JP2004022762A - 永久磁石の製造方法および永久磁石 - Google Patents

Abstract

【課題】長期間にわたって安定した特性を発揮することができる永久磁石を提供すること、また、当該永久磁石を提供することが可能な永久磁石の製造方法を提供すること。
【解決手段】永久磁石１は、磁石本体１１の表面に、乾式めっき法により、電気伝導度が２［ｍ・Ω^−１・ｍｍ^−２］の導電性材料で構成された導電膜１２を形成する工程と、導電膜１２の表面に、湿式めっき法により、湿式めっき膜１３を形成する工程とを有する方法により製造されるものである。導電膜１２の平均厚さは、０．０１〜２．０μｍであるのが好ましい。湿式めっき膜１３の平均厚さは、１０．０〜４０．０μｍであるのが好ましい。導電膜１２の平均厚さをＤ_Ａ［μｍ］、湿式めっき膜１３の平均厚さをＤ_Ｂ［μｍ］としたとき、０．０００２５＜Ｄ_Ａ／Ｄ_Ｂ＜０．２０の関係を満足するのが好ましい。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、永久磁石の製造方法および永久磁石に関する。
【０００２】
【従来の技術】
希土類金属と遷移金属とを主成分とする希土類合金磁石は、フェライト系、アルニコ系磁石と比べて優れた磁気特性を有しており、幅広い用途に用いられている。
【０００３】
しかしながら、希土類合金磁石は酸化されやすい欠点がある。特に、希土類合金磁石粉末を結合樹脂（バインダー）で結合させたボンド磁石は、高湿環境下で使用された場合には、酸化による磁気特性の劣化が問題となる。
そこで、耐酸化性の向上のため、ボンド磁石の表面に、電解めっき等により金属膜を形成することが行われている。
【０００４】
しかしながら、ボンド磁石は磁石粉末と結合樹脂の混合物からなるため、微視的な不導体部分が存在し、ボンド磁石の表面における導電性が均一ではなく、また、ボンド磁石の表面において、十分な導電性を確保するのが困難である。このため、形成される金属膜にピンホールやめっきの欠けが発生しやすくなり、十分な耐酸化性を得ることができないという問題点を有していた。
【０００５】
また、焼結磁石等のボンド磁石以外の磁石においても、耐食性の向上、機械的強度の向上等を目的として、磁石の表面に、上記のような金属膜を形成する試みがあるが、ピンホールやめっきの欠けの発生を十分に防止しつつ、金属膜を形成するのは困難であり、十分な効果が得られないでいた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、長期間にわたって安定した特性を発揮することができる永久磁石を提供すること、また、当該永久磁石を提供することが可能な永久磁石の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）〜（３５）の本発明により達成される。
【０００８】
（１）　磁石本体の表面に、乾式めっき法により、主として導電物質で構成された導電膜を形成する工程と、
前記導電膜の表面に、湿式めっき法により、湿式めっき膜を形成する工程とを有することを特徴とする永久磁石の製造方法。
【０００９】
（２）　前記導電膜をイオンプレーティング法により形成する上記（１）に記載の永久磁石の製造方法。
【００１０】
（３）　前記導電膜は、電気伝導度が２［ｍ・Ω^−１・ｍｍ^−２］以上の材料で構成されたものである上記（１）または（２）に記載の永久磁石の製造方法。
【００１１】
（４）　前記導電膜は、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｖ、Ｃｒ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｍｎから選択される１種または２種以上を含むものである上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００１２】
（５）　前記導電膜の平均厚さは、０．０１〜２．０μｍである上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００１３】
（６）　前記湿式めっき膜を電解めっきにより形成する上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００１４】
（７）　前記湿式めっき膜は、主として、Ｎｉで構成されたものである上記（１）ないし（６）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００１５】
（８）　前記湿式めっき膜は、複数の層の積層体である上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００１６】
（９）　前記湿式めっき膜の平均厚さは、１０．０〜４０．０μｍである上記（１）ないし（８）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００１７】
（１０）　前記導電膜の平均厚さをＤ_Ａ［μｍ］、前記湿式めっき膜の平均厚さをＤ_Ｂ［μｍ］としたとき、０．０００２５＜Ｄ_Ａ／Ｄ_Ｂ＜０．２０の関係を満足する上記（１）ないし（９）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００１８】
（１１）　前記磁石本体は、略円筒状をなすものである上記（１）ないし（１０）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００１９】
（１２）　前記磁石本体の外周側に形成された前記湿式めっき膜の厚さをＤ_ＢＯ［μｍ］、前記磁石本体の内周側に形成された前記湿式めっき膜の厚さをＤ_ＢＩ［μｍ］としたとき、０．５＜Ｄ_ＢＩ／Ｄ_ＢＯ＜１．１の関係を満足する上記（１１）に記載の永久磁石の製造方法。
【００２０】
（１３）　前記磁石本体の空孔率は、７．０ｖｏｌ％以下である上記（１）ないし（１２）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００２１】
（１４）　前記磁石本体は、磁石粉末を結合樹脂で結合してなるボンド磁石である上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００２２】
（１５）　前記磁石粉末は、希土類元素と、遷移金属と、ボロンとを含む組成のものである上記（１４）に記載の永久磁石の製造方法。
【００２３】
（１６）　前記ボンド磁石における前記磁石粉末の含有率は、９１．０〜９９．０ｗｔ％である上記（１４）または（１５）に記載の永久磁石の製造方法。
【００２４】
（１７）　前記磁石本体は、面取りされたものである上記（１）ないし（１６）のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
【００２５】
（１８）　磁石本体と、
乾式めっき法により、前記磁石本体の表面に形成された、主として導電物質で構成された導電膜と、
湿式めっき法により、前記導電膜の表面に形成された湿式めっき膜とを有することを特徴とする永久磁石。
【００２６】
（１９）　前記導電膜は、電気伝導度が２［ｍ・Ω^−１・ｍｍ^−２］以上の材料で構成されたものである上記（１８）に記載の永久磁石。
【００２７】
（２０）　前記導電膜は、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｖ、Ｃｒ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｍｎから選択される１種または２種以上を含むものである上記（１８）または（１９）に記載の永久磁石。
【００２８】
（２１）　前記導電膜の平均厚さは、０．０１〜２．０μｍである上記（１８）ないし（２０）のいずれかに記載の永久磁石。
【００２９】
（２２）　前記湿式めっき膜は、主として、Ｎｉで構成されたものである上記（１８）ないし（２１）のいずれかに記載の永久磁石。
【００３０】
（２３）　前記湿式めっき膜は、複数の層の積層体である上記（１８）ないし（２２）のいずれかに記載の永久磁石。
【００３１】
（２４）　前記湿式めっき膜の平均厚さは、１０．０〜４０．０μｍである上記（１８）ないし（２３）のいずれかに記載の永久磁石。
【００３２】
（２５）　前記導電膜の平均厚さをＤ_Ａ［μｍ］、前記湿式めっき膜の平均厚さをＤ_Ｂ［μｍ］としたとき０．０００２５＜Ｄ_Ａ／Ｄ_Ｂ＜０．２０の関係を満足する上記（１８）ないし（２４）のいずれかに記載の永久磁石。
【００３３】
（２６）　前記磁石本体は、略円筒状をなすものである上記（１８）ないし（２５）のいずれかに記載の永久磁石。
【００３４】
（２７）　前記磁石本体の外周側に形成された前記湿式めっき膜の厚さをＤ_ＢＯ［μｍ］、前記磁石本体の内周側に形成された前記湿式めっき膜の厚さをＤ_ＢＩ［μｍ］としたとき、０．５＜Ｄ_ＢＩ／Ｄ_ＢＯ＜１．１の関係を満足する上記（２６）に記載の永久磁石。
【００３５】
（２８）　前記磁石本体の空孔率は７．０ｖｏｌ％以下である上記（１８）ないし（２７）のいずれかに記載の永久磁石。
【００３６】
（２９）　前記磁石本体は、磁石粉末を結合樹脂で結合してなるボンド磁石である上記（１８）ないし（２８）のいずれかに記載の永久磁石。
【００３７】
（３０）　前記磁石粉末は、希土類元素と、遷移金属と、ボロンとを含む組成のものである上記（２９）に記載の永久磁石。
【００３８】
（３１）　前記磁石本体における前記磁石粉末の含有率は９１．０〜９９．０ｗｔ％である上記（２９）または（３０）に記載の永久磁石。
【００３９】
（３２）　前記磁石本体は、面取りされたものである上記（１８）ないし（３１）のいずれかに記載の永久磁石。
【００４０】
（３３）　最大回転数が４０００ｒｐｍ以上のモータに用いられる上記（１８）ないし（３２）のいずれかに記載の永久磁石。
【００４１】
（３４）　ハードディスクドライブ用のモータに用いられる上記（１８）ないし（３３）のいずれかに記載の永久磁石。
【００４２】
（３５）　上記（１）ないし（１７）のいずれかに記載の方法により製造されたことを特徴とする永久磁石。
【００４３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の永久磁石の製造方法および永久磁石の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
【００４４】
図１は、本発明の永久磁石の好適な実施形態を示す断面斜視図である。
本発明の永久磁石１は、磁石本体１１と、磁石本体１１の表面に形成された導電膜１２と、導電膜１２の表面に形成された湿式めっき膜１３とを有する。
【００４５】
磁石本体１１の形状は特に限定されるものではない。なお、図１では、例として、後に詳述するモータ用として用いる場合に好適な略円筒形状のものを挙げている。
【００４６】
磁石本体１１は、多極着磁されている。
磁石本体１１としては、例えば、鋳造磁石、焼結磁石、ボンド磁石のほか、圧延、鍛造、熱間押出等の方法により得られる磁石等いかなるものを用いてもよい。
【００４７】
この中でも、例えば、本発明の永久磁石１をモータ用として用いる場合には、その形状が安価に製造できるボンド磁石が好ましい。これにより、優れた磁気特性を安定して得ることができる。
【００４８】
ボンド磁石は、主として、磁石粉末と、結合樹脂（バインダー）とで構成される。
【００４９】
ボンド磁石を構成する磁石粉末としては、例えば、希土類元素と遷移金属とを基本成分とする希土類磁石粉末が好適に使用される。
