JP3490355B2 - Paste coating machine - Google Patents

Paste coating machine

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JP3490355B2
JP3490355B2 JP27279399A JP27279399A JP3490355B2 JP 3490355 B2 JP3490355 B2 JP 3490355B2 JP 27279399 A JP27279399 A JP 27279399A JP 27279399 A JP27279399 A JP 27279399A JP 3490355 B2 JP3490355 B2 JP 3490355B2
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paste
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distance
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福男 米田
茂 石田
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株式会社 日立インダストリイズ
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、テ−ブル上に載置
した基板にノズルのペースト吐出口を対向させ、該ノズ
ルのペースト吐出口と該基板との間の該基板の主面に垂
直な方向の距離を任意に保ち、該ノズルのペースト吐出
口から該基板上にペーストを吐出させながら該基板と該
ノズルとの間の該基板の主面に平行な方向での相対位置
関係を変化させることにより、該基板上に所望形状のペ
ーストパタ−ンを塗布するペースト塗布機に係り、特
に、プラズマディスプレイの製造に際してのR,G,B
3色の蛍光体などの形成に好適なペースト塗布機に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has a paste discharge port of a nozzle facing a substrate placed on a table and is perpendicular to the main surface of the substrate between the paste discharge port of the nozzle and the substrate. The distance in any direction, and changing the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in the direction parallel to the main surface of the substrate while discharging the paste from the paste discharge port of the nozzle onto the substrate. Thus, the present invention relates to a paste applicator for applying a paste pattern of a desired shape onto the substrate, and particularly R, G, B in the manufacture of a plasma display.
The present invention relates to a paste coater suitable for forming phosphors of three colors.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイの製造工程でR
(赤)光,G(緑)光,B(青)光に発光する夫々の蛍
光体(以下、これら蛍光体を、夫々、R蛍光体,G蛍光
体,B蛍光体という)などの形成に用いられるペースト
塗布機として、特開平10−27543号公報や特開平
10−223138号公報で提案されているものがあ
る。
2. Description of the Related Art R is used in the manufacturing process of plasma displays.
For the formation of phosphors that emit (red) light, G (green) light, and B (blue) light (hereinafter, these phosphors are referred to as R phosphor, G phosphor, and B phosphor, respectively). As the paste applicator used, there are those proposed in JP-A-10-27543 and JP-A-10-223138.

【0003】これらに記載のペースト塗布機は、いずれ
も、テ−ブル上に載置した基板にノズルの先端のペース
ト吐出口を対向させて、ペースト吐出口と基板との間で
この基板の主面に垂直な方向に任意の距離を持たせ(以
下、この距離をノズル先端,基板間の間隔(距離)とい
う)、ペースト吐出口から基板上にR,G,B蛍光体の
ペーストを吐出させながらこれらノズル先端と基板との
間のこの基板の主面に平行な方向の相対位置関係(以
下、ノズル先端,基板間の相対位置関係という)を変化
させ、この基板上に所望形状の蛍光体のペーストパタ−
ンを塗布するものである。
In all of the paste applicators described in these documents, the paste ejection port at the tip of the nozzle is made to face the substrate placed on the table, and the main portion of the substrate is provided between the paste ejection port and the substrate. An arbitrary distance is provided in a direction perpendicular to the surface (hereinafter, this distance is referred to as a nozzle tip and a distance (distance) between the substrates), and the R, G, and B phosphor pastes are ejected onto the substrate from the paste ejection ports. While changing the relative positional relationship between the nozzle tip and the substrate in a direction parallel to the main surface of the substrate (hereinafter referred to as the relative positional relationship between the nozzle tip and the substrate), the phosphor of a desired shape is formed on the substrate. Paste pattern
Is applied.

【0004】特に、プラズマディスプレイの基板上に
は、紫外線に対しては不透明なガラスからなる多数本の
隔壁(リブ)が設けられ、R,G,B蛍光体のペースト
はこれらリブの間の基板上に塗布される。
In particular, a large number of partition walls (ribs) made of glass opaque to ultraviolet rays are provided on the substrate of the plasma display, and the R, G, B phosphor paste is the substrate between these ribs. Applied over.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術のうち特
開平10ー27543号公報に記載のペースト塗布機で
は、予め計測したノズル先端,基板間の距離やノズル先
端,リブ間の距離に倣ってノズルを上下させながら、ノ
ズル,基板間の相対位置関係を変化させることにより、
基板上に蛍光体のペーストパタ−ンを塗布するようにし
ている。これらノズル先端,基板間の距離やノズル先
端,リブ間の距離の計測は、基板の表面やリブ上に設定
した3点で行なって、夫々毎に検出したこれら3点を通
る仮想曲面を設定し、基板の表面上やリブ上でそれに対
応する仮想曲面に平行にノズルを移動させる。
Among the above-mentioned conventional techniques, in the paste coating machine described in Japanese Patent Laid-Open No. 10-27543, the nozzle tip, the distance between the substrates, the nozzle tip and the distance between the ribs are measured in advance. By changing the relative positional relationship between the nozzle and the substrate while moving the nozzle up and down,
A phosphor paste pattern is applied onto the substrate. The distance between the nozzle tip and the substrate and the distance between the nozzle tip and the rib are measured at three points set on the surface of the substrate and on the rib, and a virtual curved surface passing through these three points detected for each is set. , The nozzle is moved parallel to the virtual curved surface corresponding to it on the surface of the substrate or on the rib.

【0006】上記特開平10ー223138号公報に記
載のペースト塗布機では、基板上から任意の高さ位置に
ノズル先端を設定してノズルの先端から基板上にガイド
を垂らし、このガイドに蛍光体のペーストを滴らせて各
リブ間の基板上に塗布するようにしており、ノズル先
端,基板間の距離は格段調整していない。
In the paste applicator disclosed in the above-mentioned JP-A-10-223138, the tip of the nozzle is set at an arbitrary height position above the substrate, a guide is hung from the tip of the nozzle onto the substrate, and the phosphor is applied to this guide. The paste is dropped and applied on the substrate between the ribs, and the distance between the nozzle tip and the substrate is not adjusted significantly.

【0007】リブ間の距離は150ミクロン程度で微細
であるため、これら従来技術では、リブ間に正確に蛍光
体のペーストを塗布することに専念している。
Since the distance between the ribs is as small as about 150 μm, these conventional techniques are dedicated to accurately applying the phosphor paste between the ribs.

【0008】しかしながら、プラズマディスプレイは大
画面であって、その基板は液晶ディスプレイ用の基板よ
りも厚くなっており、表面が平坦なテーブルに載置した
場合、基板の表面は平坦にならず、波打っていることが
多い。このため、上記特開平10ー27543号公報に
記載のペースト塗布機の場合のように、3点で予め距離
を計測する程度では、基板の表面のうねりに追従させて
ノズル先端の高さ位置を変化させ、ノズル先端,基板間
の距離を一定に保つということはできない。そこで、計
測点数を増加させることが考えられるが、このようにす
ると、計測点に関するデータ量が増えてこれを記憶して
おくためのメモリとして大容量のものが必要となるし、
また、この計測に要する時間が長くなって処理が面倒に
なる。
However, the plasma display has a large screen, the substrate of which is thicker than that of the liquid crystal display, and when placed on a table having a flat surface, the surface of the substrate does not become flat, and a wave is generated. I often hit it. Therefore, as in the case of the paste applicator described in JP-A-10-27543, when the distance is measured in advance at three points, the height position of the nozzle tip is made to follow the waviness of the surface of the substrate. It cannot be changed to keep the distance between the nozzle tip and the substrate constant. Therefore, it is conceivable to increase the number of measurement points, but if you do this, the amount of data related to measurement points will increase and a large capacity memory will be required to store this,
In addition, the time required for this measurement becomes long and the process becomes troublesome.

【0009】なお、リブは基板上にガラスを焼成して形
成されるので、リブの表面の凹凸は激しく、リブ上を計
測点とすることはノズル先端,基板間の距離に正確に反
映させることができないので、倣い制御の基準としては
相応しくない。
Since the rib is formed by baking glass on the substrate, the unevenness of the surface of the rib is severe, and the fact that the measurement point is on the rib accurately reflects the distance between the nozzle tip and the substrate. Therefore, it is not suitable as a reference for scanning control.

【0010】また、上記の特開平10ー223138号
公報に記載のペースト塗布機の場合では、基板の表面状
態に係わらず、ノズル先端,基板間の距離を大き目に設
定している。このため、塗布の始端や終端では、ペース
トの滴りを推し量る必要があって、ペーストの吐出開始
や終了の制御が難しく、所望形状にペーストを塗布でき
ない恐れがあった。
Further, in the case of the paste applicator described in the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 10-223138, the distance between the nozzle tip and the substrate is set to be large regardless of the surface condition of the substrate. For this reason, it is necessary to estimate the amount of paste dripping at the beginning and end of application, and it is difficult to control the start and end of paste ejection, and there is a risk that the paste cannot be applied in the desired shape.

【0011】本発明は、以上のような点に鑑みてなされ
たものであって、その目的は、所望の位置にペーストパ
ターンを高精度に形成することができるようにしたペー
スト塗布機を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide a paste applicator capable of forming a paste pattern at a desired position with high accuracy. Especially.

【0012】また、本発明の他の目的は、所望の位置に
ペーストパターンを高精度で、しかも高生産性をもって
形成することができるようにしたペースト塗布機を提供
することにある。
Another object of the present invention is to provide a paste applicator capable of forming a paste pattern at a desired position with high accuracy and high productivity.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、テ−ブル上に載置された基板の主面に垂
直な方向でのノズルのペースト吐出口と該基板との間の
距離の計測を行なうセンサと該基板の主面に平行な方向
での該基板と該ノズルとの間の相対位置関係の変化方向
と直交する方向での該基板上の距離の計測を行なうセン
サとを備え、該基板の主面に平行な方向での該基板と該
ノズルとの間の相対位置関係を変化させる際の該ノズル
に先行するセンサは、少なくとも、該基板の主面に垂直
な方向での該ペースト吐出口と該基板との間の距離の計
測を行なうセンサであり、これらセンサの検出結果に基
いて該基板の主面に垂直な方向及び該基板の主面に平行
な方向での該基板と該ノズルとの間の相対位置関係の変
化方向と直交する方向での該ノズルの位置決めをする構
成をなすものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a paste discharge port of a nozzle in a direction perpendicular to a main surface of a substrate placed on a table and the substrate. The distance between the sensor and the substrate is measured in a direction orthogonal to the direction in which the relative positional relationship between the substrate and the nozzle changes in a direction parallel to the main surface of the substrate. A sensor, and the sensor preceding the nozzle when changing the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in a direction parallel to the main surface of the substrate is at least perpendicular to the main surface of the substrate. Is a sensor for measuring the distance between the paste discharge port and the substrate in various directions, and based on the detection results of these sensors, a direction perpendicular to the main surface of the substrate and parallel to the main surface of the substrate. Orthogonal to the changing direction of the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in the direction Those forming a structure for the positioning of the nozzle in direction.

