JP2003532565A - 物品の表面に装飾又はテキストを設ける方法 - Google Patents

物品の表面に装飾又はテキストを設ける方法

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JP2003532565A JP2001582102A JP2001582102A JP2003532565A JP 2003532565 A JP2003532565 A JP 2003532565A JP 2001582102 A JP2001582102 A JP 2001582102A JP 2001582102 A JP2001582102 A JP 2001582102A JP 2003532565 A JP2003532565 A JP 2003532565A
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cholesteric
cholesteric liquid
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デ ウィッテ ピーター ヴァン
ヨハン ラブ
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、シェーバ、GSM及びカード等の物品上に装飾的被覆又はテキストを設ける方法に関するものである。上記被覆は領域的に光学的に変化された(パターン化された)コレステリック液晶層を有し、該層は移着操作により上記物品の表面に移着される。所謂インモールド装飾技術が、装飾的(パターン化された)コレステリック液晶層の移着にとって非常に有利であることが分かった。この技術においては、上記層がプラスチック担体箔上に(釈放可能に)付着され、接着剤の層が設けられる。該アセンブリは、ポリマ材料の射出成形が始まる前に、射出鋳型内に挿入される。このようにして、装飾的被覆(例えば多色画像)及びテキスト等を、凹凸のある及び僅かに湾曲した基板上にさえ付着させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【技術分野】
本発明は、物品の表面に装飾又はテキストを設ける方法に関する。
【0002】
【背景技術】
現在の処、特別な光学的特性を備える被服が、装飾的用途に関して注目を集め
ている。携帯電話及び電気剃刀装置等の最近の消費者向け製品の幾つかには、イ
リオジン(メルク社:登録商標)又はクロモフラール(登録商標)の被覆が設け
られている。これら被覆の特別な特性は、該被覆の色が視角に依存すること(反
転効果)である。例えば、垂直の入射光に対しては上記被覆は緑として現れ、高
い極角度で反射する光に対しては、上記被覆は青みがかって現れる。上記イリオ
ジン粒子は、特別仕立ての光学特性を持つ幾つかの層からなっている(金属酸化
物(metaloxyde)層を有する雲母粒子)。該色付け効果は、斯かる粒子上で反射
する光の波長依存干渉現象によるものである。これら粒子は、破片の形状を有し
、表面上に通常の吹き付け塗装により塗布することができる。
【0003】 コレステリック液晶も、本来、層状の構造を有しており、これらの効果を得る
ために使用することもできる。現在、コレステリック材料の破片形状での使用が
研究されている。
【0004】 コレステリック破片は、コレステリック材料の5ないし10ミクロン厚の層を
支持基板上に鋳込むことにより得られる。次いで、該コレステリック層は重合さ
れ、破片に粉砕される。これら破片は、吹き付け塗装により表面上に塗布される
。上記コレステリック液晶と破片とが良く整列されていると、それらは所望の色
付け効果を示す。
【0005】 上記の重合処理は、粉砕及び後続の破片の処理に対して十分に安定した層を得
るために必要である。しかしながら、一旦コレステリック相が重合されると、上
記破片の色は最早外部の処理では変更することができない。
【0006】 最近、コレステリック層にパターンを形成し、反射の色を領域的に制御するこ
とが可能であることが分かった。これは、コレステリック破片の装飾可能性に、
魅力的な追加の機能を与え得る。この機能は、当該層にパターン(ロゴ、ブラン
ド名、宣伝等)を書き込むことを可能にする。しかしながら、破片技術とパター
ン化技術とを組み合わせることは困難である。
【0007】
【発明の開示】
本発明の目的は、表面上に装飾又はテキスト等を形成する方法であって、或る
液晶材料の或る利点を、破片の形で塗布する必要性なしで利用するような方法を
提供することにある。
【0008】 本発明によれば、上記目的は、装飾又はテキスト等を設ける方法であって、少
なくとも領域的に光学的に変化されたコレステリック液晶層(“装飾層”)が、
移着操作において物品の表面上に移着されるような方法により達成される。移着
操作は、通常は接着層が設けられる装飾層が物品に対して接着関係で配置され、
