JP2003523966A - ２，３，５，６−テトラハロゲンキシリリデン化合物の製造方法 - Google Patents
２，３，５，６−テトラハロゲンキシリリデン化合物の製造方法Info
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 21
- -1 alkyl nitrite Chemical compound 0.000 claims description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 11
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 8
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 3
- BLLFVUPNHCTMSV-UHFFFAOYSA-N methyl nitrite Chemical compound CON=O BLLFVUPNHCTMSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims description 2
- 125000005915 C6-C14 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- QQZWEECEMNQSTG-UHFFFAOYSA-N Ethyl nitrite Chemical compound CCON=O QQZWEECEMNQSTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M [(1s,2s)-2-amino-1,2-diphenylethyl]-(4-methylphenyl)sulfonylazanide;chlororuthenium(1+);1-methyl-4-propan-2-ylbenzene Chemical compound [Ru+]Cl.CC(C)C1=CC=C(C)C=C1.C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)[N-][C@@H](C=1C=CC=CC=1)[C@@H](N)C1=CC=CC=C1 AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M 0.000 claims description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 2
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N isoamyl nitrite Chemical group CC(C)CCON=O OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AAJBNRZDTJPMTJ-UHFFFAOYSA-L magnesium;dinitrite Chemical compound [Mg+2].[O-]N=O.[O-]N=O AAJBNRZDTJPMTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- RAFRTSDUWORDLA-UHFFFAOYSA-N phenyl 3-chloropropanoate Chemical compound ClCCC(=O)OC1=CC=CC=C1 RAFRTSDUWORDLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004304 potassium nitrite Substances 0.000 claims description 2
- 235000010289 potassium nitrite Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 claims description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POMGTQLCZJZYAM-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrafluoro-3-methylbenzene Chemical compound CC1=C(F)C(F)=CC(F)=C1F POMGTQLCZJZYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCRSJGWFEMHHEW-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrafluorobenzene-1,4-dicarbonitrile Chemical compound FC1=C(F)C(C#N)=C(F)C(F)=C1C#N PCRSJGWFEMHHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101100000419 Autographa californica nuclear polyhedrosis virus AC41 gene Proteins 0.000 description 1
- 102100024522 Bladder cancer-associated protein Human genes 0.000 description 1
- 101150110835 Blcap gene Proteins 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000599862 Homo sapiens Intercellular adhesion molecule 3 Proteins 0.000 description 1
- 102100037871 Intercellular adhesion molecule 3 Human genes 0.000 description 1
