JPH11239751A - Method and apparatus for applying coating liquid on uneven substrate, method and apparatus for producing plasma display - Google Patents
Method and apparatus for applying coating liquid on uneven substrate, method and apparatus for producing plasma displayInfo
- Publication number
- JPH11239751A JPH11239751A JP6044698A JP6044698A JPH11239751A JP H11239751 A JPH11239751 A JP H11239751A JP 6044698 A JP6044698 A JP 6044698A JP 6044698 A JP6044698 A JP 6044698A JP H11239751 A JPH11239751 A JP H11239751A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating liquid
- uneven
- substrate
- stripe
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に凹凸状の
特定のパターンが形成されたもの、特に一定形状の隔壁
を等ピッチで配置したプラズマディスプレイパネルや、
ストライプ形ブラックマトリックス式のカラー受像管の
パネル内面等における一定パターンの塗布に適用でき
る、凹凸基板への塗液の塗布装置および塗布方法、並び
にこれらの装置および方法を使用したプラズマディスプ
レイの製造装置および製造方法の改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel having a specific pattern of concavities and convexities formed on a substrate, in particular, a plasma display panel having fixed-shaped partition walls arranged at equal pitches,
Apparatus and method for applying a coating liquid to a concavo-convex substrate, which can be applied to the application of a constant pattern on the inner surface of a panel of a color picture tube of a stripe type black matrix type, a plasma display manufacturing apparatus using these apparatuses and methods, and It relates to improvement of a manufacturing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ディスプレイはその方式において
次第に多様化してきている。現在注目されているものの
一つが、従来のブラウン管よりも大型で薄型軽量化が可
能なプラズマディスプレイである。これは、一定ピッチ
で一方向に延びる隔壁によりストライプ状の凹凸部をガ
ラス基板上に形成し、該凹凸部の凹部に赤(R)、緑
(G)、青(B)の蛍光体を充填し、任意の部位を紫外
線により発光させ、所定のカラーパターンを達成するも
のである。2. Description of the Related Art In recent years, displays have become increasingly diversified in their system. One of the things that are currently attracting attention is a plasma display that is larger, thinner and lighter than conventional cathode ray tubes. That is, stripe-shaped uneven portions are formed on a glass substrate by partition walls extending in one direction at a constant pitch, and the concave portions of the uneven portions are filled with red (R), green (G), and blue (B) phosphors. Then, an arbitrary portion is caused to emit light by ultraviolet rays to achieve a predetermined color pattern.
【0003】蛍光体がストライプ状に構成されていると
いう構造は、ストライプ形ブラックマトリックス式のカ
ラー受像管のパネルも有している。The structure in which the phosphors are formed in a stripe shape also has a striped black matrix type color picture tube panel.
【0004】このような構造のものを高い生産性と高品
質で製造するには、蛍光体を一定のパターン状に、塗り
分ける技術が重要となる。In order to manufacture such a structure with high productivity and high quality, it is important to apply phosphors in a predetermined pattern.
【0005】通常は、隔壁パターンを形成後、特開平5
−144375号公報に示されるように一色の蛍光体を
全面スクリーン印刷し、必要な部分のみフォトリソグラ
フィー法で残すようにして、高精度のパターンが得られ
るようにしている。しかし、この方法では、R、G、B
の各蛍光体パターンを形成するために、各色の塗布、露
光、現像、乾燥等の工程を3回繰り返す必要があり、コ
ストがかかる上、生産性に著しく劣るという欠点を持
つ。Usually, after a partition pattern is formed,
As shown in JP-A-144375, a phosphor of one color is screen-printed on the entire surface, and only a necessary portion is left by photolithography so that a highly accurate pattern can be obtained. However, in this method, R, G, B
In order to form each of the phosphor patterns described above, it is necessary to repeat the steps of coating, exposing, developing, and drying each color three times, which is costly and has a disadvantage that productivity is extremely poor.
【0006】単にガラス基板上にストライプ状の着色パ
ターンを形成する他の方法としては、ノズルを用いる特
開平5−11105号公報や特開平5−142407公
報等に記載されている方法があるが、表面が平坦な基板
を対象に先端が平坦なノズルで3色同時に塗布するもの
であるため、表面に凹凸が形成されているものに対して
はこの技術をそのまま用いることはできない。As another method of simply forming a striped colored pattern on a glass substrate, there is a method described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 5-1105 and 5-142407 using a nozzle. Since three colors are simultaneously applied to a substrate having a flat surface by a nozzle having a flat tip, this technique cannot be used as it is for a substrate having a surface having irregularities.
【0007】また、特開昭52−134368号公報、
特開昭54−13250号公報、特開昭54−1325
1号公報等には、ストライプ形ブラックマトリックス式
のカラー受像管のパネル内面の、凸状となっているブラ
ックマトリックス間の凹部に所定の蛍光体を塗布する方
法として、蛇行防止等の制御装置を有する改良されたノ
ズル装置を用いることが示されている。しかし、一本の
ノズルを用いているために、表面の複数の凹凸部に対し
て同時に塗布する方法には適用できず、一本のノズルに
よる塗布のために時間がかかるという問題がある。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-134368,
JP-A-54-13250, JP-A-54-1325
No. 1 Publication and the like discloses a control device for preventing meandering or the like as a method of applying a predetermined phosphor to a concave portion between convex black matrices on the inner surface of a panel of a striped black matrix type color picture tube. It has been shown to use an improved nozzle arrangement having However, since a single nozzle is used, the method cannot be applied to a method of simultaneously applying to a plurality of uneven portions on the surface, and there is a problem that it takes time to apply using a single nozzle.
【0008】また、ノズルを用いて平坦な基板上にスト
ライプ状に隔壁を形成する技術が特開平9−92134
号公報に開示されているが、基板上に既に凹凸部が形成
されており、その凹凸部の凹部に沿うように塗液を精度
良く塗布していく工程には採用し難い。Japanese Patent Laid-Open No. 9-92134 discloses a technique of forming partition walls in a stripe pattern on a flat substrate using a nozzle.
Although it is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-157, it is difficult to employ a process in which a coating liquid is applied with high accuracy along a concave portion of the uneven portion because the uneven portion is already formed on the substrate.
【0009】すなわち、本発明においては、表面に一方
向にストライプ状に一定ピッチで凹凸部が形成されてい
る凹凸基材の凹部に、複数の開口部(吐出孔)をもつノ
ズルで塗液をストライプ状に精度良く塗布することを前
提とするものであるが、とくに、このような複数の吐出
孔をもつノズルで、凹凸基材の凹部に沿って、つまり、
凹凸基材の凹部の方向(ストライプの方向)や凹部との
相対位置関係を所定の位置関係に保ちつつ、塗液を精度
良く塗布していく技術は開示されていない。That is, in the present invention, a coating liquid is applied to a concave portion of an uneven base material having uneven portions formed at a constant pitch in a stripe shape in one direction on the surface by a nozzle having a plurality of openings (discharge holes). It is premised that the coating is performed in a striped shape with high accuracy, but in particular, with a nozzle having such a plurality of discharge holes, along the concave portion of the uneven substrate, that is,
There is no disclosure of a technique for accurately applying a coating liquid while maintaining a predetermined positional relationship between a direction of a concave portion (a direction of a stripe) of a concave-convex substrate and a relative positional relationship with the concave portion.
【0010】また、このような塗布を伴うプラズマディ
スプレイ等の工業的製造工程においては、その塗布が繰
り返し行われることになるが、最初に塗液をストライプ
状に試し塗りして、それをその後の繰り返し塗布のため
の位置決めの基準にできれば、大量生産の際の凹凸基材
の凹部の位置決めや、ノズルの開口部と凹凸基材の凹部
との相対的な位置決めが、極めて容易にかつ効率よく行
える可能性があるが、このような提案もなされていな
い。[0010] In an industrial manufacturing process of a plasma display or the like that involves such coating, the coating is repeatedly performed. First, a coating liquid is trial-coated in a stripe shape, and the coating liquid is then applied. If it can be used as a reference for positioning for repeated application, positioning of the concave portion of the concave and convex base material during mass production and relative positioning between the nozzle opening and the concave portion of the concave and convex base material can be performed extremely easily and efficiently. There is a possibility, but no such proposal has been made.
【0011】さらに、凹凸基材の凸部の高さは、実際に
はかなりの大きさで変動するために、それに対応してノ
ズル位置を上下させないと安定して凹部のみに塗布する
ことは困難であるが、長期の生産に有効な具体的な技術
手段は開示されていない。Further, since the height of the projections of the uneven substrate actually fluctuates by a considerable amount, it is difficult to stably apply only the recesses unless the nozzle position is raised or lowered correspondingly. However, no specific technical means effective for long-term production is disclosed.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、プラズマディスプレイの隔壁のように、表面に一方
向にストライプ状に一定ピッチで凹凸部が形成された凹
凸基材の凹部に、とくに凹部の延在方向に沿って容易に
精度良く、かつ、均一に塗布することができ、それによ
って高生産性と高品質を実現できる、凹凸基材への塗液
の塗布装置および塗布方法並びにプラズマディスプレイ
の製造装置および製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a concave portion of an irregular base material having irregularities formed at a constant pitch in one direction on the surface, such as a partition of a plasma display, Apparatus and method for applying a coating liquid to an uneven substrate, and a plasma display, which can be easily and accurately applied uniformly along the extending direction of the substrate, thereby realizing high productivity and high quality. To provide a manufacturing apparatus and a manufacturing method.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の凹凸基材への塗液の塗布装置は、表面に一
方向にストライプ状に一定ピッチで凹凸部が形成されて
いる凹凸基材を固定するテーブルと、凹凸基材の凹凸部
と対面して複数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液
吐出装置に塗液を供給する供給手段と、テーブルと塗液
吐出装置を3次元的に相対移動させる移動手段とを備え
た凹凸基材への塗液の塗布装置において、凹凸基材のス
トライプ方向を直接または間接的に検知するストライプ
方向検知手段と、塗液吐出装置の開口部の位置を直接ま
たは間接的に検知する開口部検知手段と、塗液吐出装置
の開口部の凹凸基材の凹部に対する相対位置を検知する
相対位置検知手段と、塗液吐出装置の開口部の位置を凹
凸基材の凹部に位置決めするとともに、検知した凹凸基
材のストライプ方向に沿って塗液吐出装置の開口部が凹
凸基材の凹部に対し相対的に移動するように制御する制
御手段とを有することを特徴とするものからなる(第1
の装置)。In order to solve the above-mentioned problems, an apparatus for applying a coating solution to an uneven substrate according to the present invention has uneven portions formed on a surface thereof at a constant pitch in a stripe shape in one direction. A table for fixing the uneven substrate, a coating liquid ejection device having a plurality of openings facing the uneven portions of the uneven substrate, supply means for supplying the coating liquid to the coating liquid ejection device, a table and the coating liquid ejection A coating liquid applying apparatus for applying a coating liquid to an uneven base material, comprising a moving means for relatively moving the apparatus three-dimensionally; a stripe direction detecting means for directly or indirectly detecting a stripe direction of the uneven base material; An opening detecting means for directly or indirectly detecting the position of the opening of the apparatus, a relative position detecting means for detecting a relative position of the opening of the coating liquid discharging device with respect to the concave portion of the uneven substrate, and a coating liquid discharging device. The position of the opening is in the recess of the uneven substrate And control means for controlling the opening of the coating liquid ejection device to move relative to the concave portion of the uneven substrate along the detected stripe direction of the uneven substrate. Consisting of (first
Equipment).