又は該物品に結合されるような操作である。殆どの場合、上記装飾層は担体から
、該担体を後に残して移着される。上記装飾層を保護するのが有効な場合は、上
記担体(特に該担体が薄い場合)は物品上に上記装飾層と一緒に付着させること
ができ、該担体が上記物品から遠い側で上記装飾層の保護として機能することが
できるようにする。
【0009】 他の例として、上記担体上に釈放可能に配置されると共に上記装飾層を担持す
るような保護層を、移着操作において上記装飾層と一緒に移着することもできる
。上記装飾層を担体から物品上に移着する操作は、それ自体既知の手順、例えば
行程運動を含む手順、転動(ローリング)運動を含む手順、又は対応する箔が射
出成形鋳型内に導入されると共に、次いで、プラスチック材料を背後に射出して
例えば或る装置のフロントパネルのような物品を形成するような手順を用いて実
行することができる。
【0010】 本発明の特に有利な実施例は、パターン化されたコレステリック液晶層の(プ
ラスチック)物品の表面への移着が、インモールド(in-mold)装飾工程で実行
されることを特徴としている。
【0011】 インモールド装飾は、装飾が生産ラインの終わりにおいて製品に設けられる技
術である。移着箔は、プラスチック担体箔上に設けられる装飾箔を有する。射出
成形装置を用いて、(ポリマ)融成物が、上昇された温度において移着箔に強く
押圧される。この工程の間に、製品が形成され、上記移着箔が同時に該製品に“
接着”される。該技術は、シェーバ製品のような、凹凸のある又は(僅かに)湾
曲した表面を持つ物体を扱うことさえ可能である。該移着技術は、コレステリッ
ク層を製品に対して、これら層を破片に粉砕する必要性なしに、付着させるのに
適しているように思われる。この処理の他の利点は、色が一層純粋で、反射が散
乱的ではなくて鏡的で、視角依存性が一層顕著である点にある。対照的に、破片
の粉砕及び塗布の間には、これら破片の向きは一様とはならず、色の混合が見ら
れる。
【0012】 装飾箔の付着のための処理の実施例は以下のように構成することができる: (1)プラスチック基板上へのコレステリック層の塗布; (2)UV露光によるコレステリック反射バンドの局部的変更; (3)コレステリック層の硬化(e-ビーム、熱的); (4)インモールド装飾による、上記コレステリック層の製品への付着。
【0013】 コレステリック層の領域的且つ光学的変更は、種々の方法で実行することがで
きる。
【0014】 特に、コレステリック液晶層の色を領域的に変化させることができる方法が存
在することが分かった。
【0015】 第1の方法は、サーモクロミズム特性を利用することを特徴とする(コレステ
リック材料の反射色を、異なる温度で架橋することにより相違させることができ
る)。
【0016】 第2の、もっと好ましい方法は、感光特性の利用を特徴とする(コレステリッ
ク相の周期性は、特に、UV照射により影響を受け得る。即ち、該周期性が当該
コレステリック層に入射する光の波長に整合すると、該光は反射される)。特に
、この後者の現象は、上記層中に装飾又はテキスト等を生成するために有利に使
用することができる。この技術の付加的な利点は、例えばグレイスケールマスク
(異なるグレイ色の領域を有する透明シート)等のパターン化されたマスクを使
用することにより、UV光による照射を総体的にすることができ、かくして、他
の装飾技術において必要とされる技術のように点毎に当該コレステリック層を照
射する必要がなくなる点にある。
【0017】 上記効果を発揮させるため、コレステリック的に秩序付けされた材料の分子螺
旋の軸が当該層の面に対して横切るように配列されるようなコレステリック秩序
を持つポリマ材料の層を使用することができる。斯様な層は、異なる領域に異な
る分子螺旋ピッチを付与することにより、領域的に光学的に変化させることがで
きる。後者のものは、例えば当該コレステリック的に秩序付けされた材料の層が
、該コレステリック的に秩序付けされた材料のピッチを、非転換及び転換状態に
おいて異なる程度に決定するような一定量の転換化合物を有する場合に実現する
ことができる。上記転換をUV照射により誘起することができるような化合物が
見つかっている。パターン化は、照射線量が当該層の少なくとも2つの異なる領
域において相違するように露光を実行することにより実現することができる。露
光の後、当該層のコレステリック的に秩序付けされた材料は重合され及び/又は
架橋されてポリマを形成し、該ポリマは本発明による移着工程により物品の表面
に移着することができる。
【0018】 本発明(表面に領域的且つ光学的に変更されたコレステリック液晶層が移着さ
れた物品にも関する)の他の目的、特徴及び利点は、本発明による方法に使用す
る移着箔の一実施例に関する下記の説明から明らかとなるであろう。
【0019】
【発明を実施するための最良の形態】