- 101100493740 Oryza sativa subsp. japonica BC10 gene Proteins 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000002917 insecticide Substances 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000006263 metalation reaction Methods 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000011987 methylation Effects 0.000 description 1
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、２，３，５，６−テトラハロゲン−キシリリデンジアミンをジアゾ化することによる好ましい収率での２，３，５，６−テトラハロゲン−キシリリデン化合物の製造を可能とする方法に関する。
Description
【０００１】
本発明は２，３，５，６−テトラハロキシリリデンジアミンのジアゾ化による
２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物の製造に関する。
２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物の製造に関する。
【０００２】
２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物は、例えば、殺虫剤の如き活
性な製薬学的又は農芸化学的成分を製造するための重要な中間体として当業者に
知られている。
性な製薬学的又は農芸化学的成分を製造するための重要な中間体として当業者に
知られている。
【０００３】
２，３，５，６−テトラハロキシリリデンジオール、それらのエステル及びエ
ーテルの製造は少数の先行技術の方法によってのみ可能であり、例えば、ＧＢ−
Ａ−２１２７０１３は、水素化ホウ素ナトリウムを使用してテトラフルオロテレ
フタリルクロリドを還元してテトラフルオロキシリリデンジオールを得、次いで
塩化アセチルを使用してエステル化してテトラフルオロテレフタリルアセテート
を得ることを記載している。
ーテルの製造は少数の先行技術の方法によってのみ可能であり、例えば、ＧＢ−
Ａ−２１２７０１３は、水素化ホウ素ナトリウムを使用してテトラフルオロテレ
フタリルクロリドを還元してテトラフルオロキシリリデンジオールを得、次いで
塩化アセチルを使用してエステル化してテトラフルオロテレフタリルアセテート
を得ることを記載している。
【０００４】
ＥＰ−Ａ−０１５２１７４は、更に、２，３，５，６−テトラフルオロトルエ
ンから出発する、金属化、メチル化、臭素化、酢酸カリウムによるキシリリデン
ジブロミドの置換及び加水分解により２，３，５，６−テトラハロキシリリデン
ジオールを得ることを含む複雑な反応順序を開示している。
ンから出発する、金属化、メチル化、臭素化、酢酸カリウムによるキシリリデン
ジブロミドの置換及び加水分解により２，３，５，６−テトラハロキシリリデン
ジオールを得ることを含む複雑な反応順序を開示している。
【０００５】
ロジウム、パラジウム、ルテニウム、ニッケル、コバルト又は白金をベースと
する水素化触媒を使用し且つ酸も存在させてテトラハロテレフタロニトリルを水
素化することによるテトラハロキシリリデンジアミンの製造がＥＰ−Ａ−０９９
６２２に記載されている。
する水素化触媒を使用し且つ酸も存在させてテトラハロテレフタロニトリルを水
素化することによるテトラハロキシリリデンジアミンの製造がＥＰ−Ａ−０９９
６２２に記載されている。
【０００６】
Ｎ−Ｃ結合の開裂を伴う２，３，５，６−テトラハロキシリリデンジアミンの
２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物への転化はこれまで記載されて
いない。
２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物への転化はこれまで記載されて
いない。
【０００７】
本発明の目的は、簡単な前駆体から高い空時収率での２，３，５，６−テトラ
ハロキシリリデン化合物の工業的製造を促進する方法を提供することである。
ハロキシリリデン化合物の工業的製造を促進する方法を提供することである。
【０００８】
本発明は、一般式（Ｉ）
【０００９】
【化４】
【００１０】
式中、各Ｈａｌは同一であるか又は相異なっていてもよく、フッ素又は塩素で
あり、そしてＸはフッ素、塩素、臭素、−Ｏ−Ｒ又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒであり
、ここでＲは水素、直鎖状もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ12−アルキル基又はＣ6〜Ｃ14 −アリール基である、 の２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物を、一般式（ＩＩ）
あり、そしてＸはフッ素、塩素、臭素、−Ｏ−Ｒ又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒであり
、ここでＲは水素、直鎖状もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ12−アルキル基又はＣ6〜Ｃ14 −アリール基である、 の２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物を、一般式（ＩＩ）
【００１１】
【化５】
【００１２】
式中、Ｈａｌは一般式（Ｉ）について定義したとおりである、
の２，３，５，６−テトラハロキシリリデンジアミンを反応させることにより製