【0014】また、本発明に係る凹凸基材への塗液の塗
布装置は、表面に一方向にストライプ状に一定ピッチで
凹凸部が形成されている凹凸基材を固定するテーブル
と、凹凸基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有する
塗液吐出装置と、塗液吐出装置に塗液を供給する供給手
段と、テーブルと塗液吐出装置を3次元的に相対移動さ
せる移動手段とを備えた凹凸基材への塗液の塗布装置に
おいて、凹凸基材のストライプ方向を直接または間接的
に検知するストライプ方向検知手段と、塗液吐出装置の
開口部の位置を直接または間接的に検知する開口部検知
手段と、検知したストライプ方向が塗液の塗布方向に平
行なるように凹凸基材の設置位置を修正する修正手段
と、塗液吐出装置の開口部の凹凸基材の凹部に対する相
対位置を検知する相対位置検知手段と、塗液吐出装置の
開口部の位置を凹凸基材の凹部に位置決めする制御手段
とを有することを特徴とするものからなる(第2の装
置)。Further, according to the present invention, there is provided an apparatus for applying a coating liquid onto an uneven base material, comprising: a table for fixing an uneven base material having uneven portions formed on a surface thereof in one direction in a stripe shape at a constant pitch; A coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the concave and convex portions of the material, supply means for supplying the coating liquid to the coating liquid discharge device, and moving means for relatively moving the table and the coating liquid discharge device three-dimensionally In a device for applying a coating liquid to an uneven base material having: a stripe direction detecting means for directly or indirectly detecting the stripe direction of the uneven base material, and the position of the opening of the coating liquid discharging device being directly or indirectly detected. And a correcting means for correcting the installation position of the uneven substrate so that the detected stripe direction is parallel to the application direction of the coating liquid, and a concave portion of the uneven substrate at the opening of the coating liquid discharge device. Relative position to detect relative position A location detection means, consisting of those and having a control means for positioning the concave portion of the uneven substrate the position of the opening of the coating liquid discharge apparatus (second apparatus).
【0015】さらに、本発明に係る凹凸基材への塗液の
塗布装置は、表面に一方向にストライプ状に一定ピッチ
で凹凸部が形成されている凹凸基材を固定するテーブル
と、凹凸基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有する
塗液吐出装置と、塗液吐出装置に塗液を供給する供給手
段と、テーブルと塗液吐出装置を3次元的に相対移動さ
せる移動手段とを備えた凹凸基材への塗液の塗布装置に
おいて、表面が平坦な平滑基材上に一旦塗液吐出装置か
ら塗液を吐出して塗液のストライプを形成し、この塗液
のストライプ方向を検知する塗液ストライプ検知手段
と、検知した塗液のストライプ方向と凹凸基材の凹凸部
のストライプ方向を概略一致させるすストライプ方向一
致化手段とを有することを特徴とするものからなる(第
3の装置)。Further, the apparatus for applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention comprises a table for fixing an uneven substrate having uneven portions formed on the surface thereof in one direction in a stripe pattern at a constant pitch, A coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the concave and convex portions of the material, supply means for supplying the coating liquid to the coating liquid discharge device, and moving means for relatively moving the table and the coating liquid discharge device three-dimensionally In a coating apparatus for applying a coating liquid to an uneven base material provided with a coating liquid, the coating liquid is once discharged from a coating liquid discharging apparatus onto a smooth substrate having a flat surface to form a coating liquid stripe. A coating liquid stripe detecting means for detecting the direction, and a stripe direction matching means for substantially matching the detected stripe direction of the coating liquid with the stripe direction of the uneven portion of the uneven base material ( Third device).
【0016】この第3の装置においては、さらに、塗液
のストライプの位置を検知する塗液ストライプ位置検知
手段と、検知した塗液のストライプ位置に凹凸基材の任
意の凹部を一致させる制御手段とを有することが好まし
い。In the third apparatus, further, a coating liquid stripe position detecting means for detecting the position of the coating liquid stripe, and a control means for matching an arbitrary concave portion of the uneven substrate with the detected coating liquid stripe position. It is preferable to have
【0017】さらに、第1ないし第3の装置において
は、さらに、凹凸基材の凹部底面の高さ方向の位置を検
知する手段と、凹凸基材の凹部底面から凸部頂上までの
高さに検知した凹部底面の高さ方向の位置を加算する演
算手段と、演算した値に基づいて基材の凸部頂上位置と
塗液吐出装置の開口部面との間隙を制御する間隙制御手
段とを有することが望ましい。Further, in the first to third devices, furthermore, a means for detecting a height direction position of the concave bottom surface of the concave-convex base material, and a height from the concave bottom surface to the convex top of the concave-convex substrate. Calculating means for adding the height position of the detected bottom surface of the concave portion, and gap control means for controlling the gap between the top position of the convex portion of the base material and the opening surface of the coating liquid discharge device based on the calculated value. It is desirable to have.
【0018】本発明に係る凹凸基材への塗液の塗布方法
は、表面に一方向にストライプ状に一定ピッチで凹凸部
が形成されている凹凸基材と、凹凸基材の凹凸部と対面
して複数の開口部を有する塗液吐出装置とを相対的に移
動させ、かつ前記塗液吐出装置に塗液を供給して開口部
より塗液を吐出し、凹凸基材の凹部に所定厚さ塗布する
塗布方法であって、凹凸基材のストライプ方向を直接ま
たは間接的に検知するとともに、塗液吐出装置の開口部
の位置を直接または間接的に検知して、開口部位置に凹
凸基材の凹部を位置決めするとともに、塗液吐出装置の
開口部の凹凸基材の凹部に対する相対位置を検知しつ
つ、検知した凹凸基板のストライプ方向に沿って塗液吐
出装置の開口部が凹凸基板に対し相対的に移動するよう
にして塗布することを特徴とする方法からなる(第1の
方法)。The method of applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention comprises the steps of: forming an uneven substrate having a surface on which uneven portions are formed in a stripe at a constant pitch in one direction; The coating liquid discharge device having a plurality of openings is relatively moved, and the coating liquid is supplied to the coating liquid discharge device and the coating liquid is discharged from the openings. A coating method for directly applying the stripe direction of the uneven substrate directly or indirectly, and directly or indirectly detecting the position of the opening of the coating liquid ejecting apparatus, and forming an uneven base on the opening position. While positioning the concave portion of the material, and detecting the relative position of the opening of the coating liquid discharge device with respect to the concave portion of the uneven substrate, the opening of the coating liquid discharging device is aligned with the uneven substrate along the detected stripe direction of the uneven substrate. Apply in such a way as to move relatively It consists wherein (first method).
【0019】また、本発明に係る凹凸基材への塗液の塗
布方法は、表面に一方向にストライプ状に一定ピッチで
凹凸部が形成されている凹凸基材と、凹凸基材の凹凸部
と対面して複数の開口部を有する塗液吐出装置とを相対
的に移動させ、かつ前記塗液吐出装置に塗液を供給して
開口部より塗液を吐出し、凹凸基材の凹部に所定厚さ塗
布する塗布方法であって、凹凸基材のストライプ方向を
直接または間接的に検知するとともに、塗液吐出装置の
開口部の位置を直接または間接的に検知して、検知した
ストライプ方向が塗布方向と平行になるように凹凸基材
の設置位置を修正するとともに、塗液吐出装置の開口部
の凹凸基材の凹部に対する相対位置を検知し、開口部の
位置に凹凸基材の凹部を位置決めして塗布することを特
徴とする方法からなる(第2の方法)。Further, the method for applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention comprises the steps of: forming an uneven substrate having a surface on which uneven portions are formed at a constant pitch in a stripe in one direction; And relatively moving the coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the same, and discharges the coating liquid from the openings by supplying the coating liquid to the coating liquid discharge device, and into the concave portions of the uneven substrate. A coating method of applying a predetermined thickness, wherein the stripe direction of the uneven substrate is directly or indirectly detected, and the position of the opening of the coating liquid ejection device is directly or indirectly detected, and the detected stripe direction is detected. The position of the uneven base material is corrected so that is parallel to the application direction, and the relative position of the opening of the coating liquid ejection device with respect to the concave portion of the uneven base material is detected. From the method characterized by positioning and applying That (second method).
【0020】さらに、本発明に係る凹凸基材への塗液の
塗布方法は、表面に一方向にストライプ状に一定ピッチ
で凹凸部が形成されている凹凸基材と、凹凸基材の凹凸
部と対面して複数の開口部を有する塗液吐出装置とを相
対的に移動させ、かつ前記塗液吐出装置に塗液を供給し
て開口部より塗液を吐出し、凹凸基材の凹部に所定厚さ
塗布する塗布方法であって、表面が平坦な平滑基材上に
一旦塗液吐出装置から塗液を吐出して塗液のストライプ
を形成した後に、この塗液のストライプ方向を検知し、
この塗液のストライプ方向と凹凸基材の凹凸部のストラ
イプ方向を概略一致させて塗布することを特徴とする方
法からなる(第3の方法)。Further, the method of applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention comprises the steps of: forming an uneven substrate having a surface on which uneven portions are formed at a constant pitch in a stripe shape in one direction; And relatively moving the coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the same, and discharges the coating liquid from the openings by supplying the coating liquid to the coating liquid discharge device, and into the concave portions of the uneven substrate. A coating method of applying a predetermined thickness, wherein a coating liquid is once discharged from a coating liquid discharge device to form a stripe of the coating liquid on a smooth base material having a flat surface, and the stripe direction of the coating liquid is detected. ,
The third method is characterized in that the application direction is such that the stripe direction of the coating liquid and the stripe direction of the uneven portion of the uneven substrate are substantially coincident with each other (third method).
【0021】この第3の方法においては、さらに、塗液
のストライプを形成した後に、この塗液の任意のストラ
イプの位置を検知し、検知した塗液のストライプ位置に
凹凸基材の任意の凹部を一致させて塗布することが好ま
しい。In the third method, after forming a stripe of the coating liquid, the position of an arbitrary stripe of the coating liquid is detected, and an arbitrary concave portion of the uneven substrate is placed at the detected stripe position of the coating liquid. It is preferable to apply the same.
【0022】また、第1ないし第3の方法においては、
さらに、凹凸基材の凹部底面の高さ方向の位置を検知
し、凹凸基材の凹部底面から凸部頂上までの高さに検知
した凹部底面の高さ方向の位置を加算するとともに、加
算した値に基づいて基材の凸部頂上位置と塗液吐出装置
の開口部面との間隙を一定に保って塗布することが望ま
しい。In the first to third methods,
Furthermore, the height direction position of the concave bottom surface of the concave-convex base material is detected, and the detected vertical position of the concave bottom surface is added to the height from the concave bottom surface to the convex top of the concave-convex base material. It is preferable that the gap be kept constant between the top of the convex portion of the base material and the opening surface of the coating liquid ejection device based on the value.
【0023】そして、本発明に係るプラズマディスプレ
イの製造装置は、塗液が赤色、緑色、青色のいずれかの
色に発光する蛍光体粉末を含むペーストであって、前述
のいずれかの塗液の塗布装置を用いたことを特徴とする
ものからなる。In the plasma display manufacturing apparatus according to the present invention, the coating liquid is a paste containing a phosphor powder that emits light of any one of red, green and blue colors. It is characterized by using a coating device.
【0024】また、本発明に係るプラズマディスプレイ
の製造方法は、塗液が赤色、緑色、青色のいずれかの色
に発光する蛍光体粉末を含むペーストであって、上述の
いずれかの塗液の塗布方法を用いることを特徴とする方
法からなる。Further, in the method of manufacturing a plasma display according to the present invention, the coating liquid is a paste containing a phosphor powder that emits any one of red, green and blue colors. The method is characterized by using a coating method.
【0025】上記第1の装置および方法を用いることに
より、塗液吐出装置(ノズル)の開口部の位置が検知さ
れるとともに、基材の凹凸部のストライプ方向も検知さ
れ、開口部の位置と凹凸基材の凹部との相対位置関係が
所定の関係に保たれつつ、ストライプに沿ってノズルの
開口部が相対的に精度良く移動される。したがって、塗
布の途中も常に所定の塗布精度、塗布状態に保たれ、凹
凸基材の凹部のみに高精度の塗布が可能になり、所望の
高品質の塗布基材が得られる。By using the first apparatus and method, the position of the opening of the coating liquid discharge device (nozzle) is detected, and also the direction of the stripes of the uneven portion of the base material is detected. The nozzle opening is relatively accurately moved along the stripe while the relative positional relationship with the concave portion of the uneven substrate is maintained in a predetermined relationship. Accordingly, a predetermined coating accuracy and a coating state are always maintained during the coating, and a high-precision coating can be performed only on the concave portions of the uneven substrate, and a desired high-quality coated substrate can be obtained.
