JP2004005972A - 直列ダイオードを備える磁気ランダムアクセスメモリ(mram)のためのトリプルサンプルセンシング - Google Patents
直列ダイオードを備える磁気ランダムアクセスメモリ(mram)のためのトリプルサンプルセンシング Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004005972A JP2004005972A JP2003137360A JP2003137360A JP2004005972A JP 2004005972 A JP2004005972 A JP 2004005972A JP 2003137360 A JP2003137360 A JP 2003137360A JP 2003137360 A JP2003137360 A JP 2003137360A JP 2004005972 A JP2004005972 A JP 2004005972A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- memory cell
- array
- selected memory
- resistance state
- reference current
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/14—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
- G11C11/15—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements using multiple magnetic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1673—Reading or sensing circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
- G11C2013/0057—Read done in two steps, e.g. wherein the cell is read twice and one of the two read values serving as a reference value
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C27/00—Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values
- G11C27/02—Sample-and-hold arrangements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】データ記憶デバイスは、アレイ(165)をなす抵抗性メモリセル(170,175)を備える。抵抗性メモリセル(170,175)は、磁気トンネル接合と薄膜ダイオード(260)を含むことができる。このデバイスは、アレイ(165)に電気的に接続された回路であって、選択されたメモリセル(175)を流れる信号電流をモニタすることができる回路を含むことができる。信号電流がモニタされると、この回路は、選択されたメモリセル(175)が第1の抵抗状態と第2の抵抗状態のいずれにあるかを判定するために、信号電流と平均基準電流を比較することができる。また、データ記憶デバイスを動作させるための方法も開示される。
【選択図】図3
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、データ記憶デバイスに関し、特に磁気ランダムアクセスメモリに関する。(本特許出願は、2002年5月22日に出願されたFred Perner他による「EQUI−POTENTIAL SENSING MAGNETIC RANDOM ACCESS MEMORY (MRAM) WITH SERIES DIODES」と題する米国特許出願第10/151,913号、および同じく2002年5月22日に出願されたFred Perner他による「MEMORY CELL ISOLATION」と題する米国特許出願第10/151,914号に関連する)
【0002】
【従来の技術】
関連技術として、図1に示されるような、アレイ10状に配置される不揮発性磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)セルが開示されている。アレイ10は、アレイ10の行に沿って延在する複数のワード線20と、アレイ10の列に沿って延在する複数のビット線30とを含む。ワード線20およびビット線30は、互いに十字に交差する。それらの線が交差する場所では、ワード線20とビット線30との間に、それぞれが磁気トンネル接合(MTJ)50およびシリコン接合ダイオード60(図2に示される)を含むMRAMメモリセル40が含まれる。
【0003】
図2は関連技術において開示されるようなMRAMメモリセル40の斜視図である。図2は、ワード線20(図示せず)と接触しているn型シリコン層70を示す。n型シリコン層70の上にはp型シリコン層80があり、n型シリコン層70とともにシリコン接合ダイオード60を構成する。このシリコン接合ダイオード60に隣接して、タングステンスタッド層(tungsten stud layer)90およびテンプレート層(template layer)100が形成される。テンプレート層100上には、強磁性層(ferromagnetic layer)110、反強磁性層(anti−ferromagnetic layer)120、固定された強磁性層(fixed ferromagnetic layer)130、トンネル障壁層(tunneling barrier layer)140、軟強磁性層(soft ferromagnetic layer)150、及び、ビット線30(図1に示される)との電気的接触をもたらすコンタクト層(contact layer)160とが形成される。
【0004】
動作時に、MRAMメモリセル40では、データビットの書込みおよび読出しが行われる。最初に、MRAMメモリセル40は、平行状態としても知られる第1の抵抗状態にある場合があり、その状態では、軟強磁性層150は、固定された強磁性層130と同じ磁化の方向である第1の磁化の方向を有する。それとは異なり、MRAMメモリセル40は、反平行状態としても知られる第2の抵抗状態にある場合があり、その状態では、軟強磁性層150が、固定された強磁性層130の磁化の方向とは異なる第2の磁化の方向を有する。
【0005】
アレイ10内のMRAMメモリセル40に書込みを行うときは、MRAMメモリセル40に隣接するワード線20およびビット線30の両方に電位が印加される。これらの電位は電流を生成し、その電流は電位が印加されているワード線20およびビット線30を通って流れる。これらの電流はさらに磁界を生成し、それらの磁界は、選択されたMRAMメモリセル40に結合され、合成された磁界の大きさは、軟強磁性層150の磁化の方向を変えるのに十分な大きさである。それゆえ、書込みが行われるとき、結合された磁界がセル40を第1の抵抗状態から第2の抵抗状態に変化させる場合には、MRAMメモリセル40において抵抗の増加が測定できる場合がある。一方、MRAMメモリセル40が、結合された磁界によって、第2の抵抗状態から第1の抵抗状態に変化する場合には、セル40において抵抗の減少を測定することができるであろう。
【0006】
言い換えると、MRAMメモリセル40の抵抗は、固定された強磁性層130と軟強磁性層150との相対的な磁化の方向の関数である。磁化の方向が平行であるとき、その抵抗は磁化の方向が反平行であるときよりも明確に小さい。
【0007】