造する方法であって、 一般式（ＩＩ）の化合物を、溶媒としてのＨＸ［ここで、ＨＸにおけるＸは一
般式（Ｉ）について定義したとおりである］中の亜硝酸アルキル及び／又は亜硝
酸と反応させることを特徴とする方法を提供する。
造する方法であって、 一般式（ＩＩ）の化合物を、溶媒としてのＨＸ［ここで、ＨＸにおけるＸは一
般式（Ｉ）について定義したとおりである］中の亜硝酸アルキル及び／又は亜硝
酸と反応させることを特徴とする方法を提供する。
【００１３】
本発明に従う方法において、一般式（Ｉ）及びＨＸにおける置換基Ｘは、好ま
しくは、フッ素、ヒドロキシル、ＯＲ又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒであり、ここでＲ
は水素又は直鎖状もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ6−アルキル基、特にＣ1〜Ｃ4−アルキ
ル基である。
しくは、フッ素、ヒドロキシル、ＯＲ又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒであり、ここでＲ
は水素又は直鎖状もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ6−アルキル基、特にＣ1〜Ｃ4−アルキ
ル基である。
【００１４】
更に好ましくは、使用される溶媒ＨＸが水であり、それにより一般式（Ｉ）の
得られる化合物は２，３，５，６−テトラハロキシリリデンジオールである。
得られる化合物は２，３，５，６−テトラハロキシリリデンジオールである。
【００１５】
式（ＩＩ）の２，３，５，６−テトラハロキシリリデンジアミンのジアゾ化は
、本発明に従う方法において亜硝酸アルキル及び／又は亜硝酸の存在下に行われ
る。有用な亜硝酸アルキルは亜硝酸Ｃ1〜Ｃ10−アルキルを包含し、好ましくは
亜硝酸イソアミル、亜硝酸エチル又は亜硝酸メチルが使用され、最も好ましくは
亜硝酸メチルが使用される。亜硝酸アルキルの代わりに又は亜硝酸アルキルに加
えて、亜硝酸を使用することもできる。亜硝酸は、アルカリ金属亜硝酸塩及び／
又はアルカリ土類金属亜硝酸塩と鉱酸及び／又はカルボン酸から現場で生成させ
ることもできる。この場合に、アルカリ金属亜硝酸塩及び／又はアルカリ土類金
属亜硝酸塩は、好ましくは、亜硝酸カルシウム、亜硝酸マグネシウム、亜硝酸ナ
トリウム又は亜硝酸カリウムであり、そして鉱酸は、好ましくは、硫酸、塩酸、
フッ化水素酸、クロロスルホン酸、フルオロスルホン酸又はリン酸である。カル
ボン酸は、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸又は安息香酸であることができる
。
、本発明に従う方法において亜硝酸アルキル及び／又は亜硝酸の存在下に行われ
る。有用な亜硝酸アルキルは亜硝酸Ｃ1〜Ｃ10−アルキルを包含し、好ましくは
亜硝酸イソアミル、亜硝酸エチル又は亜硝酸メチルが使用され、最も好ましくは
亜硝酸メチルが使用される。亜硝酸アルキルの代わりに又は亜硝酸アルキルに加
えて、亜硝酸を使用することもできる。亜硝酸は、アルカリ金属亜硝酸塩及び／
又はアルカリ土類金属亜硝酸塩と鉱酸及び／又はカルボン酸から現場で生成させ
ることもできる。この場合に、アルカリ金属亜硝酸塩及び／又はアルカリ土類金
属亜硝酸塩は、好ましくは、亜硝酸カルシウム、亜硝酸マグネシウム、亜硝酸ナ
トリウム又は亜硝酸カリウムであり、そして鉱酸は、好ましくは、硫酸、塩酸、
フッ化水素酸、クロロスルホン酸、フルオロスルホン酸又はリン酸である。カル
ボン酸は、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸又は安息香酸であることができる
。
【００１６】
本発明に従う方法の好ましい態様は、溶媒ＨＸに加えて、１種又はそれ以上の
他の不活性溶媒を使用する。本発明に従う方法のための有用な他の不活性溶媒は
、Ｃ3〜Ｃ30−アルカン、好ましくはＣ6〜Ｃ12−アルカン、Ｃ5〜Ｃ30−シクロ
アルカン、好ましくはＣ6〜Ｃ12−シクロアルカン、Ｃ6〜Ｃ20−芳香族化合物、
好ましくはＣ6〜Ｃ18−芳香族化合物、Ｃ3〜Ｃ30−エステル及びＣ3〜Ｃ30−エ
ーテルを包含する。ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、シクロヘキサン、デカ
リン、ベンゼン、トルエン、キシレン類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
トリクロロベンゼン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン又はジフェニルエーテルを使用するのが好ましい。
他の不活性溶媒を使用する。本発明に従う方法のための有用な他の不活性溶媒は
、Ｃ3〜Ｃ30−アルカン、好ましくはＣ6〜Ｃ12−アルカン、Ｃ5〜Ｃ30−シクロ
アルカン、好ましくはＣ6〜Ｃ12−シクロアルカン、Ｃ6〜Ｃ20−芳香族化合物、
好ましくはＣ6〜Ｃ18−芳香族化合物、Ｃ3〜Ｃ30−エステル及びＣ3〜Ｃ30−エ
ーテルを包含する。ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、シクロヘキサン、デカ
リン、ベンゼン、トルエン、キシレン類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
トリクロロベンゼン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン又はジフェニルエーテルを使用するのが好ましい。
【００１７】
反応混合物のｐＨを鉱酸及び／又はカルボン酸の添加により０〜９、好ましく
は２〜７、更に好ましくは３〜５の値に調節することも有利であろう。使用され
る鉱酸及びカルボン酸は亜硝酸の現場での生成について既に上記した化合物であ
ることができる。
は２〜７、更に好ましくは３〜５の値に調節することも有利であろう。使用され
る鉱酸及びカルボン酸は亜硝酸の現場での生成について既に上記した化合物であ