【0026】また、上記第2の装置および方法を用いる
ことにより、塗液吐出装置(ノズル)の開口部の位置を
検知されるとともに、基材の凹凸部のストライプ方向も
検知され、ストライプ方向がノズルまたは基材の走行方
向と平行になるように、基材が位置決めされる。したが
って、この状態で塗布を開始あるいは続行すれば、ノズ
ルの開口部と凹凸基材の凹部とは、ストライプ方向に沿
って精度良く相対移動されることになり、凹凸基材の凹
部のみに高精度の塗布が可能になり、所望の高品質の塗
布基材が得られる。By using the second apparatus and method, the position of the opening of the coating liquid discharge device (nozzle) can be detected, and the stripe direction of the uneven portion of the substrate can be detected. The substrate is positioned so as to be parallel to the running direction of the nozzle or the substrate. Therefore, if the coating is started or continued in this state, the opening of the nozzle and the concave portion of the concave-convex base material are accurately moved relative to each other along the stripe direction. Can be applied, and a desired high-quality coated substrate can be obtained.
【0027】さらに、上記第3の装置および方法を用い
ることにより、一度平坦な基材に試し塗りをしてそのス
トライプ方向を検知し、以降はそれに凹凸基板のストラ
イプ方向や幅方向の位置を合わせるようにするので、初
期基準位置が明確化されるとともに、その初期基準位置
に対して容易に以降の基材等の位置決めを行うことがで
きるようになり、高精度な塗布状態を確保しつつ、とく
に大量生産の際の製造が容易化される。Further, by using the third apparatus and method, a flat substrate is once subjected to trial coating and its stripe direction is detected, and thereafter the position of the uneven substrate in the stripe direction and width direction is adjusted. As a result, the initial reference position is clarified, and it becomes possible to easily perform subsequent positioning of the base material and the like with respect to the initial reference position, while ensuring a highly accurate coating state. In particular, production during mass production is facilitated.
【0028】このような装置および方法を用いてプラズ
マディスプレイを製造することにより、凹凸基材の凹部
への塗液の塗布を、精度良くかつ均一に、しかも安定し
て行うことができ、優れた品質のプラズマディスプレイ
をトラブルなく安定して製造することができる。By manufacturing a plasma display using such an apparatus and method, it is possible to apply the coating liquid to the concave portions of the uneven substrate accurately, uniformly, and stably. A quality plasma display can be stably manufactured without any trouble.
【0029】[0029]
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
を図面に基づいて説明する。図1ないし図4および図7
は、本発明の一実施態様に係る塗布装置を示しており、
図1は、塗布装置の全体斜視図、図2は図1のテーブル
6とノズル20回りの模式図、図3は図1のノズル20
を下側からみた拡大平面図、図4は塗布装置に設けられ
た位置決めユニット部の平面図、図7は塗布装置に設け
られたテーブル回転機構を、それぞれ示している。Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 4 and 7
Shows a coating apparatus according to an embodiment of the present invention,
1 is an overall perspective view of the coating apparatus, FIG. 2 is a schematic view around the table 6 and the nozzle 20 of FIG. 1, and FIG. 3 is a nozzle 20 of FIG.
FIG. 4 is a plan view of a positioning unit provided in the coating apparatus, and FIG. 7 is a table rotating mechanism provided in the coating apparatus.
【0030】まず、図1ないし図3に基づいて塗布装置
全体の構成を説明し、続いて図4に示すような位置決め
ユニットを用いた位置制御について説明する。First, the configuration of the entire coating apparatus will be described with reference to FIGS. 1 to 3, and then position control using a positioning unit as shown in FIG. 4 will be described.
【0031】図1は、本発明に係るプラズマディスプレ
イパネルの製造に適用される塗布装置を示している。こ
の塗布装置は基台2を備えている。基台2上には、一対
のガイド溝レール8が設けられており、このガイド溝レ
ール8上にはテーブル6が配置されている。このテーブ
ル6の上面には、表面に凹凸が一定ピッチで一方向にス
トライプ状に形成された基材4が、真空吸引によってテ
ーブル面に固定可能となるように、複数の吸着孔7が設
けられている。また、基材4は図示しないリフトピンに
よってテーブル6上を昇降する。さらにテーブル6はス
ライド脚9を介してガイド溝レール8上をX軸方向に往
復動自在となっている。FIG. 1 shows a coating apparatus applied to manufacture of a plasma display panel according to the present invention. This coating apparatus includes a base 2. A pair of guide groove rails 8 is provided on the base 2, and a table 6 is arranged on the guide groove rails 8. A plurality of suction holes 7 are provided on the upper surface of the table 6 so that the substrate 4 having the surface formed with stripes in one direction at a constant pitch can be fixed to the table surface by vacuum suction. ing. The base material 4 is moved up and down on the table 6 by lift pins (not shown). Further, the table 6 is reciprocally movable in the X-axis direction on the guide groove rail 8 via the slide legs 9.
【0032】一対のガイド溝レール8間には、図2に示
す送りねじ機構を構成するフィードスクリュー10が、
テーブル6の下面に固定されたナット状のコネクタ11
を貫通して延びている。フィードスクリュー10の両端
部は軸受12に回転自在に支持され、さらに片方の一端
にはACサーボモータ16が連結されている。A feed screw 10 constituting a feed screw mechanism shown in FIG. 2 is provided between the pair of guide groove rails 8.
Nut-shaped connector 11 fixed to the lower surface of table 6
Extends through it. Both ends of the feed screw 10 are rotatably supported by bearings 12, and an AC servomotor 16 is connected to one end.
【0033】図1に示すように、テーブル6の上方に
は、塗液吐出装置であるノズル20がホルダー22を介
して昇降機構30、幅方向移動機構36に連結してい
る。昇降機構30は昇降可能な昇降ブラケット28を備
えており、昇降機構30のケーシング内部で一対のガイ
ドロッドに昇降自在に取り付けられている。また、この
ケーシング内にはガイドロッド間に位置してボールねじ
からなるフィードスクリュー(図示しない)もまた回転
自在に配置されており、ナット型のコネクタを介して昇
降ブラケット28と連結されている。さらにフィードス
クリューの上端には図示しないACサーボモータが接続
されており、このACサーボモータの回転によって昇降
ブラケット28を任意に昇降動作させることができるよ
うになっている。As shown in FIG. 1, above the table 6, a nozzle 20, which is a coating liquid discharge device, is connected via a holder 22 to an elevating mechanism 30 and a width direction moving mechanism 36. The elevating mechanism 30 includes an elevating bracket 28 that can be moved up and down, and is attached to a pair of guide rods inside the casing of the elevating mechanism 30 so as to be able to move up and down. A feed screw (not shown) composed of a ball screw is also rotatably disposed in the casing between the guide rods, and is connected to the lifting bracket 28 via a nut-type connector. Further, an AC servomotor (not shown) is connected to the upper end of the feed screw, and the lifting bracket 28 can be arbitrarily moved up and down by rotation of the AC servomotor.
【0034】さらに、昇降機構30はY軸移動ブラケッ
ト32(アクチュエータ)を介して幅方向移動機構36
に接続されている。幅方向移動機構36はY軸移動ブラ
ケット32をノズル20の幅方向、すなわちY軸方向に
往復自在に移動させるものである。動作のために必要な
ガイドロッド、フィードスクリュー、ナット型コネクタ
ー、ACサーボモータ等は、ケーシング内に昇降機構3
0と同じように配置されている。幅方向移動機構36は
支柱34により基台2上に固定されている。Further, the elevating mechanism 30 is moved by a width-direction moving mechanism 36 via a Y-axis moving bracket 32 (actuator).
It is connected to the. The width direction moving mechanism 36 is for moving the Y-axis moving bracket 32 reciprocally in the width direction of the nozzle 20, that is, in the Y-axis direction. The guide rod, feed screw, nut-type connector, AC servomotor, etc. necessary for the operation are provided with a lifting mechanism 3 inside the casing.
It is arranged in the same way as 0. The width direction moving mechanism 36 is fixed on the base 2 by the columns 34.
【0035】これらの構成によって、ノズル20はZ軸
とY軸方向に自在に移動させることができる。With these configurations, the nozzle 20 can be freely moved in the Z-axis and Y-axis directions.
【0036】ノズル20は、テーブル6の往復動方向と
直交する方向、つまりY軸方向に水平に延びているが、
これを直接保持するコの字形のホルダー22は昇降ブラ
ケット28内にて回転自在に支持されており、垂直面内
で自在に図中の矢印方向に回転することができる。The nozzle 20 extends horizontally in the direction orthogonal to the reciprocating direction of the table 6, that is, in the Y-axis direction.
A U-shaped holder 22 for directly holding the holder is rotatably supported in an elevating bracket 28, and can freely rotate in a vertical direction in the direction of the arrow in the figure.
【0037】このホルダ22の上方には水平バー24も
昇降ブラケット28に固定されている。この水平バー2
4の両端部には、電磁作動型のリニアアクチュエータ2
6が取り付けられている。このリニアアクチュエータ2
6は水平バー24の下面から突出する伸縮ロッドを有し
ており、これら伸縮ロッドがホルダ22の両端部に接触
することによってホルダ22の回転角度を規制すること
ができ、結果としてノズル20の傾き度を任意に設定す
ることができる。A horizontal bar 24 is also fixed to the lifting bracket 28 above the holder 22. This horizontal bar 2
4 are electromagnetically actuated linear actuators 2 at both ends.
6 is attached. This linear actuator 2
Numeral 6 has telescopic rods projecting from the lower surface of the horizontal bar 24, and these telescopic rods can regulate the rotation angle of the holder 22 by contacting both ends of the holder 22. The degree can be set arbitrarily.
【0038】さらに図1を参照すると、基台2の上面に
は逆L字形のセンサ支柱38が固定されており、その先
端にはテーブル6上の基材4の凹部底面の位置(高さ)
を測定する高さセンサ40が取り付けられている。高さ
センサ40は、基材4の凸部頂上を測定できるようにも
セットできるが、多くの場合、凸部頂上よりも凹部底面
の方が幅が広いので、測定が容易となる。その代わり、
凹部底面と凸部頂上の高さの差(隔壁高さ)をあらかじ
め全体コントローラ60に覚え込ませておく必要があ
る。また、高さセンサ40の隣には、基材4の隔壁間の
凹部の位置を検知するカメラ72が支柱70に取り付け
られている。図2に示すように、カメラ72は画像処理
装置74に電気的に接続されており、基材4がX方向に
移動する時に、所定の隔壁間の凹部位置の基材幅方向
(X方向)の変化を定量的に求めることができる。すな
わちこれによって、塗布開始となる所定の隔壁の凹部Y
方向位置Ysが得られるとともに、凹部のX方向に対す
る傾き、つまり、凹部の方向も算出できる。Still referring to FIG. 1, an inverted L-shaped sensor support 38 is fixed to the upper surface of the base 2, and the position (height) of the bottom surface of the concave portion of the base material 4 on the table 6 is provided at the tip.
Is mounted. The height sensor 40 can be set so as to be able to measure the top of the convex portion of the base material 4. However, in many cases, the bottom surface of the concave portion is wider than the top of the convex portion, so that the measurement is easy. Instead,
It is necessary to make the overall controller 60 remember the difference between the height of the bottom of the concave portion and the height of the top of the convex portion (partition height) in advance. Next to the height sensor 40, a camera 72 for detecting the position of the concave portion between the partition walls of the base material 4 is attached to the column 70. As shown in FIG. 2, the camera 72 is electrically connected to the image processing device 74, and when the base material 4 moves in the X direction, the base material width direction (X direction) of the concave position between the predetermined partition walls. Can be determined quantitatively. That is, by this, the concave portion Y of the predetermined partition wall at which the coating starts.
The direction position Ys is obtained, and the inclination of the concave portion with respect to the X direction, that is, the direction of the concave portion can be calculated.
【0039】さらに、テーブル6の一端には、センサー
ブラケット64を介して、ノズル20の開口部のある下
端面(開口部面)のテーブル6に対する垂直方向の位置
を検出するセンサー66とノズル20の開口部位置を検
知するカメラ82が取り付けられている。カメラ82も
画像処理装置74に電気的に接続されており、ノズル2
0の開口部位置がY方向に対して定量的に求められる。Further, at one end of the table 6, a sensor 66 for detecting the vertical position of the lower end surface (opening surface) of the nozzle 20 with respect to the table 6, via a sensor bracket 64, and the nozzle 20. A camera 82 for detecting the position of the opening is attached. The camera 82 is also electrically connected to the image processing device 74,
An opening position of 0 is quantitatively determined in the Y direction.
