JP2004006290A5 - 導電性部材の製造方法及び導電性部材 - Google Patents
導電性部材の製造方法及び導電性部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004006290A5 JP2004006290A5 JP2003094777A JP2003094777A JP2004006290A5 JP 2004006290 A5 JP2004006290 A5 JP 2004006290A5 JP 2003094777 A JP2003094777 A JP 2003094777A JP 2003094777 A JP2003094777 A JP 2003094777A JP 2004006290 A5 JP2004006290 A5 JP 2004006290A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive member
- colloid
- manufacturing
- porous surface
- conductive film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 基材表面に導電膜を具備している導電性部材の製造方法であって、(i)少なくとも擬ベーマイト構造の多孔性表面を有している基材の、該多孔性表面にコロイド溶液を適用してコロイドを含む層を形成する工程と、(ii)該コロイドを含む層を乾燥して導電膜とする工程、とを有することを特徴とする導電性部材の製造方法。
【請求項2】 前記コロイドを含む層を、前記多孔性表面に位置選択的に形成する工程を有する請求項1に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項3】 前記コロイドが金属コロイドであって、且つ、該金属コロイドの平均粒径をφ1aveとし、前記多孔性表面の平均細孔径をφ2aveとしたときに、下記の条件を満たしている請求項1又は2に記載の導電性部材の製造方法。
φ1ave≧φ2ave
【請求項4】 請求項1乃至3の何れか1項に記載の方法で製造されたことを特徴とする導電性部材。
【請求項5】 基材の多孔性表面に導電膜を具備している導電性部材であって、上記導電膜が、コロイド粒子を含む湿式塗布膜の乾燥膜であり、且つ、有機半導体との接触部位を有することを特徴とする導電性部材。
【請求項1】 基材表面に導電膜を具備している導電性部材の製造方法であって、(i)少なくとも擬ベーマイト構造の多孔性表面を有している基材の、該多孔性表面にコロイド溶液を適用してコロイドを含む層を形成する工程と、(ii)該コロイドを含む層を乾燥して導電膜とする工程、とを有することを特徴とする導電性部材の製造方法。
【請求項2】 前記コロイドを含む層を、前記多孔性表面に位置選択的に形成する工程を有する請求項1に記載の導電性部材の製造方法。
【請求項3】 前記コロイドが金属コロイドであって、且つ、該金属コロイドの平均粒径をφ1aveとし、前記多孔性表面の平均細孔径をφ2aveとしたときに、下記の条件を満たしている請求項1又は2に記載の導電性部材の製造方法。
φ1ave≧φ2ave
【請求項4】 請求項1乃至3の何れか1項に記載の方法で製造されたことを特徴とする導電性部材。
【請求項5】 基材の多孔性表面に導電膜を具備している導電性部材であって、上記導電膜が、コロイド粒子を含む湿式塗布膜の乾燥膜であり、且つ、有機半導体との接触部位を有することを特徴とする導電性部材。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明は、基材表面に導電膜を具備している導電性部材の製造方法であって、(i)少なくとも擬ベーマイト構造の多孔性表面を有している基材(以下単に「基材」という)の、該多孔性表面にコロイド溶液を適用してコロイドを含む層を形成する工程と、(ii)該コロイドを含む層を乾燥して導電膜とする工程、とを有することを特徴とする導電性部材の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
上記目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明は、基材表面に導電膜を具備している導電性部材の製造方法であって、(i)少なくとも擬ベーマイト構造の多孔性表面を有している基材(以下単に「基材」という)の、該多孔性表面にコロイド溶液を適用してコロイドを含む層を形成する工程と、(ii)該コロイドを含む層を乾燥して導電膜とする工程、とを有することを特徴とする導電性部材の製造方法を提供する。
又、本発明は、前記本発明の方法で製造されたことを特徴とする導電性部材;基材の多孔性表面に導電膜を具備している導電性部材であって、上記導電膜が、コロイド粒子を含む湿式塗布膜の乾燥膜であり、且つ、有機半導体との接触部位を有することを特徴とする導電性部材を提供する。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003094777A JP4250444B2 (ja) | 2002-04-01 | 2003-03-31 | 導電性部材の製造方法及び導電性部材 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002098299 | 2002-04-01 | ||
JP2002098299 | 2002-04-01 | ||
JP2003094777A JP4250444B2 (ja) | 2002-04-01 | 2003-03-31 | 導電性部材の製造方法及び導電性部材 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004006290A JP2004006290A (ja) | 2004-01-08 |
JP2004006290A6 JP2004006290A6 (ja) | 2004-10-21 |
JP2004006290A5 true JP2004006290A5 (ja) | 2006-05-18 |
JP4250444B2 JP4250444B2 (ja) | 2009-04-08 |
Family
ID=30446499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003094777A Expired - Fee Related JP4250444B2 (ja) | 2002-04-01 | 2003-03-31 | 導電性部材の製造方法及び導電性部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4250444B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8263983B2 (en) | 2003-10-28 | 2012-09-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Wiring substrate and semiconductor device |
JP4916653B2 (ja) * | 2003-10-28 | 2012-04-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 配線基板の作製方法及び半導体装置の作製方法 |