【００５０】
希土類磁石粉末（以下単に、「磁石粉末」とも言う）としては、希土類元素と遷移金属と、ボロンとを含む合金よりなるものが好ましい。
【００５１】
特に、Ｒ（ただし、Ｒは、Ｙを含む希土類元素のうちの少なくとも１種）と、Ｆｅを主とする遷移金属（ＴＭ）と、Ｂとを基本成分とするもの（以下、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系合金と言う）を用いるのが好ましい。
【００５２】
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系合金の代表的なものとしては、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｐｒ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｎｄ−Ｐｒ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｎｄ−Ｄｙ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｃｅ−Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｃｅ−Ｐｒ−Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系合金、これらにおけるＦｅの一部をＣｏ、Ｎｉ等の他の遷移金属で置換したもの等が挙げられる。
【００５３】
前記希土類元素としては、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ミッシュメタルが挙げられ、これらを１種または２種以上含むことができる。また、前記遷移金属としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等が挙げられ、これらを１種または２種以上含むことができる。
【００５４】
このようなＲ−ＴＭ−Ｂ系合金のうち少なくとも２種を混合して用いてもよい。これにより、混合する各磁石粉末の利点を併有することができ、所望する磁気特性を容易に得ることができる。
【００５５】
また、前記Ｒ−ＴＭ−Ｂ系合金のうち、少なくとも１種とフェライト粉末（例えば、ＢａＯ・６Ｆｅ_２Ｏ_３等のＢａ−フェライト、ＳｒＯ・６Ｆｅ_２Ｏ_３等のＳｒ−フェライトや、これらの一部を他の遷移金属、希土類元素で置換したもの等）を混合して用いてもよい。これにより、混合する各磁石粉末の利点を併有することができ、所望する磁気特性を容易に得ることができる。
【００５６】
また、保磁力、最大磁気エネルギー積等の磁気特性を向上させるため、あるいは、耐熱性、耐食性を向上させるために、磁石材料中には、必要に応じ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｐ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｗ等を含有することもできる。
【００５７】
また、磁石本体１１における前記磁石粉末の含有率は、９１．０〜９９．０ｗｔ％であるのが好ましく９１．０〜９８．５ｗｔ％であるのがより好ましい。磁石粉末の含有率が前記下限値未満であると、永久磁石１の用途等によっては、十分な磁気特性が得られない可能性がある。一方、磁石粉末の含有率が前記上限値を超えると、磁石本体１１の成形性が低下するとともに、磁石本体１１中の空孔率が急激に高くなる傾向を示し、後述する導電膜１２、湿式めっき膜１３を形成しても、本発明の効果を十分に発揮するのが困難になる可能性がある。
【００５８】
結合樹脂（バインダー）としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。
【００５９】
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６、ＰＡ９Ｔナイロン）、熱可塑性ポリイミド、芳香族ポリエステル等の液晶ポリマー、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアセタール、ポリアクリル等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００６０】
このような熱可塑性樹脂は、その種類、共重合化等により、例えば成形性を重視したものや、耐熱性、機械的強度を重視したものというように、広範囲の選択が可能となるという利点がある。
【００６１】
一方、熱硬化性樹脂としては、例えば、ビスフェノール型、ノボラック型、ナフタレン系等の各種エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル（不飽和ポリエステル）樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００６２】
なお、使用される熱硬化性樹脂（未硬化）は、室温で液状のものでも、固形（粉末状）のものでもよい。
【００６３】
さらに、磁石本体１１の構成材料中に、滑材、酸化防止材等の添加材を微量添加してもよい。
【００６４】
ボンド磁石の成形方法は、プレス成形、射出成形、押し出し成形等、特に限定されない。
【００６５】
プレス成形の場合には、例えば、成形圧力：２〜１６トン／ｃｍ^２、焼成温度：１００〜２００℃で加熱硬化するのが好ましい。
【００６６】
射出成形の場合には、例えば、成形温度：２００〜２８０℃、成形型閉め圧力：０．１〜３トン／ｃｍ^２で成形するのが好ましい。
【００６７】
押し出し成形の場合には、例えば、成形温度：１５０〜２５０℃、成形速度：２〜１０ｍｍ／ｓｅｃで成形するのが好ましい。
【００６８】
このようにして各種成形法により成形された磁石本体１１は、必要に応じて所望の寸法・形状に２次加工される。
【００６９】
磁石本体１１の磁気特性は、特に限定されないが、磁気エネルギー積（ＢＨ）_ｍａｘが３２ｋＪ／ｍ^３以上のものが好ましく、４８ｋＪ／ｍ^３以上のものがより好ましく、６４ｋＪ／ｍ^３以上のものがさらに好ましい。
【００７０】
また、磁石本体１１の空孔率は、７．０ｖｏｌ％以下であるのが好ましく、５．０ｖｏｌ％以下であるのがより好ましい。空孔率が前記上限値を超えると、後述する導電膜１２、湿式めっき膜１３を形成しても、本発明の効果が十分に発揮されない可能性がある。
【００７１】
また、磁石本体１１は、その端部の角（少なくとも先端部の外周側の角）に面取りを施したものであってもよい。これにより、永久磁石は、カケ等の欠陥を、さらに生じにくいものとなる。また、例えば、本発明の永久磁石１をモータに用いる場合、永久磁石１とヨーク（支持部材）との接合を圧入により行う際に、その操作を容易に行うことが可能になる。また、圧入の操作を行う際に、永久磁石１の表面に、傷が付くのをより効果的に防止することができる。その結果、永久磁石１の腐食、機械的強度の低下が防止され、結果として、モータの長期安定性が向上する。
【００７２】
本発明の永久磁石１は、磁石本体１１の表面に、乾式めっき法により形成された導電膜１２を有している。
【００７３】
磁石本体１１の表面に導電膜１２を形成することで、後述する湿式めっき膜１３を湿式めっき法により形成する際に、磁石本体１１の表面における導電性のばらつきを十分に小さくすることができる。これによりピンホール等の欠陥の発生を十分に防止しつつ、湿式めっき膜１３を均一かつ緻密に形成することができる。その結果、永久磁石１は、湿式めっき膜１３の剥離がきわめて生じにくいものとなり、十分な耐錆性を有し、機械的強度に優れたものとなる。
【００７４】
また、導電膜１２を形成することにより、以下のような効果が得られる。
すなわち、磁石本体の形状が略円筒形状のような複雑な形状を有するものである場合、磁石本体の表面に、直接、湿式めっき法によりめっき層を形成した場合、各部位でのめっき層の厚さのばらつきは、特に大きなものとなる。例えば、磁石本体１１が略円筒形状を有する場合、磁石本体１１の内周側は、陰影部となり、外周側に比べて電流密度が低くなってしまい、その結果、外周側のめっき層の厚さに比べて、内周側のめっき層の厚さが極端に小さくなるという問題があった。このようなめっき層の厚さのばらつきが大きくなると、めっき層が厚さが薄い箇所において、ピンホール等の欠陥が発生しやすくなり、また、このような部位から、腐食等が進行しやすくなる。これに対し、本発明では、湿式めっきを施すのに先立ち、磁石本体１１の表面に導電膜１２を形成することで、湿式めっきの際の外周側と内周側とで表面電流密度を均一にすることができる。これにより、均一な膜厚の（外周側と内周側とで厚みのばらつきが小さい）湿式めっき膜１３を形成することができる。
【００７５】
導電膜１２は、電気伝導度が２［ｍ・Ω^−１・ｍｍ^−２］以上の導電物質から構成されるのが好ましい。これにより、磁石本体１１の表面に十分な導電性を付与することができる。
【００７６】
上記のような電気伝導度を有する材料の中でも、導電膜１２の構成材料としては、特に、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｖ、Ｃｒ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｍｎから選択される１種または２種以上を含むものが好ましい。
【００７７】
電気伝導度が２［ｍ・Ω^−１・ｍｍ^−２］以上の物質として具体的には、マグネシウム合金、アルミ合金、チタン合金、青銅、黄銅、モネル、洋白、ステンレス鋼等が挙げられる。
【００７８】
本発明は、導電膜１２を乾式めっき法により形成する点に特徴を有する。乾式めっき法としては、例えば、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、イオンプレーティング等が挙げられるが、この中でも特に、イオンプレーティング法が好ましい。乾式めっき法として、イオンプレーティング法を用いることにより、より緻密で、磁石本体１１との密着性が特に優れた導電膜１２を、均一な膜厚で形成することができる。
【００７９】
イオンプレーティング法により導電膜を形成する際に用いるイオンプレーティング装置の一例を図２に示す。図２に示すイオンプレーティング装置は、高周波励起方式によるものである。
【００８０】
このイオンプレーティング装置２は、イオンプレーティング槽を構成する真空容器２１と、真空ポンプ２２と、ガス導入ニードル弁２３と、抵抗加熱部２４と、ＤＣソース２５と、高周波発生コイル２６と、搭載基盤２７とを有する。
真空ポンプ２２は、真空容器２１内を所定の真空度まで排気する。
【００８１】
イオンプレーティングの際、真空容器２１内部は、通常、真空度１００〜１０００Ｐａ程度まで減圧される。
ガス導入ニードル弁２３からは、イオン化導入ガスが導入される。
【００８２】
イオン化導入ガスとしては、Ａｒ、Ｈ_２、Ｎ_２、Ｈｅ、Ｏ_２、Ｎｅ等のガスが挙げられる。これらのガスは、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００８３】
抵抗加熱部２４には蒸発源２８であるイオンめっき物質が配置され、抵抗加熱により溶融される。加熱温度は蒸発源２８の組成等に応じて設定される。蒸発源２８の融点をＴｍ［℃］としたとき、加熱温度は、通常、Ｔｍ〜（Ｔｍ＋１００）℃であるのが好ましい。
【００８４】
搭載基盤２７は、抵抗加熱部２４と対向して配されており、この搭載基盤２７上に、被めっき部材である磁石本体１１が配置される。
【００８５】
また、抵抗加熱部２４と搭載基盤２７との間には高周波発生コイル２６が配されている。高周波励起には、通常、周波数１０ＭＨｚ以下の周波数帯が利用される。
【００８６】
そして、ＤＣソース２５により、陰極部（搭載基盤２７）および対極間にはＤＣ０．１〜１０ｋＶ直流電圧が印加される。蒸発源２８から蒸発した材料は、高周波励起によってイオン化され、搭載基盤２７上の被めっき部材である磁石本体１１の表面に堆積する。
以上のようにして、磁石本体１１の表面に導電膜１２が形成される。
【００８７】
なお、上記のような乾式めっきを行う際には、例えば、被めっき部材である磁石本体１１を、回転させてもよい。これにより、形成される導電膜１２の厚さのばらつきを、さらに小さくすることができる。
【００８８】
導電膜１２の平均厚さは、０．０１〜２．０μｍであるのが好ましく、０．１〜１．２μｍであるのがより好ましい。導電膜１２の平均厚さが前記下限値未満であると、磁石本体１１の空孔率等によっては、本発明の効果が十分に得られない可能性がある。一方、導電膜１２の平均厚さが前記上限値を超えると、磁石本体１１との密着強度が低下し、圧環強度が低くなる傾向を示す。
【００８９】
また、導電膜１２の平均厚さをＤ_Ａ［μｍ］とし、後述する湿式めっき膜１３の平均厚さをＤ_Ｂ［μｍ］としたとき０．０００２５＜Ｄ_Ａ／Ｄ_Ｂ＜０．２０の関係を満足するのが好ましく、０．００３＜Ｄ_Ａ／Ｄ_Ｂ＜０．１２の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、密着強度、耐錆性の改善、膨れ防止という効果がさらに顕著なものとなる。
【００９０】
また、導電膜１２の形成に先立ち、磁石本体１１の表面に対して、前処理を施してもよい。前処理としては、例えば、ブラスト処理、アルカリ洗浄（アルカリ脱脂処理）、酸洗浄、水洗（純水洗浄を含む）、有機溶剤洗浄、超音波洗浄、ボンバード処理等の清浄化処理等が挙げられる。このような前処理を施すことにより、例えば、磁石本体１１と導電膜１２との密着性をさらに優れたものとすることができる。
【００９１】
そして、本発明の永久磁石１では、導電膜１２上に、湿式めっき膜１３を有している。湿式めっき膜１３は、湿式めっき法により形成されたものである。
【００９２】
このような湿式めっき膜１３が形成されることにより、磁石本体１１は、外部環境から遮断されることになる。
【００９３】
特に、本発明では、上述したように、湿式めっき膜１３の形成に先立ち、磁石本体１１の表面に導電膜１２を形成する。これにより、湿式めっき膜１３を形成する各部位での導電性のばらつきを十分に小さくすることができる。その結果、本工程で形成される湿式めっき膜１３は、各部位での膜質（例えば、膜成分構成、膜厚、密度等）が十分に均一で、緻密なものとなる。したがって、得られる永久磁石１は、優れた耐食性を有し、かつ、機械的強度にも優れたものとなる。
【００９４】
湿式めっき膜１３は、主として金属材料で構成されたものである。このような湿式めっき膜１３が設けられることにより、永久磁石１の機械的強度は、特に優れたものとなる。このため、永久磁石１には、比較的大きな外力が加わる用途にも好適に適用できる。例えば、本発明の永久磁石１を後述するようなモータに用いる場合に、熱カシメまたは圧入で、支持部材（ヨーク）に支持固定することが可能になる。これにより、永久磁石１を、ヨークに十分な密着性（接合強度）で支持固定することが可能となる。
【００９５】
湿式めっき膜１３を構成する金属材料としては、例えば、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ等、またはこれらのうち少なくとも１種を含む合金等が挙げられる。この中でも、湿式めっき膜１３を構成する金属材料としては、Ｎｉを主とするものであるのが好ましい。これにより、永久磁石１の耐食性、機械的強度は特に優れたものとなる。また、永久磁石１を後述するモータの製造に用いた場合には、永久磁石１と支持部材（ヨーク）との密着性（接合強度）が特に優れたものとなる。
【００９６】
湿式めっき膜１３の平均厚さは、特に限定されないが１０．０〜４０．０μｍであるのが好ましく、１０．０〜３５．０μｍであるのがより好ましく、１６．０〜３５．０μｍであるのがさらに好ましい。湿式めっき膜１３の平均厚さが前記範囲内の値であると、上記の効果（特に、機械的強度の向上）がより顕著なものとなる。
【００９７】
また、永久磁石１を、後述するようなモータに用いる場合には、特に、以下のような条件を満足するのが好ましい。
【００９８】
［１］湿式めっき膜１３は、ビッカース硬度Ｈｖが１５０以上であるのが好ましく、２００以上であるのがより好ましい。湿式めっき膜１３のビッカース硬度Ｈｖが１５０以上であると、永久磁石１の機械的強度は、特に優れたものとなる。また、湿式めっき膜１３のビッカース硬度Ｈｖが１５０以上であると、例えば、本発明の永久磁石１をモータに用いる場合に、永久磁石１と支持部材（ヨーク）との接合を圧入により行う際、その工程において、永久磁石１の表面に、傷が付くのをより効果的に防止することができる。その結果、永久磁石１の腐食、機械的強度の低下がより効果的に防止され、結果として、本発明の永久磁石１を用いたモータの長期安定性が向上する。
【００９９】
［２］湿式めっき膜１３は、適度な潤滑性を有するものであるのが好ましい。これにより、例えば、本発明の永久磁石１をモータに用いる場合に、永久磁石１とヨークとの接合を圧入により行う際、その操作を容易に行うことができる。また、圧入時に、永久磁石１の表面に、傷が付くのをより効果的に防止することができる。また、磁石本体１１とヨ−ク３３との組み込み性が改善され、製品歩留まり、生産能力がさらに向上する。その結果、永久磁石１の腐食、機械的強度の低下が防止され、結果として、本発明の永久磁石１を用いたモータの長期安定性が向上する。潤滑性を示す指標としては、例えば、ＪＩＳ　Ｒ　１６１３に準じて測定されるボールオンディスク法での摩擦係数μ等が挙げられる。ボールオンディスク法により測定される湿式めっき膜１３の摩擦係数μは、０．１〜０．７程度であるのが好ましく、０．２〜０．６程度であるのがより好ましい。湿式めっき膜１３の摩擦係数μが前記下限値未満であると、例えば、本発明の永久磁石１をモータに用いる場合に、永久磁石１とヨーク３３との密着性（接合強度）が低下する可能性がある。一方、湿式めっき膜１３の摩擦係数μが前記上限値を超えると、例えば、本発明の永久磁石１をモータに用いる場合に、圧入により、永久磁石１を支持部材（ヨーク）に、支持固定させるのが困難となる。
【０１００】
［３］本発明の永久磁石１において、磁石本体１１の室温付近での熱膨張率（線膨張率）をα_１［×１０^−６Ｋ^−１］、湿式めっき膜１３の構成材料の室温付近での熱膨張率（線膨張率）をα_２［×１０^−６Ｋ^−１］としたとき、｜α_２−α_１｜は、１５［×１０^−６Ｋ^−１］以下であるのが好ましく、１０［×１０^−６Ｋ^−１］以下であるのがより好ましい。｜α_２−α_１｜が１５［×１０^−６Ｋ^−１］以下であると、例えば、本発明の永久磁石１をモータに用いる場合に、ロータ、モータの製造時や使用時等における、永久磁石１の温度の変化量が比較的大きい場合であっても、湿式めっき膜１３が磁石本体１１から剥離するのをより効果的に防止することができる。その結果、永久磁石１の腐食、機械的強度の低下や、ロータの重心のアンバランス量（回転アンバランス量）の増大が防止され、結果として、モータの長期安定性が向上する。
【０１０１】
このような湿式めっき膜１３は、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法によって形成される。この中でも、電解めっき、無電解めっきがより好ましい。
【０１０２】
湿式めっき膜１３の形成方法として湿式めっきを用いることにより、比較的簡易な装置で、導電膜１２との密着性（接合強度）に優れ、かつ、均質な湿式めっき膜１３を容易に形成することができる。このような効果は、電解めっき、無電解めっきを用いた場合により顕著なものとなる。
【０１０３】
また、電解めっき、無電解めっきでは、めっき液の組成を調節することにより、形成される湿式めっき膜（金属めっき層）１３の組成を容易に調節することができる。その結果、例えば、湿式めっき膜１３の物性（例えば、機械的強度、硬度、摩擦係数、熱膨張率、耐食性等）や、湿式めっき膜１３の、導電膜１２に対する親和性等を容易に調節することができる。
【０１０４】
また、電解めっきでは、電流密度等のめっき条件を調節することにより、湿式めっき膜１３の膜厚、密度等を容易に調節することができる。その結果、湿式めっき膜１３の物性（例えば、機械的強度、硬度、摩擦係数、耐食性等）を容易に調整することができる。
【０１０５】
電解めっきは、例えば、以下のような条件で行うのが好ましい。
電解めっき時における浴温は、特に限定されないが、２０〜７０℃であるのが好ましく、４０〜６５℃であるのがより好ましい。浴温が、前記下限値未満であると、めっき速度の低下、光沢ムラ、異常析出が発生しやすい。一方、浴温が、前記上限値を超えると、異常析出、光沢剤の分解が発生しやすい。
【０１０６】
また、電解めっき時における電流密度は、特に限定されないが、０．１〜８．０Ａ／ｄｍ^２であるのが好ましく、０．５〜６．０Ａ／ｄｍ^２であるのがより好ましい。電流密度が前記範囲内の値であると、導電膜１２との密着性に優れ、かつ、均質で緻密な湿式めっき膜１３を、効率良く形成することができる。
【０１０７】
また、無電解めっきでは、液温度、めっき時間等を調節することにより、形成される湿式めっき膜（金属めっき層）１３の膜厚、密度を容易に調節することができる。その結果、例えば、湿式めっき膜１３の耐食性物性や、導電膜１２に対する親和性等を容易に調節することができる。
【０１０８】
また、無電解めっきでは、磁石本体１１のような円筒状の被めっき部材に対しても、特別な調整を施すことなく、膜厚のばらつきが特に小さい湿式めっき膜１３を形成することができる。
【０１０９】
無電解めっきは、例えば、以下のような条件で行うのが好ましい。
無電解めっき時における浴温は、特に限定されないが、一例としてニッケルほう素系の無電解めっきの場合、５０〜７０℃であるのが好ましく、５５〜６５℃であるのがより好ましい。浴温が、前記下限値未満であると、めっき速度の低下、異常析出が発生しやすい。一方、浴温が、前記上限値を超えると、浴液の分解が生じやすい。
【０１１０】
また、湿式めっき膜１３の形成に先立ち、導電膜１２の表面に対して、前処理を施してもよい。前処理としては、例えば、ブラスト処理、アルカリ洗浄（アルカリ脱脂処理）、酸洗浄、水洗（純水洗浄を含む）、有機溶剤洗浄、超音波洗浄、ボンバード処理等の清浄化処理等が挙げられる。このような前処理を施すことにより、例えば、導電膜１２と、湿式めっき膜１３との密着性をさらに優れたものとすることができる。
【０１１１】
なお、湿式めっき膜１３の各部位における組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例えば、湿式めっき膜１３は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。
【０１１２】
また、湿式めっき膜１３は、例えば、形成方法、形成条件、組成の異なる複数の層の積層体であっても良い。湿式めっき膜１３をこのような積層体として形成することにより、永久磁石１の耐食性、機械的強度をさらに優れたものにすることができる。
【０１１３】
湿式めっき膜１３は、各部位での厚さのばらつきが小さいものであるのが好ましい。これにより、永久磁石１は、安定した耐食性、機械的強度を有するものとなる。また、永久磁石１を後述するようなモータに用いた場合、湿式めっき膜１３の厚さのばらつきが小さいことにより、永久磁石１全体としての寸法精度が向上し、寸法公差を小さくすることができる。その結果、このような永久磁石１を備えたモータは、軸ぶれによる振動や、騒音（異音）を発生しにくいものとなる。例えば、略円筒形状を有する磁石本体１１においては、外周側に形成された湿式めっき膜１３の厚さをＤ_ＢＯ［μｍ］、磁石本体１１の内周側に形成された湿式めっき膜１３の厚さをＤ_ＢＩ［μｍ］としたとき、０．５＜Ｄ_ＢＩ／Ｄ_ＢＯ＜１．１の関係を満足するのが好ましく０．７＜Ｄ_ＢＩ／Ｄ_ＢＯ＜１．０の関係を満足するのがより好ましい。
【０１１４】
以上、説明したように、本発明では、磁石本体１１の表面に導電膜１２を有し、さらにその表面に湿式めっき膜１３を有している。このため、ピンホール等の欠陥の発生を十分に防止しつつ、十分に均一かつ緻密な被膜（導電膜１２および湿式めっき膜１３）で、磁石本体１１を被覆することができる。その結果、永久磁石１は、湿式めっき膜１３の剥離がきわめて生じにくいものとなり、十分な耐錆性を有し、機械的強度に優れたものとなる。
【０１１５】
本発明の永久磁石１の用途は、特に限定されないが、例えば、モータに搭載されて用いられるものであるのが好ましい。これにより、本発明の効果をより顕著に発揮させることができる。
【０１１６】
また、本発明の永久磁石は、前述したように、優れた機械的強度を有している。このため、本発明の永久磁石は、比較的大きな外力が加わるものや、継続的に外力を加えた状態で用いるものに、特に好適に適用できる。したがって、本発明の永久磁石は、例えば、以下に説明するようなモータ、すなわち、永久磁石が、熱カシメまたは圧入により、支持部材（ヨーク）に固定されたモータに好適に適用することができる。
【０１１７】
次に、本発明の永久磁石１を用いたモータ用部品およびモータの好適な実施形態について説明する。
【０１１８】
図３は、本発明の永久磁石を適用したモータ用部品（ロータ）の好適な実施形態を示す断面側面図、図４は、図３に示すモータ用部品を有するモータの好適な実施形態を示す断面側面図である。以下、図３中、下側を「基端」、上側を「先端」として説明する。
【０１１９】
まず、本発明の永久磁石を有するモータ用部品（ロータ）について説明する。図３に示すように、ロータ（回転子）３は、ハブ３１と、ハブ３１の先端側の内表面に接合されたスリーブ３２と、ハブ３１の基端側の内表面に接合されたヨーク３３と、ヨーク（支持部材）３３の内表面側に接合、固定された永久磁石１とで構成されている。
【０１２０】
スリーブ３２は、略円筒状をなし、その内表面側に溝（中逃げ部）３２３を有する。
【０１２１】
スリーブ３２は、後述するようなモータ４の製造に用いた場合、軸受け（動圧流体軸受け）として機能する。すなわち、スリーブ３２は、長手方向（図１中の上下方向）の異なる２箇所に、内側に突出する軸受け部３２１、３２２を有している。軸受けが、このような動圧流体軸受け（滑り軸受け）であると、後述するような高回転領域で用いられるモータに好適に適用することができる。
【０１２２】
スリーブ３２の構成材料としては、例えば、銅もしくは真鍮などの銅合金、アルミニウム、鉄もしくはステンレスなどの鉄合金、またもしくはそれらを粉末原料とする金属焼結体、Ａｌ_２Ｏ_３（アルミナ）、チタニア（ＴｉＯ_２）、ジルコニア（ＺｒＯ_２）等を主成分とするセラミックス、合成樹脂等が挙げられる。
【０１２３】
ヨーク３３は、略円筒状をなし、ハブ３１の基端側の内表面に接合、固定されている。
【０１２４】
ヨーク３３の構成材料は、特に限定されないが、通常、金属または合金材料で構成される。ヨーク３３を構成する材料としては、Ｆｅ、Ａｌ、快削鋼、ステンレス鋼、真鍮、焼結合金やこれらのうち少なくとも１種を含む合金等が挙げられるが、少なくとも永久磁石１と接触する部位がＦｅまたはＡｌを主とする材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、ヨーク３３は、十分な機械的強度を有し、かつ、永久磁石１の湿式めっき膜１３との接合強度（密着性）が、特に優れたものとなる。
【０１２５】
また、ヨーク３３の構成材料は、室温付近での熱膨張率（線膨張率）が、４〜３０［×１０^−６Ｋ^−１］であるのが好ましく、８〜２５［×１０^−６Ｋ^−１］であるのがより好ましい。ヨーク３３の構成材料の熱膨張率（線膨張率）が前記下限値未満であると、例えば、永久磁石１とヨーク３３との接合を熱カシメにより行う場合、その製造工程において、ヨーク３３を比較的高温にしなければ、ヨーク３３の中空部に永久磁石１を挿通するのが困難となる場合がある。一方、ヨーク３３の構成材料の熱膨張率（線膨張率）が前記上限値を超えると、ロータ３が高温環境下に曝されたときに、永久磁石１とヨーク３３との密着性が低下する可能性がある。
【０１２６】
また、ヨーク３３は、その表面粗さＲａが０．５〜１０．０μｍであるのが好ましく、１．０〜５．０μｍであるのがより好ましい。ヨーク３３の表面粗さＲａが前記範囲内の値であると、例えば、永久磁石１とヨーク３３との接合を圧入により行う場合、その操作を容易に行うことができる。また、圧入時に、永久磁石１の表面に、傷が付くのをより効果的に防止することができる。その結果、永久磁石１の腐食、機械的強度の低下が防止され、結果として、モータの長期安定性が向上する。
【０１２７】
一方、ヨーク３３の表面粗さＲａが前記下限値未満であると、永久磁石１とヨーク３３との密着性（接合強度）が低下する可能性がある。また、ヨーク３３の表面粗さＲａが前記上限値を超えると、上記の効果が十分得られない可能性がある。
【０１２８】
永久磁石１は、上述したように、円筒形状をなす磁石本体１１と、磁石本体１１の表面に形成された導電膜１２と、導電膜１２の表面に形成された湿式めっき膜１３とを有する。
磁石本体１１は、多極着磁されている。
【０１２９】
上述したように、永久磁石１は、磁石本体１１の表面に、導電膜１２と湿式めっき膜１３とが積層された構成となっており、優れた機械的強度、耐食性を有している。このため、磁石本体１１の特性を長期間にわたって安定的に発揮することができる。
【０１３０】
このような永久磁石１は、熱カシメまたは圧入により、ヨーク（支持部材）３３に固定されている。これにより、永久磁石１は、十分な密着性（接合強度）でヨーク３３に支持固定されたものとなる。このように、永久磁石１とヨーク３３とが十分に高い強度で接合されたものであると、ロータ３を、モータ（特に、高回転領域で用いられるモータや、繰り返し使用されるモータ、長期間連続して使用されるモータ等）に適用した場合における、永久磁石１とヨーク３３との接合不良の発生が、より効果的に防止される。その結果、モータの駆動時等における異音の発生、モータのトルク特性の低下等の問題の発生がより効果的に防止される。また、上記のような接合不良が効果的に防止されることにより、ヨーク３３を有するモータ４は、故障、破損等を生じ難い、信頼性に優れたものとなる。
【０１３１】
また、永久磁石１とヨーク３３とが、熱カシメまたは圧入で接合されることにより、永久磁石１とヨーク３３との接合部に、従来用いられてきたような有機接着剤を用いなくても十分な接合強度が得られる。このように、有機接着剤を用いることなく、永久磁石１とヨーク３３とを接合した場合、ロータ３の重心のアンバランス量（回転アンバランス量）を、小さいものとすることができる。特に、永久磁石１は、各部位における導電膜１２、湿式めっき膜１３の厚さのばらつきが小さいため、永久磁石１全体としての寸法公差を特に小さいものにすることができるため、ロータ３の重心のアンバランス量（回転アンバランス量）を、特に小さいものとすることができる。したがって、ロータ３を適用したモータ４は、例えば、高回転領域で用いた場合でも、軸ぶれによる振動や、騒音（異音）を発生し難いものとなる。
【０１３２】
以上説明したようなロータ３のアンバランス量の測定は、一般的にロータ３の回転に伴う径方向への周期的な応力発生として捉えることができる。この応力を電気的に変換することで、アンバランス量として測定することができる。この回転アンバランス量は、０．０５ｇ・ｃｍ以下であるのが好ましく、０．０４ｇ・ｃｍ以下であるのがより好ましい。
【０１３３】
ロータ３の回転アンバランス量が０．０５ｇ・ｃｍ以下であると、高回転領域で用いられるモータに適用した場合おいても、軸ぶれによる振動や、騒音（異音）を生じ難いものとなる。
【０１３４】
以上説明したようなロータ（モータ用部品）３は、熱カシメまたは圧入により、永久磁石１をヨーク（支持部材）３３に支持固定させることにより得られる。
【０１３５】
熱カシメにより、永久磁石１をヨーク３３に支持固定させるには、熱カシメは、永久磁石１より高温の状態のヨーク３３の中空部に、永久磁石１を挿通し、その後、ヨーク３３を冷却することにより行う。なお、熱カシメは、例えば、永久磁石１より高温の状態のヨーク３３の中空部に、冷却状態の永久磁石１を挿通し、その後、永久磁石１の温度を上昇させることにより行ってもよい。
【０１３６】
また、圧入により、永久磁石１をヨーク３３に支持固定させる場合、軸方向（図中の上下方向）への、永久磁石１とヨーク３３との相対的な移動速度（接近速度）は、０．２〜２０ｃｍ／秒であるのが好ましく、０．５〜１０ｃｍ／秒であるのがより好ましい。
【０１３７】
永久磁石１とヨーク３３との相対的な移動速度が前記範囲内の値であると、永久磁石１の表面に傷が付くのを効果的に防止しつつ、効率良く永久磁石１を圧入することができる。このように、永久磁石１の表面に傷が付くのが防止されることにより、永久磁石１の腐食、機械的強度の低下が防止され、結果として、モータの長期安定性が向上する。
【０１３８】
また、永久磁石１とヨーク３３との接合を圧入により行う場合、永久磁石１（磁石本体１１）は、その端部の角（少なくとも先端部の外周側の角）に面取りを施したものであるのが好ましい。これにより、圧入の操作をさらに容易に行うことが可能になる。また、圧入の操作を行う際に、永久磁石１の表面に、傷が付くのをより効果的に防止することができる。その結果、永久磁石１の腐食、機械的強度の低下が防止され、結果として、モータの長期安定性が向上する。
【０１３９】
上述したような熱カシメ、圧入により接合される永久磁石１は、自然状態（ヨーク３３と接合する前の状態）での外径が、ヨーク３３の対応する部位の自然状態（永久磁石１と接合する前の状態）での内径より大きい。これにより、得られるロータ３における永久磁石１とヨーク３３との接合強度は十分に大きいものとなる。
【０１４０】
以上、永久磁石１とヨーク３３との接合方法について説明したが、このような接合方法は、例えば、ヨーク３３とハブ３１との接合、ハブ３１とスリーブ３２との接合にも適用することができる。これにより、ロータ３は、高回転領域で用いられるモータに適用した場合おいても、軸ぶれによる振動や、騒音（異音）を生じ難い、特に安定した特性を有するものとなる。
【０１４１】
次に、上述したモータ用部品（ロータ）を備えたモータについて説明する。
図４に示すように、モータ（ハードディスクドライブ用モータ）４は、上述したロータ（回転子）３と、シャフト（軸）４１と、ステータ（固定子）４２と、基部（フレーム）４３とを有している。
【０１４２】
シャフト４１は、ロータ３を回転自在に支持している。
シャフト４１は、通常、ステンレス鋼等の金属材料で構成される。ステンレス鋼としては、例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３０３、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ３１６Ｊ１、ＳＵＳ３１６Ｊ１Ｌ等のＦｅ−Ｃｒ−Ｎｉ系合金、ＳＵＳ４０５、ＳＵＳ４２０Ｊ２、ＳＵＳ４３０、ＳＵＳ４３４、ＳＵＳ４４４、ＳＵＳ４２９、ＳＵＳ４３０Ｆ等のＦｅ−Ｃｒ系合金等が挙げられる。
【０１４３】
ステータ４２は、所定の間隔（ギャップ）を介して、永久磁石１の外周面に対面するように配置されている。
このステータ４２は、所望の形状に打ち抜かれた珪素鋼板の積層体よりなるコア４２１と、該コア４２１に巻線を施してなるコイル（３相コイル）４２２とで構成されている。
【０１４４】
基部４３は、中空部を有する形状を有しており、その内表面側にはシャフト４１が、圧入等の方法により強固に固定されている。また、基部４３の外表面側には、ステータ４２が支持固定されている。
【０１４５】
また、スリーブ３２の先端側には、スラスト受け板４５がフランジ４４とともに、固定されており、このスラスト受け板４５は、シャフト４１の先端部と接触している。
【０１４６】
このようなモータ４では、図示しない導線を介してステータ４２のコイル４２２へ通電することにより、コア４２１が励磁され、ロータ３にトルクが発生する。この場合、コイル４２２への通電は、ロータ３の位置を検出するロータ位置センサによる検出信号に基づいて、好ましくは、インバータを備えたモータ駆動制御手段（いずれも図示せず）により制御される。
【０１４７】
上述したように、このモータ４では、熱カシメまたは圧入により、永久磁石１とヨーク（支持部材）３３とが接合されているため、ロータ３にトルクが発生した場合においても、永久磁石１とヨーク３３との接合不良が発生し難い。その結果、モータの駆動時等における異音の発生、モータのトルク特性の低下等の問題の発生がより効果的に防止される。また、上記のような接合不良が効果的に防止されることにより、ヨーク３３を有するモータ４は、故障、破損等を生じ難い、信頼性に優れたものとなる。
【０１４８】
また、永久磁石１は、磁石本体１１の表面に、導電膜１２と湿式めっき膜１３とが積層された構成となっているため、磁石本体１１の腐食や、欠損、破壊等がより効果的に防止される。その結果、本発明の永久磁石１を用いたモータは、長期間にわたって安定した特性を有するものとなる。
【０１４９】
また、このモータ４では、永久磁石１とヨーク３３とが、熱カシメまたは圧入で接合されることにより、永久磁石１とヨーク３３との接合部に、従来用いられてきたような有機接着剤を用いなくても十分な接合強度が得られる。このように、有機接着剤を用いることなく、永久磁石１とヨーク３３とを接合した場合、ロータ３の重心のアンバランス量（回転アンバランス量）を、特に小さいものとすることができる。その結果、ロータ３を適用したモータ４は、例えば、高回転領域で用いた場合でも、軸ぶれによる振動や、騒音（異音）を発生し難いものとなる。
【０１５０】
ところで、上記のような有機接着剤を用いる従来の製造方法では、永久磁石とヨークとの間から、余剰の有機接着剤がロータ端面にはみ出すことがあった。このような余剰の有機接着剤は、通常その余剰接着剤は寸法的に許容されるモータ構造で設計される場合が多いが、端面の余剰接着剤はロータの回転による遠心力や振動、トルク変動による周方向の加速度を直接受けるため剥離、破断、脱落が生じる。このような脱落した接着剤の一部が、モータ内に残存し、モータに悪影響を及ぼすことがあった。
【０１５１】
これに対し、永久磁石１とヨーク３３とが、熱カシメまたは圧入で接合することで、有機接着剤を用いなくても十分な接合強度が得られるため、このような問題の発生を回避できる。したがって、本発明の永久磁石１は、例えば、ハードディスクドライブ用モータのように、非常に微細な異物の排除が求められるようなものにも、好適に適用することができる。
【０１５２】
モータ４は、最大回転数が４０００ｒｐｍ以上の領域で用いられるものであるのが好ましく、５０００ｒｐｍ以上の領域で用いられるものであるのがより好ましく、７０００ｒｐｍ以上の領域で用いられるものであるのがさらに好ましい。本発明の永久磁石１は、機械的強度に特に優れ、特に十分な耐錆性能を有しているので、モータ４が、このような最大回転数を有するモータであると、本発明の効果はより顕著なものとなる。
【０１５３】
従来のように、永久磁石と、その支持部材との接合強度が小さい場合には、信頼性等の問題から実現するのが困難であった高回転型のモータにも、本発明の永久磁石１を好適に用いることができる。
【０１５４】
また、高回転型のモータでは、軸ぶれによる振動や、騒音（異音）の発生を防止、抑制するために、ロータの重心のアンバランス量の低減が一層求められるが、永久磁石１とヨーク３３とを熱カシメまたは圧入で接合することで、有機接着剤を用いる必要がないため、ロータの重心のアンバランス量の低減を容易に達成することができる。
【０１５５】
なお、図示の構成では、モータ４は、ハードディスクドライブに用いられるモータ（ハードディスクドライブ用モータ）である。ハードディスクドライブ用モータは、一般に、高回転領域で用いられるとともに、磁気記録密度が非常に高いため、振動の低減は最も重要な課題のひとつであるが、永久磁石１とヨーク３３とを熱カシメまたは圧入で接合することで、このような問題の発生を容易に回避することができる。
【０１５６】
以上、本発明の永久磁石、当該永久磁石を適用したモータ用部品およびモータを、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５７】
例えば、前述した実施形態では、湿式めっき膜１３は、磁石本体１１の表面全体を覆うものであるが、磁石本体１１の表面の少なくとも一部に形成されていればよい。
【０１５８】
また、導電膜は、上述したようなイオンプレーティングにより形成されたものに限定されず、乾式めっき法により形成されたものであればいかなるものであってもよい。また、導電膜を形成する際のイオンプレーティングは、高周波励起方式の装置を用いた方法に限定されず、いかなる方法で行うものであってもよい。
【０１５９】
また、磁石本体と導電膜との間には、密着性の向上等を目的とした下地層が形成されていてもよい。
【０１６０】
また、永久磁石は、例えば、湿式めっき膜の表面の少なくとも一部に、有機材料、無機材料等で構成された被覆層（保護膜）等が形成されたものであってもよい。
【０１６１】
また、本発明の永久磁石は、前述したようなモータ、モータ用部品に適用されるものに限定されない。
【０１６２】
また、本発明の永久磁石１が用いられるモータは、上述したようなアウターロータ型のものに限定されず、例えば、インナーロータ型、円盤型のもの等であってもよい。
【０１６３】
また、本発明の永久磁石１が用いられるモータは、ハードディスクドライブ用モータに限定されず、いかなるタイプのものであってもよい。
【０１６４】
また、前述した実施形態では、支持部材がヨークである構成について説明したが、支持部材はこれに限定されず、例えば、シャフト（軸）、ハブ、ケーシング等であってもよい。
【０１６５】
また、前述した実施形態では、動圧流体軸受け構造を有するものについて説明したが、軸受け構造は、いかなるものであってもよい。例えば、自己潤滑性軸受けや、オリフィス軸受け、ポケット軸受け等の静圧流体軸受けであってもよい。また、上記のような滑り軸受けのほか、例えば、ころがり軸受け（玉軸受）、磁気軸受け等であってもよい。
【０１６６】
【実施例】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
【０１６７】
なお、以下に示す例では、具体的な物質名、数値等を挙げて説明しているが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
【０１６８】
（実施例１）
［永久磁石の製造］
以下のようにして、図１に示すような形状、構成を有する１８種の永久磁石（サンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１８）を製造した。
【０１６９】
＜サンプルＮｏ．１＞
まず、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ系超急冷法磁石粉末（粒度が１５０＃以下の原料粉を使用。）と、結合樹脂としてのビスＡ型エポキシ樹脂と、添加物としてのステアリン酸とを混合し、これらを常温で３０分間混練して、ボンド磁石用組成物（コンパウンド）を作製した。磁石粉末、ビスＡ型エポキシ樹脂、ステアリン酸の配合比率（重量比率）は、それぞれ９７．５ｗｔ％、２．３ｗｔ％、０．２ｗｔ％とした。
【０１７０】
次いで、このコンパウンドを秤量してプレス装置の金型内に充填し、無磁場中にて、常温にて、約１２トン／ｃｍ^２の圧力で圧縮成形してから、２００℃でエポキシ樹脂を加熱硬化させ、円筒状のボンド磁石を得た。このボンド磁石に対して、その高さ方向の研磨処理を施した。
【０１７１】
その後、ボンド磁石を、バレル研磨法により各稜がＲ０．１５になるまで研磨（面取り）し、これを磁石本体とした。得られた磁石本体は、外径２８．００ｍｍ×内径２５．１ｍｍ×高さ４．１ｍｍの円筒状（室温（２０℃）、自然状態）をなすものであった。また、磁石本体の空孔率は、４．１ｖｏｌ％であった。
【０１７２】
次に、得られた磁石本体を洗浄した。磁石本体の洗浄としては、純水超音波洗浄を３分間行った。その後、８５℃で２０分間乾燥した。
【０１７３】
このようにして洗浄を行った磁石本体の表面に、イオンプレーティング法によりＣｕからなる導電膜を形成した。
【０１７４】
導電膜の形成には、図２に示したような高周波励起方式のイオンプレーティング装置を用いた。
【０１７５】
導電膜形成時における、イオンプレーティング槽内部の圧力は、１００〜２００Ｐａとし、導入ガスはＡｒガスを用いた。また、ＤＣ印加電圧は、３．０±０．２ｋＶとし、処理時間は３〜１０分とした。このようなイオンプレーティングは、被めっき部材である磁石本体を回転させながら行った。
【０１７６】
このようにして、磁石本体の表面に、Ｃｕからなる導電膜を形成した。形成された導電膜の平均厚さは、０．１μｍであった。
【０１７７】
次に、導電膜が形成された磁石本体（以下の説明において、便宜上、単に磁石本体と称する場合がある。）の導電膜の表面に、湿式めっき法により、主にＮｉから構成される湿式めっき膜を形成した。
【０１７８】
湿式めっき法による湿式めっき膜の形成は、以下の態様で行った。
まず、磁石本体表面を脱脂洗浄した。脱脂洗浄としては、エースクリーンＡ−２２０（奥野製薬市場品）を５０ｇ／Ｌの濃度で溶解させた洗浄液を用いて、５０℃で１０分間行った。この洗浄液のｐＨは１１．４であった。
【０１７９】
次に、表面が脱脂された磁石本体を洗浄した。磁石本体の洗浄としては、常温での純水洗浄を１分間行った。
【０１８０】
上記のようにして洗浄を行った磁石本体に、湿式めっき膜（複数の層からなる積層体）を、以下のようにして形成した。
【０１８１】
まず、Ｎｉ−Ｂ無電解めっきを行い、導電膜の表面にＮｉ−Ｂ膜を形成した。この無電解めっきにはトップケミアロイ６６−Ｍを６０ｍｌ／Ｌ、トップケミアロイ６６−１を６０ｍｌ／Ｌ、トップケミアロイ６６−２を６０ｍｌ／Ｌの濃度で含むものを用いた。このめっき液のｐＨは６．５であった。めっき液の浴温、めっき液への浸漬時間は、それぞれ、６５℃、２０分間とした。
【０１８２】
その後、Ｎｉ−Ｂ膜が形成された磁石本体を回収し、常温での純水洗浄を１分間行った。
【０１８３】
次に、Ｎｉ−Ｂ膜が形成された磁石本体を洗浄した。磁石本体の洗浄としては、常温での純水洗浄を２分間行った。
【０１８４】
次に、電解光沢Ｎｉめっきを行った。この電解光沢Ｎｉめっきには、めっき液として、硫酸Ｎｉを３００ｇ／Ｌ、塩化Ｎｉを５０ｇ／Ｌ、ホウ酸を４５ｇ／Ｌ、トップレオナＢｒ−Ｍｕ（奥野製薬社製）を４ｍｌ／Ｌ、トップレオナＢＲ（奥野製薬社製）を０．１５ｍｌ／Ｌの濃度で含むものを用いた。このめっき液のｐＨは４．５であった。めっき液の浴温、めっき液への浸漬時間は、それぞれ、５０℃、２０分間とした。また、電流密度Ｄｋは２Ａ／ｄｍ^２とした。
【０１８５】
次に、電解光沢Ｎｉめっきが施された磁石本体を回収し、常温での純水洗浄を１分間行った。
【０１８６】
さらに、温水（８０℃）による純水洗浄を１分間行った。
その後、導電膜、湿式めっき膜が形成された磁石本体を７０℃で２０分間乾燥した。
【０１８７】
このようにして、積層体として形成された湿式めっき膜は、外周側の平均厚さが２０μｍ、内周側の平均厚さが１８μｍであった。
【０１８８】
以上のようにして、導電膜および湿式めっき膜が形成されたボンド磁石を、８極に多極着磁し、永久磁石（サンプルＮｏ．１）とした。
【０１８９】
このようにして得られた永久磁石の最大磁気エネルギー積（ＢＨ）_ｍａｘは、８０ｋＪ／ｍ^３であった。
【０１９０】
＜サンプルＮｏ．２＞
導電膜が形成された磁石本体表面に、以下の態様の湿式めっき法により、主にＮｉから構成される湿式めっき膜を形成したこと以外は、サンプルＮｏ．１の永久磁石と同様にして永久磁石（サンプルＮｏ．２）を作製した。
【０１９１】
湿式めっきによる湿式めっき膜の形成は、以下の態様で行った。
まず、磁石本体表面を脱脂洗浄した。脱脂洗浄としては、エースクリーンＡ−２２０（奥野製薬市場品）を５０ｇ／Ｌの濃度で溶解させた洗浄液を用いて５０℃で１０分間行った。この洗浄液のｐＨは１１．４であった。
【０１９２】
次に、表面が脱脂された磁石本体を洗浄した。磁石本体の洗浄としては、常温での純水洗浄を１分間行った。
【０１９３】
上記のようにして洗浄を行った磁石本体に湿式めっき膜（複数の層からなる積層体）を、以下のようにして形成した。
【０１９４】
まず、Ｓｔ（ストライク）Ｎｉ電解めっきを行い、導電膜の表面にＮｉ膜を形成した。この電解めっきには、めっき液としてアンモン浴組成で、硫酸Ｎｉ：１５０ｇ／Ｌ、塩化Ｎｉ：１５ｇ／Ｌ、ホウ酸：１５ｇ／Ｌのものを使用した。このめっき液のｐＨは５．２、めっき時における電流密度Ｄｋは１．５Ａｄｍ^２とした。また、浴温、めっき液への浸漬時間は、それぞれ、４０℃、１５分間とした。
【０１９５】
その後、Ｎｉ膜が形成された磁石本体を回収し、常温での純水洗浄を１分間行った。
【０１９６】
次に、Ｎｉ膜が形成された磁石本体を洗浄した。磁石本体の洗浄としては、常温での純水洗浄を２分間行った。
【０１９７】
次に、電解半光沢Ｎｉめっきを行った。この電解半光沢Ｎｉめっきには、めっき液として、硫酸Ｎｉを３００ｇ／Ｌ、塩化Ｎｉを５０ｇ／Ｌ、ホウ酸が４５ｇ／Ｌ、アクナＨＳＢ−ＭＵ（奥野製薬社製）を４ｍｌ／Ｌの濃度で含むものを用いた。このめっき液のｐＨは４．２であった。めっき液の浴温、めっき液への浸漬時間は、それぞれ、５０℃、３０分間とした。また、電流密度Ｄｋは３．５Ａ／ｄｍ^２とした。
【０１９８】
次に、Ｎｉめっきが施された磁石本体を回収し、常温での純水洗浄を１分間行った。
【０１９９】
次に、電解光沢Ｎｉめっきを行った。この電解光沢Ｎｉめっきには、めっき液として、硫酸Ｎｉを３００ｇ／Ｌ、塩化Ｎｉを５０ｇ／Ｌ、ホウ酸を４５ｇ／Ｌ、トップレオナＢｒ−Ｍｕ（奥野製薬社製）を４ｍｌ／Ｌ、トップレオナＢＲ（奥野製薬社製）を０．１５ｍｌ／Ｌの濃度で含むものを用いた。このめっき液のｐＨは４．５であった。めっき液の浴温、めっき液への浸漬時間は、それぞれ、５０℃、３０分間とした。また、電流密度Ｄｋは３．５Ａ／ｄｍ^２とした。
【０２００】
次に、電解光沢Ｎｉめっきが施された磁石本体を回収し、常温での純水洗浄を１分間行った。
【０２０１】
さらに、温水（８０℃）による純水洗浄を１分間行った。
その後、導電膜、湿式めっき膜が形成された磁石本体を７０℃で２０分間乾燥した。
【０２０２】
このようにして、積層体として形成された湿式めっき膜は、外周側の平均厚さが２５μｍ、内周側の平均厚さが２２μｍであった。
【０２０３】
以上のようにして、導電膜および湿式めっき膜が形成されたボンド磁石を、８極に多極着磁し、永久磁石（サンプルＮｏ．２）とした。
【０２０４】
＜サンプルＮｏ．３〜Ｎｏ．１６＞
サンプルＮｏ．１、サンプルＮｏ．２の永久磁石の製造に用いた磁石本体と同様にして製造した磁石本体の表面に、表１に示すような導電膜、湿式めっき膜を形成することにより、１４種の永久磁石（サンプルＮｏ．３〜Ｎｏ．１６）を作製した。
【０２０５】
＜サンプルＮｏ．１７、Ｎｏ．１８＞
湿式めっき膜の形成に先立ち、導電膜を形成しなかった以外は前記と同様にして、２種の永久磁石（サンプルＮｏ．１７、Ｎｏ．１８）を製造した。
【０２０６】
サンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１８の永久磁石について、導電膜および湿式めっき膜の構成を表１に示す。
【０２０７】
【表１】

【０２０８】
［永久磁石の評価］
＜湿式めっき膜厚の測定＞
以上のようにして作製された各永久磁石について、内周側と外周側とにおける湿式めっき膜の平均厚さを測定した。膜厚の測定は、Ｘ線膜厚測定法で行った。
【０２０９】
＜塩水噴霧試験＞
また、サンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１８の各永久磁石について、ＪＩＳ　Ｋ　５４０１に記載の方法に準拠して、２４時間暴露試験を実施した。
【０２１０】
その後、８倍顕微鏡下で、磁石表面の異なる１０箇所を観察し、視野内に変色が見られなかった場合には◎として評価した。また、一部変色が１〜２点確認された場合には○として評価した。また、変色が３点以上確認された場合には△として評価した。また、赤錆が１点以上確認された場合には×として評価した。
【０２１１】
＜圧環強度の測定＞
また、サンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１８の各永久磁石について、圧環強度を測定した。圧環強度の測定は、ＪＩＳ　Ｚ　２５０７に準じて行った。
【０２１２】
サンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１８の永久磁石について、内周側と外周側における湿式めっき膜の平均厚さ、塩水噴霧試験および圧環強度の測定の結果を表２に示す。
【０２１３】
【表２】

【０２１４】
表２から明らかなように、導電膜を形成しなかったサンプルＮｏ．１７、Ｎｏ．１８の永久磁石（いずれも比較例）では、内周／外周膜厚比が０．５台であったのに対し、導電膜を形成した実施例では、内周／外周膜厚比がいずれも０．８以上であり、外周側と内周側における湿式めっき膜の厚み較差は大幅に縮小されたことがわかる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【０２１５】
すなわち、磁石本体が円筒形状を有しているので、めっきの際に、内周側は陰影部となり電流密度が外周側よりも低くなりやすい。このため、導電膜を形成しなかったサンプルＮｏ．１７、Ｎｏ．１８の製造においては、これらの影響が大きく、外周側と内周側での膜厚差が大きくなってしまった。これに対し、湿式めっき膜の形成に先立って、磁石本体表面を導電膜で被覆したサンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１６の永久磁石（いずれも本発明）では、導電膜の導電効果により、外周側と内周側における電流密度のばらつきを十分に小さくすることができ、その結果、前記のような悪影響を受けることがなく、湿式めっき膜の厚みのばらつきは大幅に縮小された。
【０２１６】
また、塩水噴霧試験においても、導電膜を形成しなかったサンプルＮｏ．１７、Ｎｏ．１８の永久磁石（いずれも比較例）では、変色や錆びが見られたのに対して、導電膜を形成したサンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１６の永久磁石（いずれも本発明）では、変色がほとんど見られず、良好な耐錆性を有していることがわかった。
【０２１７】
また、圧環強度の測定においても、サンプルＮｏ．１７、Ｎｏ．１８の永久磁石（いずれも比較例）では、比較的強度が低かったのに対し、サンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１６の永久磁石（いずれも本発明）は、きわめて高い強度を有していた。
【０２１８】
また、サンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．１６の永久磁石（いずれも本発明）について、外周面の１２箇所（永久磁石の外周面において、円筒の軸を中心に周方向に３０°ずつ分割した箇所）について、湿式めっき膜の厚さを測定した。その結果、膜厚のばらつきは、きわめて小さく、いずれも、±０．７μｍ以下であった。
【０２１９】
以上の結果より、磁石本体の表面に導電膜を形成することで、湿式めっき膜を湿式めっきにより形成する際に、円筒形状のような複雑な形状を有する磁石においても、各部位での表面電流密度のばらつきを十分に小さくすることができ、これにより、厚みのばらつきの小さい湿式めっき膜を形成することができる。そして、これにより得られる永久磁石は、湿式めっき膜にピンホールの発生や剥離を生じ難く、十分な耐食性、機械的強度を有することがわかった。
【０２２０】
次に、永久磁石を備えたモータ用部品およびモータについての具体的な実施例について説明する。
【０２２１】
［ロータ（モータ用部品）の製造］
（実施例２）
以下のようにして、図３に示すようなロータ（モータ用部品）を製造した。
【０２２２】
まず、合金組成がＲ−ＴＭ−Ｂ系合金で構成される磁石粉末（ＭＱＩ社製のＭＱＰ−Ｂ粉末）と、エポキシ樹脂と、少量のヒドラジン系酸化防止剤とを混合し、これらを常温で３０分間混練して、ボンド磁石用組成物（コンパウンド）を作製した。
【０２２３】
このとき、磁石粉末、エポキシ樹脂、ヒドラジン系酸化防止剤の配合比率（重量比率）は、それぞれ、９６．７ｗｔ％、２．８ｗｔ％、０．５ｗｔ％であった。
【０２２４】
次いで、このコンパウンドを秤量してプレス装置の金型内に充填し、無磁場中にて、常温にて、圧力１３７０ＭＰａで圧縮成形してから、１７０℃でエポキシ樹脂を加熱硬化させ、円筒状のボンド磁石を得た。このボンド磁石に対して、その高さ方向の研磨処理を施した。その後、ボンド磁石を、バレル研磨法により各稜がＲ０．２になるまで研磨し、これを磁石本体とした。
【０２２５】
なお、得られた磁石本体の２０℃における熱膨張率（線膨張率）α_１は、１２．４［×１０^−６Ｋ^−１］であった。
【０２２６】
次に、得られた磁石本体を洗浄した。磁石本体の洗浄としては、まず、アルカリ洗浄（アルカリ脱脂処理）を５０℃で２分間行い、引き続き、純水超音波洗浄を１分間、酸洗浄（５ｗｔ％塩酸）を１分間、純水超音波洗浄を２分間行った。
【０２２７】
このようにして洗浄を行った磁石本体の表面に、イオンプレーティング法によりＣｕからなる導電膜を形成した。
【０２２８】
導電膜の形成には、図２に示したような高周波励起方式のイオンプレーティング装置を用いた。
【０２２９】
導電膜形成時における、イオンプレーティング槽内部の圧力は、１００〜２００Ｐａとし、導入ガスはＡｒガスを用いた。また、ＤＣ印加電圧は、３．０±０．２ｋＶとし、処理時間は３〜１０分とした。このようなイオンプレーティングは、被めっき部材である磁石本体を回転させながら行った。
【０２３０】
このようにして、磁石本体の表面に、Ｃｕからなる導電膜を形成した。形成された導電膜の平均厚さは、０．１μｍであった。
【０２３１】
次に、導電膜が形成された磁石本体（以下の説明において、便宜上、単に磁石本体と称する場合がある。）の導電膜の表面に、湿式めっき法により、主にＮｉから構成される湿式めっき膜を形成した。
【０２３２】
湿式めっき法による湿式めっき膜の形成は、以下の態様で行った。
まず、磁石本体表面を脱脂洗浄した。脱脂洗浄としては、エースクリーンＡ−２２０（奥野製薬市場品）を５０ｇ／Ｌの濃度で溶解させた洗浄液を用いて、５０℃で２分間行った。この洗浄液のｐＨは１１．４であった。
【０２３３】
次に、表面が脱脂された磁石本体を洗浄した。磁石本体の洗浄としては、常温での純水洗浄を１分間行った。
【０２３４】
上記のようにして洗浄を行った磁石本体に、Ｎｉで構成される湿式めっき膜を形成した。
【０２３５】
湿式めっき膜の形成は、以下のようにして行った。
まず、Ｓｔ（ストライク）Ｎｉ電解めっきを行い、導電膜の表面にＮｉ膜を形成した。この電解めっきには、めっき液としてアンモン浴組成で、硫酸Ｎｉ：１５０ｇ／Ｌ、塩化Ｎｉ：１５ｇ／Ｌ、ホウ酸：１５ｇ／Ｌのものを使用した。このめっき液のｐＨは５．２、めっき時における電流密度Ｄｋは１．５Ａｄｍ^２とした。この電解めっきは、回転バレル治具を用い、このバレルを回転させるとともに、バレル内に設置された電極に電流を流すバレル法により行った。また、浴温、めっき液への浸漬時間は、それぞれ、４０℃、１５分間とした。
【０２３６】
電解めっきを施した後、形成されためっき層の表面に、純水超音波洗浄を２分間施し、その後、さらに電解めっき処理を施した。この電解めっきは、回転バレル治具を用い、このバレルを回転させるとともに、バレル内に設置された電極に電流を流すバレル法により行った。電解めっき時におけるめっき液の浴温、浸漬時間、電流密度は、それぞれ、５０℃、１２０分間、０．７Ａ／ｄｍ^２であった。
【０２３７】
このようにして形成された湿式めっき膜は、外表面側の平均厚さが２２．５μｍ、内表面側の平均厚さが２１．３μｍであった。
【０２３８】
また、形成された湿式めっき膜の２０℃における熱膨張率（線膨張率）α_２は、１３．３［×１０^−６Ｋ^−１］であった。
【０２３９】
また、形成された湿式めっき膜について、摩擦係数μ、ビッカース硬度Ｈｖの測定を行った。
【０２４０】
摩擦係数μの測定は、ＪＩＳ　Ｒ　１６１３に準じて、ボールオンディスク法により測定を行った。ボールオンディスク型摩擦摩耗試験機としては、Ｃｅｎｔｒｅ　Ｓｕｉｓｓｅ　Ｄ’Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｑｕｅ　ｅｔ　ｄｅ　Ｍｉｃｒｏｔｅｃｈｎｉｑｕｅ　ＳＡ社製「ＣＳＥＭ　ＴＲＩＢＯＭＥＴＥＲ」を用いた。その結果、湿式めっき膜の摩擦係数μの測定値は、０．３５であった。
【０２４１】
また、湿式めっき膜のビッカース硬度Ｈｖは、測定荷重２５ｇｆにて測定した。その結果、湿式めっき膜のビッカース硬度Ｈｖの測定値は、２６０であった。
【０２４２】
以上のようにして、導電膜および湿式めっき膜が形成されたボンド磁石を、８極に多極着磁し、永久磁石とした。
【０２４３】
このようにして得られた永久磁石は、外径１９．００１ｍｍ×内径１７．０２４ｍｍ×高さ４．０２ｍｍの円筒状（室温（２０℃）、自然状態）をなすものであった。また、得られた永久磁石の最大磁気エネルギー積（ＢＨ）_ｍａｘは、７５．３ｋＪ／ｍ^３であった。
【０２４４】
また、快削鋼材（ＳＵＭ２１）で構成された略円筒状部材を用意し、これに切削加工を施すことにより、ヨークを得た。
【０２４５】
このようにして得られたヨークは、外径２０．５０３ｍｍ×内径１８．９９０ｍｍ（先端部付近を除く）×高さ４．２０ｍｍの略円筒状（室温（２０℃）、自然状態）をなすものであった。また、ヨークの表面粗さＲａ（内表面）は、１．９μｍであった。また、ヨークの２０℃における熱膨張率（線膨張率）は、１１．７［×１０^−６Ｋ^−１］であった。
【０２４６】
以上のようにして得られたヨークと永久磁石とを熱カシメにより接合した。
熱カシメによる接合は、以下のようにして行った。
【０２４７】
まず、加熱台上で、ヨークの温度が２００℃になるように加熱した。このときのヨークの内径は、１９．０３ｍｍであった。
【０２４８】
このような状態で、高さ方向の位置が決まる治具を用いて、ヨークの基端側から、その中空部に永久磁石を挿通した。なお、このときの永久磁石の温度は２０℃であった。
【０２４９】
その後、加熱台から冷却台に移動させ、永久磁石が挿通された状態のヨークを冷却し、その温度を２０℃にした。
【０２５０】
以上のようにして得られた永久磁石とヨークとの接合体を用いて、図３に示すようなロータ（モータ用部品）を得た。
【０２５１】
なお、ヨーク、ハブ、スリーブの構成材料としては、それぞれ、快削鋼材（ＳＵＭ２１）、アルミニウム、真鍮を用い、ヨークとハブとの接合、ハブとスリーブとの接合は、いずれも、圧入により行った。
【０２５２】
（実施例３）
以下のようにして、図３に示すようなロータ（モータ用部品）を製造した。
【０２５３】
まず、前記実施例２と同様にして磁石本体（ボンド磁石）を製造し、得られた磁石本体を洗浄した。磁石本体の洗浄としては、まず、アルカリ洗浄（アルカリ脱脂処理）を５０℃で１０分間行い、引き続き、純水超音波洗浄を１分間、酸洗浄（５ｗｔ％塩酸）を１分間、純水超音波洗浄を２分間行った。
【０２５４】
このようにして洗浄を行った磁石本体の表面に、イオンプレーティング法によりＣｕからなる導電膜を形成した。
【０２５５】
導電膜の形成には、図２に示したような高周波励起方式のイオンプレーティング装置を用いた。
【０２５６】
導電膜形成時における、イオンプレーティング槽内部の圧力は、１００〜２００Ｐａとし、導入ガスはＡｒガスを用いた。また、ＤＣ印加電圧は、３．０±０．２ｋＶとし、処理時間は３〜１０分とした。このようなイオンプレーティングは、被めっき部材である磁石本体を回転させながら行った。
【０２５７】
このようにして、磁石本体の表面に、Ｃｕからなる導電膜を形成した。形成された導電膜の平均厚さは、０．１μｍであった。
【０２５８】
次に、導電膜が形成された磁石本体（以下の説明において、便宜上、単に磁石本体と称する場合がある。）の導電膜の表面に、湿式めっき法により、主にＮｉから構成される湿式めっき膜を形成した。
【０２５９】
湿式めっき法による湿式めっき膜の形成は、以下の態様で行った。
まず、磁石本体表面を脱脂洗浄した。脱脂洗浄としては、エースクリーンＡ−２２０（奥野製薬市場品）を５０ｇ／Ｌの濃度で溶解させた洗浄液を用いて、５０℃で２分間行った。この洗浄液のｐＨは１１．４であった。
【０２６０】
次に、表面が脱脂された磁石本体を洗浄した。磁石本体の洗浄としては、常温での純水洗浄を１分間行った。
【０２６１】
上記のようにして洗浄を行った磁石本体に、Ｎｉで構成される湿式めっき膜を形成した。
【０２６２】
湿式めっき膜の形成は、以下のようにして行った。
まず、上記のようにして洗浄を行った磁石本体にＮｉ無電解めっきを施した。この無電解めっきには、めっき液としてトップケミアロイ（奥野製薬工業社製）を用い、めっき液の浴温、浸漬時間は、それぞれ、６５℃、６０分間とした。
【０２６３】
無電解めっきを施した後、形成されためっき層の表面に、純水超音波洗浄を２分間施し、その後、さらに電解めっき処理を施した。この電解めっきは、回転バレル治具を用い、このバレルを回転させるとともに、バレル内に設置された電極に電流を流すバレル法により行った。電解めっき時におけるめっき液の浴温、浸漬時間、電流密度は、それぞれ、５０℃、１２０分間、０．７Ａ／ｄｍ^２であった。
【０２６４】
このようにして形成された湿式めっき膜は、外表面側の平均厚さが２２．５μｍ、内表面側の平均厚さが２１．２μｍであった。
【０２６５】
また、形成された湿式めっき膜の２０℃における熱膨張率（線膨張率）α_２は、１３．３［×１０^−６Ｋ^−１］であった。
【０２６６】
また、形成された湿式めっき膜について、前記実施例２と同様にして、摩擦係数μ、ビッカース硬度Ｈｖの測定を行った。
【０２６７】
その結果、湿式めっき膜の摩擦係数μの測定値は、０．３５、ビッカース硬度Ｈｖの測定値は、２７０であった。
【０２６８】
以上のようにして湿式めっき膜が形成されたボンド磁石を、８極に多極着磁し、永久磁石とした。
【０２６９】
このようにして得られた永久磁石は、外径１９．００３ｍｍ×内径１７．０２５ｍｍ×高さ４．０１ｍｍの円筒状（室温（２０℃）、自然状態）をなすものであった。また、得られた永久磁石の最大磁気エネルギー積（ＢＨ）_ｍａｘは、７５．５ｋＪ／ｍ^３であった。
【０２７０】
また、快削鋼材（ＳＵＭ２１）で構成された略円筒状部材を用意し、これに切削加工を施すことにより、ヨークを得た。
【０２７１】
このようにして得られたヨークは、外径２０．５０２ｍｍ×内径１８．９９１ｍｍ（先端部付近を除く）×高さ４．２０ｍｍの略円筒状（室温（２０℃）、自然状態）をなすものであった。また、ヨークの表面粗さＲａ（内表面）は、１．９μｍであった。また、ヨークの２０℃における熱膨張率（線膨張率）は、１１．７［×１０^−６Ｋ^−１］であった。
以上のようにして得られたヨークの中空部に、前記永久磁石を圧入した。
【０２７２】
永久磁石の圧入は、永久磁石がヨークに対して傾かないような位置出し治具を用いて、油圧プレスにより行った。
【０２７３】
このときの永久磁石とヨークとの相対的な移動速度（接近速度）は、５ｃｍ／秒であった。
【０２７４】
以上のようにして得られた永久磁石とヨークとの接合体を用いて、図３に示すようなロータ（モータ用部品）を得た。
【０２７５】
なお、ヨーク、ハブ、スリーブの構成材料としては、それぞれ、快削鋼材（ＳＵＭ２１）、アルミニウム、真鍮を用い、ヨークとハブとの接合、ハブとスリーブとの接合は、いずれも、前記と同様の熱カシメにより行った。
【０２７６】
（比較例１）
前記実施例２と同様にして製造した磁石本体（ボンド磁石）の表面に、導電膜を形成することなく、直接、湿式めっき膜を形成した以外は、前記実施例２と同様にして永久磁石を製造した。
【０２７７】
このようにして得られた永久磁石は、外径１９．００２ｍｍ×内径１７．０２５ｍｍ×高さ４．０１ｍｍの円筒状（室温（２０℃）、自然状態）をなすものであった。
【０２７８】
また、快削鋼材（ＳＵＭ２１）で構成された略円筒状部材を用意し、これに切削加工を施すことにより、ヨークを得た。
【０２７９】
このようにして得られたヨークは、外径２０．５０２ｍｍ×内径１８．９９１ｍｍ（先端部付近を除く）×高さ４．２０ｍｍの円筒状（室温（２０℃）、自然状態）をなすものであった。また、ヨークの表面粗さＲａ（内表面）は、１．９μｍであった。
【０２８０】
以上のようにして得られたヨークと永久磁石とを、前記実施例２と同様にして、熱カシメにより接合しようと試みたところ、冷却時において、永久磁石に、微小なひび割れを生じた。
【０２８１】
以上のようにして得られた永久磁石とヨークとの接合体を用いて、前記実施例２と同様にしてロータ（モータ用部品）を製造した。
【０２８２】
（比較例２）
前記実施例３と同様にして製造した磁石本体（ボンド磁石）の表面に、導電膜を形成することなく、直接、湿式めっき膜を形成した以外は、前記実施例３と同様にして永久磁石を製造した。
【０２８３】
このようにして得られた永久磁石は、外径１９．００３ｍｍ×内径１７．０２２ｍｍ×高さ４．０１ｍｍの円筒状（室温（２０℃）、自然状態）をなすものであった。
【０２８４】
また、快削鋼材（ＳＵＭ２１）で構成された略円筒状部材を用意し、これに切削加工を施すことにより、ヨークを得た。
【０２８５】
このようにして得られたヨークは、外径２０．５０９ｍｍ×内径１９．０２５ｍｍ（先端部付近を除く）×高さ４．２０ｍｍの円筒状（室温（２０℃）、自然状態）をなすものであった。また、ヨークの表面粗さＲａ（内表面）は、１．９μｍであった。
【０２８６】
以上のようにして得られたヨークと永久磁石とを、前記実施例３と同様にして、圧入により接合しようと試みたところ、湿式めっき膜の一部が削り取られ、磁石本体の一部が露出した状態になった。
【０２８７】
以上のようにして得られた永久磁石とヨークとの接合体を用いて、前記実施例３と同様にしてロータ（モータ用部品）を製造した。
【０２８８】
［ロータの評価およびモータの製造］
上記実施例２、３および比較例１、２で製造した各ロータについて、島津製作所社製動釣合試験機（ＶＣ　００３Ｔ形）を用いて回転アンバランス量の測定を実施した。そのときの回転数は３６００ｒｐｍとした。
回転アンバランス量の測定結果を表３に示す。
【０２８９】
【表３】

【０２９０】
表３から、本発明によるロータでは、回転アンバランス量が極めて小さいことがわかる。
【０２９１】
次に、前記各実施例および各比較例で製造したロータを用いて、図４に示すようなモータを製造した。
【０２９２】
このようにして得られた各モータについて、ステータのコイルへの通電操作（通電時間：３０秒間、最大回転数：７２００ｒｐｍ）を繰り返し行った。
【０２９３】
本発明のモータでは、駆動時の振動、騒音が比較的小さいものであったのに対し、比較例のモータでは、駆動時の振動、騒音が大きかった。
【０２９４】
また、比較例のモータでは、上記の通電操作の回数が約３００００回目に達する頃から振動、騒音（異音）がさらに激しいものとなった。
【０２９５】
上記の通電操作を５００００回行った後、各モータを分解した。分解した各モータからロータを取り出し、これらの各ロータについて、ＪＩＳ　Ｋ　５４０１に記載の方法に準拠して、２４時間暴露試験を実施した。
【０２９６】
その結果、比較例１、２のロータでは、永久磁石周辺に、赤錆等による変色がはっきりと認められた。これに対し、実施例２、３のロータでは、永久磁石の周辺には錆等による変色が認められなかった。
【０２９７】
【発明の効果】
本発明では、湿式めっき膜の形成に先立って、磁石本体の表面に、乾式めっき法により導電膜を形成しているので、湿式めっき膜の形成において磁石本体表面の導電性を均一にすることができる。
【０２９８】
これにより、本発明では、ピンホールの発生がなく、湿式めっき膜を均一かつ緻密に形成することができる。
【０２９９】
その結果、本発明では、湿式めっき膜の剥離が無く、機械的強度に優れ、十分な耐食性を有する永久磁石を実現することができる。
【０３００】
このような効果は、上記永久磁石を、モータまたはモータ用部品に適用したときに特に顕著に表れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の永久磁石の好適な実施形態を示す断面斜視図である。
【図２】イオンプレーティング装置の構成を示す模式図である。
【図３】本発明の永久磁石を適用したモータ用部品（ロータ）の好適な実施形態を示す断面側面図である。
【図４】図３に示すモータ用部品を有するモータの好適な実施形態を示す断面側面図である。
【符号の説明】
１……永久磁石　１１……磁石本体　１２……導電膜　１３……湿式めっき膜
２……イオンプレーティング装置　２１……真空容器　２２……真空ポンプ
２３……ガス導入ニードル弁　２４……抵抗加熱部　２５……ＤＣソース　２６……高周波発生コイル　２７……搭載基盤　２８……蒸発源　３……ロータ　３１……ハブ　３２……スリーブ　３２１……軸受け部　３２２……軸受け部　３２３……溝　３３……ヨーク　４……モータ　４１……シャフト　４２……ステータ　４２１……コア　４２２……コイル　４３……基部　４４……フランジ
４５……スラスト受け板

Claims (35)

1. 磁石本体の表面に、乾式めっき法により、主として導電物質で構成された導電膜を形成する工程と、
   前記導電膜の表面に、湿式めっき法により、湿式めっき膜を形成する工程とを有することを特徴とする永久磁石の製造方法。
2. 前記導電膜をイオンプレーティング法により形成する請求項１に記載の永久磁石の製造方法。
3. 前記導電膜は、電気伝導度が２［ｍ・Ω^−１・ｍｍ^−２］以上の材料で構成されたものである請求項１または２に記載の永久磁石の製造方法。
4. 前記導電膜は、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｖ、Ｃｒ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｍｎから選択される１種または２種以上を含むものである請求項１ないし３のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
5. 前記導電膜の平均厚さは、０．０１〜２．０μｍである請求項１ないし４のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
6. 前記湿式めっき膜を電解めっきにより形成する請求項１ないし５のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
7. 前記湿式めっき膜は、主として、Ｎｉで構成されたものである請求項１ないし６のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
8. 前記湿式めっき膜は、複数の層の積層体である請求項１ないし７のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
9. 前記湿式めっき膜の平均厚さは、１０．０〜４０．０μｍである請求項１ないし８のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
10. 前記導電膜の平均厚さをＤ_Ａ［μｍ］、前記湿式めっき膜の平均厚さをＤ_Ｂ［μｍ］としたとき、０．０００２５＜Ｄ_Ａ／Ｄ_Ｂ＜０．２０の関係を満足する請求項１ないし９のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
11. 前記磁石本体は、略円筒状をなすものである請求項１ないし１０のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
12. 前記磁石本体の外周側に形成された前記湿式めっき膜の厚さをＤ_ＢＯ［μｍ］、前記磁石本体の内周側に形成された前記湿式めっき膜の厚さをＤ_ＢＩ［μｍ］としたとき、０．５＜Ｄ_ＢＩ／Ｄ_ＢＯ＜１．１の関係を満足する請求項１１に記載の永久磁石の製造方法。
13. 前記磁石本体の空孔率は、７．０ｖｏｌ％以下である請求項１ないし１２のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
14. 前記磁石本体は、磁石粉末を結合樹脂で結合してなるボンド磁石である請求項１ないし１３のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
15. 前記磁石粉末は、希土類元素と、遷移金属と、ボロンとを含む組成のものである請求項１４に記載の永久磁石の製造方法。
16. 前記ボンド磁石における前記磁石粉末の含有率は、９１．０〜９９．０ｗｔ％である請求項１４または１５に記載の永久磁石の製造方法。
17. 前記磁石本体は、面取りされたものである請求項１ないし１６のいずれかに記載の永久磁石の製造方法。
18. 磁石本体と、
    乾式めっき法により、前記磁石本体の表面に形成された、主として導電物質で構成された導電膜と、
    湿式めっき法により、前記導電膜の表面に形成された湿式めっき膜とを有することを特徴とする永久磁石。
19. 前記導電膜は、電気伝導度が２［ｍ・Ω^−１・ｍｍ^−２］以上の材料で構成されたものである請求項１８に記載の永久磁石。
20. 前記導電膜は、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｖ、Ｃｒ、Ｂｅ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｍｎから選択される１種または２種以上を含むものである請求項１８または１９に記載の永久磁石。
21. 前記導電膜の平均厚さは、０．０１〜２．０μｍである請求項１８ないし２０のいずれかに記載の永久磁石。
22. 前記湿式めっき膜は、主として、Ｎｉで構成されたものである請求項１８ないし２１のいずれかに記載の永久磁石。
23. 前記湿式めっき膜は、複数の層の積層体である請求項１８ないし２２のいずれかに記載の永久磁石。
24. 前記湿式めっき膜の平均厚さは、１０．０〜４０．０μｍである請求項１８ないし２３のいずれかに記載の永久磁石。
25. 前記導電膜の平均厚さをＤ_Ａ［μｍ］、前記湿式めっき膜の平均厚さをＤ_Ｂ［μｍ］としたとき０．０００２５＜Ｄ_Ａ／Ｄ_Ｂ＜０．２０の関係を満足する請求項１８ないし２４のいずれかに記載の永久磁石。
26. 前記磁石本体は、略円筒状をなすものである請求項１８ないし２５のいずれかに記載の永久磁石。
27. 前記磁石本体の外周側に形成された前記湿式めっき膜の厚さをＤ_ＢＯ［μｍ］、前記磁石本体の内周側に形成された前記湿式めっき膜の厚さをＤ_ＢＩ［μｍ］としたとき、０．５＜Ｄ_ＢＩ／Ｄ_ＢＯ＜１．１の関係を満足する請求項２６に記載の永久磁石。
28. 前記磁石本体の空孔率は７．０ｖｏｌ％以下である請求項１８ないし２７のいずれかに記載の永久磁石。
29. 前記磁石本体は、磁石粉末を結合樹脂で結合してなるボンド磁石である請求項１８ないし２８のいずれかに記載の永久磁石。
30. 前記磁石粉末は、希土類元素と、遷移金属と、ボロンとを含む組成のものである請求項２９に記載の永久磁石。
31. 前記磁石本体における前記磁石粉末の含有率は９１．０〜９９．０ｗｔ％である請求項２９または３０に記載の永久磁石。
32. 前記磁石本体は、面取りされたものである請求項１８ないし３１のいずれかに記載の永久磁石。
33. 最大回転数が４０００ｒｐｍ以上のモータに用いられる請求項１８ないし３２のいずれかに記載の永久磁石。
34. ハードディスクドライブ用のモータに用いられる請求項１８ないし３３のいずれかに記載の永久磁石。
35. 請求項１ないし１７のいずれかに記載の方法により製造されたことを特徴とする永久磁石。

Images