【0040】カメラ72とカメラ82は一定の距離に固
定されているので、ノズル20の開口部位置と所定の隔
壁の凹部位置の相対距離を求めることができる。カメラ
72、82が移動するように構成されている場合には、
これらが基準位置に対してどれだけ移動したかを示す測
定手段、たとえばリニアスケール、エンコーダ等が必要
となる。Since the camera 72 and the camera 82 are fixed at a fixed distance, the relative distance between the position of the opening of the nozzle 20 and the position of the concave portion of a predetermined partition can be obtained. If the cameras 72, 82 are configured to move,
Measuring means for indicating how much these have moved with respect to the reference position, such as a linear scale and an encoder, are required.
【0041】図2に示すように、ノズル20はそのマニ
ホールド41内に塗液42が充填されており、開口部で
ある吐出孔44が開口部先端面45上で長手方向に一直
線状にならんでいる(図3参照)。そしてこの吐出孔4
4より塗液42が吐出される。ノズル40には供給ホー
ス46が接続されており、さらに吐出用電磁切換え弁4
8、供給ユニット50、吸引ホース52、吸引用電磁切
換え弁54、塗液タンク56へと連なっている。塗液タ
ンク56には塗液42が蓄えられている。塗液42は、
赤色、緑色、青色のいずれかの色に発光する蛍光体粉末
を含むペーストからなる。As shown in FIG. 2, the nozzle 20 has a manifold 41 filled with a coating liquid 42, and an ejection hole 44, which is an opening, is arranged in a straight line in the longitudinal direction on the opening end surface 45. (See FIG. 3). And this discharge hole 4
4, the coating liquid 42 is discharged. A supply hose 46 is connected to the nozzle 40.
8, a supply unit 50, a suction hose 52, an electromagnetic switching valve for suction 54, and a coating liquid tank 56. The coating liquid 42 is stored in the coating liquid tank 56. The coating liquid 42
It is composed of a paste containing a phosphor powder that emits light of any of red, green and blue colors.
【0042】供給ユニット50の具体例としては、ピス
トン、ダイヤフラム型等の定容量ポンプ、チュービング
ポンプ、ギアポンプ、モーノポンプ、さらには液体を気
体の圧力で押し出す圧送コントローラ等がある。供給装
置コントローラ58からの制御信号をうけて、供給ユニ
ット50や、各々の電磁切換え弁の動作を行なわせ、塗
液タンク56から塗液42を吸引して、ノズル20に塗
液42を供給することができる。塗液タンク56から定
容量ポンプへの塗液42の吸引動作を安定化させるため
に、塗液タンク56に空気、窒素等の気体で圧力を付加
してもよい。圧力の大きさは0.01〜1MPa、特に
0.02〜0.5MPaが好ましい。Specific examples of the supply unit 50 include a piston, a constant volume pump such as a diaphragm type, a tubing pump, a gear pump, a mono pump, and a pressure feed controller for pushing out a liquid by gas pressure. In response to a control signal from the supply device controller 58, the supply unit 50 and each of the electromagnetic switching valves are operated to suck the coating liquid 42 from the coating liquid tank 56 and supply the coating liquid 42 to the nozzle 20. be able to. In order to stabilize the suction operation of the coating liquid 42 from the coating liquid tank 56 to the constant volume pump, pressure may be applied to the coating liquid tank 56 with a gas such as air or nitrogen. The magnitude of the pressure is preferably 0.01 to 1 MPa, particularly preferably 0.02 to 0.5 MPa.
【0043】供給装置コントローラはさらに、全体コン
トローラ60に電気的に接続されている。この全体コン
トローラ60には、モータコントローラ62、高さセン
サー40の電気入力等、カメラ72、82の画像処理装
置74からの情報、隔壁の高さ等、すべての制御情報が
電気的に接続されており、全体のシーケンス制御を司れ
るようになっている。全体コントローラ60は、コンピ
ュータでも、シーケンサでも、制御機能を持つものなら
ばどのようなものでもよい。The feeder controller is further electrically connected to the general controller 60. All the control information such as the motor controller 62, the electric input of the height sensor 40, the information from the image processing device 74 of the cameras 72 and 82, the height of the partition wall, and the like are electrically connected to the general controller 60. And can control the entire sequence. The general controller 60 may be a computer, a sequencer, or any controller having a control function.
【0044】またモータコントローラ62には、テーブ
ル6を駆動するACサーボモータ16や、昇降機構30
と幅方向移動機構36のそれぞれのアクチュエータ7
6、78(たとえば、ACサーボモータ)、さらにはテ
ーブル6の移動位置を検出する位置センサ68からの信
号、ノズル20の作動位置を検出するY、Z軸の各々の
リニアセンサ(図示しない)からの信号などが入力され
る。なお、位置センサ68を使用する代わりに、ACサ
ーボモータ16にエンコーダを組み込み、このエンコー
ダから出力されるパルス信号に基づき、テーブル6の位
置を検出することも可能である。モータコントローラ6
2も全体コントローラ60の統括下で制御される。たと
えば、カメラ82の画像処理装置74からの情報に基づ
いて、全体コントローラ60は所定の隔壁の凹部にノズ
ル20の開口部を合わせるためのY方向位置、凹部のX
方向に対する傾き角度から、塗布のために基材をX方向
に移動させる時のノズル20のY方向位置を演算し、そ
の動作が実現できるようにモータコントローラ62に指
令を送る。The motor controller 62 includes the AC servomotor 16 for driving the table 6 and the lifting mechanism 30.
And each actuator 7 of the width direction moving mechanism 36
6, 78 (for example, an AC servomotor), a signal from a position sensor 68 for detecting the moving position of the table 6, and a linear sensor (not shown) for each of the Y and Z axes for detecting the operating position of the nozzle 20. Is input. Instead of using the position sensor 68, an encoder may be incorporated in the AC servomotor 16 and the position of the table 6 may be detected based on a pulse signal output from the encoder. Motor controller 6
2 is also controlled under the control of the overall controller 60. For example, based on information from the image processing device 74 of the camera 82, the overall controller 60 determines the position in the Y direction for aligning the opening of the nozzle 20 with the recess of the predetermined partition, and the X of the recess.
The position of the nozzle 20 in the Y direction when the base material is moved in the X direction for coating is calculated from the inclination angle with respect to the direction, and a command is sent to the motor controller 62 so that the operation can be realized.
【0045】次に、ここまでに説明した塗布装置の構成
を使用して塗液を塗布する方法について説明する。まず
準備動作として、テーブル6と、ノズル20をY軸座標
Yaの位置に移動させて、ノズル20の吐出孔44の一
番端部にあるものをカメラ82の真上にくるようにす
る。そして、画像処理によってカメラ基準点からの位置
変化量lcを求める。この動作はノズル20をホルダー
22に取り付けた時に一度だけ行えばよい。完了すれ
ば、テーブル6、ノズル20は各々原点に復帰させる。Next, a method of applying a coating liquid using the configuration of the coating apparatus described above will be described. First, as a preparatory operation, the table 6 and the nozzle 20 are moved to the position of the Y-axis coordinate Ya so that the end of the discharge hole 44 of the nozzle 20 is directly above the camera 82. Then, the position change amount lc from the camera reference point is obtained by image processing. This operation only needs to be performed once when the nozzle 20 is attached to the holder 22. Upon completion, the table 6 and the nozzle 20 are respectively returned to the origin.
【0046】次いで塗布装置における各作動部の原点復
帰が行われるとテーブル6、ノズル20は各々X軸、Y
軸、Z軸の準備位置に移動する。この時、塗液タンク5
6〜ノズル20まで塗液はすでに充満されており、吐出
用電磁切換え弁48は開、吸引用電磁切換え弁54は閉
の状態にする。そして、テーブル6の表面には図示しな
いリフトピンが上昇し、図示しないローダから隔壁が一
定ピッチのストライプ状に形成されている基材4がリフ
トピン上部に載置される。Next, when the origins of the respective operating parts in the coating apparatus are returned, the table 6 and the nozzle 20 are moved to the X axis and the Y
Move to the preparation position of the axis and Z axis. At this time, the coating liquid tank 5
The coating liquid has already been filled from No. 6 to Nozzle 20, and the discharge electromagnetic switching valve 48 is opened and the suction electromagnetic switching valve 54 is closed. Then, lift pins (not shown) rise on the surface of the table 6, and the base material 4, whose partitions are formed in a stripe pattern at a constant pitch, is placed on the lift pins from a loader (not shown).
【0047】次にリフトピンを下降させて基材4をテー
ブル6の上面に載置し、図示しないアライメント装置に
よって基材4の端面を基準にしたテーブル6上の位置決
めが行われた後に基材2を吸着する。Next, the lift pins are lowered to place the substrate 4 on the upper surface of the table 6, and after positioning on the table 6 with reference to the end surface of the substrate 4 by an alignment device (not shown), To adsorb.
【0048】次にテーブル6はカメラ72と、高さセン
サー40の真下に基材4の塗布開始部となる隔壁部(凹
部底面)がくるまで移動し、停止する。カメラ72はテ
ーブル6上に位置決めされた基材4上のY方向隔壁端部
を写し出すようにあらかじめ位置調整されており、画像
処理によって一番端の凹部の位置を検出し、カメラ基準
点からの位置変化量laを求める。一方、カメラ72の
基準点と、所定のY軸座標位置Yaにある時のノズル2
0の最端部に位置する吐出孔44間の位置を測定するカ
メラ82の基準点間の長さlbは、事前の調整時に測定
し、情報として全体コントローラ60に入力しているの
で、画像処理装置74からカメラ72の基準点からの隔
壁凹部の位置変化量laが電送されると、ノズル20の
最端部に位置する吐出孔44が隔壁端部の凹部の真上と
なるY軸座標値Ycを計算し(例えば、Yc=Ya+
(lc+lb−la))、ノズル20をその位置に移動
させる。なお、カメラ72は、ノズル20やホルダ22
に取り付けても同じ機能が得られる。Next, the table 6 is moved until the partition (bottom of the concave portion) serving as a coating start portion of the base material 4 is located immediately below the camera 72 and the height sensor 40, and is stopped. The position of the camera 72 is adjusted in advance so as to project the end of the Y-direction partition on the base material 4 positioned on the table 6, and the position of the endmost concave portion is detected by image processing, and the position of the camera 72 from the camera reference point is detected. The position change amount la is obtained. On the other hand, the reference point of the camera 72 and the nozzle 2 at the predetermined Y-axis coordinate position Ya
Since the length lb between the reference points of the camera 82 for measuring the position between the discharge holes 44 located at the extreme end of 0 is measured at the time of advance adjustment and input to the overall controller 60 as information, When the position change amount la of the partition recess from the reference point of the camera 72 is transmitted from the device 74, the Y-axis coordinate value at which the discharge hole 44 located at the end of the nozzle 20 is directly above the recess at the partition end. Yc is calculated (for example, Yc = Ya +
(Lc + lb-la)), the nozzle 20 is moved to that position. Note that the camera 72 includes the nozzle 20 and the holder 22.
The same function can be obtained even if it is attached to
【0049】次に、基材4が、その塗布開始部がノズル
20の吐出孔44の真下にくるようにX方向に移動を始
めるが、カメラ72による凹部の位置の検知は継続す
る。凹部の位置は変化していくから、その都度、上記に
示したようにY軸座標値Ycを演算し、ノズル20を基
材4のX方向位置に合わせて、そのY軸座標値Ycに移
動させる。以上の動作によって、隔壁の凹部の方向(ス
トライプ方向)に合わせて、ノズル20の吐出孔44を
移動させることができる。通常は隔壁の凹部は一直線で
あるから、基材4のX方向の定まった2点で隔壁凹部の
位置を測定すれば、X方向に対する隔壁凹部の傾き角度
が演算できるので(凹部のストライプ方向が求められ
る)、ノズル20を配置するY軸座標値Ycをこの傾き
角度から演算して求めてもよい。この場合、隔壁凹部位
置の測定が2点ですむので、制御が簡素化できる。Next, the substrate 4 starts moving in the X direction so that the coating start portion is located immediately below the discharge hole 44 of the nozzle 20, but the camera 72 continues to detect the position of the concave portion. Since the position of the concave portion changes, each time the Y-axis coordinate value Yc is calculated as described above, the nozzle 20 is moved to the Y-axis coordinate value Yc in accordance with the position of the base member 4 in the X direction. Let it. By the above operation, the ejection holes 44 of the nozzle 20 can be moved in accordance with the direction of the concave portion of the partition wall (stripe direction). Normally, since the concave portion of the partition wall is straight, measuring the position of the partition concave portion at two fixed points in the X direction of the base material 4 allows the inclination angle of the partition concave portion with respect to the X direction to be calculated. Calculated), the Y-axis coordinate value Yc at which the nozzle 20 is arranged may be calculated from the tilt angle. In this case, the measurement of the position of the partition wall concave portion requires only two points, so that the control can be simplified.