読出しステップ中、MRAMメモリセル40の抵抗は、MRAMメモリセル40内にある量の電流を流すことにより検出される。この場合、セル40の抵抗をモニタして、MRAMメモリセル40が高抵抗状態にあるか、低抵抗状態にあるかを読み取ることにより、MRAMメモリセル40が平行状態にあるか、反平行状態にあるかを判定することができる。言い換えると、MRAMメモリセル40が「0」のデータビットを含むか、「1」のデータビットを含むかを判定することができる。
【0008】
図1および図2に示したデバイス(素子または装置。以下同じ)の欠点は、通常はアレイ10内に多数のダイオード60とMRAMメモリセル40が含まれ、および、ダイオード60とMRAMメモリセル40が厳密な抵抗値の分布を持たない場合がある、という事実である。それゆえ、あるMRAMメモリセル40において高抵抗状態の場合の抵抗値であるものが、別のMRAMメモリセル40では低抵抗状態の場合の抵抗値になる場合がある。厳密な抵抗値の分布を持たないため、MRAMメモリセル40内のデータビットが誤って読み出される場合がある。
【特許文献1】
米国特許第6,188,615B1明細書
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、書き込まれたデータビットを正確に読み取ることができるデータ記憶デバイスと、それを用いるための方法とを提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明によるデータ記憶デバイスは、抵抗性メモリセルのアレイと、そのアレイ内の複数のメモリセルに電気的に直列に接続される1組のダイオードとを含む。複数のワード線がアレイの行に沿って延在し、複数のビット線がアレイの列に沿って延在する。アレイ内の第1の選択されたメモリセルは、複数のワード線内の第1のワード線と、複数のビット線内の第1のビット線との間に配置される。回路がアレイに電気的に接続され、第1の選択されたメモリセル内に流れる信号電流をモニタし、その信号電流と平均基準電流とを比較して、第1の選択されたメモリセルが第1の抵抗状態にあるか、第2の抵抗状態にあるかを判定することができる。
【0011】
本発明による方法では、抵抗性メモリセルのアレイを含むデータ記憶デバイス内の第1の選択されたメモリセルの抵抗状態を読み取る。この方法は、アレイ内の複数のメモリセルに電気的に直列に接続される1組のダイオードを提供するステップと、アレイ内の第1の選択されたメモリセル内を流れる信号電流を読み取るステップと、その信号電流を平均基準電流と比較するステップと、信号電流を基準電流と比較することにより、第1の選択されたメモリセルが第1の抵抗状態にあるか、第2の抵抗状態にあるかを判定するステップとを含む。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、データ記憶デバイス及び方法を、例示的な実施形態を用いて、添付の図面を参照しつつ説明する。なお、同じ番号は同じまたは同等の要素を示す。
【0013】
図3は、抵抗性メモリセル170のアレイ165を示す。アレイ165は1つの選択されたワード線180と、1つの選択されたビット線190と、選択されたワード線180と選択されたビット線190との交点に配置される1つの選択された抵抗性メモリセル175とを含む。またアレイ165は、多数の選択されないワード線200と、多数の選択されないビット線210と、ワード線180、200とビット線190、210との交点に配置される複数の選択されない抵抗性メモリセル170とを含む。
【0014】
また図3は、アレイ165に電気的に接続される回路も示す。図示されている回路は、選択されたワード線180に電気的に接続される電圧源220を含む。また、図示されている回路は、選択されたビット線190に電気的に接続されるセンス増幅器230と、センス増幅器230に電気的に接続されるトリプルサンプル(TS)カウンタ(triple sample counter)240とを含む。トリプルサンプルカウンタ240は出力信号250を出力することができる。
【0015】
図4は、図3に示したアレイ165において用いられる場合がある1つの実現可能な抵抗性メモリセル170の構成を示す。ダイオード260が図4の底部に示されており、MRAMメモリセル265がダイオード260に隣接して示される。MRAMメモリセル265とダイオード260はいずれも、ワード線180、200とビット線190、210との間に配置することができる。さらにダイオード260とMRAMメモリセル265を互いに電気的に直列に接続することができる。
【0016】
ダイオード260は当該技術分野において知られている任意の材料から形成される薄膜ダイオードとすることができ、当該技術分野において知られている任意の幾何学的形状をとることができる。MRAMメモリセル265は、図4に示す、固定された強磁性層130と、トンネル接合270と、軟強磁性層150とを含むことができる。さらに、MRAMメモリセル265は、図3に示した層のうちの任意の層と、MRAMメモリセル265とともに、あるいはその一部として用いることが当業者に知られている任意の追加的な層とを含むことができる。
【0017】
図5は、データ記憶デバイスの一形態を示しており、2つの抵抗性メモリセル170が互いに積重され、抵抗性メモリセル170はいずれもMRAMメモリセル265である。図5の下側に示されるMRAMメモリセル265は、下側のビット線210とワード線200によって囲まれている。ワード線200上には、ダイオード260を備えた第2のMRAMメモリセル265が配置される。第2のMRAMメモリセル265は上側のビット線210によって覆われている。図5の下側MRAMメモリセル265を、図3に示したアレイ165の第1の層内に配置することができ、第2のMRAMメモリセル265を、第1の層上に積重される第2の層内に配置することができる。図5に示すようにメモリセルを積重することにより、データ記憶デバイスのデータ記憶密度を増加させることができる。MRAMメモリセル265が図5に示されているが、他のタイプの抵抗性メモリセル170をデータ記憶デバイスに用いることもできる。また、3つ以上のセル170を積重することもできる。
【0018】
図3に示した回路は、Perner他に付与された米国特許第6,188,615B1(‘615特許)に、追加の構成要素とともに記載されている。‘615特許の内容全体を参照により本明細書に組み込む。図3に示したデータ記憶デバイスに特に関連する回路構成要素は、‘615特許に開示された任意の、または全ての回路構成要素がアレイ165とともに用いられる場合があるという了解の下で、本明細書において説明されるであろう。
【0019】
動作時に、図3に示されるデータ記憶デバイスは、電圧源220を用いて、選択されたワード線180に電圧を印加する(あるいは選択されたワード線を接地する)ことができる。センス増幅器230を用いて、選択されたビット線190にさらに別の電圧を印加するか、または選択されたビット線を接地することができる。図3において下側のワード線および最も左側のビット線が選択されるが、任意のビット線およびワード線を選択することができ、抵抗性メモリセル170の任意のメモリセルが、選択される抵抗性メモリセル175になることができる。さらに、図3には9個の抵抗性メモリセル170のみが示されているが、データ記憶デバイスにおいて用いられることができる抵抗性メモリセル170の数には制限はない。
【0020】
選択された抵抗性メモリセル175は、それがMRAMメモリセル265である場合には、回路から、MRAMメモリセル265に接続される選択されたワード線180および選択されたビット線190内に電流を流すことにより、その回路を用いて書込みを行うことができる。選択されたワード線180および選択されたビット線190内の電流によってそれぞれ生成された磁界は、軟強磁性層150内に結合される。結合された磁界の和が閾値よりも大きくなると、軟強磁性層150内の磁界の方向を、第1の磁化の方向から第2の磁化の方向に変更することができる。この変更によって、セルの抵抗も第1の抵抗状態から第2の抵抗状態に変化する。言い換えると、その回路は、選択されたワード線180および選択されたビット線190対して、選択された抵抗性メモリセル175を第1の抵抗状態から第2の抵抗状態に変化させるだけの十分な電流あるいはエネルギーを加えることができる。