【0014】また、本発明は、該ノズルに先行するセン
サが該基板の主面に垂直な方向での該ペースト吐出口と
基板との間の距離の計測のみを行なうセンサであること
に対し、該ノズルに後行するセンサとして、該基板の主
面に平行な方向での該基板と該ノズルとの間の相対位置
関係の変化方向と直交する方向での該基板上の距離の計
測するセンサを設け、これらセンサの検出結果に基い
て、該基板と該ノズルとの間の相対位置関係の変化方向
と直交する方向でのノズルの位置を制御する構成とし
た。
Further, according to the present invention, the sensor preceding the nozzle is a sensor that only measures the distance between the paste discharge port and the substrate in the direction perpendicular to the main surface of the substrate. As a sensor following the nozzle, a sensor for measuring a distance on the substrate in a direction orthogonal to a changing direction of the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in a direction parallel to the main surface of the substrate. Is provided, and the position of the nozzle in the direction orthogonal to the changing direction of the relative positional relationship between the substrate and the nozzle is controlled based on the detection results of these sensors.

【0015】さらに、本発明は、該基板の主面に平行な
方向での該基板と該ノズルとの間の相対位置関係を変化
させる際の該ノズルに先行するセンサ及び後行するセン
サとして、該基板の主面に垂直な方向での該ペースト吐
出口と該基板との間の距離の計測を行なうセンサを設
け、先行する該センサの検出結果に基いて、該基板の主
面に垂直な方向での該ペースト吐出口と該基板との間に
任意な距離を持たせ、先行及び後行するこれらセンサの
検出結果に基いて、該基板と該ノズルとの間の相対位置
関係の変化方向と直交する方向でのノズルの位置を制御
する構成とした。
Further, the present invention provides a sensor preceding and following the nozzle when changing the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in a direction parallel to the main surface of the substrate, A sensor that measures the distance between the paste discharge port and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate is provided, and based on the detection result of the preceding sensor, a sensor that is perpendicular to the main surface of the substrate is provided. The direction of change of the relative positional relationship between the substrate and the nozzle based on the detection results of the preceding and following sensors with an arbitrary distance between the paste discharge port and the substrate The configuration is such that the position of the nozzle is controlled in the direction orthogonal to.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
用いて説明する。図1は本発明によるペースト塗布機の
一実施形態を示す斜視図であって、1は架台、2a,2
bは基板搬送コンベア、3は基板吸着盤、4はθ軸移動
テ−ブル、5a,5bはy軸移動テ−ブル、6はx軸移
動テーブル、7は塗布ヘッド、8は制御部、9は空圧ユ
ニット、10はモニタ、11はキ−ボ−ド(操作パネ
ル)である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a paste coating machine according to the present invention, in which 1 is a pedestal, 2a, 2
Reference numeral b is a substrate conveyer, 3 is a substrate suction plate, 4 is a θ-axis movement table, 5a and 5b are y-axis movement tables, 6 is an x-axis movement table, 7 is a coating head, 8 is a control unit, 9 Is a pneumatic unit, 10 is a monitor, and 11 is a keyboard (operation panel).

【0017】同図において、基板搬送コンベア2a,2
bは昇降手段を備えており、プラズマディスプレイ製造
用の基板Kをx軸方向に搬送して降下することにより、
基板吸着盤3上に載置し、また、上昇することによって
この基板Kを受け取り、X軸方向に搬送することによ
り、外部に排出する。なお、図示を省略したが、基板K
上には、y軸方向に平行な複数のリブが形成されてい
る。
In the figure, the substrate transfer conveyors 2a, 2
b is provided with an elevating means, and conveys the substrate K for plasma display manufacture in the x-axis direction and lowers it.
The substrate K is placed on the substrate suction plate 3 and is lifted to receive the substrate K, and is transported in the X-axis direction to be discharged to the outside. Although not shown, the substrate K
A plurality of ribs parallel to the y-axis direction are formed on the top.

【0018】θ軸移動テ−ブル4は基板吸着盤3をθ軸
を中心に回転させ、y軸移動テ−ブル5a,5bはx軸
移動テーブル6をy軸方向に駆動させるものであり、リ
ニアモータと支持剛性を確保するための案内機構を備え
ている。
The θ-axis moving table 4 rotates the substrate suction plate 3 about the θ-axis, and the y-axis moving tables 5a and 5b drive the x-axis moving table 6 in the y-axis direction. It is equipped with a linear motor and a guide mechanism for ensuring support rigidity.

【0019】塗布ヘッド7はx軸移動テーブル6に設け
られ、x軸移動テーブル6によりx軸方向に移動する。
モニタ10は運転状態の表示や画像入力状態を映し出
し、キ−ボ−ド11は運転データの入力や装置の操作を
行なうものである。
The coating head 7 is provided on the x-axis moving table 6 and is moved by the x-axis moving table 6 in the x-axis direction.
The monitor 10 displays the operating state and displays the image input state, and the keyboard 11 inputs operating data and operates the apparatus.

【0020】架台1上には、図示しない位置決め用カメ
ラが2台設置されており、基板Kに写植された位置決め
マーク位置を読み取り、θ軸移動テ−ブル4によって基
板Kの辺縁をxy各軸に平行になるようにするととも
に、基板Kの基板吸着盤3上における位置を確認する。
また、これらカメラが塗布ヘッド7の移動域と干渉する
場合には、基板吸着盤3の下部にカメラを設置し、基板
吸着盤3を透過して画像認識位置決めするようにしても
よい。
Two positioning cameras (not shown) are installed on the pedestal 1. The position of the positioning mark imprinted on the substrate K is read, and the θ-axis moving table 4 is used to set the edges of the substrate K in xy directions. The position is set parallel to the axis, and the position of the substrate K on the substrate suction plate 3 is confirmed.
Further, when these cameras interfere with the moving range of the coating head 7, a camera may be installed under the substrate suction plate 3 so as to pass through the substrate suction plate 3 for image recognition positioning.

【0021】図2は図1における塗布ヘッド7を拡大し
て示す斜視図であって、12はz軸テーブルベース、1
3はz軸モータ、14はZ軸移動テーブル、15はシリ
ンジ保持ベース、16R,16G,16Bは夫々R,
G,B蛍光体ペーストのシリンジ、17はシリンジ16
R,16G,16Bのエア供給口、18はシリンジ16
R,16G,16Bのペースト供給口、19a,19b
はシリンジ16R,16G,16Bのペースト残量検知
センサ、20はシリンジ16R,16G,16Bのペー
スト収納筒蓋、21はノズルホルダ、22はノズルセン
サベース、23は先行センサ、24は後行センサ、25
はノズルセンサ駆動機構、26は移動案内機構である。
FIG. 2 is an enlarged perspective view showing the coating head 7 in FIG. 1, and 12 is a z-axis table base, 1
3 is a z-axis motor, 14 is a Z-axis moving table, 15 is a syringe holding base, 16R, 16G, 16B are R, respectively.
G, B phosphor paste syringe, 17 is a syringe 16
R, 16G, 16B air supply ports, 18 is a syringe 16
R, 16G, 16B paste supply ports, 19a, 19b
Is a remaining paste amount detection sensor for the syringes 16R, 16G, 16B, 20 is a paste storage cylinder lid for the syringes 16R, 16G, 16B, 21 is a nozzle holder, 22 is a nozzle sensor base, 23 is a preceding sensor, 24 is a trailing sensor, 25
Is a nozzle sensor drive mechanism, and 26 is a movement guide mechanism.

【0022】同図において、z軸テーブルベース12は
x軸移動テ−ブル6上に配置されており、Z軸移動テー
ブル14はz軸モータ13の正逆転運動をz軸方向に変
換するためのボールねじなどの機械要素と案内機構を内
蔵している。シリンジ保持ベース15は、z軸移動テ−
ブル14により、z軸方向に移動する。ノズルホルダ2
1には、R蛍光体ペーストが収納されたシリンジ16R
とG蛍光体ペーストが収納されたシリンジ16GとB蛍
光体ペーストが収納されたシリンジ16Bとが固定され
ており、また、図3で説明するペーストを吐出する複数
のノズルが下部に配置され、シリンジ16R,16G,
16Bからこれらノズルへのペーストの配給管路を内蔵
している。これらシリンジ16R,16G,16Bには
夫々、エア供給口17,ペースト供給口18,ペースト
残量検知センサ19a,19b及びペースト収納筒蓋2
0が設けられている。ノズルセンサベース22は、ノズ
ルホルダ21に取り付けた複数のノズルが貫通する開孔
を備えている。
In FIG. 1, the z-axis table base 12 is arranged on the x-axis moving table 6, and the Z-axis moving table 14 is for converting the forward / reverse movement of the z-axis motor 13 into the z-axis direction. It incorporates mechanical elements such as ball screws and a guide mechanism. The syringe holding base 15 is a z-axis moving table.
The bull 14 moves in the z-axis direction. Nozzle holder 2
1 includes a syringe 16R containing an R phosphor paste.
The syringe 16G containing the G phosphor paste and the syringe 16B containing the B phosphor paste are fixed, and a plurality of nozzles for discharging the paste described in FIG. 16R, 16G,
16B has a built-in pipe for supplying paste to these nozzles. These syringes 16R, 16G, and 16B are provided with an air supply port 17, a paste supply port 18, paste remaining amount detection sensors 19a and 19b, and a paste storage cylinder lid 2, respectively.
0 is provided. The nozzle sensor base 22 has an opening through which a plurality of nozzles attached to the nozzle holder 21 penetrate.

【0023】シリンジ16R,16G,16Bのペース
トの残量がペースト残量検知センサ19a,19bで検
出され、残量が基準量よりも減少した場合には、後述す
るペーストタンクから配管,ペースト供給口18を介し
てシリンジ16R,16G,16Bにペーストが圧送さ
れる。また、ペーストの供給を行なわない場合には、図
示していないバルブにより、上記のペースト供給経路が
遮断されている。
When the paste remaining amount of the syringes 16R, 16G, 16B is detected by the paste remaining amount detecting sensors 19a, 19b, and the remaining amount is less than the reference amount, the paste tank to be described later is connected to the pipe and the paste supply port. The paste is pressure-fed to the syringes 16R, 16G, and 16B via 18. When the paste is not supplied, the above-mentioned paste supply path is shut off by a valve (not shown).

【0024】先行センサ23と後行センサ24とはノズ
ルセンサベース22上に配置されており、それらの検出
光はノズルセンサベース22に設けた開孔を透過する。
ノズルセンサ駆動機構25はシリンジ保持ベース15に
設けられ、先行センサ23と後行センサ24とノズルホ
ルダ21とをx軸方向に微少移動させる。ノズルホルダ
21のみをx軸方向に微少移動させるノズル移動機構も
あるが、ここでは、図示は省略している。移動案内機構
26はノズルセンサ駆動機構25によるノズルやセンサ
23,24の移動を案内するものである。
The leading sensor 23 and the trailing sensor 24 are arranged on the nozzle sensor base 22, and the detection light thereof passes through an opening provided in the nozzle sensor base 22.
The nozzle sensor drive mechanism 25 is provided on the syringe holding base 15 and slightly moves the leading sensor 23, the trailing sensor 24, and the nozzle holder 21 in the x-axis direction. There is also a nozzle moving mechanism that slightly moves only the nozzle holder 21 in the x-axis direction, but the illustration is omitted here. The movement guide mechanism 26 guides the movement of the nozzles and the sensors 23, 24 by the nozzle sensor drive mechanism 25.

【0025】なお、これらセンサ23,24について
は、後で詳細に説明する。
The sensors 23 and 24 will be described later in detail.

【0026】図3はこの実施形態の基板K上に蛍光体ペ
ーストを塗布する過程を示す斜視図であって、27R,
27G,27Bは夫々R,G,B蛍光体ペーストのノズ
ル、28はリブである。
FIG. 3 is a perspective view showing a process of applying the phosphor paste on the substrate K of this embodiment, which includes 27R,
27G and 27B are nozzles for R, G and B phosphor paste, and 28 is a rib.

【0027】同図において、ノズルホルダ21には、R
蛍光体ペーストのノズル27RとG蛍光体ペーストのノ
ズル27GとB蛍光体ペーストのノズル27Bが2個ず
つ取り付けられており、ノズル27R,27G,27
B,27R,27G,27Bの順にx軸方向に配置され
ている(以下では、これらノズル27R,27G,27
Bをまとめてノズル27と総称する)。また、蛍光体ペ
ーストが塗布される基板Kは、そこに設けられているリ
ブ28がy軸方向に平行とするように、配置されてい
る。従って、ノズルホルダ21でのノズル27の配列方
向は、基板K上のリブ28の長手方向に対して直交視て
いる。
In the figure, the nozzle holder 21 has an R
Two nozzles 27R for the phosphor paste, two nozzles 27G for the G phosphor paste, and two nozzles 27B for the B phosphor paste are attached, and nozzles 27R, 27G, 27
B, 27R, 27G, 27B are arranged in this order in the x-axis direction (hereinafter, these nozzles 27R, 27G, 27
B is collectively referred to as a nozzle 27). The substrate K to which the phosphor paste is applied is arranged so that the ribs 28 provided therein are parallel to the y-axis direction. Therefore, the arrangement direction of the nozzles 27 in the nozzle holder 21 is orthogonal to the longitudinal direction of the ribs 28 on the substrate K.

【0028】これらノズル27R,27G,27B,2
7R,27G,27Bが夫々基板K上の隣合うリブ28
間に対向した状態で、このノズルホルダ21が取り付け
られたx軸移動テーブル6がy軸移動テ−ブル5a,5
b上をy軸方向に移動することにより(図1)、これら
ノズル27がy軸方向に移動し、これとともに、ノズル
27Rの先端のペースト吐出口(図示せず)からシリン
ジ16R(図2)のR蛍光体ペーストP(R)が、ノズ
ル27Gの先端ペースト吐出口(図示せず)からシリン
ジ16G(図2)のG蛍光体ペーストP(G)が、ノズ
ル27Bの先端のペースト吐出口(図示せず)からシリ
ンジ16B(図2)のB蛍光体ペーストP(B)が夫々
吐出され、2つおきのリブ28間にR蛍光体ペーストP
(G)が、それらの隣りのリブ28間にG蛍光体ペース
トP(G)が、さらにそれらの隣りのリブ28間にB蛍
光体ペーストP(B)が夫々塗布され、6個のリブ28
間に同時に蛍光体ペーストが塗布される。かかる6個の
リブ28間の塗布が終了すると、次に、x軸移動テーブ
ル6がy軸移動テ−ブル5a,5b上をy軸方向にリブ
28の6個分移動し、これらリブ28間の上記の塗布動
作を行なう。
These nozzles 27R, 27G, 27B, 2
7R, 27G, and 27B are adjacent ribs 28 on the substrate K, respectively.
The x-axis moving table 6 to which the nozzle holder 21 is attached is placed in the y-axis moving table 5a, 5 while facing each other.
By moving in the y-axis direction on b (FIG. 1), these nozzles 27 move in the y-axis direction, and at the same time, from the paste discharge port (not shown) at the tip of the nozzle 27R, the syringe 16R (FIG. 2). Of the R phosphor paste P (R) of the nozzle 27G to the paste discharge port (not shown) of the nozzle 27G, and the G phosphor paste P (G) of the syringe 16G (FIG. 2) to the paste discharge port of the tip of the nozzle 27B ( The B phosphor paste P (B) of the syringe 16B (FIG. 2) is discharged from each (not shown), and the R phosphor paste P is placed between every two ribs 28.
(G) is applied with the G phosphor paste P (G) between the adjacent ribs 28 and further with the B phosphor paste P (B) between the adjacent ribs 28, respectively, so that the six ribs 28 are formed.
At the same time, the phosphor paste is applied. When the coating between the six ribs 28 is completed, the x-axis moving table 6 then moves on the y-axis moving tables 5a and 5b by six ribs 28 in the y-axis direction. The above coating operation is performed.

【0029】このようにして、ノズルホルダ21に6個
のノズル27を取り付けた6孔式のノズルにより、6個
のリブ28間のペースト塗布を同時に行なうことができ
るが、ノズル27R,27G,27Bを1個ずつ用いた
3孔式やそれ以外の3の倍数個を用いた方式としてもよ
いが、例えば、3孔式や6孔式などのノズルの使用個数
が少ない場合には、夫々のノズル27をノズルホルダ2
1に対して個別に着脱可能にしてもよい。しかし、取付
精度や取付の作業性を考慮すると、1つのブロックに複
数個の孔加工を施した多孔ノズル(例えば、ノズルホル
ダ21に複数のノズル27を一体に固定して取り付けた
多孔ノズル)の使用が望まれる。また、ノズルホルダ2
1の構造を変更することにより、取付可能なノズル27
の個数や、ノズル27の中心間の距離や吐出可能ペース
ト数,実装可能なシリンジ16の本数を容易に変更でき
る。
In this manner, the 6-hole type nozzle in which the 6 nozzles 27 are attached to the nozzle holder 21 can simultaneously apply the paste between the 6 ribs 28, but the nozzles 27R, 27G, 27B. It is also possible to adopt a three-hole type in which one nozzle is used or a method in which a multiple of three other than that is used, but for example, when the number of nozzles used in the three-hole type or the six-hole type is small, each nozzle 27 for nozzle holder 2
You may make it detachable with respect to 1 individually. However, in consideration of the mounting accuracy and the workability of mounting, it is possible to use a multi-hole nozzle in which one block is formed with a plurality of holes (for example, a multi-hole nozzle in which a plurality of nozzles 27 are integrally fixed and attached to the nozzle holder 21). Use is desired. In addition, the nozzle holder 2
Nozzle 27 that can be attached by changing the structure of 1.
, The distance between the centers of the nozzles 27, the number of ejectable pastes, and the number of mountable syringes 16 can be easily changed.

【0030】蛍光体はその発光色毎に粘度やチクソ値な
どの物性値が異なるため、これらを同時に高精度で塗布
するためには、後述する空気圧力調整機器をシリンジ1
6毎に接続し、蛍光体ペーストの種類(発光色の異なる
蛍光体ペースト)に応じて吐出圧力を調整するとよい。
Since the phosphors have different physical properties such as viscosity and thixotropy for each emission color, in order to apply these at the same time with high accuracy, an air pressure adjusting device, which will be described later, is used for the syringe 1.
It is advisable to connect every 6 and adjust the discharge pressure according to the type of phosphor paste (phosphor paste having a different emission color).

【0031】なお、この実施形態は、プラズマディスプ
レイパネルでの蛍光体ペーストの塗布に関するものであ
るが、例えば、単一ペーストパターンを同一ピッチで複
数形成する、例えば、ブラックストライプの形成工程や
バリアリブの形成工程などにこの実施形態を使用する場
合には、シリンジ16を1つにし、ノズルホルダ21内
で複数のノズル27に均等配分する塗布方法や、同一ペ
ーストで粘度やチクソ値など物性値を調整したぺースト
を順次積層していくような塗布方法も可能である。
Although this embodiment relates to the application of the phosphor paste in the plasma display panel, for example, a plurality of single paste patterns are formed at the same pitch, for example, a black stripe forming step or barrier rib formation. When this embodiment is used in the forming process, etc., the number of syringes 16 is set to one, and the coating method for evenly distributing the plurality of nozzles 27 in the nozzle holder 21 and the physical properties such as viscosity and thixo value with the same paste are adjusted. It is also possible to use a coating method in which the pastes are sequentially laminated.

【0032】ところで、基板Kの厚いものにあっては、
図1において、基板吸着盤3に全面にわたって吸着させ
て表面を平坦にしようとしても、部分的に吸着されるだ
けで、反りが直らず、基板Kの表面にうねりがあること
が多い。また、基板Kが大型化するにつれて基板吸着盤
3は大きなものとなり、基板吸着盤3の辺縁域が重みで
湾曲するようになる。従って、基板Kも基板吸着盤3に
合わせて湾曲し、また、基板吸着盤3からはみ出してい
る基板Kの辺縁域は、自重で垂れ下がるように湾曲す
る。
By the way, for a thick substrate K,
In FIG. 1, even if an attempt is made to flatten the surface by sucking the whole surface onto the substrate suction plate 3, it is only partially sucked, the warp is not corrected, and the surface of the substrate K often has undulations. Further, as the substrate K becomes larger, the substrate suction plate 3 becomes larger, and the peripheral region of the substrate suction plate 3 becomes curved due to the weight. Therefore, the substrate K also curves in accordance with the substrate suction plate 3, and the marginal area of the substrate K protruding from the substrate suction plate 3 curves so as to hang down under its own weight.

【0033】一方、x軸移動テーブル6や塗布ヘッド7
は基板Kの反りとは独立しているので、ノズル27のペ
ースト吐出口と基板Kの表面との間の間隔(距離:即
ち、ペースト吐出口,基板K間の間隔)は、基板Kの表
面と平行な方向(x,y軸方向)での基板Kの表面に対
するペースト吐出口の相対位置において、基板Kのうね
りや反りにより差が生じる。
On the other hand, the x-axis moving table 6 and the coating head 7
Is independent of the warp of the substrate K, the distance between the paste ejection port of the nozzle 27 and the surface of the substrate K (distance: space between the paste ejection port and the substrate K) is the surface of the substrate K. A difference occurs in the relative position of the paste ejection port with respect to the surface of the substrate K in the direction parallel to (x, y axis direction) due to the undulation or warpage of the substrate K.

【0034】そこで、基板Kの表面と平行な方向でのノ
ズル27のペースト吐出口と基板Kとの間の相対位置の
変化に応じて(ここでは、ペースト吐出口の移動ととも
に)、ペースト吐出口,基板K間の間隔を計測し、リア
ルタイムでペースト吐出口,基板K間の間隔を調整制御
する。この制御の後は、計測データを適宜に処分するこ
とで制御部8の負担を軽減させる。
Therefore, according to the change in the relative position between the paste ejection port of the nozzle 27 and the substrate K in the direction parallel to the surface of the substrate K (here, with the movement of the paste ejection port), the paste ejection port is , The distance between the substrates K is measured, and the distance between the paste ejection port and the substrate K is adjusted and controlled in real time. After this control, the load on the control unit 8 is reduced by appropriately disposing the measurement data.

【0035】図4はかかる計測を行なう図2における先
行センサ23の一具体例の説明図であって、29はかか
る先行センサ23としての非接触三角測式センサであ
り、図3に対応する部分には同一符号を付けている。
FIG. 4 is an explanatory view of a specific example of the preceding sensor 23 in FIG. 2 for performing such measurement, and 29 is a non-contact triangulation sensor as the preceding sensor 23, which corresponds to FIG. Are given the same reference numerals.

【0036】同図において、非接触三角測式センサ29
は、半導体レーザを光源とし、三角測量によりペースト
吐出口,基板K間の間隔を計測するものである。
In the figure, the non-contact triangulation sensor 29
Uses a semiconductor laser as a light source and measures the distance between the paste ejection port and the substrate K by triangulation.

【0037】この非接触三角測式センサ29は、内部に
発光部と受光部とを備え、発光部からレーザ光(検出
光)L1を発光させ、このレーザ光L1を基板Kの表面
上の計測点S1で反射させて受光部で受光することによ
り、測長を行なう。レーザ光L1の照射方は、リブ28
の長手方向と平行になるようにしている。
The non-contact triangulation sensor 29 has a light emitting portion and a light receiving portion therein, emits laser light (detection light) L1 from the light emitting portion, and measures the laser light L1 on the surface of the substrate K. The length is measured by reflecting the light at the point S1 and receiving the light by the light receiving unit. The rib 28 is used to irradiate the laser light L1.
It is arranged to be parallel to the longitudinal direction of.

【0038】かかる先行センサ23でペースト吐出口,
基板K間の間隔を計測することにより、基板Kの表面の
うねりや反りを検出し、この検出結果に基づいて、ノズ
ル27のペースト吐出口が基板Kの表面から予め決めた
所望の間隔(距離)になるように、z軸モータ13(図
2)をリアルタイムで制御する。
With the preceding sensor 23, the paste discharge port,
By measuring the distance between the substrates K, the undulation or warpage of the surface of the substrate K is detected, and based on the detection result, the paste discharge port of the nozzle 27 is separated from the surface of the substrate K by a predetermined desired distance (distance). 2), the z-axis motor 13 (FIG. 2) is controlled in real time.

【0039】なお、先行センサ23としては、かかる三
角測式センサに代えて、オートフォーカス式,画像計測
式で知られる光プローブ式や、超音波方式,磁気方式な
どのセンサを用いてもよい。
As the preceding sensor 23, an optical probe type known as an autofocus type, an image measuring type, an ultrasonic type, a magnetic type or the like sensor may be used instead of the triangulation type sensor.

【0040】図5は図2における後行センサ24の一具
体例の説明図であって、30はかかる後行センサ24と
しての非接触三角測式センサであり、図3に対応する部
分には同一符号を付けている。
FIG. 5 is an explanatory view of a specific example of the trailing sensor 24 in FIG. 2, and 30 is a non-contact triangulation sensor as the trailing sensor 24, and the portion corresponding to FIG. The same reference numerals are attached.

【0041】同図において、非接触走査式センサ30
は、半導体レーザを光源として用い、基板K上に塗布さ
れた蛍光体ペーストPの表面の間隔(距離)を計測す
る。
In the figure, the non-contact scanning sensor 30
Uses a semiconductor laser as a light source to measure the distance (distance) between the surfaces of the phosphor paste P applied on the substrate K.

【0042】非接触走査式センサ30は、内部に設けた
光走査機構によって線状に走査することにより、二次元
変位の測定を行なう。この非接触走査式センサ30は、
レーザ光(検出光)L2の走査方向がリブ28と直角に
なるように、配置される。なお、図5では、塗布された
蛍光体ペーストPは省略している。
The non-contact scanning type sensor 30 measures two-dimensional displacement by scanning linearly by an optical scanning mechanism provided inside. This non-contact scanning sensor 30 is
The laser light (detection light) L2 is arranged so that the scanning direction thereof is perpendicular to the rib 28. Note that the applied phosphor paste P is omitted in FIG.

【0043】非接触走査式センサ30は、レーザ光L2
の走査に従って順次蛍光体ペーストPまでの距離を計測
(検出)するとともに、リブ28と直角方向での位置を
割り出しており、これにより、リブ28間の距離も算出
できる。即ち、非接触走査式センサ30とノズル27と
の間の相対位置関係は装置製作上予め分かっているか
ら、基板Kの主面と平行な方向への基板Kに対するノズ
ル27の相対位置関係の変化の方向(y軸方向)と直交
する方向(x軸方向)での基板Kまでの距離を非接触走
査式センサ30で計測し、この非接触走査式センサ30
の検出結果に基いて基板K,ノズル27間の相対位置関
係の変化の方向(リブ28の長手方向、即ち、y軸方
向)と直交する方向(レーザ光の走査方向)でのノズル
27の位置をリアルタイムで制御し、ノズル27がリブ
28間の中央に位置するようにする。
The non-contact scanning type sensor 30 uses the laser beam L2.
The distance to the phosphor paste P is sequentially measured (detected) in accordance with the scanning of, and the position in the direction perpendicular to the ribs 28 is determined. Therefore, the distance between the ribs 28 can also be calculated. That is, since the relative positional relationship between the non-contact scanning sensor 30 and the nozzle 27 is known in advance in manufacturing the device, the relative positional relationship of the nozzle 27 with respect to the substrate K in the direction parallel to the main surface of the substrate K is changed. The non-contact scanning sensor 30 measures the distance to the substrate K in the direction (x-axis direction) orthogonal to the direction (y-axis direction).
The position of the nozzle 27 in the direction (scanning direction of laser light) orthogonal to the direction (longitudinal direction of the rib 28, that is, the y-axis direction) of the relative positional relationship between the substrate K and the nozzle 27 based on the detection result of Is controlled in real time so that the nozzle 27 is located at the center between the ribs 28.

【0044】なお、非接触走査式センサ30の代わり
に、画像認識用のCCDカメラを用いてもよい。この場
合には、映像画面のフレーム上に基準位置を定め、この
基準位置と映像におけるリブ28の位置関係を求めてノ
ズル27の位置を算出する。
A CCD camera for image recognition may be used instead of the non-contact scanning type sensor 30. In this case, the reference position is set on the frame of the image screen, the positional relationship between the reference position and the rib 28 in the image is obtained, and the position of the nozzle 27 is calculated.

【0045】さらに、先行センサ23及び後行センサ2
4として、図4に示した非接触三角測式センサ29を使
用することについて、以下、図6により説明する。
Further, the leading sensor 23 and the trailing sensor 2
4, the use of the non-contact triangulation sensor 29 shown in FIG. 4 will be described below with reference to FIG.

【0046】図6において、ノズル27のペースト吐出
口27aが、y軸方向に移動しながら、基板Kにペース
トPを塗布しているものとする。なお、簡略化のため
に、ここでは、1つのノズル27のペースト吐出口27
aのみを示し、他のノズルのペースト吐出口は点線で表
わしている。
In FIG. 6, it is assumed that the paste P is applied to the substrate K while the paste discharge port 27a of the nozzle 27 moves in the y-axis direction. For simplification, here, the paste discharge port 27 of one nozzle 27 is used.
Only a is shown, and the paste discharge ports of the other nozzles are shown by dotted lines.

【0047】ペースト吐出口27aは、理想的には、リ
ブ28間の中央を表わす実線の移動線R上をy軸方向に
移動するものであるが、リブ28がくねっていたり、相
互に平行であっても、バイアスが掛かって斜めにシフト
していくようになっていたりすると、最後には、ペース
ト吐出口27aが隣りのリブ28間に移り、このため
に、ペーストPがリブ28を乗り越えて隣のリブ28間
まで塗布されてしまうことになり、このようなことにな
ると、プラズマディスプレイ画面で映像を見た場合、混
色が生じて滲んだ映像になる。
The paste discharge port 27a ideally moves in the y-axis direction on a solid line R representing the center between the ribs 28, but the ribs 28 are twisted or parallel to each other. Even if there is, if the bias is applied to shift diagonally, finally, the paste ejection port 27a moves between the adjacent ribs 28, so that the paste P crosses over the ribs 28. As a result, the space between the adjacent ribs 28 is applied, and in such a case, when an image is viewed on the plasma display screen, a mixed color occurs and the image becomes blurred.

【0048】これを防止するために、先行センサ23と
後行センサ24の計測点Sa,Sbを、ペースト吐出口
27aが通るべきリブ28間の中央である理想的な移動
線Rに関して、x軸方向に、リブ28に対して余裕をも
った等間隔dの位置に設定する。これによると、もし、
計測点Sa,Sbのいづれか一方がリブ28上に位置す
るようになると、計測距離が大幅に変化するので、計測
結果が大きく変化したセンサ側のリブ28にノズル27
が接近したことが分かる。そこで、ノズル27をこの接
近したリブ28がある方とは反対側に移動させ、これに
より、リブ28間の中央にノズル27を位置させる。こ
のときには、ノズル27は、まだ、リブ28上を超えて
いないので、隣りのリブ間への蛍光体ペーストの塗布は
なく、リアルタイムで蛍光体の混色を避けることができ
る。
In order to prevent this, the measurement points Sa and Sb of the leading sensor 23 and the trailing sensor 24 are set on the x-axis with respect to the ideal moving line R which is the center between the ribs 28 through which the paste discharge port 27a should pass. In the direction, the ribs 28 are set at positions at equal intervals d with a margin. According to this, if
When either one of the measurement points Sa and Sb comes to be located on the rib 28, the measurement distance changes significantly, so that the nozzle 27 is attached to the rib 28 on the sensor side where the measurement result changes greatly.
You can see that he is approaching. Therefore, the nozzle 27 is moved to the side opposite to the side where the ribs 28 are close to each other, thereby positioning the nozzle 27 at the center between the ribs 28. At this time, since the nozzle 27 has not yet crossed over the rib 28, the phosphor paste is not applied between the adjacent ribs, and thus the color mixture of the phosphor can be avoided in real time.

【0049】リブ28に対して基板Kの表面や蛍光体ペ
ーストPの表面は充分明るいから、センサ23,24と
して各種のセンサを用いて計測をすることができる。リ
ブ28のうねりや曲がりといった乱れは極端ではないか
ら、例えば、図3で示したような6個のノズル27を用
いる場合でも、これらの前後に1個づつの先行センサ2
3と後行センサ24とを設けておけば充分である。この
場合、当然のことながら、先行センサ23はペーストP
が塗布されていない基板Kの表面までの距離を計測す
る。
Since the surface of the substrate K and the surface of the phosphor paste P are sufficiently bright with respect to the ribs 28, various sensors can be used as the sensors 23 and 24 for measurement. Disturbances such as undulations and bends of the ribs 28 are not extreme. Therefore, for example, even when using the six nozzles 27 as shown in FIG.
It is sufficient to provide 3 and the trailing sensor 24. In this case, as a matter of course, the preceding sensor 23 is the paste P.
The distance to the surface of the substrate K not coated with is measured.

【0050】基板Kに対するノズル27のx軸方向の相
対的な位置ずれは、塗布ヘッド7内蔵のノズルセンサ駆
動機構25(図2)でもってノズルホルダ21をx軸方
向に微少移動させることで達成できるが、塗布ヘッド7
そのものを移動させるようにしてもよい。
The relative displacement of the nozzle 27 with respect to the substrate K in the x-axis direction is achieved by slightly moving the nozzle holder 21 in the x-axis direction by the nozzle sensor drive mechanism 25 (FIG. 2) built in the coating head 7. Yes, but coating head 7
You may make it move itself.

【0051】図7は図1に示した実施形態の制御系の一
具体例を示す構成図であって、8aはマイクロコンピュ
−タユニット、8bは画像入力部、8cは外部インタフ
ェース部、8dは駆動制御部、8eはデータ通信バス、
31〜34はサーボモータ、35〜39はエンコーダ、
40a,40bは画像位置決め用カメラ、41は正圧
源、42は負圧源、43は正圧調整器、44は負圧調整
器、45はバルブユニット、46はタンク、47はバル
ブ、48はプリンタ、49は外部パソコン、50,51
はアクチュエータであり、前出図面に対応する部分には
同一符号をつけている。
FIG. 7 is a block diagram showing a specific example of the control system of the embodiment shown in FIG. 1. 8a is a microcomputer unit, 8b is an image input section, 8c is an external interface section, and 8d is Drive controller, 8e is a data communication bus,
31 to 34 are servo motors, 35 to 39 are encoders,
40a and 40b are image positioning cameras, 41 is a positive pressure source, 42 is a negative pressure source, 43 is a positive pressure regulator, 44 is a negative pressure regulator, 45 is a valve unit, 46 is a tank, 47 is a valve, and 48 is Printer, 49 is an external personal computer, 50, 51
Is an actuator, and the same reference numerals are given to the portions corresponding to the above drawings.

【0052】同図において、サーボモータ34,33は
夫々y軸移動テ−ブル5a,5bを駆動するものであ
り、サーボモータ32はx軸移動テーブル6を駆動する
もの、サーボモータ31はθ軸移動テーブル4を駆動す
るものである。また、エンコーダ35〜39は夫々上記
各モータの位置を検出するものである。アクチュエータ
50はノズルセンサ移動機構25の駆動源であり、アク
チュエータ51は図2で省略したノズル移動機構の駆動
源である。さらに、外部パソコン49やプリンタ48は
適宜に接続されるものである。
In the figure, servomotors 34 and 33 drive the y-axis movement tables 5a and 5b, respectively, a servomotor 32 drives the x-axis movement table 6, and a servomotor 31 the θ axis. The moving table 4 is driven. Further, the encoders 35 to 39 respectively detect the positions of the motors. The actuator 50 is a drive source of the nozzle sensor moving mechanism 25, and the actuator 51 is a drive source of the nozzle moving mechanism omitted in FIG. Further, the external personal computer 49 and the printer 48 are properly connected.

【0053】なお、図7では、図1における制御部8や
シリンジ16の空気圧の制御系,塗布ヘッド7の制御系
の一具体的構成を示すものである。
FIG. 7 shows a specific configuration of the control unit 8 in FIG. 1, the air pressure control system of the syringe 16 and the control system of the coating head 7.

【0054】また、図7では、簡略化のため、空圧制御
系はG蛍光体ペーストを収納するシリンジ16Gの系統
で代表させて示しており、従って、タンク46には、G
蛍光体ペーストが貯蔵され、バルブ47は、ペースト残
量検知センサ19a,19b(図2)の検出結果で開閉
制御されるものである。
Further, in FIG. 7, for simplification, the pneumatic control system is represented by a system of a syringe 16G for accommodating the G phosphor paste.
The phosphor paste is stored, and the valve 47 is controlled to be opened and closed according to the detection results of the paste remaining amount detection sensors 19a and 19b (FIG. 2).

【0055】また、ここでは、ノズル27に先行する先
行センサ23は図4に示した非接触三角測式センサ51
とし、後行センサ24としては、画像認識用のCCDカ
メラを用いている。
Further, here, the preceding sensor 23 preceding the nozzle 27 is the non-contact triangulation sensor 51 shown in FIG.
A CCD camera for image recognition is used as the trailing sensor 24.

【0056】同図において、制御部8は、基板搬送コン
ベア2a,2bの駆動制御系を含むが、ここでは図示し
ていない。
In the figure, the control unit 8 includes a drive control system for the substrate transfer conveyors 2a and 2b, but it is not shown here.

【0057】また、マイクロコンピュ−タ8aは、図示
しないが、主演算部や運転処理プログラムを格納したR
OM,主演算部での処理結果のほか、制御部8に接続さ
れる機器からの入力デ−タや装置の運転条件データを格
納するRAM,デ−タをやりとりする入出力部などを備
えている。
Further, although not shown, the microcomputer 8a is an R storing a main arithmetic unit and an operation processing program.
In addition to the processing results in the OM and the main operation unit, a RAM for storing the input data from the device connected to the control unit 8 and the operating condition data of the apparatus, an input / output unit for exchanging the data, etc. are provided. There is.

【0058】また、適宜に接続される外部パソコン49
やキ−ボ−ド11、あるいは図示しないネットワークな
どから入力された塗布形状データと塗布条件データなど
の運転条件データと、装置から転送されるプラズマディ
スプレイパネルの生産枚数などの生産管理データなど
は、マイクロコンピュ−タ8a内のRAMから外部パソ
コン49内のハードディスクなどの図示しない内部記憶
媒体とフロッピディスクなどの外部記憶媒体に記憶保管
され、操作者の指示により、そのうちの任意の情報をプ
リンタ48から印刷することができる。
Also, an external personal computer 49 that is appropriately connected
And operating conditions data such as coating shape data and coating condition data input from the keyboard 11 or a network (not shown), and production management data such as the number of plasma display panel productions transferred from the device. The RAM in the microcomputer 8a is stored and stored in an internal storage medium (not shown) such as a hard disk in the external personal computer 49 and an external storage medium such as a floppy disk, and any information among them is output from the printer 48 according to an operator's instruction. Can be printed.

【0059】キーボード11や外部パソコン49や図示
しないネットワークなどから入力されるデ−タに基い
て、y軸移動テ−ブル5a,5b上に配置されたx軸移
動テーブル6がサーボモータ34,33によって駆動さ
れ、x軸移動テーブル6上に配置したz軸テーブルベー
ス12がサーボモータ32によって駆動され、z軸テ−
ブルベース20上のz軸モータ13を駆動することによ
り、負圧源42から分配した負圧によって基板吸着盤3
に真空吸着、若しくは冶具で固定された基板Kに対し、
ノズル27がシリンジ保持ベース15を介して、x,
y,z軸方向に任意の距離を移動する。そして、その移
動中、マイクロコンピュータ8aがバルブユニット45
を制御することにより、正圧源41から正圧調整器43
とバルブユニット45とを介して、シリンジ16に僅か
な空気圧が印加され、ノズル27のペースト吐出口27
aから蛍光体ペーストPが吐出されて基板Kに所望のパ
タ−ンで塗布される。
On the basis of data input from the keyboard 11, the external personal computer 49, a network (not shown), etc., the x-axis moving table 6 arranged on the y-axis moving tables 5a, 5b has servo motors 34, 33. Driven by the servo motor 32, the z-axis table base 12 arranged on the x-axis moving table 6 is driven by the servo motor 32.
By driving the z-axis motor 13 on the bull base 20, by the negative pressure distributed from the negative pressure source 42, the substrate suction plate 3
For the substrate K that is vacuum-adsorbed on or fixed by a jig,
Nozzle 27, via the syringe holding base 15, x,
Move an arbitrary distance in the y- and z-axis directions. During the movement, the microcomputer 8a causes the valve unit 45 to
By controlling the positive pressure source 41 to the positive pressure regulator 43.
A slight air pressure is applied to the syringe 16 through the valve unit 45 and the paste discharge port 27 of the nozzle 27.
The phosphor paste P is discharged from a and applied on the substrate K in a desired pattern.

【0060】このシリンジ保持ベース15のx,y軸方
向への水平移動中、即ち、塗布動作中、先行センサ23
がノズル27,基板K間の距離を計測し、この計測距離
を常に一定に維持するようにz軸モータ13を制御す
る。
During the horizontal movement of the syringe holding base 15 in the x and y axis directions, that is, during the coating operation, the preceding sensor 23.
Measures the distance between the nozzle 27 and the substrate K, and controls the z-axis motor 13 so that this measured distance is always kept constant.

【0061】なお、図3に示したようにプラズマディス
プレイパネルの蛍光体層を形成する場合には、リブ28
に常に平行にノズル27をy方向に走査させなければな
らないが、基板Kに写植された図示しない位置決めマー
ク位置とリブ28との位置関係は、リブ28間を平行に
走査させるためには、充分な寸法精度とは言えない。
When the phosphor layer of the plasma display panel is formed as shown in FIG. 3, the rib 28 is used.
The nozzle 27 must always be scanned in parallel with the y direction in the y direction. However, the positional relationship between the positioning mark position (not shown) imprinted on the substrate K and the rib 28 is sufficient for scanning the ribs 28 in parallel. It cannot be said that the dimensional accuracy is high.

【0062】そこで、この具体例では、シリンジ保持ベ
ース15のx,y軸方向への水平移動中、即ち、塗布動
作中には、CCDカメラ24や図5に示した非接触走査
式センサ30でリブ28と直角方向の走査を行ない、こ
れにより、リブ28とノズル27のペースト塗布方向と
の平行性をリアルタイムで常に一定に維持するように、
ノズルセンサ駆動機構25に配置されたアクチュエータ
50を制御する(トラッキング)。
Therefore, in this specific example, during horizontal movement of the syringe holding base 15 in the x and y axis directions, that is, during the coating operation, the CCD camera 24 and the non-contact scanning sensor 30 shown in FIG. 5 are used. Scanning is performed in the direction perpendicular to the rib 28, so that the parallelism between the rib 28 and the nozzle 27 in the paste application direction is always kept constant in real time.
The actuator 50 arranged in the nozzle sensor drive mechanism 25 is controlled (tracking).

【0063】図8は図1に示したペースト塗布機のペー
スト塗布動作の一具体例を示すフローチャートである。
FIG. 8 is a flow chart showing a specific example of the paste applying operation of the paste applying machine shown in FIG.

【0064】同図において、先ず、電源が投入され(ス
テップ100)、次いで、装置初期設定工程が実行され
る(ステップ200)。
In the figure, first, the power is turned on (step 100), and then the apparatus initial setting process is executed (step 200).

【0065】この初期設定では、y軸移動テ−ブル5
a,5b及びx軸移動テ−ブル6(図1)により、塗布
ヘッド7上のz軸テーブルベース12(図2)をx軸方
向に移動させ、ノズル27のペースト吐出口が蛍光体ペ
ーストの吐出開始位置(ペースト塗布開始点)に位置付
けられるように、ノズル27がペーストパターン描画の
対象とする基板(実基板)K(図1)上の予め決められ
た基準位置に位置決め(原点位置に設定)されるととも
に、さらに、この実基板Kに塗布する1以上のペースト
パターン毎のデータ(ペーストパタ−ンデ−タ)や実基
板Kの位置デ−タ,実基板Kに実際にペーストを塗布す
るときのこの実基板Kとノズル27との間の相対速度
(かかる相対速度を塗布速度というが、特に、この場合
の塗布速度を初期設定塗布速度という),実基板Kの表
面からのノズル27の高さ(これは、上記のノズル2
7,基板K間の距離に等しく、実基板Kの表面に描画さ
れるペーストパターンの高さを決めるものであるから、
以下、塗布高さというが、特に、この場合の塗布高さを
初期設定塗布高さという),ノズル27からのペースト
吐出量を決めるシリンジ16に印加される圧力(この圧
力を塗布圧力というが、特に、この場合の塗布圧力を初
期設定塗布圧力という)などのデータ、さらには、ぺー
スト吐出終了位置を示す位置デ−タや塗布したペースト
パタ−ンの計測位置デ−タなどの設定が行なわれる。こ
れらのデ−タはキ−ボ−ド11(図1,図7)から入力
され、入力されたこれらデ−タはマイクロコンピュ−タ
8a(図7)に内蔵されたRAMに格納される。
In this initial setting, the y-axis movement table 5
a, 5b and the x-axis moving table 6 (FIG. 1) move the z-axis table base 12 (FIG. 2) on the coating head 7 in the x-axis direction, and the paste discharge port of the nozzle 27 is made of phosphor paste. The nozzle 27 is positioned at a predetermined reference position (set at the origin position) on the substrate (actual substrate) K (FIG. 1) that is the target of the paste pattern drawing so that it is positioned at the discharge start position (paste application start point). In addition, the data (paste pattern data) for each of the one or more paste patterns to be applied to the actual substrate K, the position data of the actual substrate K, and the actual paste application to the actual substrate K. The relative speed between the actual substrate K and the nozzle 27 (when such a relative speed is referred to as the coating speed, in particular, the coating speed in this case is referred to as the initial setting coating speed), the nozzle 27 from the surface of the actual substrate K. Height (which is above the nozzle 2
7. It is equal to the distance between the substrates K and determines the height of the paste pattern drawn on the surface of the actual substrate K.
Hereinafter, the coating height is particularly referred to as the initial coating height, and the pressure applied to the syringe 16 that determines the amount of paste discharged from the nozzle 27 (this pressure is referred to as the coating pressure). In particular, the application pressure in this case is referred to as the initial setting application pressure), and further, the position data indicating the paste discharge end position and the measurement position data of the applied paste pattern are set. Be done. These data are input from the keyboard 11 (FIGS. 1 and 7), and the input data are stored in the RAM incorporated in the microcomputer 8a (FIG. 7).

【0066】初期設定動作(ステップ200)が終了す
ると、次に、実基板Kを基板吸着盤3(図1)に搭載し
て吸着保持させる(ステップ300)。
When the initial setting operation (step 200) is completed, the actual substrate K is next mounted on the substrate suction plate 3 (FIG. 1) and held by suction (step 300).

【0067】この基板搭載動作では、図1において、基
板搬送コンベア2a、2bによって実基板Kが外部から
x軸方向に基板吸着盤3の上方まで搬入され、図示しな
い昇降手段によってこれら基板搬送コンベア2a,2b
を下降させることにより、実基板Kが基板吸着盤3に載
置される。
In this substrate mounting operation, in FIG. 1, the actual substrate K is carried in from the outside by the substrate transport conveyors 2a and 2b in the x-axis direction to a position above the substrate suction plate 3, and the substrate transport conveyor 2a is moved by an elevating means (not shown). , 2b
By lowering, the actual substrate K is placed on the substrate suction plate 3.

【0068】次に、基板Kの予備位置決めが行なわれる
(ステップ400)。
Next, the preliminary positioning of the substrate K is performed (step 400).

【0069】この処理では、図1において、図示しない
位置決めチャックにより、実基板Kのx,y軸方向の粗
い位置合わせが行なわれる。そして、基板吸着盤3に載
置された実基板Kの位置決め用マ−クを画像認識カメラ
40a,40b(図7)で撮影し、それを画像処理して
実基板Kのθ方向での傾きを検出し、この検出結果に応
じてサ−ボモ−タ31(図7)を駆動することにより、
このθ方向の傾きも補正してx,y軸方向に対する正確
な位置合せが行なわれる。
In this process, the rough alignment of the actual substrate K in the x and y axis directions is performed by a positioning chuck (not shown) in FIG. Then, a positioning mark of the real substrate K placed on the substrate suction board 3 is photographed by the image recognition cameras 40a and 40b (FIG. 7), and the image is processed to tilt the real substrate K in the θ direction. Is detected and the servo motor 31 (FIG. 7) is driven according to the detection result,
The inclination in the θ direction is also corrected to perform accurate alignment in the x and y axis directions.

【0070】そして、次に、予め設定された塗布順序が
1番目のペーストパターンデータから順番にペーストの
パターン塗布が行なわれる(ステップ500)。このパ
ターン塗布処理(ステップ500)を図9により説明す
る。
Then, paste pattern application is performed in order from the first paste pattern data in the preset application order (step 500). This pattern coating process (step 500) will be described with reference to FIG.

【0071】同図において、先ず、塗布条件の設定を行
なわれる(ステップ501)。即ち、マイクロコンピュ
−タ8a(図7)に内蔵のRAMには、塗布条件の設定
のための記憶テーブルがあるので、塗布描画すべき第1
番目のペーストパターンの塗布条件として、塗布速度や
塗布圧力,塗布高さのように設定される。このような設
定を最終番目のペーストパターンのものまで行なう。他
に、塗布パターン移動データや開始点座標,終点座標,
サックバック圧力,塗布終了後のノズル上昇量などが設
定される。これらの設定は、図8のステップ200で予
め初期設定された諸データから塗布に必要なものを選択
し、それらを塗布条件としてRAMの記憶テーブルに写
し替えるものである。
In the figure, first, the coating conditions are set (step 501). That is, since the RAM built in the microcomputer 8a (FIG. 7) has a storage table for setting the coating conditions, it is necessary to draw the first coating pattern.
The application conditions for the second paste pattern are set such as the application speed, application pressure, and application height. Such settings are performed up to the final paste pattern. In addition, dispensing pattern movement data, start point coordinates, end point coordinates,
The suck back pressure and the amount of nozzle rise after application are set. These settings are to select those required for application from various data initialized in advance in step 200 of FIG. 8 and transfer them to the storage table of the RAM as application conditions.

【0072】次に、設定された塗布開始位置にノズル2
7のペースト吐出口を位置付けるために、y軸移動テ−
ブル5a,5bやx軸移動テ−ブル6を駆動し(ステッ
プ502)、z軸テ−ブルベース12(図2)を移動さ
せて描画(塗布)開始点上にノズル27を移動させる。
Next, the nozzle 2 is placed at the set coating start position.
In order to position the paste discharge port of 7, the y-axis moving table
The tables 5a and 5b and the x-axis movement table 6 are driven (step 502), and the z-axis table base 12 (FIG. 2) is moved to move the nozzle 27 to the drawing (coating) start point.

【0073】次に、z軸モータ13(図2)により、ノ
ズル27の高さの設定を行なう(ステップ503)。こ
の設定される高さは、既にRAMに記憶された塗布高さ
であり、ノズル27,実基板K間の距離がこの塗布高さ
に等しくなるようにするものである。この高さは、先行
センサ23(図2,図4)の計測結果によって確認され
る。
Next, the height of the nozzle 27 is set by the z-axis motor 13 (FIG. 2) (step 503). This set height is the coating height already stored in the RAM, and the distance between the nozzle 27 and the actual substrate K is made equal to this coating height. This height is confirmed by the measurement result of the preceding sensor 23 (FIGS. 2 and 4).

【0074】以上の処理が終了すると、次に、マイクロ
コンピュータ8a内のRAMに格納されているペースト
パターンデータに基いてy軸移動テ−ブル5a,5bや
x軸移動テ−ブル6が駆動され、これにより、ノズル2
7のペースト吐出口27aが、実基板Kに対向した状態
で、このペーストパターンデータに応じてx,y軸方向
に移動する(ステップ504)。
When the above processing is completed, the y-axis movement tables 5a and 5b and the x-axis movement table 6 are driven based on the paste pattern data stored in the RAM in the microcomputer 8a. , By this, the nozzle 2
The paste ejection port 27a of No. 7 moves in the x and y axis directions in accordance with the paste pattern data while facing the actual substrate K (step 504).

【0075】また、図7において、正圧源41からシリ
ンジ16に正圧調整器43によって塗布圧力に調整され
た空気圧がバルブユニット45を介して印加され、ノズ
ル27のペースト吐出口27aからペーストが吐出し始
める(ステップ505)。
In FIG. 7, the air pressure adjusted to the coating pressure by the positive pressure regulator 43 is applied to the syringe 16 from the positive pressure source 41 via the valve unit 45, and the paste is discharged from the paste discharge port 27a of the nozzle 27. Discharging starts (step 505).

【0076】このとき、ペーストが吐出する直前に負圧
源42からシリンジ16に負圧調整器44によってサッ
クバック圧力に調整された負圧をバルブユニット45を
介してわずかな時間印加し、ノズル27のペースト吐出
口27aに溜ったペーストを吸い込む。これにより、ペ
ーストパターンの始端部でペーストの溜りが生ずること
なく、ペーストの塗布ができる。
At this time, immediately before the paste is discharged, a negative pressure adjusted to suck back pressure by the negative pressure regulator 44 is applied to the syringe 16 from the negative pressure source 42 for a short time through the valve unit 45, and the nozzle 27 The paste accumulated in the paste discharge port 27a is sucked in. As a result, the paste can be applied without the accumulation of the paste at the beginning of the paste pattern.

【0077】この塗布描画動作の開始とともに、マイク
ロコンピュータ8aは先行センサ23からノズル27,
実基板K間の距離の実測デ−タを入力して実基板Kの表
面のうねりや反りを測定し、この測定値に応じてz軸モ
ータ13を駆動することにより、実基板Kの表面からの
ノズル27の設定高さが一定、即ち、設定した塗布高さ
になるように、リアルタイムで維持してペーストパター
ンの塗布描画を行なう(ステップ506)。
At the same time as the start of the coating and drawing operation, the microcomputer 8a moves from the preceding sensor 23 to the nozzle 27,
The measured data of the distance between the actual substrates K is input to measure the undulations or warpage of the surface of the actual substrates K, and the z-axis motor 13 is driven according to the measured values, so that the surface of the actual substrate K is removed. The paste pattern is applied and drawn in real time so that the set height of the nozzle 27 is constant, that is, the set height is set (step 506).

【0078】次に、ステップ507でマイクロコンピュ
ータ8aは、後行センサ24(図5)により、リブ28
とこの後行センサ24の基準点位置との間の距離を測定
し、この測定距離が一定、即ち、リブ28間の中心(図
6での移動線R上の位置)にノズル27のペースト吐出
口27aが位置決めされるように、ノズルセンサ移動機
構25(図2,図7)を制御する。
Next, in step 507, the microcomputer 8a uses the trailing sensor 24 (FIG. 5) to detect the rib 28.
The distance between this and the reference point position of the trailing sensor 24 is measured, and the measured distance is constant, that is, the paste ejected from the nozzle 27 is located at the center between the ribs 28 (position on the moving line R in FIG. 6). The nozzle sensor moving mechanism 25 (FIGS. 2 and 7) is controlled so that the outlet 27a is positioned.

【0079】このように、先行センサ23と後行センサ
24とによる計測により、ノズル27を実基板Kに対し
て3次元的にリアルタイムで位置制御しつつ、ペースト
パターンを塗布していく。
As described above, the paste pattern is applied while the nozzle 27 is three-dimensionally controlled in real time by the measurement by the leading sensor 23 and the trailing sensor 24 in real time.

【0080】従って、ノズル27,実基板K間の距離を
前以って計測することを必要とせずに、プラズマディス
プレイパネルの処理枚数(即ち、生産性)向上できる
し、計測データを記憶しておくためのメモリは不要であ
る。また、ノズル27の吐出口27aを実基板Kの表面
に可能な限り近づけることもできて、実基板Kの表面の
うねりがあっても、ノズル27,実基板K間の距離が一
定となるように、ノズル27の高さ位置をこのうねりに
追従させることができ、ペーストのパターン形状を高精
度な所望のものにして、しかも、描画されたペーストパ
ターンの始端や終端の形状を所望の奇麗なものとするこ
とができる。
Therefore, it is possible to improve the number of plasma display panels to be processed (that is, productivity) without previously measuring the distance between the nozzle 27 and the actual substrate K, and to store the measurement data. No memory is needed to store it. Further, the ejection port 27a of the nozzle 27 can be brought as close as possible to the surface of the actual substrate K so that the distance between the nozzle 27 and the actual substrate K becomes constant even if there is undulation on the surface of the actual substrate K. In addition, the height position of the nozzle 27 can be made to follow this undulation, and the paste pattern shape can be made highly accurate and desired, and the shape of the beginning and the end of the drawn paste pattern can be made to be the desired beautiful shape. Can be one.

【0081】そして、マイクロコンピュータ8aは、後
行センサ24で撮像した画像の輝度分布を判別すること
により、ペーストパターンの塗布状態の検査を行なう
(ステップ508)。
The microcomputer 8a then inspects the applied state of the paste pattern by determining the luminance distribution of the image picked up by the trailing sensor 24 (step 508).

【0082】このようにして、ペーストパターンの塗布
描画が進むが、ペーストパターンの塗布描画動作を継続
するか、終了するかの判定は、塗布点がペーストパター
ンデータによって決まる塗布すべきペーストパターンの
終端であるか否かの判断によって決定され(ステップ5
09)、終端でなければ、再び実基板Kの表面のうねり
の測定処理、即ち、ステップ506の塗布高制御処理に
戻り、ステップ507からステップ509までの一連の
処理を実行する。
In this way, although the paste pattern coating / drawing proceeds, the decision whether to continue or finish the paste pattern coating / drawing operation is made by determining the coating point based on the paste pattern data at the end of the paste pattern to be coated. Or not (step 5
09), if not the end, the process returns to the measurement process of the waviness of the surface of the actual substrate K, that is, the coating height control process of step 506, and the series of processes from step 507 to step 509 is executed.

【0083】その後、ペーストパターンの塗布終端に達
すると(ステップ509)と、次に、図7において、正
圧源41からシリンジ16に正圧調整器43によって塗
布圧力に調整された空気圧のバルブユニット45を介し
た印加を停止し、ノズル27のペースト吐出口27aか
らのペースト吐出を停止する(ステップ510)。そし
て、z軸モータ13を駆動して予め設定された上昇量分
だけノズル27を上昇させる(ステップ511)。
After that, when the application end of the paste pattern is reached (step 509), next, in FIG. 7, a valve unit of pneumatic pressure adjusted from the positive pressure source 41 to the syringe 16 by the positive pressure regulator 43 to the application pressure. The application via 45 is stopped, and the paste discharge from the paste discharge port 27a of the nozzle 27 is stopped (step 510). Then, the z-axis motor 13 is driven to raise the nozzle 27 by the preset amount of elevation (step 511).

【0084】次に、ステップ508での塗布状態検査の
結果判定を行ない(ステップ512)、1つの動作によ
るペーストパターンの塗布動作は終了する(ステップ5
13)。
Next, the result of the coating state inspection in step 508 is judged (step 512), and the paste pattern coating operation by one operation is completed (step 5).
13).

【0085】以上のステップ501からステップ513
までのペーストパターン塗布動作は、設定されたペース
トパターンデータの全てが使い切るまで、即ち、塗布す
べき全てのペーストパターンが塗布し終わるまで行なわ
れ(ステップ513)、最後のペーストパターンの終端
に達すると(ステップ509)、ペーストの吐出を停止
させるとともに(ステップ510)、z軸モータ13を
駆動してノズル27を上昇させ(ステップ511)、こ
の最後に描画されたペーストパターンを検査して(ステ
ップ512)、パターン描画動作、即ち、パターン塗布
(図8のステップ500)を終了させる(ステップ51
5)。
The above steps 501 to 513
The paste pattern applying operation up to is performed until all the set paste pattern data are used up, that is, until all the paste patterns to be applied are applied (step 513), and when the end of the last paste pattern is reached. (Step 509), while stopping the discharge of the paste (step 510), the z-axis motor 13 is driven to raise the nozzle 27 (step 511), and the paste pattern drawn at the end is inspected (step 512). ), The pattern drawing operation, that is, the pattern application (step 500 in FIG. 8) is completed (step 51).
5).

【0086】なお、ペーストパターンを塗布描画する毎
に行なわれる塗布描画した直後のペーストパターンの塗
布状態検査結果判定(ステップ512)でその塗布状態
に異常が検出された場合(ステップ514)には、その
時点でこの実基板Kでのパターン描画処理を終了させる
(ステップ515)。
When an abnormality is detected in the coating state (step 514) in the determination of the coating state inspection result of the paste pattern immediately after coating and drawing performed every time the paste pattern is coated and drawn (step 512), At that point, the pattern drawing process on the actual substrate K is ended (step 515).

【0087】以上のようにして1つの実基板Kでのペー
ストパターンの塗布描画終了すると、図8において、基
板排出処理(ステップ600)に進む。即ち、図1にお
いて、実基板Kの基板吸着盤3への吸着が解除され、基
板搬送コンベア2a,2bを上昇させて実基板Kをこれ
に載置させ、その状態で基板搬送コンベア2a,2bを
y方向に移動させることにより、実基板Kを装置外に排
出する。
When the coating and drawing of the paste pattern on one actual substrate K is completed as described above, the process proceeds to the substrate discharging process (step 600) in FIG. That is, in FIG. 1, the suction of the real substrate K to the substrate suction plate 3 is released, the substrate transport conveyors 2a and 2b are lifted to place the real substrate K thereon, and in that state, the substrate transport conveyors 2a and 2b are placed. Is moved in the y direction, the actual substrate K is discharged to the outside of the apparatus.

【0088】そして、以上の全工程が終了したか否かを
判定し(ステップ700)、複数枚の実基板Kに同じペ
ーストパタ−ンデータを用いてペ−ストパターンを塗布
描画する場合には、別の実基板Kに対して基板搭載処理
(ステップ300)に戻り、以上説明した動作(処理)
が繰り返される。そして、全ての実基板についてかかる
一連の処理が終了すると、作業が全て終了となる(ステ
ップ800)。
Then, it is judged whether or not all the above steps are completed (step 700), and when a paste pattern is applied and drawn on a plurality of real substrates K using the same paste pattern data, The process returns to the substrate mounting process (step 300) for another real substrate K, and the operation (process) described above
Is repeated. Then, when this series of processing is completed for all the actual substrates, all the work is completed (step 800).

【0089】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明はかかる実施形態のみに限定されるもので
はない。
Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this embodiment.

【0090】例えば、上記実施形態では、ペーストパタ
ーンの描画時では、ノズル27が可動で実基板を固定と
したが、本発明はこれに限るものではなく、ノズル27
を固定として、実基板Kを可動としてもよい。
For example, in the above embodiment, the nozzle 27 is movable and the actual substrate is fixed when the paste pattern is drawn. However, the present invention is not limited to this, and the nozzle 27 is not limited to this.
May be fixed and the actual substrate K may be movable.

【0091】また、実基板Kの搬送方法としては、基板
搬送コンベア2a,2bによってx軸方向に基板吸着盤
3の上方まで搬送されるものとしたが、基板搬送コンベ
ア2a,2bをy軸方向に平行に配置し、実基板Kをy
軸方向に搬送するようにしてもよい。
As a method of transporting the actual substrate K, the substrate transport conveyors 2a and 2b transport the substrate K in the x-axis direction to a position above the substrate suction plate 3, but the substrate transport conveyors 2a and 2b are transported in the y-axis direction. Are placed in parallel with the
It may be conveyed in the axial direction.

【0092】さらに、先行センサ23として三角測式セ
ンサを用い、後行センサ24としてCCDカメラを用い
たが、図6に示したように、これらセンサ23,24と
も三角測式センサを用いてもよい。この場合には、往
路,復路とも先行センサ23が高さを計測するので、塗
布方向は限定されることがなくなり、塗布ヘッド7を初
期位置に戻す必要がなくなって生産性がさらに向上す
る。
Further, a triangulation sensor is used as the preceding sensor 23 and a CCD camera is used as the trailing sensor 24. However, as shown in FIG. 6, both sensors 23 and 24 may be triangulation sensors. Good. In this case, since the preceding sensor 23 measures the height in both the forward and backward passes, the coating direction is not limited and it is not necessary to return the coating head 7 to the initial position, further improving the productivity.

【0093】[0093]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
所望の位置にペーストパターンを高精度に形成すること
ができる。
As described above, according to the present invention,
The paste pattern can be formed at a desired position with high accuracy.

【0094】また、本発明によれば、所望の位置にペー
ストパターンを高精度に、しかも、高生産性をもって形
成することができる。
Further, according to the present invention, a paste pattern can be formed at a desired position with high precision and high productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示
す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a paste applicator according to the present invention.

【図2】図1における塗布ヘッドの詳細を示す斜視図で
ある。
FIG. 2 is a perspective view showing details of a coating head in FIG.

【図3】図1に示す実施形態で基板K上に蛍光体ペース
トを塗布する過程を示す斜視図である。
3 is a perspective view showing a process of applying a phosphor paste on a substrate K in the embodiment shown in FIG.

【図4】図2に示す先行センサとしての非接触三角測式
センサによるノズル,基板間の間隔(距離)の計測動作
の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a measurement operation of a distance (distance) between a nozzle and a substrate by the non-contact triangulation sensor as the preceding sensor shown in FIG.

【図5】図2に示す後行センサとしての非接触走査式セ
ンサによるノズル,蛍光体ペースト間の間隔(距離)の
計測動作の説明図である。
5 is an explanatory diagram of a measurement operation of a distance (distance) between a nozzle and a phosphor paste by a non-contact scanning type sensor as a trailing sensor shown in FIG.

【図6】図1に示した実施形態での先行センサと後行セ
ンサとによるノズルの位置制御方法を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a nozzle position control method by a leading sensor and a trailing sensor in the embodiment shown in FIG.

【図7】図1に示した実施形態の制御系の一具体例を示
すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing a specific example of a control system of the embodiment shown in FIG.

【図8】図1に示した実施形態のペースト塗布動作の一
具体例を示すフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart showing a specific example of the paste applying operation of the embodiment shown in FIG.

【図9】図8におけるステップ500の一具体例を示す
フローチャートである。
9 is a flowchart showing a specific example of step 500 in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 基板吸着盤 5a,5b y軸移動テーブル 6 x軸移動テーブル 7 塗布ヘッド 8 制御部 13 z軸モータ 14 Z軸移動テーブル 15 シリンジ保持ベース 16R,16G,16B 蛍光体ペーストのシリンジ 21 ノズルホルダ 23 先行センサ 24 後行センサ 25 ノズルセンサ駆動機構 26 移動案内機構 27R,27G,27B ノズル 27a ペースト吐出口 28 リブ 29 非接触三角測式センサ 30 非接触走査式センサ K プラズマディスプレイパネルの基板 P(R),P(G),P(B) 蛍光体ペースト 3 Substrate suction board 5a, 5b y-axis moving table 6 x-axis moving table 7 Application head 8 control unit 13 z-axis motor 14 Z-axis movement table 15 Syringe holding base 16R, 16G, 16B Phosphor paste syringe 21 nozzle holder 23 Leading sensor 24 trailing sensor 25 Nozzle sensor drive mechanism 26 Movement guide mechanism 27R, 27G, 27B nozzle 27a Paste outlet 28 ribs 29 Non-contact triangulation sensor 30 Non-contact scanning sensor K Plasma display panel substrate P (R), P (G), P (B) phosphor paste

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石田 茂 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立 テクノエンジニアリング株式会社 開発 研究所内 (72)発明者 松井 淳一 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立 テクノエンジニアリング株式会社 開発 研究所内 (56)参考文献 特開 平11−119232(JP,A) 特開 平11−239751(JP,A) 特開 平8−57382(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B05C 5/00 101 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Shigeru Ishida 5-2 Koyodai, Ryugasaki, Ibaraki Hitachi Techno Engineering Co., Ltd. Development Laboratory (72) Junichi Matsui 5-2-1 Koyodai, Ryugasaki, Ibaraki Hitachi Techno Engineering Development Laboratory Co., Ltd. (56) Reference JP-A-11-119232 (JP, A) JP-A-11-239751 (JP, A) JP-A-8-57382 (JP, A) (58) Fields investigated ( Int.Cl. 7 , DB name) B05C 5/00 101

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 テーブル上に載置した基板の主面に対向
して所定の距離を開けてペースト吐出口を有するノズル
を設け、該ペースト吐出口から該基板上にペーストを吐
出させながら、該ペースト吐出口と該基板との間の距離
を保持して該基板の主面と平行な方向での該基板と該ノ
ズルとの間の相対位置関係を変化させることにより、該
基板上に所望形状のペーストパターンを塗布するペース
ト塗布機において、 該基板と該ノズルとの間の相対位置関係の変化を制御す
るために、該ノズルと該基板との間の相対位置の変化方向に対して
該ノズルに先行する位置にあって、 該基板の主面に垂直
な方向の該基板と該ノズルとの間の距離の計測を行なう
第1のセンサと、ノズルと該基板との間の相対位置の変化方向に対して該
ノズルに後行する位置にあって、 該基板の主面に平行な
方向で該基板と該ノズルとの間の相対位置関係を変化さ
せる方向に直交する方向での該基板と該ノズルとの間の
距離を計測して、該直交する方向での該基板と該ノズル
との間の位置関係の計測を行なう第2のセンサとを設け
たことを特徴とするペースト塗布機。
1. A nozzle having a paste discharge port is provided facing a main surface of a substrate placed on a table at a predetermined distance, and the paste is discharged from the paste discharge port onto the substrate while By maintaining the distance between the paste discharge port and the substrate and changing the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in the direction parallel to the main surface of the substrate, a desired shape on the substrate can be obtained. In a paste applicator for applying the paste pattern of, in order to control the change in the relative positional relationship between the substrate and the nozzle,
A first sensor at a position preceding the nozzle for measuring a distance between the substrate and the nozzle in a direction perpendicular to a main surface of the substrate, and a relative position between the nozzle and the substrate. For the changing direction of
Between the substrate and the nozzle at a position following the nozzle in a direction parallel to the main surface of the substrate and in a direction orthogonal to a direction that changes the relative positional relationship between the substrate and the nozzle. of
Measuring the distance, the substrate and the nozzle in the orthogonal direction
Paste applying machine, characterized in that the was the provided <br/> second sensor located to measure the relationship between the.
【請求項2】 請求項1に記載のペースト塗布機におい
て、 前記第2のセンサが走査型のセンサであることを特徴と
するペースト塗布機。
2. The paste applicator according to claim 1, wherein the second sensor is a scanning sensor.
【請求項3】 テーブル上に載置した基板の主面に対向
して所定の距離を開けてペースト吐出口を有するノズル
を設け、該ペースト吐出口から該基板上にペーストを吐
出させながら、該ペースト吐出口と該基板との間の距離
を保持して該基板の主面と平行な方向での該基板と該ノ
ズルとの間の相対位置関係を変化させることにより、該
基板上に所望形状のペーストパターンを塗布するペース
ト塗布機において、 該基板の主面と平行な方向での該基板と該ノズルとの間
の相対位置関係を変化させる第1の方向に関して、該ノ
ズルに先行する第1のセンサと後行する第2のセンサと
を設け、 該第1,第2のセンサは、該第1の方向に直交する第2
の方向で該ノズルを中心として互いに反対側に等間隔に
ずらして設置され、該第1,第2のセンサで該基板の主面に垂直な方向での
該ペースト吐出ロと該基板との間の距離の計測を同時に
行ない、 該第1のセンサの検出結果に基づいて、該基板の主面に
垂直な方向での該ペースト吐出口と該基板との間に任意
の距離を持たせ、該第1,第2のセンサの検出結果に基
づいて、該第2の方向での該基板と該ノズルとの間の位
置関係を制御することを特徴とするペースト塗布機。
3. A nozzle having a paste discharge port is provided facing a main surface of a substrate placed on a table at a predetermined distance, and the paste is discharged from the paste discharge port onto the substrate while By maintaining the distance between the paste discharge port and the substrate and changing the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in the direction parallel to the main surface of the substrate, a desired shape on the substrate can be obtained. In a paste applicator for applying the paste pattern of No. 3, the first direction that changes the relative positional relationship between the substrate and the nozzle in the direction parallel to the main surface of the substrate
A first sensor preceding the cheat and a second sensor following
Is provided, and the first and second sensors are provided with a second sensor that is orthogonal to the first direction.
In the direction perpendicular to the main surface of the substrate by the first and second sensors, which are arranged at equal intervals on opposite sides of the nozzle .
Simultaneously measure the distance between the paste ejection slot and the substrate
Deeds, based on the detection result of the first sensor, to have any distance between the paste discharge port and the substrate in a direction perpendicular to the main surface of the substrate, said first, second A paste applicator characterized by controlling a positional relationship between the substrate and the nozzle in the second direction based on a detection result of a sensor.
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