【0050】以上の開口部の位置を検知する手段として
は、間接的なものとなるが、図4に示すような位置セン
サー100でノズル20の端部を測定するようにするこ
とも可能である。この場合、センサー100とカメラ7
2の基準点との相対位置Yxc、ノズル端部から開口部
の右端までの距離b等はあらかじめ得られるので、セン
サー100でセンサー100〜ノズル20の右端面まで
の距離Ycoを測定し、このときのノズル20のY軸方
向移動ユニットの座標値Yncを求めれば、ノズル20
の一番右端の開口部を基材の一番右端の凹部の位置にも
ってくることができる。カメラ72の基準点から基材の
一番右端の凹部位置までの位置変化laが得られると、
Y軸座標値YCIは、YCI=Ync−(Yxc−Yco−
b−la)となる。なお、ノズル20の開口部位置の検
知はノズル20を取り付けた後、一度だけやっておけば
よい。The means for detecting the position of the opening described above is indirect, but it is also possible to measure the end of the nozzle 20 with a position sensor 100 as shown in FIG. . In this case, the sensor 100 and the camera 7
Since the relative position Yxc with respect to the reference point 2 and the distance b from the nozzle end to the right end of the opening can be obtained in advance, the sensor 100 measures the distance Yco from the sensor 100 to the right end surface of the nozzle 20. When the coordinate value Ync of the Y-axis direction moving unit of the nozzle 20 is obtained,
Can be brought to the position of the rightmost concave portion of the base material. When the position change la from the reference point of the camera 72 to the rightmost concave portion of the base material is obtained,
The Y-axis coordinate value Y CI is given by Y CI = Ync− (Yxc−Yco−
b-la). The position of the opening of the nozzle 20 need only be detected once after the nozzle 20 is attached.
【0051】一方、この間に高さセンサ40は基材4の
隔壁凹部底面の垂直方向の位置を検知し、テーブル6上
面との位置の差から基材4の隔壁凹部底面の高さを算出
する。この高さに、あらかじめ与えておいた隔壁の高さ
(底面と頂上部との差)と、ノズル20開口部〜基材4
の隔壁頂上部間の間隙値を加算して、ノズル20のZ軸
リニアセンサー上での下降すべき値を演算し、その位置
にノズルを移動する。これによって、テーブル6上での
隔壁凹部底面位置が基材ごとに変化しても、塗布に重要
なノズル20開口部〜基材上の隔壁頂上部間の間隙を常
に一定に保てるようになる。以上の動作は基材4が移動
を始めてからも行えるので、基材4の全領域にわたっ
て、ノズル20開口部〜基材上の隔壁頂上部間の間隙を
一定に保つことも可能となる。On the other hand, during this time, the height sensor 40 detects the vertical position of the bottom surface of the partition recess of the base material 4 and calculates the height of the bottom surface of the partition recess of the base material 4 from the difference in position from the upper surface of the table 6. . The height of the partition wall (the difference between the bottom surface and the top portion) given in advance and the opening of the nozzle 20 to the substrate 4
, The value to be lowered on the Z-axis linear sensor of the nozzle 20 is calculated, and the nozzle is moved to that position. Thereby, even if the bottom position of the partition recess on the table 6 changes for each substrate, the gap between the opening of the nozzle 20 important for coating and the top of the partition on the substrate can always be kept constant. Since the above operation can be performed even after the substrate 4 starts moving, the gap between the opening of the nozzle 20 and the top of the partition on the substrate can be kept constant over the entire region of the substrate 4.
【0052】次にテーブル6をノズル20の方へ向けて
動作を開始させ、ノズル20の開口部の真下に基材4の
塗布開始位置が到達する前に所定の塗布速度まで増速さ
せておく。テーブル6の動作開始位置と塗布開始位置ま
での距離は塗布速度まで増速できるよう十分確保できて
いなければならない。Next, the operation is started by directing the table 6 toward the nozzle 20, and the speed is increased to a predetermined coating speed before the coating start position of the base material 4 reaches just below the opening of the nozzle 20. . The distance between the operation start position of the table 6 and the application start position must be sufficiently ensured that the speed can be increased to the application speed.
【0053】さらに基材4の塗布開始位置がノズル20
の開口部の真下に至るまでの所に、テーブル6の位置を
検知する位置センサー68を配置しておき、テーブル6
がこの位置に達したら、供給ユニット50の動作を開始
して塗液42のノズル20への供給を開始する。ノズル
20開口部より吐出される塗液42が基材4に達するに
は、基材〜ノズル開口部間の間隙だけ時間遅れが生じ
る。そのため、事前に塗液42をノズル20に供給する
ことによって、基材4の塗布開始位置がノズル20開口
部の丁度真下に来たところでノズル20から吐出された
所定量の塗液42が基板4に到達するので、ほとんど厚
みむらゼロの状態で塗布を開始することができる。塗液
42の供給を開始する位置は位置センサー68の設置場
所を変えて調整することができる。この位置センサー6
8の代わりに、モータあるいはフィードスクリューにエ
ンコーダを接続したり、テーブルにリニアセンサーを付
けたりすると、エンコーダやリニアセンサーの値で検知
しても同様なことが可能となる。Further, the application start position of the substrate 4 is
A position sensor 68 for detecting the position of the table 6 is disposed immediately below the opening of the table 6.
When this reaches this position, the operation of the supply unit 50 is started, and the supply of the coating liquid 42 to the nozzle 20 is started. In order for the coating liquid 42 discharged from the opening of the nozzle 20 to reach the base material 4, a time delay occurs by the gap between the base material and the nozzle opening. Therefore, by supplying the coating liquid 42 to the nozzle 20 in advance, a predetermined amount of the coating liquid 42 discharged from the nozzle 20 is applied to the substrate 4 when the coating start position of the base material 4 is just below the opening of the nozzle 20. , The application can be started with almost no thickness unevenness. The position where the supply of the coating liquid 42 is started can be adjusted by changing the installation location of the position sensor 68. This position sensor 6
When an encoder is connected to the motor or the feed screw or a linear sensor is attached to the table instead of 8, a similar operation can be performed even if the value is detected by the encoder or the linear sensor.
【0054】塗布は、基材4の塗布終了位置がノズル2
0の開口部の真下付近に来るまで行われる。すなわち、
基材4はいつもテーブル6上の定められた位置に置かれ
ているから、基材4の塗布終了位置がノズル20の開口
部の(a)たとえば真下にくる5mm前や、(b)丁度
真下になる位置に相当するテーブル6の位置に、位置セ
ンサーやそのエンコーダ値をあらかじめ設定しておき、
テーブル6が(a)に対応する位置にきたら、全体コン
トローラ60から供給装置コントローラ58に停止指令
を出して塗液42のノズル20への供給を停止して、
(b)の位置までスキージ塗工し、次いでテーブル6が
(b)に対応する位置にきたら、ノズル20を上昇させ
て完全に塗液42をたちきる。塗液42が比較的高粘度
の液体である場合には、単に塗液の供給を停止しただけ
では、残圧によるノズル20開口部からの塗液吐出まで
も瞬時に停止することは難しい。そのために、塗液の供
給を停止するとと同時にノズル20内のマニホールド4
1圧力を大気圧にすると、短時間で開口部からの塗液の
吐出停止が可能となるので、供給ユニットにこのような
機能をもたせるか、あるいは、供給ユニットの吐出電磁
切換え弁48〜ノズル20の間に大気開放バルブを設け
るのが望ましい。In the application, the application end position of the substrate 4 is
The process is performed until the position is just below the opening of 0. That is,
Since the base material 4 is always placed at a predetermined position on the table 6, the coating end position of the base material 4 is (a) 5 mm before, for example, just below the opening of the nozzle 20, or (b) just below. The position sensor and its encoder value are set in advance at the position of the table 6 corresponding to the position
When the table 6 comes to the position corresponding to (a), a stop command is issued from the general controller 60 to the supply device controller 58 to stop supplying the coating liquid 42 to the nozzle 20.
The squeegee coating is performed up to the position (b), and when the table 6 comes to the position corresponding to the position (b), the nozzle 20 is raised to completely turn off the coating liquid 42. When the coating liquid 42 is a liquid having a relatively high viscosity, it is difficult to stop the supply of the coating liquid from the opening of the nozzle 20 due to the residual pressure instantaneously simply by stopping the supply of the coating liquid. Therefore, when the supply of the coating liquid is stopped, the manifold 4 in the nozzle 20 is stopped.
When the pressure is set to atmospheric pressure, the discharge of the coating liquid from the opening can be stopped in a short time. Therefore, the supply unit may be provided with such a function, or the discharge electromagnetic switching valve 48 to the nozzle 20 of the supply unit may be provided. It is desirable to provide an atmosphere release valve between them.
【0055】さて、塗布終了位置を通過しても、テーブ
ル6は動作を続け、終点位置にきたら停止する。このと
き塗布すべき部分がまだ残っている場合には、次の塗布
すべき開始位置までノズルをY軸方向に塗布幅分(ノズ
ルピッチ×穴数)移動して、以下テーブル6を反対方向
に移動させることを除いては同じ手順で塗布を行う。ま
た、2回目以降は、隔壁凹部のX方向に対する傾き角度
は大体同じなので、測定して求めてもよいし、測定を省
略して1回目の値を使用してノズル20を配置するY軸
座標値Ycを求めてもよい。1回目と同一のテーブル6
の移動方向で塗布を行なうのなら、ノズル20は次の塗
布すべき開始位置までY軸方向に移動、テーブル6はX
軸準備位置まで復帰させる。The table 6 continues to operate even after passing the coating end position, and stops when it reaches the end position. At this time, if the portion to be applied still remains, the nozzle is moved by the application width (nozzle pitch × number of holes) in the Y-axis direction to the next start position to be applied, and then the table 6 is moved in the opposite direction. Coating is performed in the same procedure except that it is moved. Further, since the second and subsequent times, the inclination angles of the partition recesses with respect to the X direction are substantially the same, and thus may be obtained by measurement, or the measurement may be omitted, and the Y-axis coordinate at which the nozzle 20 is arranged using the first value will be omitted. The value Yc may be obtained. Table 6 same as the first time
If the coating is performed in the moving direction, the nozzle 20 moves in the Y-axis direction to the next start position to be applied, and the table 6 moves
Return to the axis ready position.
【0056】そして塗布工程が完了したら、基材4をア
ンローダで移載する場所までテーブル6を移動して停止
させ、基材4の吸着を解除するとともに大気開放した後
に、リフトピンを上昇させて基材4をテーブル6の面か
ら引き離し、持ち上げる。When the application step is completed, the table 6 is moved to a place where the substrate 4 is transferred by an unloader and stopped, and the suction of the substrate 4 is released, and the substrate 4 is released to the atmosphere. The material 4 is separated from the surface of the table 6 and lifted.
【0057】このとき図示されないアンローダによって
基材4の下面が保持され、次の工程に基材4を搬送す
る。基材4をアンローダに受け渡したら、テーブル6は
リフトピンを下降させ原点位置に復帰する。At this time, the lower surface of the substrate 4 is held by an unloader (not shown), and the substrate 4 is transported to the next step. When the substrate 4 is delivered to the unloader, the table 6 lowers the lift pins and returns to the original position.
【0058】このとき、吐出用電磁切換え弁48を閉、
吸引用電磁切換え弁54を開状態にして供給ユニット5
0を動作させ、塗液タンク56から1枚の基材の塗布に
必要な量だけ塗液を供給する。At this time, the discharge electromagnetic switching valve 48 is closed,
With the suction electromagnetic switching valve 54 opened, the supply unit 5
0 is operated, and the coating liquid is supplied from the coating liquid tank 56 in an amount necessary for coating one substrate.