【0021】
また、全ての抵抗性メモリセル170、175に同時に書込みを行いたい場合には、外部磁界を用いることができる。たとえば、アレイ165の初期設定中に、強い外部磁界を用いて、軟強磁性層の磁化の向きを設定することができる。
【0022】
データ記憶デバイスの抵抗性メモリセル170に電気的に接続される回路は、選択された抵抗性メモリセル175内に流れる信号電流の値をモニタすることができる。この場合、選択された抵抗性メモリセル175が第1の抵抗状態にあるか、第2の抵抗状態にあるかを判定するために、その信号電流値を平均基準電流値と比較することができる。これは、トリプルサンプルカウンタ240およびトリプルサンプルセンシング法を用いることにより達成することができる。
【0023】
トリプルサンプルセンシング法によれば、信号電流値を得た後に、その回路は、選択された抵抗性メモリセル175を、最小の抵抗状態あるいは取り得る最も大きな抵抗状態のような既知の第1の抵抗状態にすることにより、平均基準電流の値を得る。これは、軟強磁性層150の磁化の方向を、固定された強磁性層130の磁化の方向に概ね平行かまたは反平行になるように変更することにより行うことができる。その後、回路は、選択された抵抗性メモリセル175が既知の第1の抵抗状態にある間に、その選択された抵抗性メモリセル175に流れる第1の基準電流の値を記録する。
【0024】
その後、回路は、選択された抵抗性メモリセル175を、第1の抵抗状態の抵抗と可能な限り対照的な第2の既知の抵抗状態にする。たとえば、第1の抵抗状態が最小の抵抗を有するように選択される場合には、第2の抵抗状態は取り得る最も大きな抵抗を与えるように選択することができる。回路は、選択された抵抗性メモリセル175が第2の抵抗状態にある間に、その選択された抵抗性メモリセル175に流れる第2の基準電流の値を読み取ることができる。
【0025】
この時点で、回路は、第1の基準電流の値と第2の基準電流の値とを平均して、平均基準電流値を得る。その後、初めにモニタされた信号電流値が平均基準電流値と比較され、選択された抵抗性メモリセル175が「0」のデータビットを格納したか、「1」のデータビットを格納したかを判定する。
【0026】
上述した種々の電流のセンシング(検出または読み取り)は、センス増幅器230を用いて実行することができ、トリプルサンプルカウンタ240を用いて記録することができ、出力信号250として出力することができる。いくつかの場合において、回路がより高次のデータビットの特有の抵抗を区別できる限り、「2」や「3」のようなより高次のデータビットをデータ記憶デバイスに格納することもできる。
【0027】
一旦、平均基準電流値が決定され、当初にモニタされた信号電流値と比較されると、回路は、選択された抵抗性メモリセル175を、当初にモニタされた信号電流値を出力した状態に戻すことができる。これは実際には、選択された抵抗性メモリセル175を、トリプルサンプルセンシング法を用いて平均基準電流値が決定される前の状態に戻す。
【0028】
データ記憶デバイスの別の実施形態では、回路は、外部の供給源から平均基準電流値を得ることができる。その後、平均基準電流値を信号電流値と比較して、選択された抵抗性メモリセル175が第1の抵抗状態にあるか、第2の抵抗状態にあるかを判定することができる。
【0029】
さらに別の実施形態によれば、回路は、選択された抵抗性メモリセル175以外の抵抗性メモリセル170をモニタすることにより平均基準電流値を得ることができる。より具体的には、回路は、図3に示されるアレイ165内の1つあるいは複数の他の抵抗性メモリセル170に対してトリプルサンプルセンシング法の一部を実行することにより平均基準電流値を決定することができ、選択された抵抗性メモリセル175内を流れる電流の値と比較することができる平均基準電流値を得ることができる場合がある。
【0030】
図4および図5に示されるダイオード260は、アレイ165内の選択されない抵抗性メモリセル170に流れる望ましくない電流を低減するか、または、その電流が流れるのを防ぐことができる。望ましくない電流を低減するか、あるいは防ぐ理由は、図3の等価回路要素185を調べることにより理解することができる。これらの要素は、抵抗性メモリセル170とそれに直列に接続されるダイオード260とを表しており、図示のように従来の回路構成要素で実施することができ、または、同じもしくは等価な機能を実行するように構成された任意のタイプの回路構成要素で実施することができる。
【0031】
あるデータ記憶デバイスにおいて、電圧源220が選択されたワード線180にある電圧を印加するとき、電流が、電圧源220から低抵抗センス経路262を通ってセンス増幅器230および回路の残りの部分に流れる。しかしながら、選択されたビット線190に電気的に接続される選択されない抵抗性メモリセル170を通って流れようとする望ましくない電流270は、図3の選択された抵抗性メモリセル175の上に示されている抵抗性メモリセル170内のダイオード260によって実質的に流れるのが阻止される。それゆえ、そのデータ記憶デバイス内の望ましくない電流270はダイオード260を用いることにより低減される。
【0032】
図3に示されるデータ記憶デバイスの別の利点は、直列に接続されたダイオード260によって、選択されないメモリセル170の実効的なインピーダンスが増加することである。高いインピーダンスによって、センス増幅器230によって読み取られる電流の減衰が低減され、センサノイズが低減される。両方の効果を組み合わせることにより、直列ダイオード260を備えるMRAM回路では信号対雑音比が大きくなる。
【0033】
直列ダイオードのさらに別の効果あるいは利点は、書込み電流の均一性が改善されることである。これは、書込み動作中にMRAMアレイ内の選択されない経路の抵抗が高くなることによって達成される。
【0034】
図6A乃至図6Bは、ダイオード260を備える抵抗性メモリセル170を含むデータ記憶デバイスを動作させるための方法のステップを含む流れ図を示す。これらの方法は、上記のトリプルサンプルセンシング法を含み、直列ダイオード260を備えるMRAMメモリセル265とともに用ることができる。
【0035】
図6A乃至図6Bに示される最初のステップ280において、図3に示されるデバイスのようなデータ記憶デバイス内に1組のダイオード260が設けられる。ダイオード260は、アレイ165内の複数の抵抗性メモリセル170に電気的に直列に接続することができる。MRAMメモリセル265とすることができる各抵抗性メモリセル170に、1つのダイオード260を接続することができる。しかしながら、全ての抵抗性メモリセル170をダイオード260に接続しなければならないわけではない。
【0036】
ステップ290において、アレイ165内の第1の選択された抵抗性メモリセル175内に信号電流が流れると、その信号電流が読み取られる。その後、ステップ300において、第1の選択された抵抗性メモリセル175が「0」のデータビットを含むか、「1」のデータビットを含むかを判定するために、どのような基準電流値を用いるかに関して判定を行うことができる。具体的には、外部供給源から基準電流値を得るか、選択されない抵抗性メモリセル170から基準電流値を得るか、または選択された抵抗性メモリセル175から基準電流値を得るかの選択を行うことができる。
【0037】
基準電流値を得るために外部供給源が用いられる場合には、ステップ310において、最適な外部供給源から基準電流を得る。基準電流値を決定するために、選択されない抵抗性メモリセル170が用いられることになる場合には、ステップ320において、基準電流値を得るために、選択された抵抗性メモリセル175以外の1つあるいは複数の抵抗性メモリセル170がモニタされる。
【0038】