移着箔は、担体又は裏当て膜を有し、これら担体又は裏当て膜は、ここでは好
ましくは、約5μmと約100μmとの間、好ましくは15μmと50μmとの
間の厚さのポリエステル膜である。
【0020】 上記膜は、自体が移着箔の製造から既知の通常の処理において塗布されるよう
な下記の層を順次担持している。
【0021】 分離(又は釈放)層: これは、例えば、熱の影響により軟化し、他の層が上記担体膜から分離又は釈
放されるのを可能にするような層である。該分離層は、通常、最大で1μmの厚
さのものである。
【0022】 幾つかの例は: − トルエン(95部)、エタノール(5部)、エステルワックス(滴点90℃
)(0.1部); − 感圧接着剤; − テフロン(R)。
【0023】 保護ラッカ層(オプション): これはラッカの透明な層であり、その機能は、該箔で装飾された物品の自由表
面を機械的損傷から実質的に保護することである。従って、該保護ラッカ層は機
械的影響に対して適当に抵抗性を有さねばならない。本例の場合、例示として、
該層は厚さが1μmと2μmとの間である。
【0024】 コレステリック液晶層: この層を塗布する処理は後述する。
【0025】 接着層: これは、それ自体転送箔に関連して既知の接着層であり、厚さは約1μmと約
10μmとの間である。該接着層は、適切な加熱の影響を受けると先ず接着的又
は粘着的になるような組成のものである。熱の印加なしで処理されねばならない
転送箔に関しては、該接着層は、例えば圧力により活性化することができる接着
剤、又は永久的に粘着的又は接着的な材料の層とすることもできる。後者の場合
、当該担持フィルムは上記コレステリック層から遠い側に当該接着層が該担持フ
ィルムに粘着するのを防止するためにシリコ−ンのような被覆を設け、これによ
り当該移着箔がロール状に適切に巻き取ることができるようにしなければならな
いことが分かるであろう。
【0026】 上記接着層は、下記の組成により製造することができる: トルエン 15部 アセトン 15部 エタノール 38部 メチル-/n-ブチル-メタクリレート共重合体 (キシレンが40%、tg=78℃) 15部 ポリエチルメタクリレート(tg=63℃) 5部 ポリ酢酸ビニル(エタノールが50%) 4部 SiO 2部 TiO 6部
【0027】コレステリック液晶層の付着 コレステリック混合物は常温において非常に粘性が高い。処理を可能にするた
めに、該混合物は溶媒中に溶解される。クロロベンゼンが、良好な結果をもたら
す溶媒である。濡れ、ポリイミドとの相溶性及び蒸発率等の溶媒特性間のバラン
スを見付けなければならない。50%ないし66%の溶液が使用される。該溶液
の詳細な組成は: 0.9重量%のダロキュア(Darocure)4265 ┐ 300ppmのHME ├ クロロベンゼンが66重量% 13.5重量%のメチルメントン │ 85.5重量%のRM258 ┘ この溶液は、ウェブコーティング処理において、上記担体上にドクタブレードコ
ーティング法により付着される。ブレードコーティング法を選択する理由は幾つ
かある。層の付着に要する材料の量に関しては、この技術はスピンコーティング
法より大幅に効率的である。他の理由は、上記溶液の蒸発が緩やかに進行するこ
とである。上記溶液の速い蒸発によると、当該コレステリック構造が準安定構造
へと容易に急冷される。
【0028】 しかしながら、キシレンのスピンコーティングも可能であり、大凡同一の組成
の溶液を使用することができることが分かった。ブレードコーティングの直後に
(蒸発工程なしに)、当該積層体はクロムのパターン化されたマスクを介してO
RC紫外露光装置(光ビーム強度ca.20mW/cm2)により照射される。この段階
において、上記層は依然として溶媒を含んでいる可能性がある。上記マスクは、
紫外光に対して完全に透明な領域と、紫外光を反射する領域と、クロムにより部
分的に(50%ないし60%)被覆される領域(ランダムなドットパターン)と
を含んでいた。所要の紫外線量は〜250mJ/cm2(〜10ないし20sec.露光)
である。
【0029】コレステリック液晶 コレステリック液晶相は、固有周期性を持つキラルなメソフェーズである。液
晶はネジ状の態様で配置される。材料に依存して、上記周期性は50ナノメート
ルから大きなマイクロメートルまで変化し得る。コレステリック液晶の周期性が
材料中の光の波長と整合すると、興味有る現象が発生する。そのような場合、光
は反射される(ブラッグ反射)。この効果の物理的背景は、干渉フィルタのもの
と関連している。コレステリック液晶の旋進性に依存して、左手系又は右手系の
何れかの円偏光光が反射される。コレステリック層は、通常、pxneとpxnoとの間
の波長を持つ光しか反射せず、ここでne及びnoは単軸的に配向された相の各々異
常及び通常屈折率である。実際には、これは、反射バンドの幅が20nmと100
nmとの間の値に制限されることを意味する。しかしながら、最近では、該反射バ
ンドを狭める又は広げる多数の工夫が利用可能となった。
【0030】 コレステリック液晶のパターン化に関しては、サーモクロミズムが、利用する
ことができる特性である。コレステリック材料の反射色は温度に伴い変化する。
異なる温度で架橋することにより、例えばR、G、Bパターンを得ることができ
る。この方法に伴う問題は、3つのマスク露光工程(上昇された温度での)を使
用しなければならず、温度制御が非常に厳しくなければならない点である。
【0031】 好ましい方法は、感光コレステリック材料に基づくものである。これらの材料
の場合、コレステリック相の周期性が紫外光により影響を受ける。例えば、紫外
線に対して青の反射を有するコレステリック層を露光すると、該色は徐々に青か
ら緑、緑から赤へと変化する。これらの材料を用いる場合、R、G、Bパターン
を生成するための処理は以下のようになる。先ず、青の反射を示すコレステリッ
ク層が基板上に付着される。次いで、該層はグレイスケールマスクを用いて、紫
外光に対してパターン的に露光される。高光強度で照射された領域は青から赤に
変化し、中間の光強度で照射された領域は青から緑に変化し、非常に小さな光し
か受けないか又は光を受けない領域は青に留まるであろう。この工程において、
上記色を発生するには単一の工程しか必要とされない。これは、サーモクロミズ
ムに基づく処理において必要とされる3マスク露光工程に較べて大きな低減とな
る。重要な問題は、生成されたパターンの安定化である。上記コレステリック層
は長い紫外露光に対して安定していなければならない。このことは、上記色パタ
ーンの発生後、該コレステリック層は架橋されなければならないことを意味する
。このことは、当該材料に対して種々の要件を課す。これらを以下に説明する。
【0032】感光性キラルドープ剤 コレステリック液晶相の周期性を変化させるために、キラルドープ剤の構造を
変更しなければならない。当該層のねじり向き及び回転角度、即ち周期性を制御
するために、液晶にキラル分子が添加される。分子が360度回転する距離は、
ピッチ(P)と呼ばれる。液晶を回転させるキラル分子の効力は、螺旋ねじり力
: (HTP):HTP=1/Pxc により与えられ、ここで、cはキラル分子の濃度を表す。HTPは、キラル液晶
の立体配座及び化学構造に強く依存することが知られている。分子の立体配座又
は化学構造が光によって変化されると、これら分子のHTPも影響を受ける。例
えば、キラル基の光分解をキラル化合物のHTPの操作に使用することができる
。最近、ビナフチル誘導体(binaphtyl derivatives)の光学不活性化(photora
cemization)が示された。この処理においては、光学的に活性な分子が、強い紫
外照射により、正味のHTPを持たない異性体のラセミ混合物に変換される。現
時点では、光学異性化(photoisomerization)が、キラルドープ剤の螺旋ねじり
力に影響を与える最も好ましい方法である。殆どの光学異性化可能なキラル化合
物に対して、E及びZ異性体は異なる螺旋ねじり力を有している。上記光学異性
化可能な化合物は: − 可視光に対して透明であり、 − 365nmに対して略透明であり(UV傾斜を防止する) − 0℃と250℃との間で安定しており、 − 非再異性化可能(non-reisomerizable)であり(0℃と250℃との間で) − RTにおいて液晶ホストに十分に多くの量が溶解可能であり、 − 高い螺旋ねじり力を有し、 − 照射の間に螺旋ねじり力の大きな変化を有し、 − 照射の間にLC相の不安定化を生じることがなく、 − 重合可能であり、 − 好ましくはジアクリレートであり(架橋の後抽出可能な物質が少量で、高温
度安定性)、 でなければならない。
【0033】 メントン誘導体は、これらの要求の殆どを満たす分子である。これら分子は、
可視光に対して透明であり、多くの液晶ホストに溶解する。それらのHTPは魅
力的である。何故なら、可視光の反射を低濃度のキラル物質で達成することがで
きるからである。照射が、長期間にわたり安定したHTPの大きな変化を生じさ
せるからである。これら材料は左手系螺旋を付与する。幾つかのメントン誘導体
、なかでもメチル-メトン誘導体が合成された。
【0034】 上記分子は下記の化学構成単位を含むことができる。即ち、コレステリック相
を誘起するためのキラル単位、感光性を組み込むための異性化可能な単位、液晶
ホストとの相溶性を増加させるためのLC単位、ポリメット網状構造への分子の
組み込みを可能にするための重合可能な単位、及び該重合の上記液晶単位の向き
への影響を最小化するためのスペーサ単位である。
【0035】 上記メントンは、紫外線誘導されるコレステリックの構成にとって好適な化合
物であると思われる。好ましい材料は、メチルメントンである。この材料は網状
構造に組み込むことができ、メントンの他のアクリレート誘導体よりも一層緩や
かに結晶化する。
【0036】液晶ホスト パターン化された層を安定化させるためには、架橋可能なホストが必要である
。ホストに対しては、幾つかの追加の要件を列記することができる: − 広いネマチック温度範囲(好ましくは、0ないし150℃); − 350nmより長い波長に対して透明である; − 低粘性; − 溶媒に溶解可能である; − 平らな整列(基板においても、また、空気−LC境界においても); − 0℃と250℃との間において化学的に安定している; − 機械的に安定している(高架橋密度、高Tg等); − 混合物は、好ましくは、ジアクリレートのみを含むべきである。
【0037】 幾つかの好適なホストが見つかっている。第1のものは、メルク社(英国)に
より開発されたものである。商品名はRM258である。このホストは、液晶ジ
アクリレートの混合物からなっている。融点は〜55℃であり、透明点は119
℃である。該混合物は一連の溶媒(クロロベンゼン、シクロヘキサノン、ディス
クロロベンゼン、クロロホルム、キシレン等)に溶解することができる。
【0038】 他の混合物はKDAである。これは単体の化合物である。融点及び透明温度は
、各々、54℃及び140℃である。ガラス遷移は−17℃である。
【0039】 ヨーロッパ特許出願第EP99/09711号(出願人整理番号:PHN17.592)に記載さ
れた材料を本発明に有利に使用することができることに注意すべきである。
【0040】架橋 感光系の架橋(硬化)は温度架橋により達成することもできるが、紫外線誘起
架橋及びeビーム架橋がより好ましい。
【0041】E−ビーム架橋 紫外線架橋とは対照的に、電子ビーム架橋にはフォトイニシエータは必要とさ
れない。第1ステップにおいて、色パターンが365nm紫外線を用いて発生され
、第2ステップにおいては該パターンが当該層を電子で照射することにより安定
化される。これら電子は当該混合物にラジカルを発生され、重合が開始される。
【0042】 当該混合物は、15%のメチルメントンと85%のRM258とからなる。色
パターンを発生させるために、当該層は周囲大気中で紫外光により照射された。
Eビーム重合は窒素雰囲気中で実行された。該Eビームの典型的な条件は、17
5kV、3〜7mA、12m/min、25〜80kGyであった。これら層は、十分
に耐ひっかき性のものであった。
【0043】紫外線誘起架橋 パターン化と架橋との干渉を避けるのは困難である。これらの処理を或る程度
減結合する2つの方法が設計されている。 A.加熱ステップと組み合わせたUV露光; B.長い波長でのUV架橋(二重露光)。近可視範囲では、異性化の率は波長を
増加させることにより大きく減少する。メントンが405nmの紫外光に露光され
る場合は、殆ど如何なる異性化も生じない。
【0044】 このことは、架橋が色を変化させることなしに実行することができることを意
味している。
【0045】 15%のメチルメントン、83.5%のRM258及び1.5%のダロキュア
(Darocure)4265の混合物が、常温において365nmの紫外光に露光された
。所望の色が得られた。第2ステップにおいて、当該層は常温において窒素雰囲
気中で405nmの光に対し露光された。これら層は上記色に影響を与えることな
く硬化された。
【0046】 幾つかの注釈として:
【0047】 コレステリック層の反射を、当該構造に欠陥を導入することにより鏡から散乱
まで制御することが可能である。
【0048】 領域的に広帯域反射器(金属的外観)を形成することが可能と思われる。
【0049】 当該層に染料を組み込むことが可能である。このようにして、背景色に対する
柔軟性が改善される。
【0050】 当該被覆の安定性及び耐性を向上させるために、該被覆に上塗りを施すことが
できる。
【0051】 当該コレステリック層の表面の異なる位置上への、変化する強度の紫外光によ
る照射は、(多)色のパターンを持つ表面を生成する。上記強度が当該コレステ
リック層の深さ方向に変化すると、ホログラム的情報又は3D情報を“画像化”
することができる。これは、特にインモールド(in-mould)装飾処理ステップと
の組み合わせにおいて、興味有る用途の可能性に繋がる。
【0052】 このようにして使用されると、本発明は、ホログラフ的画像を有するような領
域的に光学的に変化された(パターン化された)コレステリック液晶層が表面に
移着された、例えばプラスチック物品(識別カード等)を提供する。ホログラフ
的画像を有する領域的にパターン化されたコレステリック液晶層が使用されるよ
うな非移着用途も、非常に有利であり得る。
【0053】 要約すると、本発明はシェーバ、GSM、(識別)カード等々の物品上に装飾
的被覆又はテキスト等を設ける方法に関するものである。該被覆は、物品の表面
に移着動作により移着された、領域的に光学的に変化された(パターン化された
)コレステリック液晶層を有している。所謂インモールド装飾技術が、上記装飾
的(パターン化された)コレステリック液晶層の移着にとり非常に有利であるこ
とが分かった。この技術においては、上記層はプラスチック担持箔上に(釈放可
能に)堆積され、接着層が設けられる。該アセンブリはポリマ材料の射出成形が
開始される前に、射出鋳型内に挿入される。このようにして、装飾的被覆(例え
ば、多色画像)及びテキスト等を、凹凸のある及び僅かに湾曲した物質上にも付
着させることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラブ ヨハン オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン 6 Fターム(参考) 3B005 EA12 EB05 FB21 FC20 FE21 FF04 FF06 GA02 GA12 GA17

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 物品の表面に装飾又はテキストを設ける方法において、少な
    くとも領域的に光学的に変化されたコレステリック液晶層が、移着操作において
    前記物品の表面に移着されることを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の方法において、前記液晶層が、担体及び前
    記コレステリック液晶層を含む移着箔により移着されることを特徴とする方法。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の方法において、前記コレステリック液晶層
    が前記担体上に釈放可能に設けられることを特徴とする方法。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の方法において、前記コレステリック液晶層
    が、領域的に変化されたコレステリック反射バンドを有していることを特徴とす
    る方法。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の方法において、前記コレステリック反射バ
    ンドの領域的変化がUV照射に対する露光により実行されていることを特徴とす
    る方法。
  6. 【請求項6】 請求項4に記載の方法において、前記コレステリック反射バ
    ンドの領域的変化に、前記コレステリック液晶層の硬化処理が後続されているこ
    とを特徴とする方法。
  7. 【請求項7】 請求項2に記載の方法において、前記移着箔が前記物品の形
    状を有する射出鋳型内に配置され、ポリマ融成物が、上昇された温度において前
    記鋳型内に射出されることを特徴とする方法。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載の方法において、前記移着箔は担体箔を有し
    、該担体箔の表面上には釈放層、前記コレステリック液晶層及び接着層が配置さ
    れていることを特徴とする方法。
  9. 【請求項9】 請求項1に記載の方法において、前記装飾がホログラフ的な
    画像であることを特徴とする方法。
  10. 【請求項10】 表面に、領域的に光学的に変化されたコレステリック液晶
    層が移着されている物品。
  11. 【請求項11】 請求項10に記載の物品において、前記層がホログラフ的
    な画像を有していることを特徴とする物品。
  12. 【請求項12】 請求項1に記載の方法において、前記コレステリック液晶
    層の材料は、該コレステリック的に秩序付けされた材料の分子螺旋の軸が前記層
    に対し横切って延びるように配向され、該方法が、 a)コレステリック的に秩序付けされた材料の層を設けるステップであって、該
    材料は非転換及び転換状態において前記コレステリック的に秩序付けされた材料
    のピッチを異なる程度に決定するような一定量の転換可能な化合物を有し、該化
    合物の転換が照射により誘起されるようなステップと、 b)前記層を所望のパターンに基づき照射して、該層の照射された部分における
    前記転換可能な化合物の少なくとも一部が転換されるようにするステップと、 c)前記コレステリック的に秩序付けされた材料を重合及び/又は架橋して、三
    次元的ポリマを形成するステップと、 を有していることを特徴とする方法。
  13. 【請求項13】 請求項12に記載の方法において、前記ステップb)にお
    ける照射が、前記層の少なくとも2つの異なる領域に対して照射線量が相違する
    ように実行されることを特徴とする方法。
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