JP2004014535A5 - - Google Patents

Claims (19)

1. 周辺部に基体を載置するサセプタと、このサセプタの中心部に設けられた整流部と、前記整流部に対して原料ガスを導出するガス導出手段とからなり、導出された前記原料ガスが前記整流部に沿って前記周辺部へ導かれるように構成された気相成長装置において、前記ガス導出手段のガス導出口に対向した前記整流部の対向面が実質的に、全面において前記周辺部側へ連続して曲面状又は直線状に傾斜した整流面からなり、この整流面が前記傾斜の状態で前記周辺部にまで延びていることを特徴とする気相成長装置。
2. 前記整流部の整流面が凸状曲面を成しており、この曲面が前記整流部の中心線に関して対称形状となっている、請求項１に記載の気相成長装置。
3. 前記整流部の整流面が直線状の面を成しており、この面が前記整流部の中心線に関して対称形状となっている、請求項１に記載の気相成長装置。
4. 前記整流部の整流面が凹状曲面を成しており、この曲面が前記整流部の中心線に関して対称形状となっている、請求項１に記載の気相成長装置。
5. 前記サセプタに対向して、前記ガス導出手段を有するフード状ガス案内手段が配置され、このガス案内手段が前記周辺部にまで延びていてこの周辺部にて前記サセプタとの間にガス流出口が形成されている、請求項１に記載の気相成長装置。
6. 前記サセプタと前記ガス案内手段との間の間隔が前記周辺部側へ漸次小さくなるように前記ガス案内手段が拡径されている、請求項５に記載の気相成長装置。
7. 前記導出ガスとして有機金属化合物ガスを用いる化学的気相成長に適用される、請求項１に記載の気相成長装置。
8. 前記サセプタが前記ガス案内手段に対して相対的に回転する、請求項５に記載の気相成長装置。
9. 前記サセプタの外側にヒーターが配置されている、請求項５に記載の気相成長装置。
10. サセプタの周辺部に基体を載置し、前記サセプタの中心部に設けられた整流部に対して原料ガスを導出して前記整流部に沿って前記周辺部へ導きながら、前記基体に気相成長を行うに際し、前記ガス導出手段のガス導出口に対向した対向面が実質的に、全面において前記周辺部側へ連続して曲面状又は直線状に傾斜した整流面からなり、この整流面が前記傾斜の状態で前記周辺部にまで延びている前記整流部に沿って、前記ガス導出口からの前記原料ガスを前記基体上に導く気相成長方法。
11. 前記整流部の整流面を凸状曲面にし、この曲面を前記整流部の中心線に関して対称形状とする、請求項１０に記載の気相成長方法。
12. 前記整流部の整流面を直線状の面にし、この面を前記整流部の中心線に関して対称形状とする、請求項１０に記載の気相成長方法。
13. 前記整流部の整流面を凹状曲面にし、この曲面を前記整流部の中心線に関して対称形状とする、請求項１０に記載の気相成長方法。
14. 前記サセプタに対向して、前記ガス導出手段を有するフード状ガス案内手段を配置し、このガス案内手段を前記周辺部にまで延ばしてこの周辺部にて前記サセプタとの間にガス流出口を形成する、請求項１０に記載の気相成長方法。
15. 前記サセプタと前記ガス案内手段との間の間隔が前記周辺部側へ漸次小さくなるように前記ガス案内手段を拡径する、請求項１４に記載の気相成長方法。
16. 前記導出ガスとして有機金属化合物ガスを用いる化学的気相成長に適用する、請求項１０に記載の気相成長方法。
17. 前記サセプタを前記ガス案内手段に対して相対的に回転させる、請求項１４に記載の気相成長方法。
18. 前記サセプタの外側にヒーターを配置する、請求項１４に記載の気相成長方法。
19. 周辺部に基体を載置しかつ中心部に整流部が設けられ、前記整流部に対して原料ガスを導出するガス導出手段から導出された前記原料ガスが、前記整流部に沿って前記周辺部へ導かれるように構成された基体保持用サセプタにおいて、前記ガス導出手段のガス導出口に対向した前記整流部の対向面が実質的に、全面において前記周辺部側へ連続して曲面状又は直線状に傾斜した整流面からなり、この整流面が前記傾斜の状態で前記周辺部にまで延びていることを特徴とする基体保持用サセプタ。