平均基準電流値を得るために、選択された抵抗性メモリセル175が用いられることになる場合には、ステップ330において、選択された抵抗性メモリセル175が第1の抵抗状態にされる。言い換えると、第1の選択された抵抗性メモリセル175が、取り得る最も高い抵抗状態(たとえば反平行)にされることになるか、取り得る最も低い抵抗状態(たとえば平行)にされるであろう。
【0039】
その後、ステップ340において、第1の選択された抵抗性メモリセル175が第1の抵抗状態にある間に第1の基準電流が読み取られる。その後、ステップ350において、選択された抵抗性メモリセル175が第2の抵抗状態にされ、その抵抗が第1の抵抗状態の抵抗と可能な限り対照的にされる。言い換えると、第1の抵抗状態が最も高い抵抗状態にされるように選択される場合には、第2の抵抗状態は取り得る最も低い抵抗状態にするのがよい。
【0040】
その後、ステップ360において、選択された抵抗性メモリセル175が第2の抵抗状態にある間に第2の基準電流が読み取られる。その後、ステップ370において、平均基準電流値を生成するために、第1の基準電流と第2の基準電流との平均値が得られる。その時点で、ステップ380において、第1の選択された抵抗性メモリセルにおいて当初に検出された信号電流が、第1の選択された抵抗性メモリセル175、選択されない抵抗性メモリセル170または外部供給源のいずれかを介して上記のように見いだされた基準電流と比較される。
【0041】
図6Aに示される流れ図の続きである図6Bでは、ステップ390において、第1の選択された抵抗性メモリセル175が第1の抵抗状態にあるか、第2の抵抗状態にあるかを決定する。これは、第1の選択された抵抗性メモリセル175において最初に読み取られた信号電流の値と、基準電流または平均基準電流の値とを比較することにより行われる。基準電流値あるいは平均基準電流値が読み取られた電流値よりも高い場合には、第1の選択された抵抗性メモリセル175は「1」のデータビットを含むものとすることができる。一方、読み取られた電流値が基準電流値よりも高い場合には、第1の選択された抵抗性メモリセル175は「0」のデータビットを含むものとすることができる。あるいは、これらの逆とすることもできる。
【0042】
一旦データビットの値が判定された場合は、ステップ400において、第1の選択された抵抗性メモリセル175が、第1の基準電流および第2の基準電流が読み取られる前の状態に戻される。基準電流値を決定するために、外部供給源310または選択されないメモリセル320が用いられた場合には、ステップ400は適用しないようにすることができる。
【0043】
最後に、ステップ410において、第1の選択された抵抗性メモリセル175が配置される層とは異なる、アレイ165の層内に配置される第2の選択された抵抗性メモリセル175内を流れる信号電流が読み取られる。このオプションのステップは、図5に示されるような構成を含むデータ記憶デバイスに用いることができる。
【0044】
上記の詳細な説明は、データ記憶デバイスの例示的な実施形態と、データ記憶デバイスを用いるための方法とを解説するためになされた。当業者には、特許請求の範囲およびその等価物から逸脱しない変更形態が明らかであろうから、以上の説明は不必要な制限を課すものではない。
【0045】
以下においては、本発明の種々の構成要件の組み合わせからなる例示的な実施態様を示す。
1.データ記憶デバイスであって、
行および列を有する抵抗性メモリセル(170、175)のアレイ(165)と、
前記アレイ内の複数のメモリセル(265)に電気的に直列に接続される1組のダイオード(260)と、
前記アレイ(165)の前記行に沿って延在する複数のワード線(180、200)と、
前記アレイ(165)の前記列に沿って延在する複数のビット線(190、210)と、
前記アレイ(165)内の第1の選択されたメモリセル(175)であって、該第1の選択されたメモリセル(175)は前記複数のワード線(180、200)内の第1のワード線(180)と前記複数のビット線(190、210)内の第1のビット線(190)との間に配置される、第1の選択されたメモリセルと、
前記アレイ(165)に電気的に接続される回路であって、前記第1の選択されたメモリセル(175)に流れる信号電流をモニタすることができ、前記第1の選択されたメモリセル(175)が第1の抵抗状態にあるか、第2の抵抗状態にあるかを判定するために前記信号電流を平均基準電流と比較することができる、回路
とを含む、データ記憶デバイス。
2.前記抵抗性メモリセル(170、175)の前記アレイ(165)は磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)セル(265)を含む、上項1に記載のデバイス。
3.前記1組のダイオード(260)は薄膜ダイオードから構成される、上項1に記載のデバイス。
4.前記アレイ(165)内に第2の選択されたメモリセル(265)をさらに含み、前記第1の選択されたメモリセル(175)は前記アレイ(165)の第1の層内にあり、前記第2の選択されたメモリセル(265)は前記アレイ(165)の第2の層内にある、上項1に記載のデバイス。
5.前記回路は、前記第1の選択されたメモリセル(175)を前記第1の抵抗状態にし、前記第1の選択されたメモリセル(175)が前記第1の抵抗状態にある間に第1の基準電流を読み取り、また、前記第1の選択されたメモリセル(175)を前記第2の抵抗状態にし、前記第1の選択されたメモリセル(175)が前記第2の抵抗状態にある間に第2の基準電流を読み取り、前記平均基準電流を得るために前記第1の基準電流と前記第2の基準電流とを平均することにより、前記平均基準電流を得ることができることからなる、上項1に記載のデバイス。
6.抵抗性メモリセル(170、175)のアレイ(165)と、
前記アレイ(165)の行に沿って延在する複数のワード線(180、200)と、
前記アレイ(165)の列に沿って延在する複数のビット線(190、210)と、
前記アレイ(165)内の第1の選択されたメモリセル(175)であって、前記第1の選択されたメモリセル(175)は前記複数のワード線(180、200)内の第1のワード線(180)と前記複数のビット線(190、210)内の第1のビット線(190)との間に配置される、第1の選択されたメモリセルと、
前記アレイ(165)に電気的に接続される回路
とを含むデータ記憶デバイスにおいて、前記第1の選択されたメモリセル(175)の抵抗状態を読み取る方法であって、
前記アレイ(165)内の複数のメモリセル(170、175)に電気的に直列に接続される1組のダイオード(260)を設けるステップと、
前記アレイ(165)内の前記第1の選択されたメモリセル(175)に流れる信号電流を読み取るステップと、
前記信号電流を平均基準電流と比較するステップと、
前記信号電流と前記基準電流とを比較することにより、前記第1の選択されたメモリセル(175)が第1の抵抗状態にあるか、第2の抵抗状態にあるかを判定するステップ
とを含む、方法。
7.前記設けるステップは、1組の薄膜ダイオード(260)を設けるステップを含む、上項6に記載の方法。
8.前記読み取るステップは、磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)セル(265)を流れる信号電流を読み取るステップを含む、上項6に記載の方法。
9.前記読み取るステップは、トンネル接合(270)を含むMRAMメモリセル(265)を流れる信号電流を読み取るステップを含む、上項6に記載の方法。
10.前記第1の選択されたメモリセル(175)を前記第1の抵抗状態にするステップと、
前記第1の選択されたメモリセル(175)が前記第1の抵抗状態にある間に第1の基準電流を読み取るステップと、
前記第1の選択されたメモリセル(175)を前記第2の抵抗状態にするステップと、
前記第1の選択されたメモリセル(175)が前記第2の抵抗状態にある間に第2の基準電流を読み取るステップと、
前記平均基準電流の値を得るために、前記第1の基準電流と前記第2の基準電流とを平均するステップ