ることができる。
【００１８】
本発明に従う方法は、０〜１００℃、好ましくは３０〜６０℃の温度で操作さ
れる。
れる。
【００１９】
ジアゾ化期間中の圧力は、０．２〜２００バール、好ましくは０．５〜５０バ
ール、更に好ましくは１〜１０バールである。
ール、更に好ましくは１〜１０バールである。
【００２０】
式（ＩＩ）の化合物対亜硝酸アルキル及び／又は亜硝酸のモル比は１：（２〜
１０）、好ましくは１：（２〜４）である。反応溶液は、１〜５０重量％、好ま
しくは５〜２５重量％の反応体含有率を有する。
１０）、好ましくは１：（２〜４）である。反応溶液は、１〜５０重量％、好ま
しくは５〜２５重量％の反応体含有率を有する。
【００２１】
本発明に従う方法は、慣用の反応器において、そしてバッチ式で、半連続的に
又は連続的に操作することができる。正確な工業的態様はプロセスパラメーター
に依存しておりそして当業者により容易に決定することができる。
又は連続的に操作することができる。正確な工業的態様はプロセスパラメーター
に依存しておりそして当業者により容易に決定することができる。
【００２２】
本発明に従う方法のための出発物質は式（ＩＩ）の化合物であり、これは好ま
しくは適当なテトラハロテレフタロニトリルの水素化により得られる。
しくは適当なテトラハロテレフタロニトリルの水素化により得られる。
【００２３】
好ましい態様は、式（ＩＩ）の化合物が、水素化触媒及び溶媒ＨＸの存在下で
の、一般式（ＩＩＩ）
の、一般式（ＩＩＩ）
【００２４】
【化６】
【００２５】
式中、Ｈａｌ及びＸは一般式（Ｉ）について定義したとおりである、
の化合物の水素化により製造されるような方法で本発明に従う方法を操作するこ
とを含む。
とを含む。
【００２６】
有用な水素化触媒は、ニトリルの水素化のためのすべての慣用の及び既知の触
媒を包含する。特に、周規律表のＶＩＩＩ族の遷移元素をベースとする触媒が有
用であることが証明された。ロジウム、パラジウム、ルテニウム、ニッケル、コ
バルト又は白金をベースとする水素化触媒を使用するのが好ましく、パラジウム
触媒を使用するのが特に好ましい。
媒を包含する。特に、周規律表のＶＩＩＩ族の遷移元素をベースとする触媒が有
用であることが証明された。ロジウム、パラジウム、ルテニウム、ニッケル、コ
バルト又は白金をベースとする水素化触媒を使用するのが好ましく、パラジウム
触媒を使用するのが特に好ましい。
【００２７】
水素化は、１種又はそれ以上の溶媒ＨＸ［ここでＸは式（Ｉ）について定義し
たとおりである］の存在下でも行われる。他の不活性溶媒も場合により存在させ
ることができる。水素化の反応温度は−３０℃〜＋６０℃、好ましくは０〜３０
℃であり、そして圧力は３〜３００バール、好ましくは１０〜１００バールであ
る。鉱酸及び／又はカルボン酸の存在下に水素化することは好ましい。使用され
る鉱酸及びカルボン酸は、本発明に従う方法について既に記載された鉱酸及びカ
ルボン酸であることができる。
たとおりである］の存在下でも行われる。他の不活性溶媒も場合により存在させ
ることができる。水素化の反応温度は−３０℃〜＋６０℃、好ましくは０〜３０
℃であり、そして圧力は３〜３００バール、好ましくは１０〜１００バールであ
る。鉱酸及び／又はカルボン酸の存在下に水素化することは好ましい。使用され
る鉱酸及びカルボン酸は、本発明に従う方法について既に記載された鉱酸及びカ
ルボン酸であることができる。
【００２８】
特に有利な方法の変法（ｖａｒｉａｎｔ）は、水素化により得られる式（ＩＩ
）の化合物がろ過により水素化触媒を除去され、そして必要ならばやっかいな溶
媒の蒸留による除去の後、介在する単離なしにジアゾ化に直接導入されることに
より特徴付けられる。これは、最初の仕込み材料（ｉｎｉｔｉａｌ ｃｈａｒｇ
ｅ）として水素化後に得られる反応溶液を使用しそしてジアゾ化試薬亜硝酸アル
キル及び／又は亜硝酸を加えること、又はその逆、により行うことができる。
）の化合物がろ過により水素化触媒を除去され、そして必要ならばやっかいな溶
媒の蒸留による除去の後、介在する単離なしにジアゾ化に直接導入されることに
より特徴付けられる。これは、最初の仕込み材料（ｉｎｉｔｉａｌ ｃｈａｒｇ
ｅ）として水素化後に得られる反応溶液を使用しそしてジアゾ化試薬亜硝酸アル
キル及び／又は亜硝酸を加えること、又はその逆、により行うことができる。
【００２９】
本発明に従う方法は、簡単なプロセス段階により高純度で且つ高い空時収率で
所望の２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物を与える。
所望の２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物を与える。
【００３０】
実施例１
硫酸溶液としての２，３，５，６−テトラフルオロキシリリデンジアミンの製
造 ２，３，５，６−テトラフルオロテレフタロニトリル１２４９．５ｇ（６．２
４モル）を、メタノール７５０ｍｌ、水５２５０ｍｌ、濃硫酸１０５０ｇ及び５
％パラジウム−炭素触媒７５ｇと一緒に１０リットルのオートクレーブに最初に
仕込み、そして一定の圧力が得られるまで３０℃及び３０バールの水素圧で水素
化する。触媒をろ別する。次いでメタノールを再び８０〜９０℃及び３５０ミリ
バールで留去する。硫酸溶液６６９０ｇが得られ、このものはＧＣ分析（外部標
準）に従えばテトラフルオロキシリリデンジアミン１１９７．２ｇ（５．７５モ
ル）（９２％収率）を含有する。
造 ２，３，５，６−テトラフルオロテレフタロニトリル１２４９．５ｇ（６．２
４モル）を、メタノール７５０ｍｌ、水５２５０ｍｌ、濃硫酸１０５０ｇ及び５
％パラジウム−炭素触媒７５ｇと一緒に１０リットルのオートクレーブに最初に
仕込み、そして一定の圧力が得られるまで３０℃及び３０バールの水素圧で水素
化する。触媒をろ別する。次いでメタノールを再び８０〜９０℃及び３５０ミリ
バールで留去する。硫酸溶液６６９０ｇが得られ、このものはＧＣ分析（外部標
