire coating apparatus in which a plurality of nozzles are arranged according to an embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1: substrate
2: Table
3: Y-axis transport unit
3a, 3b: Linear guide
4: X-axis transport unit
4a, 4b: Linear guide
5: Machine stand
6: Support base
6a, 6b: Linear guide
7a, 7b: Z-axis transport unit
8: Nozzle
9: Open / close valve
10: Switching valve
11: Paste tank
12: Gas pressure source
13: Y1 transport unit
14: Y2 transport unit
15: Y3 transport unit
16-18: Camera (board position measuring means)
19: Camera (nozzle position measuring means)
20: fiducial mark

Claims (6)

基板上に、並列して形成されたリブを有するリブパターン領域が存在し、該リブの間の溝へ、吐出孔からペーストを吐出する際に、吐出孔と基板を相対移動させて、塗布する塗布方法において、該リブパターン領域が複数存在し、かつ該リブパターン領域の間は間隙領域により隔てられており、該間隙領域にもペーストを塗布することを特徴とする塗布方法。On the substrate, there is a rib pattern region having ribs formed in parallel, and when the paste is discharged from the discharge holes to the grooves between the ribs, the discharge holes and the substrate are relatively moved and coated. In a coating method, a plurality of the rib pattern regions are present, and the rib pattern regions are separated by a gap region, and a paste is also applied to the gap region. 該間隙領域には、剥離可能なシートを形成し、ペーストを塗布した後、該シートを剥離することを特徴とする請求項1に記載の塗布方法。The coating method according to claim 1, wherein a peelable sheet is formed in the gap region, and the paste is applied, and then the sheet is peeled. 基板上に、並列して形成されたリブを有するリブパターン領域が存在し、該リブの間の溝へ、吐出孔からペーストを吐出する際に、吐出孔と基板を相対移動させて、塗布する塗布方法において、該リブパターン領域が複数存在し、かつ該リブパターン領域の間は間隙領域により隔てられており、該塗布をする前に、該吐出孔位置と該溝中央を一致調整すると同時に、それぞれの該溝との位置に関連付けられた該基板上に付されたマークを基準にして、それぞれのリブパターン領域に対して、相対的に実質同一場所から塗布を開始することを特徴とする塗布方法。On the substrate, there is a rib pattern region having ribs formed in parallel, and when the paste is discharged from the discharge holes to the grooves between the ribs, the discharge holes and the substrate are relatively moved and coated. In the coating method, a plurality of the rib pattern regions are present, and the rib pattern regions are separated by a gap region, and before performing the coating, at the same time as adjusting the position of the ejection hole and the center of the groove, Coating is started relative to the respective rib pattern regions from substantially the same location relative to the mark provided on the substrate associated with the position of each groove. Method. 基板上に、並列して形成された溝と該溝に挟まれたリブが存在するリブパターン領域を複数有する基板において、該溝へノズル内に蓄えたペーストを吐出孔から吐出させながら、ノズルと基板を相対移動させて、ペーストを塗布する塗布装置において、二つ以上のノズルを配置して、それぞれのノズル孔位置と塗布すべき溝中央を一致調整し、それぞれの該リブとの位置に関連付けられた基板上のマークを基準にして、相対的に実質同一場所から塗布を開始することを特徴とする塗布装置。On a substrate, on a substrate having a plurality of rib pattern regions in which grooves formed in parallel and ribs interposed between the grooves are formed, the nozzles are discharged into the grooves by discharging the paste stored in the nozzles from the discharge holes. In a coating apparatus that applies a paste by relatively moving a substrate, two or more nozzles are arranged, and the position of each nozzle hole is adjusted to coincide with the center of a groove to be applied, and is associated with the position of each of the ribs. A coating apparatus that starts coating from substantially the same location relative to the mark on the substrate. ノズル拭取り手段が、ノズルと同一の数設置され、それぞれ独立に拭取り動作が可能であることを特徴とする請求項4に記載の塗布装置。The coating apparatus according to claim 4, wherein the same number of nozzle wiping units as the number of nozzles are provided, and wiping operations can be performed independently of each other. 二つ以上のノズルで、それぞれ異なるリブパターン領域に、同時に塗布を実施可能な機構を有することを特徴とする請求項4に記載の塗布装置。The coating apparatus according to claim 4, further comprising a mechanism capable of simultaneously performing coating on different rib pattern regions with two or more nozzles.
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