【0059】以上の塗布工程において、別の実施態様で
は、塗布前に、図5に示すようなテーブル回転機構を用
いて、基材4のストライプ方向とノズル20の走行方向
の一致化の調整制御を行う。In the above-described coating process, in another embodiment, before coating, a table rotating mechanism as shown in FIG. 5 is used to adjust the stripe direction of the base material 4 and the traveling direction of the nozzle 20 so as to match. I do.
【0060】図5は、吸着テーブル6がX軸方向に走行
できるとともに、X−Y平面内で回転できるようにした
もので、基材4のストライプ方向と吸着テーブル6の進
行方向の平行度を容易に修正できるようにしてある。吸
着テーブル6は、走行基台111上に、回転可能に支持
されており、この間に周知のターンテーブル機構が介在
されている。ターンテーブル機構の回転角度の制御は、
サーボモータ等を用いて精度良く行うことができる。FIG. 5 shows that the suction table 6 can run in the X-axis direction and can rotate in the XY plane. The parallelism between the stripe direction of the substrate 4 and the traveling direction of the suction table 6 is shown. It can be easily modified. The suction table 6 is rotatably supported on the traveling base 111, and a well-known turntable mechanism is interposed therebetween. The control of the rotation angle of the turntable mechanism
It can be performed accurately using a servomotor or the like.
【0061】基材4のストライプ方向は、上記で示した
ものほか、たとえば次のようにしても検知できる。図
1、図2に示したカメラ72は、凹凸基材4の端部の凹
部や、端部に付されたアライメントマークを検知するカ
メラで、電気的に画像処理装置74に連結されている。
まず、基材4の先頭から終了部までをカメラ72の下を
通過するように吸着テーブル6を走行させる。これによ
って凹部のY軸方向の位置が先頭と終了部で変わってい
るので、これを画像処理によって検出し、凹部の傾きを
求める。アライメントマークは凹部と平行になるように
設けられているから、先頭と終了部にあるアライメント
マークのY軸方向の位置の違いを画像処理によって検知
して、凹部の傾きを求めてもよい。The stripe direction of the substrate 4 can be detected in the following manner, for example, in addition to the above. The camera 72 shown in FIGS. 1 and 2 is a camera that detects a concave portion at the end of the uneven base material 4 and an alignment mark attached to the end, and is electrically connected to the image processing device 74.
First, the suction table 6 is caused to travel from the top to the end of the base material 4 so as to pass below the camera 72. As a result, the position of the concave portion in the Y-axis direction is changed between the start and end portions. This is detected by image processing, and the inclination of the concave portion is obtained. Since the alignment mark is provided so as to be parallel to the concave portion, the difference between the positions of the alignment marks at the head and the end in the Y-axis direction may be detected by image processing to determine the inclination of the concave portion.
【0062】また、前述したのと同じように、カメラ8
2で写し出したものから画像処理によってえられるノズ
ル20の開口部の最端部位置は前述した手段によって知
ることができ、カメラ72とカメラ82の基準点間の距
離はあらかじめ分かっているから、たとえば一番左端の
開口部を凹凸基材4の一番左端の凹部にY軸方向に基材
先頭部で位置合わせすることができる。凹部でなくアラ
イメントマーク位置を検出しているときは、アライメン
トマークと凹部との相対距離はあらかじめ得られている
ので、凹部を直接測定するのと同じように凹部とノズル
開口部を位置合わせすることができる。Also, as described above, the camera 8
The position of the end of the opening of the nozzle 20 obtained by image processing from the image captured in Step 2 can be known by the above-described means, and the distance between the reference points of the camera 72 and the camera 82 is known in advance. The leftmost opening can be aligned with the leftmost recess of the uneven substrate 4 at the top of the substrate in the Y-axis direction. When detecting the position of the alignment mark instead of the recess, the relative distance between the alignment mark and the recess is obtained in advance, so align the recess and the nozzle opening in the same way as directly measuring the recess. Can be.
【0063】凹部の傾きを算出してストライプ方向がわ
かったら、それが吸着テーブル6の走行方向(X方向)
と一致する(傾き角度をゼロにする)ように吸着テーブ
ル6を回転させる。吸着テーブル6の回転によって凹部
の塗布すべき先頭位置がY軸方向に変化するが、その位
置を計算によって求めてもよいし、またカメラ72で再
測定してもよいが、必要に応じて、ノズル20のY軸方
向の位置決め位置Ycを修正する。When the direction of the stripe is known by calculating the inclination of the concave portion, the direction is determined by the traveling direction (X direction) of the suction table 6.
(The tilt angle is set to zero). The top position of the concave portion to be applied changes in the Y-axis direction due to the rotation of the suction table 6, and the position may be obtained by calculation or may be measured again by the camera 72. The positioning position Yc of the nozzle 20 in the Y-axis direction is corrected.
【0064】ここでノズル20の開口部を検知するカメ
ラ82やセンサー100はノズル20の左右の最端部の
開口部ばかりでなく、所定の中央部の開口部を検知でき
るような位置に配してもよい。また、カメラ72も一番
右側の凹部や、右側のアライメントマークを検知できる
ように吸着テーブル6の右側に配してもよいし、所定の
中央部の凹部を検知できるようにしてもよい。Here, the camera 82 and the sensor 100 for detecting the opening of the nozzle 20 are arranged not only at the left and right end portions of the nozzle 20 but also at a position where a predetermined central opening can be detected. You may. Further, the camera 72 may be arranged on the right side of the suction table 6 so as to detect the rightmost concave portion and the right alignment mark, or may be configured to detect a predetermined central concave portion.
【0065】通常ノズル20の開口部の穴数は基材4の
凹部の数より少なく、一度塗布したら次の位置まで所定
ピッチ分移動して塗布を繰り返すが、大抵の場合、隔壁
凹部のストライプ方向を測定してそれが吸着テーブル6
の走行方向に一致するよう一度回転によって修正すれ
ば、以降は行う必要はない。Normally, the number of holes in the opening of the nozzle 20 is smaller than the number of recesses in the substrate 4, and once applied, the coating is moved to the next position by a predetermined pitch and the coating is repeated. Is measured and it is suction table 6
Once the rotation direction is corrected to match the traveling direction of, there is no need to perform the subsequent steps.
【0066】図6は、平坦な基材をを用いた試し塗りを
行った後に凹凸基材4のストライプ方向の調整を行う例
を示している。121、122はカメラである。まず、
平坦な基材123の先頭を吸着テーブル6についている
マーク126にあわせて吸着固定し、ノズル20で試し
塗りを行う。塗布したものを吸着テーブル6から離さな
いで、塗布した一番左端のラインにカメラ121、12
2をX方向に適当な距離をおいて合わせる。このときの
位置合わせは、カメラのセンターにある十字マークにラ
インを合わせるようにする。FIG. 6 shows an example in which the stripe direction of the uneven base material 4 is adjusted after the test coating using the flat base material. 121 and 122 are cameras. First,
The top of the flat base material 123 is suction-fixed in accordance with the mark 126 on the suction table 6, and the nozzle 20 performs test coating. Do not release the applied material from the suction table 6, and attach the cameras 121, 12
2 are aligned at an appropriate distance in the X direction. At this time, the line is aligned with the cross mark at the center of the camera.
【0067】次に凹凸のある基材4を吸着テーブル6上
に置き、カメラ121、122の十字部分に一番左端の
凹部があうように基材4を手で動かして配置する。この
とき基材4の先頭が吸着テーブル6のマーク126にも
合うようにもする。次に塗布を行えば、基材4の凹部に
のみ塗布することができる。Next, the base material 4 having irregularities is placed on the suction table 6, and the base material 4 is moved by hand so that the cross-section of the cameras 121 and 122 is aligned with the leftmost concave portion. At this time, the head of the base material 4 is also made to match the mark 126 of the suction table 6. Next, when the coating is performed, the coating can be performed only on the concave portions of the base material 4.
【0068】凹部に直接的に合わせる代わりに凹凸基材
4のアライメントマークに合わせてもよい。このとき、
たとえばアライメントマークから一番左側の凹部までな
ら、その距離分だけノズル20を右側に移動させる必要
があるが、これを行えば直接合わせるのと全く同じよう
に凹部のみ塗布することができる。以上の手段を用いれ
ば、カメラ82のようにノズル20の開口部位置を検知
する手段が不要となる。Instead of directly aligning with the concave portion, it may be aligned with the alignment mark of the uneven substrate 4. At this time,
For example, from the alignment mark to the leftmost concave portion, it is necessary to move the nozzle 20 to the right by that distance, but if this is done, it is possible to apply only the concave portion in exactly the same way as direct alignment. If the above means is used, a means for detecting the position of the opening of the nozzle 20 like the camera 82 is not required.
【0069】また、吸着テーブル6がさらにY軸移動と
回転が可能であるようにしておくことにより、上述の凹
凸基材4を吸着してから、凹部、アライメントマークを
カメラ121、122の十字部分への位置合わせをより
容易にしかも精度よくできる。さらに、カメラ121、
122を画像処理装置に電気的に接続すれば、この動作
を自動的に行うこともできる。The suction table 6 can be further moved and rotated in the Y-axis, so that the concave and convex substrates 4 are sucked, and then the concave portions and the alignment marks are cross-shaped by the cameras 121 and 122. Can be more easily and accurately adjusted. Further, the camera 121,
This operation can also be performed automatically by electrically connecting 122 to the image processing apparatus.
【0070】試し塗りをしたものでストライプのの方向
と位置を、カメラ72と画像処理で検知して測定し、そ
の絶対位置(Y方向の)を知ることができる。これから
逆にノズル20の吐出口の位置がわかるので、カメラ8
2のようにノズル20の開口部を直接測定する手段がな
くても、ノズル20の絶対位置を求めることができる。
そしてこの位置上方から、上述の方法によって、X方向
に移動する凹凸基材4の凹部にノズル20の吐出口を合
わせて塗布することもできる。この時、カメラ121、
122は不要である。The direction and position of the stripe in the test coating can be detected and measured by the camera 72 and image processing to determine the absolute position (in the Y direction). Since the position of the discharge port of the nozzle 20 can be known from the reverse, the camera 8
Even if there is no means for directly measuring the opening of the nozzle 20 as in 2, the absolute position of the nozzle 20 can be obtained.
From above this position, the discharge port of the nozzle 20 can be applied to the concave portion of the concave-convex substrate 4 moving in the X direction by the above-described method. At this time, the camera 121,
122 is unnecessary.
【0071】また、基材4の凹部やアライメントマーク
の位置や傾きをカメラ72で測定し、それを先に測定し
た試し塗りしたものでのストライプの位置と方向と比較
し、両者が一致するように吸着テーブル6を回転、Y軸
方向に移動させてもよいし、吸着テーブル6を回転し、
ノズル20を所定位置に位置決めして基材4の凹部に塗
布してもよい。The positions and inclinations of the concave portions and the alignment marks of the base material 4 are measured by the camera 72, and the measured positions and inclinations are compared with the positions and directions of the previously measured test-coated stripes. The suction table 6 may be rotated and moved in the Y-axis direction, or the suction table 6 may be rotated.
The nozzle 20 may be positioned at a predetermined position and applied to the concave portion of the substrate 4.
【0072】なお、前述の塗液塗布装置の全体構成にお
いて、高さセンサー40としては、レーザ、超音波等を
利用した非接触測定形式のもの、ダイヤルゲージ、差動
トランス等を利用した接触測定形式のもの等、測定可能
な原理のものならいかなるものを用いてもよい。In the above-described overall configuration of the coating liquid application apparatus, the height sensor 40 is of a non-contact measurement type using a laser, an ultrasonic wave or the like, or a contact measurement using a dial gauge, a differential transformer, or the like. Any type of measurable principle such as a type may be used.
【0073】また、前記実施態様では基材はX軸方向に
移動し、ノズルがY軸、Z軸方向に移動する場合での適
用例について記述したが、ノズル20と基材4が相対的
に3次元的に移動できる構造、形式のものであるのな
ら、テーブル、ノズルの移動形式はいかなるものでもよ
い。Further, in the above embodiment, an application example in which the substrate moves in the X-axis direction and the nozzle moves in the Y-axis and Z-axis directions has been described, but the nozzle 20 and the substrate 4 are relatively moved. The table and the nozzle may be moved in any manner as long as the structure and the form can be moved three-dimensionally.