準）に従えばテトラフルオロキシリリデンジアミン１１９７．２ｇ（５．７５モ
ル）（９２％収率）を含有する。
【００３１】
実施例２
２，３，５，６−テトラフルオロキシリリデンジオールの製造
上記の如くして製造されたテトラフルオロキシリリデンジアミン硫酸水素塩溶
液３２００ｇ（化合物２．８７モル）を、２０％水酸化ナトリウム溶液８６８ｇ
を使用してｐＨ４に調節する。反応混合物を８０〜９０℃に加熱しそして４０％
亜硝酸ナトリウム溶液９８１ｇを４時間以内に滴下により加える。同時に、溶液
のｐＨを３０％硫酸１２７ｇの使用により３〜５に保持する。更にガスが生成さ
れなくなると、反応バッチを酢酸エチル７５０ｍｌで２回抽出し、次いで有機相
を減圧下に濃縮する。２，３，５，６−テトラフルオロキシリリデンジオール４
５６ｇ（２．１７モル）が７４．５％の純度で且つ７６％の収率で得られる。
液３２００ｇ（化合物２．８７モル）を、２０％水酸化ナトリウム溶液８６８ｇ
を使用してｐＨ４に調節する。反応混合物を８０〜９０℃に加熱しそして４０％
亜硝酸ナトリウム溶液９８１ｇを４時間以内に滴下により加える。同時に、溶液
のｐＨを３０％硫酸１２７ｇの使用により３〜５に保持する。更にガスが生成さ
れなくなると、反応バッチを酢酸エチル７５０ｍｌで２回抽出し、次いで有機相
を減圧下に濃縮する。２，３，５，６−テトラフルオロキシリリデンジオール４
５６ｇ（２．１７モル）が７４．５％の純度で且つ７６％の収率で得られる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ
，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，
ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ
Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ
，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，
ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，
ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ
Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ
，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，
ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，Ｊ
Ｐ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ
，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，
ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ
Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ
，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，
ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC41 AC52 BA18 BA22
BA32 BA34 BA51 BA61 BB31
BC10 BC11 BC16 BD70 BE60
FC52 FE11 FE73 FE74 FE75
4H039 CA60 CD50
Claims (13)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 式中、各Ｈａｌは同一であるか又は相異なっていてもよく、フッ素又は塩素で
あり、そしてＸはフッ素、塩素、臭素−Ｏ−Ｒ又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒであり、
ここでＲは水素、直鎖状もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ12−アルキル又はＣ6〜Ｃ14−ア
リール基である、 の２，３，５，６−テトラハロキシリリデン化合物を、一般式（ＩＩ） 【化２】 式中、Ｈａｌは一般式（Ｉ）について定義したとおりである、 の２，３，５，６−テトラハロキシリリデンジアミンを反応させることにより製
造する方法であって、 一般式（ＩＩ）の化合物を、溶媒としてのＨＸ［ここで、Ｘは一般式（Ｉ）に
ついて定義したとおりである］中の亜硝酸アルキル及び／又は亜硝酸と反応させ
ることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 一般式（Ｉ）又はＨＸにおけるＸが、フッ素、ヒドロキシル
、ＯＲ又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒであり、ここでＲは水素又はＣ1〜Ｃ6−アルキル
、好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキルであることを特徴とする請求項１に記載の方法
。 - 【請求項３】 使用される亜硝酸アルキルが亜硝酸Ｃ1〜Ｃ10−アルキル、
好ましくは亜硝酸イソアミル、亜硝酸エチル又は亜硝酸メチルであることを特徴
とする請求項１又は２に記載の方法。 - 【請求項４】 亜硝酸アルキルの代わりに又は亜硝酸アルキルに加えて、亜
硝酸を使用することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。 - 【請求項５】 アルカリ金属亜硝酸塩及び／又はアルカリ土類金属亜硝酸塩
と鉱酸及び／又はカルボン酸からその場で亜硝酸を生成させることを特徴とする
請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 使用されるアルカリ金属亜硝酸塩又はアルカリ土類金属亜硝
酸塩が亜硝酸カルシウム、亜硝酸マグネシウム、亜硝酸ナトリウム又は亜硝酸カ
リウムであり、そして使用される鉱酸が硫酸、塩酸、フッ化水素酸、クロロスル
ホン酸、フルオロスルホン酸又はリン酸であり、及び／又は使用されるカルボン
酸がギ酸、酢酸、プロピオン酸又は安息香酸であることを特徴とする請求項５に
記載の方法。 - 【請求項７】 溶媒としてＨＸを使用して水の存在下に操作を行うことを特
徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。 - 【請求項８】 反応混合物のｐＨを請求項６に記載の鉱酸及び／又はカルボ
ン酸の添加により０〜９、好ましくは２〜７、更に好ましくは３〜５の値に調節
することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の方法。 - 【請求項９】 ０〜１００℃、好ましくは３０〜６０℃の温度及び０．２〜
２００バール、好ましくは０．５〜５０バール、更に好ましくは１〜１０バール
の圧力で操作を行うことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１０】 水素化触媒及び溶媒ＨＸの存在下に、一般式（ＩＩＩ） 【化３】 式中、Ｈａｌ及びＸは一般式（Ｉ）について定義したとおりである、 の化合物を水素化することにより一般式（ＩＩ）の化合物を得ることを特徴とす
る請求項１〜９のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１１】 周規律表のＶＩＩＩ族の遷移元素をベースとする水素化触
媒、好ましくはロジウム、パラジウム、ルテニウム、ニッケル、コバルト又は白
金をベースとする水素化触媒を使用することを特徴とする請求項１０に記載の方
法。 - 【請求項１２】 水素化を１種又はそれ以上の溶媒ＨＸ［ここでＸは式（Ｉ
）について定義したとおりである］の存在下に行い、水素化の反応温度が−３０
℃〜＋６０℃、好ましくは０〜３０℃であり、そして圧力が３〜３００バール、
好ましくは１０〜１００バールであることを特徴とする請求項１０又は１１に記
載の方法。 - 【請求項１３】 水素化により得られる式（ＩＩ）の化合物がろ過により水
素化触媒を除去され、そして必要ならば溶媒の蒸留による除去の後、請求項１〜
８のいずれかに記載の方法に直接導入されることを特徴とする請求項１０〜１２
のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10003320.2 | 2000-01-27 | ||
| DE10003320A DE10003320C2 (de) | 2000-01-27 | 2000-01-27 | Verfahren zur Herstellung von 2,3,5,6-Tetrahalogen-xylylidenverbindungen |
| PCT/EP2001/000446 WO2001055064A1 (de) | 2000-01-27 | 2001-01-17 | Verfahren zur herstellung von 2,3,5,6-tetrahalogen-xylylidenverbindungen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003523966A true JP2003523966A (ja) | 2003-08-12 |
| JP2003523966A5 JP2003523966A5 (ja) | 2008-03-06 |
Family
ID=7628784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001555009A Pending JP2003523966A (ja) | 2000-01-27 | 2001-01-17 | ２，３，５，６−テトラハロゲンキシリリデン化合物の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6753444B2 (ja) |
| EP (1) | EP1254096B1 (ja) |
| JP (1) | JP2003523966A (ja) |
| CN (1) | CN1396895A (ja) |
| AU (1) | AU2001235423A1 (ja) |
| DE (2) | DE10003320C2 (ja) |
| WO (1) | WO2001055064A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0026349D0 (en) * | 2000-10-27 | 2000-12-13 | Zeneca Ltd | Chemical process |
| DE10117206A1 (de) | 2001-04-06 | 2002-10-10 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von halogensubstituierten Dibenzylalkoholen, diese halogensubstituierten Dibenzylalkohole sowie deren Verwendung |
| CN100383111C (zh) * | 2006-06-30 | 2008-04-23 | 上海万溯化学有限公司 | 一种氟代芳香烃化合物的制备方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JPS591448A (ja) * | 1982-05-27 | 1984-01-06 | インペリアル・ケミカル・インダストリ−ズ・ピ−エルシ− | 過ハロゲン化テレフタロニトリルを水素化する方法 |