とをさらに含む、上項6に記載の方法。
【0046】
本発明のデータ記憶デバイスは、アレイ(165)をなす抵抗性メモリセル(170,175)を備える。抵抗性メモリセル(170,175)は、磁気トンネル接合と薄膜ダイオード(260)を含むことができる。このデバイスは、アレイ(165)に電気的に接続された回路であって、選択されたメモリセル(175)を流れる信号電流をモニタ(監視)することができる回路を含むことができる。信号電流がモニタされると、この回路は、選択されたメモリセル(175)が第1の抵抗状態と第2の抵抗状態のいずれにあるかを判定するために、信号電流と平均基準電流を比較することができる。また、データ記憶デバイスを動作させるための方法も開示される。
【0047】
【発明の効果】
本発明によれば、書き込まれたデータビットを正確に読み取ることができるデータ記憶デバイスと、それを用いるための方法とを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術によるMRAMメモリセルのアレイの平面図である。
【図2】従来技術によるMRAMメモリセルの斜視図である。
【図3】抵抗性メモリセルアレイと、アレイに電気的に接続された回路と、アレイ内の構成要素を表す等価回路と、アレイ内の電流経路とを示す平面図である。
【図4】図3に示すアレイに含めることができる抵抗性メモリセルの一実施形態の斜視図である。
【図5】積重された構成における2つの抵抗性メモリセルの斜視図である。
【図6A】データ記憶デバイスからデータを読み出すために用いることができる方法の流れ図である。
【図6B】データ記憶デバイスからデータを読み出すために用いられることができる方法の流れ図である。
【符号の説明】
165 アレイ
170、175 抵抗性メモリセル
180、200 第1のワード線
190、210 第1のビット線
260 ダイオード
265 メモリセル
Claims (10)
- データ記憶デバイスであって、
行および列を有する抵抗性メモリセル(170、175)のアレイ(165)と、
前記アレイ内の複数のメモリセル(265)に電気的に直列に接続される1組のダイオード(260)と、
前記アレイ(165)の前記行に沿って延在する複数のワード線(180、200)と、
前記アレイ(165)の前記列に沿って延在する複数のビット線(190、210)と、
前記アレイ(165)内の第1の選択されたメモリセル(175)であって、該第1の選択されたメモリセル(175)は前記複数のワード線(180、200)内の第1のワード線(180)と前記複数のビット線(190、210)内の第1のビット線(190)との間に配置される、第1の選択されたメモリセルと、
前記アレイ(165)に電気的に接続される回路であって、前記第1の選択されたメモリセル(175)に流れる信号電流をモニタすることができ、前記第1の選択されたメモリセル(175)が第1の抵抗状態にあるか、第2の抵抗状態にあるかを判定するために前記信号電流を平均基準電流と比較することができる、回路
とを含む、データ記憶デバイス。 - 前記抵抗性メモリセル(170、175)の前記アレイ(165)は磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)セル(265)を含む、請求項1に記載のデバイス。
- 前記1組のダイオード(260)は薄膜ダイオードから構成される、請求項1に記載のデバイス。
- 前記アレイ(165)内に第2の選択されたメモリセル(265)をさらに含み、前記第1の選択されたメモリセル(175)は前記アレイ(165)の第1の層内にあり、前記第2の選択されたメモリセル(265)は前記アレイ(165)の第2の層内にある、請求項1に記載のデバイス。
- 前記回路は、前記第1の選択されたメモリセル(175)を前記第1の抵抗状態にし、前記第1の選択されたメモリセル(175)が前記第1の抵抗状態にある間に第1の基準電流を読み取り、また、前記第1の選択されたメモリセル(175)を前記第2の抵抗状態にし、前記第1の選択されたメモリセル(175)が前記第2の抵抗状態にある間に第2の基準電流を読み取り、前記平均基準電流を得るために前記第1の基準電流と前記第2の基準電流とを平均することにより、前記平均基準電流を得ることができることからなる、請求項1に記載のデバイス。
- 抵抗性メモリセル(170、175)のアレイ(165)と、
前記アレイ(165)の行に沿って延在する複数のワード線(180、200)と、
前記アレイ(165)の列に沿って延在する複数のビット線(190、210)と、
前記アレイ(165)内の第1の選択されたメモリセル(175)であって、前記第1の選択されたメモリセル(175)は前記複数のワード線(180、200)内の第1のワード線(180)と前記複数のビット線(190、210)内の第1のビット線(190)との間に配置される、第1の選択されたメモリセルと、
前記アレイ(165)に電気的に接続される回路
とを含むデータ記憶デバイスにおいて、前記第1の選択されたメモリセル(175)の抵抗状態を読み取る方法であって、
前記アレイ(165)内の複数のメモリセル(170、175)に電気的に直列に接続される1組のダイオード(260)を設けるステップと、
前記アレイ(165)内の前記第1の選択されたメモリセル(175)に流れる信号電流を読み取るステップと、
前記信号電流を平均基準電流と比較するステップと、
前記信号電流と前記基準電流とを比較することにより、前記第1の選択されたメモリセル(175)が第1の抵抗状態にあるか、第2の抵抗状態にあるかを判定するステップ
とを含む、方法。 - 前記設けるステップは、1組の薄膜ダイオード(260)を設けるステップを含む、請求項6に記載の方法。
- 前記読み取るステップは、磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)セル(265)を流れる信号電流を読み取るステップを含む、請求項6に記載の方法。
- 前記読み取るステップは、トンネル接合(270)を含むMRAMメモリセル(265)を流れる信号電流を読み取るステップを含む、請求項6に記載の方法。
- 前記第1の選択されたメモリセル(175)を前記第1の抵抗状態にするステップと、
前記第1の選択されたメモリセル(175)が前記第1の抵抗状態にある間に第1の基準電流を読み取るステップと、
前記第1の選択されたメモリセル(175)を前記第2の抵抗状態にするステップと、
前記第1の選択されたメモリセル(175)が前記第2の抵抗状態にある間に第2の基準電流を読み取るステップと、
前記平均基準電流の値を得るために、前記第1の基準電流と前記第2の基準電流とを平均するステップ
とをさらに含む、請求項6に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/151,915 US6757188B2 (en) | 2002-05-22 | 2002-05-22 | Triple sample sensing for magnetic random access memory (MRAM) with series diodes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004005972A true JP2004005972A (ja) | 2004-01-08 |
JP2004005972A5 JP2004005972A5 (ja) | 2006-06-29 |
Family
ID=29548410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003137360A Pending JP2004005972A (ja) | 2002-05-22 | 2003-05-15 | 直列ダイオードを備える磁気ランダムアクセスメモリ(mram)のためのトリプルサンプルセンシング |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6757188B2 (ja) |
EP (1) | EP1369875A1 (ja) |
JP (1) | JP2004005972A (ja) |
KR (1) | KR20030091712A (ja) |
CN (1) | CN1459792A (ja) |
TW (1) | TW200307285A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7755931B2 (en) | 2005-08-02 | 2010-07-13 | Nec Corporation | Magnetic random access memory and operation method thereof |
US8089803B2 (en) | 2005-10-03 | 2012-01-03 | Nec Corporation | Magnetic random access memory and operating method of the same |
JP2022060149A (ja) * | 2020-10-02 | 2022-04-14 | サンディスク テクノロジーズ エルエルシー | 反転されたmram素子の垂直配向を有する改善されたmramクロスポイントメモリ |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7042035B2 (en) * | 2002-08-02 | 2006-05-09 | Unity Semiconductor Corporation | Memory array with high temperature wiring |
US7397074B2 (en) * | 2005-01-12 | 2008-07-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | RF field heated diodes for providing thermally assisted switching to magnetic memory elements |
US7145824B2 (en) * | 2005-03-22 | 2006-12-05 | Spansion Llc | Temperature compensation of thin film diode voltage threshold in memory sensing circuit |
KR100655438B1 (ko) * | 2005-08-25 | 2006-12-08 | 삼성전자주식회사 | 자기 기억 소자 및 그 형성 방법 |
US7372753B1 (en) * | 2006-10-19 | 2008-05-13 | Unity Semiconductor Corporation | Two-cycle sensing in a two-terminal memory array having leakage current |
US7379364B2 (en) * | 2006-10-19 | 2008-05-27 | Unity Semiconductor Corporation | Sensing a signal in a two-terminal memory array having leakage current |
US8335100B2 (en) * | 2007-06-14 | 2012-12-18 | Micron Technology, Inc. | Circuit, biasing scheme and fabrication method for diode accessed cross-point resistive memory array |
US7768812B2 (en) | 2008-01-15 | 2010-08-03 | Micron Technology, Inc. | Memory cells, memory cell programming methods, memory cell reading methods, memory cell operating methods, and memory devices |
US8034655B2 (en) | 2008-04-08 | 2011-10-11 | Micron Technology, Inc. | Non-volatile resistive oxide memory cells, non-volatile resistive oxide memory arrays, and methods of forming non-volatile resistive oxide memory cells and memory arrays |
US7760542B2 (en) | 2008-04-21 | 2010-07-20 | Seagate Technology Llc | Spin-torque memory with unidirectional write scheme |
KR100972090B1 (ko) * | 2008-04-28 | 2010-07-22 | 최한순 | 숯을 이용한 실내 마감재 및 그 제조방법 |
US8211743B2 (en) | 2008-05-02 | 2012-07-03 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming non-volatile memory cells having multi-resistive state material between conductive electrodes |
US8134137B2 (en) * | 2008-06-18 | 2012-03-13 | Micron Technology, Inc. | Memory device constructions, memory cell forming methods, and semiconductor construction forming methods |
US9343665B2 (en) | 2008-07-02 | 2016-05-17 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming a non-volatile resistive oxide memory cell and methods of forming a non-volatile resistive oxide memory array |
US8233319B2 (en) | 2008-07-18 | 2012-07-31 | Seagate Technology Llc | Unipolar spin-transfer switching memory unit |
US8072793B2 (en) * | 2008-09-04 | 2011-12-06 | Macronix International Co., Ltd. | High density resistance based semiconductor device |
US7933146B2 (en) * | 2008-10-08 | 2011-04-26 | Seagate Technology Llc | Electronic devices utilizing spin torque transfer to flip magnetic orientation |
US7933137B2 (en) * | 2008-10-08 | 2011-04-26 | Seagate Teachnology Llc | Magnetic random access memory (MRAM) utilizing magnetic flip-flop structures |
US8411477B2 (en) | 2010-04-22 | 2013-04-02 | Micron Technology, Inc. | Arrays of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells, methods of forming arrays of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells, and methods of reading a data value stored by an array of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells |
US8427859B2 (en) | 2010-04-22 | 2013-04-23 | Micron Technology, Inc. | Arrays of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells, methods of forming arrays of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells, and methods of reading a data value stored by an array of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells |
US8289763B2 (en) | 2010-06-07 | 2012-10-16 | Micron Technology, Inc. | Memory arrays |
US8351242B2 (en) | 2010-09-29 | 2013-01-08 | Micron Technology, Inc. | Electronic devices, memory devices and memory arrays |
US8759809B2 (en) | 2010-10-21 | 2014-06-24 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry comprising nonvolatile memory cells having platelike electrode and ion conductive material layer |
US8796661B2 (en) | 2010-11-01 | 2014-08-05 | Micron Technology, Inc. | Nonvolatile memory cells and methods of forming nonvolatile memory cell |
US8526213B2 (en) | 2010-11-01 | 2013-09-03 | Micron Technology, Inc. | Memory cells, methods of programming memory cells, and methods of forming memory cells |
US9454997B2 (en) | 2010-12-02 | 2016-09-27 | Micron Technology, Inc. | Array of nonvolatile memory cells having at least five memory cells per unit cell, having a plurality of the unit cells which individually comprise three elevational regions of programmable material, and/or having a continuous volume having a combination of a plurality of vertically oriented memory cells and a plurality of horizontally oriented memory cells; array of vertically stacked tiers of nonvolatile memory cells |
US8431458B2 (en) | 2010-12-27 | 2013-04-30 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming a nonvolatile memory cell and methods of forming an array of nonvolatile memory cells |
US8791447B2 (en) | 2011-01-20 | 2014-07-29 | Micron Technology, Inc. | Arrays of nonvolatile memory cells and methods of forming arrays of nonvolatile memory cells |
US8488365B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-07-16 | Micron Technology, Inc. | Memory cells |
US8537592B2 (en) | 2011-04-15 | 2013-09-17 | Micron Technology, Inc. | Arrays of nonvolatile memory cells and methods of forming arrays of nonvolatile memory cells |
US8693273B2 (en) * | 2012-01-06 | 2014-04-08 | Headway Technologies, Inc. | Reference averaging for MRAM sense amplifiers |
KR101892415B1 (ko) * | 2018-01-16 | 2018-08-27 | 한양대학교 산학협력단 | 자기 저항 메모리 장치 및 이에 있어서 메모리 셀 불량 검사 방법 |
US10854259B2 (en) * | 2018-06-29 | 2020-12-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Asynchronous read circuit using delay sensing in magnetoresistive random access memory (MRAM) |
CN115565573A (zh) * | 2021-07-02 | 2023-01-03 | 联华电子股份有限公司 | 半导体元件 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5640343A (en) | 1996-03-18 | 1997-06-17 | International Business Machines Corporation | Magnetic memory array using magnetic tunnel junction devices in the memory cells |
DE19744095A1 (de) * | 1997-10-06 | 1999-04-15 | Siemens Ag | Speicherzellenanordnung |
US6169686B1 (en) * | 1997-11-20 | 2001-01-02 | Hewlett-Packard Company | Solid-state memory with magnetic storage cells |
US6259644B1 (en) | 1997-11-20 | 2001-07-10 | Hewlett-Packard Co | Equipotential sense methods for resistive cross point memory cell arrays |
US6188615B1 (en) | 1999-10-29 | 2001-02-13 | Hewlett-Packard Company | MRAM device including digital sense amplifiers |
US6317376B1 (en) * | 2000-06-20 | 2001-11-13 | Hewlett-Packard Company | Reference signal generation for magnetic random access memory devices |
DE10036140C1 (de) * | 2000-07-25 | 2001-12-20 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und Anordnung zum zerstörungsfreien Auslesen von Speicherzellen eines MRAM-Speichers |
US6501697B1 (en) * | 2001-10-11 | 2002-12-31 | Hewlett-Packard Company | High density memory sense amplifier |
-
2002
- 2002-05-22 US US10/151,915 patent/US6757188B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-17 TW TW091136378A patent/TW200307285A/zh unknown
-
2003
- 2003-03-24 CN CN03108328A patent/CN1459792A/zh active Pending
- 2003-05-15 JP JP2003137360A patent/JP2004005972A/ja active Pending
- 2003-05-19 EP EP03253109A patent/EP1369875A1/en not_active Withdrawn
- 2003-05-21 KR KR10-2003-0032168A patent/KR20030091712A/ko not_active Application Discontinuation
- 2003-10-30 US US10/696,826 patent/US6873544B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7755931B2 (en) | 2005-08-02 | 2010-07-13 | Nec Corporation | Magnetic random access memory and operation method thereof |
US8089803B2 (en) | 2005-10-03 | 2012-01-03 | Nec Corporation | Magnetic random access memory and operating method of the same |
JP2022060149A (ja) * | 2020-10-02 | 2022-04-14 | サンディスク テクノロジーズ エルエルシー | 反転されたmram素子の垂直配向を有する改善されたmramクロスポイントメモリ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040090841A1 (en) | 2004-05-13 |
TW200307285A (en) | 2003-12-01 |
US6757188B2 (en) | 2004-06-29 |
KR20030091712A (ko) | 2003-12-03 |
US20030218902A1 (en) | 2003-11-27 |
US6873544B2 (en) | 2005-03-29 |
CN1459792A (zh) | 2003-12-03 |
EP1369875A1 (en) | 2003-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004005972A (ja) | 直列ダイオードを備える磁気ランダムアクセスメモリ(mram)のためのトリプルサンプルセンシング | |
JP4474087B2 (ja) | 回り込み電流を阻止する共有デバイスを含むクロスポイントメモリアレイ | |
TWI503820B (zh) | 數位記憶體裝置以及磁阻式隨機存取記憶體之配置方法 | |
JP4700259B2 (ja) | 共通の導線を共有する一対の磁気ビットを有するメモリ素子アレイ | |
US7292467B2 (en) | Magnetic random access memory device | |
JP4660529B2 (ja) | 二重接合磁気メモリデバイスの読み出し方法および二重接合磁気メモリデバイスへの書き込み方法 | |
JP2005116162A (ja) | 直列に接続されたメモリ素子のグループを含む磁気メモリデバイス | |
US20020000597A1 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device and method for recording information | |
JP2002157874A (ja) | Mram配列構造 | |
KR20140095792A (ko) | 스핀 홀 효과를 이용한 메모리 소자와 그 제조 및 동작방법 | |
JP2003346475A (ja) | 直列ダイオードを有する磁気ランダムアクセスメモリ(mram)の等電位センシング | |
US6597618B2 (en) | Magnetic tunnel junction magnetic random access memory | |
US7050326B2 (en) | Magnetic memory device with current carrying reference layer | |
JP2008091015A (ja) | メモリセルの読み出し動作を実行する方法 | |
US6836429B2 (en) | MRAM having two write conductors | |
JP2002184169A (ja) | 欠陥のあるトンネル接合を修理する方法 | |
CN110910924A (zh) | 磁阻式随机存取存储器 | |
US6826077B2 (en) | Magnetic random access memory with reduced parasitic currents | |
JP2003109375A (ja) | 磁気メモリ装置の読み出し回路 | |
US7102919B1 (en) | Methods and devices for determining writing current for memory cells | |
JP4269668B2 (ja) | Mram及びその読み出し方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060511 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060511 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070706 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080611 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090513 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090519 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091020 |