【0074】また、前述の実施態様では、塗布はテーブ
ルの移動、凹凸のピッチ方向への移動は、ノズルの移動
によって行う例を示したが、塗布をノズルの移動、凹凸
のピッチ方向への移動をテーブルの移動で行ってもよ
い。In the above-described embodiment, the application is performed by moving the table and moving the unevenness in the pitch direction by moving the nozzle. However, the application is performed by moving the nozzle and moving the unevenness in the pitch direction. May be performed by moving the table.
【0075】さらに、本発明における基材としては、ガ
ラス板の他、鉄板、アルミ板等、枚葉状のものならどの
ようなものでもよい。また、一種類の塗液を塗布する場
合について詳しく言及したが、赤、青、緑等の3色の蛍
光体を同時に塗布する場合にも本発明は適用できる。Further, as the substrate in the present invention, other than a glass plate, an iron plate, an aluminum plate or the like may be used as long as it is a single-sheet type. Further, the case where one type of coating liquid is applied has been described in detail, but the present invention can be applied to a case where phosphors of three colors such as red, blue, and green are applied simultaneously.
【0076】[0076]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の凹凸基材
への塗液の塗布装置および方法によれば、凹凸基材のス
トライプ状の凹部に、ノズルの複数の吐出孔を精度よく
位置決めすることができ、かつ、ストライプ方向とノズ
ルとの相対移動方向、さらにはノズルの開口部面と隔壁
頂上部との間隙も精度よく合わせることができるように
なったので、塗液を凹部のみに精度よくかつ均一に塗布
することができるようになった。これによって、塗布す
べき以外のところを塗布して歩留まりを低下させること
がなくなり、高い収率を実現して生産性を向上させるこ
とができるとともに、コストも低減できる。As described above in detail, according to the apparatus and method for applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention, a plurality of discharge holes of a nozzle can be precisely formed in a stripe-shaped concave portion of the uneven substrate. Positioning can be performed, and the direction of the relative movement between the stripe direction and the nozzle, and the gap between the opening surface of the nozzle and the top of the partition wall can also be accurately adjusted. It has become possible to apply the solution with high accuracy and uniformity. As a result, the yield is not reduced by applying a portion other than the portion to be applied, so that a high yield can be realized, the productivity can be improved, and the cost can be reduced.
【図1】本発明の一実施態様に係る塗液の塗布装置の全
体斜視図である。FIG. 1 is an overall perspective view of a coating liquid application apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1の装置のテーブル6とノズル20周りの構
成を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration around a table 6 and a nozzle 20 of the apparatus shown in FIG.
【図3】図1の装置におけるノズル20を下側からみた
拡大平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view of a nozzle 20 in the apparatus of FIG. 1 as viewed from below.
【図4】ノズル20の開口部を間接的に測定する手段の
正面図である。FIG. 4 is a front view of a means for indirectly measuring the opening of the nozzle 20;
【図5】図1の装置におけるテーブル回転機構部を示す
概略斜視図である。FIG. 5 is a schematic perspective view showing a table rotating mechanism in the apparatus shown in FIG. 1;
【図6】本発明の別の実施態様に係る位置決め・ストラ
イプ方向合わせ手段の概略平面図である。FIG. 6 is a schematic plan view of a positioning / stripe direction aligning means according to another embodiment of the present invention.
2 基台 4 基材 6 テーブル 8 ガイド溝レール 10 フィードスクリュー 16 ACサーボモータ 20 ノズル 26 リニアアクチュエータ 30 昇降機構 36 幅方向移動機構 40 高さセンサー 42 塗液 44 開口部(吐出孔) 45 開口部面 50 供給ユニット 56 塗液タンク 58 供給装置コントローラ 60 全体コントローラ 66 センサー 72 カメラ 82 カメラ 100 センサー 111 走行基台 121、122 カメラ 123 平坦な基材 126 吸着テーブル6のマーク 2 Base 4 Base 6 Table 8 Guide groove rail 10 Feed screw 16 AC servomotor 20 Nozzle 26 Linear actuator 30 Lifting mechanism 36 Width moving mechanism 40 Height sensor 42 Coating liquid 44 Opening (discharge hole) 45 Opening surface Reference Signs List 50 supply unit 56 coating liquid tank 58 supply device controller 60 general controller 66 sensor 72 camera 82 camera 100 sensor 111 traveling base 121, 122 camera 123 flat base material 126 mark of suction table 6
Claims (12)
で凹凸部が形成されている凹凸基材を固定するテーブル
と、凹凸基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有する
塗液吐出装置と、塗液吐出装置に塗液を供給する供給手
段と、テーブルと塗液吐出装置を3次元的に相対移動さ
せる移動手段とを備えた凹凸基材への塗液の塗布装置に
おいて、凹凸基材のストライプ方向を直接または間接的
に検知するストライプ方向検知手段と、塗液吐出装置の
開口部の位置を直接または間接的に検知する開口部検知
手段と、塗液吐出装置の開口部の凹凸基材の凹部に対す
る相対位置を検知する相対位置検知手段と、塗液吐出装
置の開口部の位置を凹凸基材の凹部に位置決めするとと
もに、検知した凹凸基材のストライプ方向に沿って塗液
吐出装置の開口部が凹凸基材の凹部に対し相対的に移動
するように制御する制御手段とを有することを特徴とす
る、凹凸基材への塗液の塗布装置。1. A coating liquid having a table for fixing an uneven base material having uneven portions formed on the surface thereof in one direction in a stripe pattern at a constant pitch, and a plurality of openings facing the uneven portions of the uneven substrate. In an apparatus for applying a coating liquid to an uneven substrate, comprising: a discharge device, a supply unit that supplies the coating liquid to the coating liquid discharge device, and a moving unit that relatively moves the table and the coating liquid discharge device three-dimensionally. Stripe direction detecting means for directly or indirectly detecting the stripe direction of the uneven substrate, opening detecting means for directly or indirectly detecting the position of the opening of the coating liquid discharging device, and opening of the coating liquid discharging device Relative position detecting means for detecting a relative position of the concave and convex base material with respect to the concave portion, and positioning the position of the opening of the coating liquid discharge device in the concave portion of the concave and convex base material and applying the coating along the detected stripe direction of the concave and convex base material. Liquid discharge device opening And having a control means for controlling to move relative concave portions of the concavo-convex substrate, a coating solution of a coating apparatus to uneven substrates.
で凹凸部が形成されている凹凸基材を固定するテーブル
と、凹凸基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有する
塗液吐出装置と、塗液吐出装置に塗液を供給する供給手
段と、テーブルと塗液吐出装置を3次元的に相対移動さ
せる移動手段とを備えた凹凸基材への塗液の塗布装置に
おいて、凹凸基材のストライプ方向を直接または間接的
に検知するストライプ方向検知手段と、塗液吐出装置の
開口部の位置を直接または間接的に検知する開口部検知
手段と、検知したストライプ方向が塗液の塗布方向に平
行なるように凹凸基材の設置位置を修正する修正手段
と、塗液吐出装置の開口部の凹凸基材の凹部に対する相
対位置を検知する相対位置検知手段と、塗液吐出装置の
開口部の位置を凹凸基材の凹部に位置決めする制御手段
とを有することを特徴とする、凹凸基材への塗液の塗布
装置。2. A coating liquid having a table for fixing an irregular substrate having irregularities formed on the surface thereof in one direction in a stripe pattern at a constant pitch, and a plurality of openings facing the irregularities of the irregular substrate. In an apparatus for applying a coating liquid to an uneven substrate, comprising: a discharge device, a supply unit that supplies the coating liquid to the coating liquid discharge device, and a moving unit that relatively moves the table and the coating liquid discharge device three-dimensionally. Stripe direction detecting means for directly or indirectly detecting the stripe direction of the uneven substrate; opening detecting means for directly or indirectly detecting the position of the opening of the coating liquid discharge device; and the detected stripe direction being the coating liquid. Correction means for correcting the installation position of the uneven substrate so as to be parallel to the application direction of the coating liquid, relative position detecting means for detecting the relative position of the opening of the coating liquid discharge device with respect to the concave portion of the uneven liquid substrate, and the coating liquid discharge device The position of the opening And having a control means for positioning the concave portion of the timber, the coating liquid of the coating apparatus to uneven substrates.
で凹凸部が形成されている凹凸基材を固定するテーブル
と、凹凸基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有する
塗液吐出装置と、塗液吐出装置に塗液を供給する供給手
段と、テーブルと塗液吐出装置を3次元的に相対移動さ
せる移動手段とを備えた凹凸基材への塗液の塗布装置に
おいて、表面が平坦な平滑基材上に一旦塗液吐出装置か
ら塗液を吐出して塗液のストライプを形成し、この塗液
のストライプ方向を検知する塗液ストライプ検知手段
と、検知した塗液のストライプ方向と凹凸基材の凹凸部
のストライプ方向を概略一致させるすストライプ方向一
致化手段とを有することを特徴とする、凹凸基材への塗
液の塗布装置。3. A coating liquid having a table for fixing an uneven base material having uneven portions formed on the surface thereof in one direction in a stripe pattern at a constant pitch, and a plurality of openings facing the uneven portions of the uneven base material. In an apparatus for applying a coating liquid to an uneven substrate, comprising: a discharge device, a supply unit that supplies the coating liquid to the coating liquid discharge device, and a moving unit that relatively moves the table and the coating liquid discharge device three-dimensionally. A coating liquid stripe is formed by discharging the coating liquid from a coating liquid discharge device once onto a flat substrate having a flat surface, and a coating liquid stripe detecting means for detecting a stripe direction of the coating liquid; An apparatus for applying a coating liquid onto an uneven base material, comprising: a stripe direction matching means for making a stripe direction and a stripe direction of an uneven portion of the uneven base material substantially match.
る塗液ストライプ位置検知手段と、検知した塗液のスト
ライプ位置に凹凸基材の任意の凹部を一致させる制御手
段とを有する、請求項3の凹凸基材への塗液の塗布装
置。4. The apparatus according to claim 1, further comprising a coating liquid stripe position detecting means for detecting the position of the coating liquid stripe, and a control means for matching an arbitrary concave portion of the uneven substrate with the detected coating liquid stripe position. 3. An apparatus for applying a coating liquid to the uneven base material.
位置を検知する手段と、凹凸基材の凹部底面から凸部頂
上までの高さに検知した凹部底面の高さ方向の位置を加
算する演算手段と、演算した値に基づいて基材の凸部頂
上位置と塗液吐出装置の開口部面との間隙を制御する間
隙制御手段とを有することを特徴とする、請求項1ない
し4のいずれかに記載の凹凸基材への塗液の塗布装置。5. A means for detecting the position of the bottom surface of the concave portion of the concave-convex base material in the height direction, and the position of the bottom surface of the concave portion detected from the bottom surface of the concave-convex substrate to the top of the convex portion. And a gap control means for controlling a gap between the top of the convex portion of the base material and the opening surface of the coating liquid discharge device based on the calculated value. 5. The apparatus for applying a coating liquid to the uneven substrate according to any one of the above items 4 to 4.
で凹凸部が形成されている凹凸基材と、凹凸基材の凹凸
部と対面して複数の開口部を有する塗液吐出装置とを相
対的に移動させ、かつ前記塗液吐出装置に塗液を供給し
て開口部より塗液を吐出し、凹凸基材の凹部に所定厚さ
塗布する塗布方法であって、凹凸基材のストライプ方向
を直接または間接的に検知するとともに、塗液吐出装置
の開口部の位置を直接または間接的に検知して、開口部
位置に凹凸基材の凹部を位置決めするとともに、塗液吐
出装置の開口部の凹凸基材の凹部に対する相対位置を検
知しつつ、検知した凹凸基板のストライプ方向に沿って
塗液吐出装置の開口部が凹凸基板に対し相対的に移動す
るようにして塗布することを特徴とする、凹凸基材への
塗液の塗布方法。6. An uneven substrate having an uneven portion formed on a surface thereof at a constant pitch in a stripe shape in one direction, and a coating liquid discharging apparatus having a plurality of openings facing the uneven portion of the uneven substrate. A coating method of relatively moving, and supplying a coating liquid to the coating liquid discharging apparatus, discharging the coating liquid from an opening, and applying a predetermined thickness to a concave portion of the concave and convex base material, Directly or indirectly detects the direction, and directly or indirectly detects the position of the opening of the coating liquid discharge device, and positions the concave portion of the uneven substrate at the opening position, and detects the opening of the coating liquid discharge device. The coating is performed such that the opening of the coating liquid discharge device moves relatively to the uneven substrate along the detected stripe direction of the uneven substrate while detecting the relative position of the uneven surface of the uneven substrate to the recess. A method for applying a coating liquid to an uneven substrate.