US7333257B2 (en) * | 2003-11-19 | 2008-02-19 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Device for contacting patterned electrodes on porous substrates |
JP4100351B2 (ja) | 2004-02-09 | 2008-06-11 | セイコーエプソン株式会社 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JP4566575B2 (ja) * | 2004-02-13 | 2010-10-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置の作製方法 |
JP4665545B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2011-04-06 | 凸版印刷株式会社 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JP2007311677A (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機薄膜トランジスタの製造方法、有機薄膜トランジスタ |
DE102006047928A1 (de) * | 2006-10-10 | 2008-04-17 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung mindestens einer porösen Schicht |
JP2008258252A (ja) * | 2007-04-02 | 2008-10-23 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機薄膜トランジスタ、有機薄膜トランジスタの製造方法 |
JP2009001615A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | インク受容膜形成用塗工液、インク受容膜、積層基板および配線材料 |
CN103370144B (zh) * | 2011-04-06 | 2016-03-30 | 本田技研工业株式会社 | 滑动部件和滑动部件的制造方法 |
JP7229707B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2023-02-28 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63246236A (ja) * | 1987-04-01 | 1988-10-13 | カネボウ株式会社 | 導電性多孔質体及びその製造方法 |
JP2000021415A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 導電性多孔質体とそれを用いた金属多孔質体および電池用の極板 |
JP4497491B2 (ja) * | 1999-12-07 | 2010-07-07 | バンドー化学株式会社 | 銀コロイド水溶液、銀コロイド水溶液の製造方法、導電性被膜及び導電性被膜の形成方法 |
JP2001234356A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-31 | Seiko Epson Corp | 膜の製造方法及びこれにより得られる膜 |
JP3742872B2 (ja) * | 2001-07-05 | 2006-02-08 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 光固定された微粒子を触媒とする無電解メッキ法 |
JP4415526B2 (ja) * | 2002-02-28 | 2010-02-17 | 凸版印刷株式会社 | 導電膜および導電膜の製造方法 |
-
2003
- 2003-03-31 JP JP2003094777A patent/JP4250444B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004006290A5 (ja) | 導電性部材の製造方法及び導電性部材 | |
JP2007516919A5 (ja) | ||
WO2002086194A3 (de) | Funktionelle keramische schichten, auf basis einer, mit kristallinen nanoteilchen hergestellten trägerschicht | |
US9786405B2 (en) | Forming patterned graphene layers | |
WO2008132397A3 (fr) | Procede de fabrication d'un masque a ouvertures submillimetriques pour la realisation d'une grille submillimetrique, grille submillimetrique | |
JP2008514026A5 (ja) | ||
JP2008517743A5 (ja) | ||
CA2985254A1 (en) | Integration and bonding of micro-devices into system substrate | |
JP2004530027A5 (ja) | ||
JP2006187857A5 (ja) | ||
JP2011029170A5 (ja) | ||
EP1150346A3 (en) | A process for preparing insulating material having low dielectric constant | |
EP1246011A3 (en) | Method of producing a pattern and photomask used in the same | |
JP2010519780A5 (ja) | ||
JP2013508254A5 (ja) | ||
JP2004127737A5 (ja) | ||
US20220363542A1 (en) | Metal-cnt composite, production method and materials therefor | |
JP2005536602A5 (ja) | ||
TW200717622A (en) | Nanodot memory and fabrication method thereof | |
WO2011114968A1 (ja) | 金型製造方法およびその方法により形成された金型 | |
JP2005513735A5 (ja) | ||
JP3951181B2 (ja) | コア・シェル構造体の調製方法 | |
JP2000182628A (ja) | 薄膜固体電解質素子用多孔質電極の製造方法 | |
JP2004531027A5 (ja) | ||
JP4428035B2 (ja) | 無機多孔性薄膜、それを用いた積層体、及び無機多孔性薄膜の製造方法 |