| GB2127013A (en) * | 1982-09-17 | 1984-04-04 | Ici Plc | Tetrafluoroterephthalyl alcohol, esters thereof and a process for their preparation |
| JPS59157039A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-06 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | キシリレングリコ−ルの製造法 |
| JPS59163332A (ja) * | 1983-03-07 | 1984-09-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | キシリレングリコ−ルを製造する方法 |
| JPS59163331A (ja) * | 1983-03-07 | 1984-09-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | キシリレングリコ−ルの製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS59206338A (ja) * | 1983-05-10 | 1984-11-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | ヒドロキシジフエニルアミン類の製造法 |
| GB8403548D0 (en) * | 1984-02-10 | 1984-03-14 | Ici Plc | Chemical process |
| US4912268A (en) * | 1988-02-26 | 1990-03-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for manufacture of fluoroaromatics |
| GB9609154D0 (en) * | 1996-05-01 | 1996-07-03 | Rhone Poulenc Chemicals | Process for the preparation of fluoro compounds from the corresponding amines |
| JP2000086583A (ja) * | 1998-09-17 | 2000-03-28 | Asahi Glass Co Ltd | 含フッ素ベンジル誘導体の製造方法 |
| US6909023B2 (en) * | 2000-07-04 | 2005-06-21 | Showa Denko K.K. | Production method for benzenedimethanol compound |
-
2000
- 2000-01-27 DE DE10003320A patent/DE10003320C2/de not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-01-17 WO PCT/EP2001/000446 patent/WO2001055064A1/de active IP Right Grant
- 2001-01-17 JP JP2001555009A patent/JP2003523966A/ja active Pending
- 2001-01-17 CN CN01804200.7A patent/CN1396895A/zh active Pending
- 2001-01-17 AU AU2001235423A patent/AU2001235423A1/en not_active Abandoned
- 2001-01-17 EP EP01907453A patent/EP1254096B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-01-17 US US10/181,997 patent/US6753444B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-01-17 DE DE50107987T patent/DE50107987D1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS59163331A (ja) * | 1983-03-07 | 1984-09-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | キシリレングリコ−ルの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE10003320C2 (de) | 2002-04-11 |
| CN1396895A (zh) | 2003-02-12 |
| AU2001235423A1 (en) | 2001-08-07 |
| US6753444B2 (en) | 2004-06-22 |
| EP1254096B1 (de) | 2005-11-09 |
| WO2001055064A1 (de) | 2001-08-02 |
| DE50107987D1 (de) | 2005-12-15 |
| US20020198401A1 (en) | 2002-12-26 |
| EP1254096A1 (de) | 2002-11-06 |
| DE10003320A1 (de) | 2001-08-09 |
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| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A601 | Written request for extension of time |
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|
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