で凹凸部が形成されている凹凸基材と、凹凸基材の凹凸
部と対面して複数の開口部を有する塗液吐出装置とを相
対的に移動させ、かつ前記塗液吐出装置に塗液を供給し
て開口部より塗液を吐出し、凹凸基材の凹部に所定厚さ
塗布する塗布方法であって、凹凸基材のストライプ方向
を直接または間接的に検知するとともに、塗液吐出装置
の開口部の位置を直接または間接的に検知して、検知し
たストライプ方向が塗布方向と平行になるように凹凸基
材の設置位置を修正するとともに、塗液吐出装置の開口
部の凹凸基材の凹部に対する相対位置を検知し、開口部
の位置に凹凸基材の凹部を位置決めして塗布することを
特徴とする、凹凸基材への塗液の塗布方法。7. An uneven base material having uneven portions formed on a surface thereof in a stripe pattern at a constant pitch in one direction, and a coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the uneven portions of the uneven substrate. A coating method of relatively moving, and supplying a coating liquid to the coating liquid discharging apparatus, discharging the coating liquid from an opening, and applying a predetermined thickness to a concave portion of the concave and convex base material, Directly or indirectly detects the direction, and directly or indirectly detects the position of the opening of the coating liquid ejection device, and adjusts the installation position of the uneven substrate so that the detected stripe direction is parallel to the coating direction. Correcting and detecting the relative position of the opening of the coating liquid discharge device with respect to the concave portion of the uneven substrate, positioning the concave portion of the uneven substrate at the position of the opening, and coating the uneven liquid. How to apply the coating liquid.
で凹凸部が形成されている凹凸基材と、凹凸基材の凹凸
部と対面して複数の開口部を有する塗液吐出装置とを相
対的に移動させ、かつ前記塗液吐出装置に塗液を供給し
て開口部より塗液を吐出し、凹凸基材の凹部に所定厚さ
塗布する塗布方法であって、表面が平坦な平滑基材上に
一旦塗液吐出装置から塗液を吐出して塗液のストライプ
を形成した後に、この塗液のストライプ方向を検知し、
この塗液のストライプ方向と凹凸基材の凹凸部のストラ
イプ方向を概略一致させて塗布することを特徴とする、
凹凸基材への塗液の塗布方法。8. An uneven substrate having an uneven portion formed on a surface thereof in a stripe pattern at a constant pitch in one direction, and a coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the uneven portion of the uneven substrate. A coating method for relatively moving and supplying a coating liquid to the coating liquid discharge device and discharging the coating liquid from an opening to apply a predetermined thickness to a concave portion of the uneven substrate, wherein the surface is flat and smooth. After forming a stripe of the coating liquid by once discharging the coating liquid from the coating liquid discharge device on the substrate, the stripe direction of the coating liquid is detected,
It is characterized in that the application is performed with the stripe direction of the coating liquid and the stripe direction of the uneven portion of the uneven substrate substantially coincide with each other.
A method for applying a coating liquid to an uneven substrate.
に、この塗液の任意のストライプの位置を検知し、検知
した塗液のストライプ位置に凹凸基材の任意の凹部を一
致させて塗布する、請求項8の凹凸基材への塗液の塗布
方法。9. After forming a stripe of the coating liquid, the position of an arbitrary stripe of the coating liquid is detected, and an arbitrary concave portion of the uneven substrate is applied to the detected stripe position of the coating liquid. The method for applying a coating liquid to the uneven substrate according to claim 8.
の位置を検知し、凹凸基材の凹部底面から凸部頂上まで
の高さに検知した凹部底面の高さ方向の位置を加算する
とともに、加算した値に基づいて基材の凸部頂上位置と
塗液吐出装置の開口部面との間隙を一定に保って塗布す
ることを特徴とする、請求項6ないし9のいずれかに記
載の凹凸基材への塗液の塗布方法。10. A height-direction position of the bottom surface of the concave portion of the concave-convex base material is detected, and the detected height position of the bottom surface of the concave portion is added to a height from the bottom surface of the concave portion to the top of the convex portion. The method according to any one of claims 6 to 9, wherein the coating is performed while maintaining a constant gap between the position of the top of the convex portion of the base material and the opening surface of the coating liquid discharge device based on the added value. A method for applying a coating liquid to the uneven substrate according to the above.
に発光する蛍光体粉末を含むペーストであって、請求項
1ないし5のいずれかに記載の塗液の塗布装置を用いた
ことを特徴とする、プラズマディスプレイの製造装置。11. A coating solution containing a phosphor powder emitting light of any one of red, green and blue colors, wherein the coating solution coating apparatus according to any one of claims 1 to 5 is used. An apparatus for manufacturing a plasma display, comprising:
に発光する蛍光体粉末を含むペーストであって、請求項
6ないし10のいずれかに記載の塗液の塗布方法を用い
ることを特徴とする、プラズマディスプレイの製造方
法。12. A method for applying a coating liquid according to claim 6, wherein the coating liquid is a paste containing a phosphor powder that emits light of any one of red, green and blue colors. A method for manufacturing a plasma display, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06044698A JP3912635B2 (en) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | APPARATUS AND METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID ON CONCRETE SUBSTRATE AND APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06044698A JP3912635B2 (en) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | APPARATUS AND METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID ON CONCRETE SUBSTRATE AND APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11239751A true JPH11239751A (en) | 1999-09-07 |
JP3912635B2 JP3912635B2 (en) | 2007-05-09 |
Family
ID=13142520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06044698A Expired - Fee Related JP3912635B2 (en) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | APPARATUS AND METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID ON CONCRETE SUBSTRATE AND APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3912635B2 (en) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002186893A (en) * | 2000-12-22 | 2002-07-02 | Toray Ind Inc | Method and apparatus for applying coating solution, method and apparatus for producing plasma display member |
KR100437799B1 (en) * | 2002-04-08 | 2004-06-30 | 엘지전자 주식회사 | manufacture align ink-jet for make panel display |
KR100472661B1 (en) * | 2001-06-26 | 2005-03-08 | 가부시키가이샤 히다치 인더스트리즈 | Paste coating apparatus |
JP2007185609A (en) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Coating device and substrate position adjusting method for coating device |
KR100788390B1 (en) * | 2001-12-29 | 2007-12-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Manufacturing Apparatus of Liquid Crystal Display Devices |
JP2008093662A (en) * | 2007-11-05 | 2008-04-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Coating apparatus and coating method |
WO2016141882A1 (en) * | 2015-03-11 | 2016-09-15 | 宁波舜宇光电信息有限公司 | Automatic gluing system and gluing method therefor |
CN107694863A (en) * | 2017-05-26 | 2018-02-16 | 广州品帝智能科技有限公司 | A kind of improved LED lamp processing unit (plant) |
CN108367307A (en) * | 2016-01-22 | 2018-08-03 | 庄田德古透隆股份有限公司 | End face apparatus for coating |
CN114932048A (en) * | 2022-06-02 | 2022-08-23 | 深圳市世椿智能装备股份有限公司 | Double-component glue dispenser for bipolar plate |
-
1998
- 1998-02-25 JP JP06044698A patent/JP3912635B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002186893A (en) * | 2000-12-22 | 2002-07-02 | Toray Ind Inc | Method and apparatus for applying coating solution, method and apparatus for producing plasma display member |
KR100472661B1 (en) * | 2001-06-26 | 2005-03-08 | 가부시키가이샤 히다치 인더스트리즈 | Paste coating apparatus |
KR100788390B1 (en) * | 2001-12-29 | 2007-12-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Manufacturing Apparatus of Liquid Crystal Display Devices |
KR100437799B1 (en) * | 2002-04-08 | 2004-06-30 | 엘지전자 주식회사 | manufacture align ink-jet for make panel display |
US6997536B2 (en) | 2002-04-08 | 2006-02-14 | Lg Electronics Inc. | Device and method for fabricating display panel having ink-jet printing applied thereto |
JP2007185609A (en) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Coating device and substrate position adjusting method for coating device |
JP2008093662A (en) * | 2007-11-05 | 2008-04-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Coating apparatus and coating method |
WO2016141882A1 (en) * | 2015-03-11 | 2016-09-15 | 宁波舜宇光电信息有限公司 | Automatic gluing system and gluing method therefor |
CN108367307A (en) * | 2016-01-22 | 2018-08-03 | 庄田德古透隆股份有限公司 | End face apparatus for coating |
US10875036B2 (en) | 2016-01-22 | 2020-12-29 | Shoda Techtron Corp. | End face coating apparatus |
CN107694863A (en) * | 2017-05-26 | 2018-02-16 | 广州品帝智能科技有限公司 | A kind of improved LED lamp processing unit (plant) |
CN107694863B (en) * | 2017-05-26 | 2019-08-16 | 涟水艾巴电子有限公司 | A kind of improved LED lamp processing unit (plant) |
CN114932048A (en) * | 2022-06-02 | 2022-08-23 | 深圳市世椿智能装备股份有限公司 | Double-component glue dispenser for bipolar plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3912635B2 (en) | 2007-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3199239B2 (en) | Manufacturing method and apparatus for plasma display member | |
JPH09206652A (en) | Equipment and method for coating, and device and method for manufacturing color filter | |
JPH11239751A (en) | Method and apparatus for applying coating liquid on uneven substrate, method and apparatus for producing plasma display | |
JP4419203B2 (en) | COATING APPARATUS, COATING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY MEMBER AND APPARATUS | |
JP2002086044A (en) | Coating method and coating tool, and manufacturing method and equipment for display member and plasma display | |
JP2004030941A (en) | Application device and application method | |
KR20070074269A (en) | Dispensing head for paste dispenser | |
JP4403592B2 (en) | Coating apparatus, substrate manufacturing method, and color filter manufacturing apparatus and manufacturing method using the same | |
JP4333074B2 (en) | Coating apparatus and coating method, and plasma display member manufacturing apparatus and manufacturing method | |
JP4324998B2 (en) | Coating apparatus and coating method, and plasma display manufacturing method and manufacturing apparatus | |
JP2003178677A (en) | Phosphor filling device for plasma display panel | |
JP3669551B2 (en) | APPARATUS AND METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID ON CONCRETE SUBSTRATE AND APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY | |
JPH11239750A (en) | Method and apparatus for applying coating liquid on uneven substrate, method and apparatus for producing plasma display | |
JPH11300258A (en) | Coating apparatus, coating method, apparatus for preparing color filter and its preparation | |
TW202336953A (en) | Printing apparatus and method for led dam of display panel | |
JP4006799B2 (en) | Coating apparatus, coating method, and color filter manufacturing method and manufacturing apparatus | |
JP2004303549A (en) | Manufacturing method and manufacturing device of substrate for plasma display | |
JP2001062371A (en) | Application apparatus and method and production apparatus and method for plasma display and member for display | |
JP3728109B2 (en) | APPARATUS AND METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID ON NOZZLE, CONCRETE SUBSTRATE AND PRODUCTION APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA DISPLAY | |
JPH09173939A (en) | Coating applicator and coating method as well as device for producing color filter and its production method | |
JP4158482B2 (en) | Coating method, coating apparatus, and method for manufacturing plasma display member | |
JP2000048716A (en) | Coating solution coating device and method, and plasma display manufacturing device and method | |
JP2005193156A (en) | Paste applicator | |
JP3994357B2 (en) | APPARATUS AND METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID ON CONCRETE SUBSTRATE AND APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY | |
JP2010058097A (en) | Coating method and device, and method and device for manufacturing member of plasma display |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040212 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040212 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060410 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060512 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20060707 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060908 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061031 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20070112 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Effective date: 20070125 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100209 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140209 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |