JP2003519119A - (ヘテロ)ビシクリルメタンスルホニルアミノ置換ヒドロキサム酸誘導体 - Google Patents

(ヘテロ)ビシクリルメタンスルホニルアミノ置換ヒドロキサム酸誘導体

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Abstract

(57)【要約】 Rが水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリールまたはヘテロサイクリルであり;Rがビサイクリルまたはヘテロビサイクリルである、式(I)の化合物はs−CD23またはTNFにより媒介される症状の治療または予防に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (技術分野) 本発明は可溶性ヒトCD23形成の新規な阻害剤、および自己免疫疾患、炎症
およびアレルギーなどの可溶性CD23(s−CD23)の過剰産生に伴う症状
の治療における使用に関する。
【0002】 (従来技術) CD23(低親和性IgE受容体FceRII、Blast2)は、Bおよび
Tリンパ球、マクロファージ、ナチュラルキラー細胞、ランゲルハンス細胞、単
球および血小板を含む、種々の成熟細胞の表面上に発現される45kDaのII
型インテグラル蛋白である(Delespesseら、Adv Immunol、49[1991]1
49−191]。好酸球上にもCD23様分子が存在する(Grangetteら、J Imm
unol、143[1989]3580−3588)。CD23は免疫応答の制御と
関連付けられている(Delespesseら、Immunol Rev、125[1992]77−
97)。ヒトCD23は、細胞内N−末端のアミノ酸だけが異なる、2種の特異
的に制御されたイソ形態、a型およびb型として存在する(Yokotaら、Cell、5
5[1988]611−618)。ヒトにおいて、構造的aイソ形態はB‐リン
パ球においてのみ見られ、それに対してIL4により誘発されるb型は、CD2
3の発現能を有するあらゆる細胞上に見られる。 無傷の細胞に結合したCD23(i−CD23)は、細胞表面からの切断を受
けて、複雑な一連の蛋白分解性事象の結果として生成されるのであるが、その機
構はまだあまり理解されていない、多数の明確な可溶性フラグメント(s−CD
23)を形成することが知られている(Bourgetら、J Biol Chem、269[19
94]6927−6930)。まだ証明されているわけではないが、これら蛋白
分解性事象の大部分の可溶性フラグメント(分子量37、33、29および25
kDa)はすべてi−CD23と共通のC−末端レクチンドメインを保持してお
り、最初に37kDaのフラグメントを形成して連続的に形成されると仮定され
ている(Letellierら、J Exp Med、172[1990]693−700)。もう
一つ別の細胞内切断経路により、i−CD23とC−末端ドメインが異なる、安
定した16kDaのフラグメントが得られる(Grenier‐Brosetteら、Eur J Imm
unol、22[1992]1573−1577)。
【0003】 ヒトにおいて数種の活性は膜結合したi−CD23が原因であり、そのすべて
がIgE制御にて一の役割を有することが明らかにされた。個々の活性は:a)
抗原提示、b)IgE介在好酸球細胞毒性、c)リンパ節および脾臓の胚細胞中
心へのB細胞の帰巣、およびd)IgE合成のダウンレギュレーション(Delesp
easseら、Adv Immunol、49[1991]149−191)。3種の高分子量の
可溶性CD23フラグメント(分子量37、33および29kDa)は、IgE
産生において大きな役割を果たすと思われる多機能のサイトカイン特性を有する
。かくして、s−CD23の過度の形成は、アレルギー疾患、例えば外因性喘息
、鼻炎、アレルギー結膜炎、湿疹、アトピー性皮膚炎およびアナフィラキシーの
顕著な特徴である、IgEの過剰産生と関連付けられた(SuttonおよびGould、N
ature 366[1993]421−428]。
【0004】 s−CD23が原因の他の生物学的活性として、B細胞増殖の刺激および伝達
物質の単球からの放出誘導が挙げられる。かくして、高レベルのs−CD23が
B−慢性リンパ球性白血病の患者の血清中(Sarfatiら、Blood、71[1988
]94−98)、そして慢性関節リウマチの患者の滑液中(Chomaratら、Arthri
tis and Rheumatism,36[1993]234−242]で観察された。CD2
3が炎症において一の役割を有することが多くの情報源により示唆されている。
まず、sCD23は、活性化されると、炎症の細胞介在事象に関連する細胞外受
容体に結合すると報告されている。sCD23は、単球、TNF、IL−1およ
びIL−6放出を直接活性化すると報告されている(Armantら、vol 180、J.
Exp.Med.、1005−1011(1994))。CD23は、単球/マクロファ
ージ上で、NO2、過酸化水素およびサイトカイン(IL−1、IL−6およ
びTNF)放出を作動させる、BS−インテグリン接着性分子、CD11bおよ
びCD11cと相互作用すると報告されている(S.Lecoanet-Henchozら、Immuni
ty、vol 3;119−125(1995))。最後に、IL−4またはIFNは
CD23の発現を、そしてヒト単球によるそのsCD23としての放出を誘発す
る。膜結合CD23受容体とIgE/抗−IgE免疫複合体または抗CD23m
Abとのライゲーションは、cAMPおよびIL−6産生を、そしてトロンボキ
サンB2形成を活性化し、それにより炎症におけるCD23の受容体を介在する
役割が明らかにされる。
【0005】 CD23はこのような種々の特性を有するため、s−CD23の形成を阻害す
る化合物は、a)B細胞表面上にあるi−CD23のレベルを維持することによ
りIgE合成の負のフィードバック阻害を亢進する、およびb)s−CD23の
高分子量の可溶性フラグメント(分子量37、33および29kDa)の免疫刺
激性サイトカイン活性を阻害するという、二面的作用を有するであろう。加えて
、CD23切断の阻害はsCD23が誘発する単球活性化および伝達物質形成を
緩和し、それにより炎症応答が減少する。 TNFαは、成熟形態を生成するために、不活性前駆体における76個のアミ
ノ酸シグナル配列を特異的に切断することにより刺激細胞から放出されるプロ炎
症性サイトカインである。TNFαの切断はメタロプロテアーゼによりなされる
と報告されている(Gearing,A.J.H.ら(1994)Nature 370、555−5
57;McGeehan,G.M.ら(1994)Nature 370、558−561;Mohler,
K.M.ら(1994)Nature 370、218−220)。TNF処理酵素により
TNFαの切断を阻害すると報告されている化合物は特にヒドロキサム酸種のマ
トリックスメタロプロテアーゼ阻害剤として広く記載されている。
【0006】 TNFαは、一連の細胞型にて、細菌、エンドトキシン、種々のウイルスおよ
び寄生体に応答して誘発され、そのためにTNFαに帰属する一の生理学的機能
は細菌、寄生体などによる急性感染に対する炎症性応答の一因である(Dinarell
o,CA.(1992)Immunol. 4、133−145)。TNFαの過剰産生は、慢
性関節リウマチ、敗血性ショック、クローン病およびカヘキシーなどの病態と関
連付けられる(Dinarello、1992)。したがって、TNFαの成熟した活性
形態への工程を阻害することはこれらの炎症性疾患の治療にて利益があるであろ
う。TNFαはまた、自己免疫疾患の開始因子ではないが、該疾患において組織
を破壊することに寄与しているかもしれない。慢性関節リウマチにおけるTNF
αの重要性を確認する際に、慢性関節リウマチ実験における短期間の試験にてT
NFα抗体が疾患の重篤度を減少させることが明らかにされた(Elliott,M.J.ら
(1993)Arthrit.Rheum. 12、1681−1690;Elliottら(1994
)Lancet 344、1125−1127)。
【0007】 国際特許出願公開番号WO97/27174(シオノギ)および国際特許出願
公開番号WO95/35275(ブリティッシュ・バイオテック)は、式(A)
【化9】 [式中、Rはアリールアルキルまたはヘテロアリールアルキルを意味する] で示される特定の化合物がメタロプロテイナーゼの効果的な阻害剤であると開示
している。 国際特許出願公開番号WO98/46563(ブリティッシュ・バイオテック
)は、Rがフェニルアルキルまたはヘテロアリールアルキルである、上記した
式(A)の特定の化合物がマトリックスメタロプロテアーゼの効果的な阻害剤で
あると開示している。
【0008】 本発明によれば、式(I):
【化10】 [式中、 Rは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリールま
たはヘテロサイクリルであり;および Rはビサイクリルまたはヘテロビサイクリルを意味する] で示される化合物が提供される。
【0009】 R基の定義中に言及するアルキル、アルケニルおよびアルキニル基は、8個ま
での炭素原子を含有する直鎖、分岐鎖および環状基を包含し、所望により、アリ
ール、ヘテロサイクリル、(C1−6)アルキルチオ、(C2−6)アルケニルチオ
、(C2−6)アルキニルチオ、アリールオキシ、アリールチオ、ヘテロサイクリ
ルオキシ、ヘテロサイクリルチオ、(C1−6)アルコキシ、(C1−6)アルケニ
ルオキシ、(C1−6)アルキニルオキシ、アリール(C1−6)アルコキシ、アリ
ール(C1−6)アルキルチオ、アミノ、モノ-またはジ-(C1−6)アルキルアミ
ノ、アシルアミノ、(C1−6)アルキルスルホニルアミノ、アリール(C1−6)
アルキル スルホニルアミノ、アリール(C1−6)アルケニルスルホニルアミノ
およびアリールスルホニルアミノを含むスルホニルアミノ、シクロアルキル、シ
クロアルケニル、カルボン酸(C1−6)エステル、ヒドロキシ、ハロゲンおよび
カルボキシアミド:RおよびRが、独立して、水素、アルキル、アリール、
アリールアルキルおよびヘテロサイクリルからなる群より選択され、ヘテロサイ
クリル基の一部としてのRおよびRを含むCONRからなる群より選
択される1またはそれ以上の基で置換されていてもよい。
【0010】 R基の定義中に言及するシクロアルキルおよびシクロアルケニル基は3個およ
び8個の間の環炭素原子を有する基を包含し、所望により、アルキル、アルケニ
ルおよびアルキニル基について上記したように置換されていてもよい。 R基の定義中に用いる場合、「アリール」なる語はフェニルを包含する。フェ
ニルを含むいずれのアリール基も、所望により、5個までの、好ましくは3個ま
での置換基で置換されていてもよい。適当な置換基はハロゲン、CF、OCF 、CN、(C1−6)アルキル、(C1−6)アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、
ヘテロサイクリル、ヘテロサイクリル(C1−6)アルキル、モノ-およびジ-N-(
1−6)アルキルアミノ、アシルアミノ、アシルオキシ、カルボキシ、(C1− )アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、モノ-およびジ-N-(C1−6)ア
ルキルアミノカルボニル、モノ-およびジ-N-(C1−6)アルキルアミノアルキ
ル、アミノスルホニル、(C1−6)アルキルスルホニル、モノ-およびジ-N-(C 1−6 )アルキルアミノスルホニル、(C1−6)モノ-およびジアルキルアミノス
ルホニルオキシ、(C1−6)アルキルスルホニルオキシ、トリフルオロメチルス
ルホニルオキシを含むハロアルキルスルホニルオキシ、(C1−6)アルキルチオ
および所望によりアルキルで置換されていてもよい(C1−6)アルキルスルホニ
ルアミノを包含する。「アリール」なる語は単環またはその一つが芳香環である
縮合環を包含し、該環は置換されていなくても、例えば、上記した3個までの置
換基により置換されていてもよい。各環は4ないし7個の、好ましくは5または
6個の環原子を有することが適当である。
【0011】 R基の定義にて用いる場合、「ヘテロアリール」なる語は、適当には、少なく
とも1個の芳香環(複素環または炭素環)を組み入れたヘテロサイクリル基を包
含する。適当なヘテロアリール基はチオフェン-2-イル、チオフェン-3-イルお
よびベンゾチオフェン-3-イルなどのチオフェンを包含する。 R基の定義にて用いる場合、「ヘテロサイクリル」および「ヘテロサイクリッ
ク」なる語は、適当には、特記しない限り、芳香族および非芳香族の、単環およ
び各環が4個までの、その各々が酸素、窒素および硫黄から選択されるヘテロ原
子を含有していてもよい縮合環を包含し、該環は置換されていなくても、例えば
3個までの置換基で置換されていてもよい。各環は、適当には、4ないし7個の
、適当には5または6個の環原子を有する。縮合複素環式環系は炭素環式環を含
んでいてもよく、わずか1個の複素環式環があればよい。好ましくは、ヘテロサ
イクリル基についての置換基はハロゲン、(C1−6)アルキル、(C1−6)アル
コキシ、ヒドロキシ、CF、OCF、CN、アミノ、モノ-およびジ-N-(C 1−6 )アルキルアミノ、アシルアミノ、アシルオキシ、カルボキシ、(C1−6 )アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、モノ-およびジ-N-(C1−6)アル
キルアミノカルボニル、(C1−6)アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニ
ル、(C1−6)アルキルチオおよび(C1−6)アルキルスルホニルから選択され
る。
【0012】 R基の定義にて用いる場合、「ビサイクリル」は、適当には、各環が4ない
し7個の、好ましくは5または6個の環原子を含有する縮合二環式環を意味する
。ビサイクリルの一の環は飽和状態であっても、または部分飽和であってもよい
。適当なビサイクリル基は2-ナフチルなどのナフチル、2-テトラヒドロナフチ
ルなどのテトラヒドロナフチルおよび2-インダニルなどのインダニルを包含す
る。 R基の定義にて用いる場合、「ヘテロビサイクリル」は、各環が4個までの
酸素、窒素および硫黄より選択されるヘテロ原子を含有する縮合二環式芳香族お
よび非芳香環を意味する。各環は、適当には、4ないし7個の、好ましくは5ま
たは6個の環原子を有する。その縮合二環式環系は1つの炭素環式環および1つ
の飽和または部分飽和の環を含むことができる。適当なヘテロビサイクリル基は
ベンゾチオフェン-5-イルおよびベンゾチオフェン-6-イルなどのベンゾチオフ
ェンを包含する。
【0013】 ビサイクリルおよびヘテロビサイクリル環系中の芳香環は、3個までの置換基
で置換されていてもよい。適当な置換基はフッ素を包含する。 本発明の特定の態様において、Rはイソブチル、フェニル、4-ヒドロキシフ
ェニル、4-フルオロフェニル、4-イソプロピルフェニル、3-フルオロフェニ
ル、インドール-3-イルメチル、ベンゾチオフェン-3-イル、ベンゾチオフェン
-3-イルメチル、4-トリフルオロメトキシフェニル、4-トリフルオロメタンス
ルホニルオキシフェニル、フェニルメタンスルホニルアミノメチル、フェネチル
またはフタルイミドメチルであり、および/またはRは2-ナフチル、(R)-1
,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-イル、所望によりフッ素で置換されてい
てもよいベンゾチオフェン-5-イル、ベンゾチオフェン‐6‐イルまたはインダ
ン‐2‐イルである。本発明のさらなる態様において、RおよびRは以下の実
施例においてそれについて記載されている基からなる群より選択される。好まし
くは、本発明の式(I)の化合物は、以下の実施例に記載の化合物からなる群よ
り選択される。
【0014】 さらなる態様によれば、本発明は、s−CD23の過剰産生が関与している障
害、例えば、アレルギー、炎症性障害および自己免疫疾患の治療または予防用の
医薬を製造するための式(I)の化合物の使用を提供する。 さらなる態様において、本発明は、s−CD23の過剰産生が関与している障
害、例えば、アレルギー、炎症性障害および自己免疫疾患の治療または予防方法
であって、式(I)の化合物をその治療または予防を必要とするヒトまたはヒト
以外の哺乳動物に投与することを含む、方法を提供する。 本発明はまた、s−CD23の過剰産生が関与している障害、例えば、アレル
ギー、炎症性障害および自己免疫疾患を治療または予防するための医薬組成物で
あって、式(I)の化合物を含み、そのための医薬上許容される担体を含んでい
てもよい、医薬組成物を提供する。 個々の炎症性障害は、アルツハイマー病、多発性硬化症および多梗塞性痴呆症
ならびに炎症介在の発作および頭部損傷の後遺症などのCNS障害を包含する。
【0015】 さらなる態様によれば、本発明は、限定されるものではないが、炎症、発熱、
心血管作用、出血、凝固および急性期応答、カヘキシーおよび食欲不振、急性感
染、ショック状態、対宿主移植片拒絶反応および自己免疫疾患を含む、TNFに
より媒介される状態の治療または予防用医薬の製造のための式(I)の化合物の
使用を提供する。 さらなる態様において、本発明は、TNFが介在している症状の治療または予
防方法であって、式(I)の化合物をその治療または予防を必要とするヒトまた
はヒト以外の哺乳動物に投与することを含む、方法を提供する。 本発明はまた、TNFが介在している症状を治療または予防するための医薬組
成物であって、式(I)の化合物を含み、そのための医薬上許容される担体を含
んでいてもよい、医薬組成物を提供する。
【0016】 本発明者らは、意外にも、本発明の化合物が、マトリックスメタロプロテアー
ゼの阻害剤としての活性はほとんどまたは全くないが、CD23プロセシングお
よびTNFプロセシングの両方の強力かつ選択的阻害剤であることを見出した。 式(I)の化合物の医薬上許容される塩、溶媒和物および他の医薬上許容され
る誘導体もまた本発明に含まれることが理解されよう。 式(I)の化合物の塩は、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、
p−トルエンスルホン酸塩、リン酸塩、硫酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、
プロピオン酸塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、マロン酸塩、コハク
酸塩、乳酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩および安息香酸塩などの無機酸または有機
酸より誘導される酸付加塩を包含する。 塩は塩基を用いて形成することもできる。かかる塩は無機または有機塩基より
誘導される塩、例えば、ナトリウムまたはカリウム塩などのアルカリ金属塩、モ
ルホリン、ピペリジン、ジメチルアミンまたはジエチルアミン塩などの有機アミ
ン塩を包含する。
【0017】 本発明の化合物は、適当な慣用方法、例えば、特許公報EP−A−06060
46に開示されている方法と同様の方法により製造することができる。 したがって、本発明のさらなる態様は、上記した式(I)の化合物の製法であ
って、 (a)式(II):
【化11】 [式中、RおよびRは上記と同意義であり、Xはベンジル、t−ブチルジメチ
ルシリルまたはトリメチルシリルなどの保護基である] で示される化合物を脱保護するか、または (b)式(III):
【化12】 [式中、RおよびRは上記と同意義である] で示される化合物をヒドロキシルアミンまたはその塩と反応させるか、または (c)式(I)の化合物を上記した式(I)の異なる化合物に変換する、 ことを含む、方法を提供する。
【0018】 式(II)および(III)の化合物は新規な化合物であり、本発明のさらな
る態様を形成する。 式(II)の化合物は、式(III)の化合物を保護されたヒドロキシルアミ
ンと反応させることで調製することができる。式(III)の化合物は、式(I
V):
【化13】 [式中、RおよびRは上記と同意義であり、Yはt−ブチルまたはトリメチル
シリルなどの保護基を意味する] で示される化合物を脱保護することにより調製することができる。 ヒドロキサム酸の適当な保護基は当該分野にて周知であり、ベンジル、トリメ
チルシリル、t−ブチルおよびt−ブチルジメチルシリルを包含する。 カルボン酸の適当な保護基は当該分野にて周知であり、t−ブチル、ベンジル
、メチルおよびトリメチルシリルを包含する。
【0019】 式(IV)の化合物は、式(V):
【化14】 [式中、RおよびYは上記と同意義である] で示される化合物を、式(VI):
【化15】 [式中、RおよびRは上記と同意義である] で示される化合物またはその活性化誘導体、例えば、式(VIa):
【化16】 で示される塩化スルホニル化合物と反応させることにより調製することができる
【0020】 式(V)の化合物において、Yがトリメチルシリルである場合、その保護基は
式(VII):
【化17】 で示されるカルボン酸を適当なシリル化剤、例えばBSTFAと反応させること
により導入することができ、それを系内にて塩化スルホニルなどの式(VI)の
化合物の活性化誘導体と反応させる。 式(VIa)の塩化スルホニルは、まず式(VIII): R-CH-Z (VIII) [式中、Rは上記と同意義であり、Zはハロゲンあるいはアルキルまたはアリ
ールスルホネートを意味する] で示される化合物を、亜硫酸ナトリウムと反応させて対応するスルホン酸ナトリ
ウムを得ることにより調製することができ、それは所望により硫酸水素テトラ−
n−ブチルアンモニウムを用いて対応するスルホン酸テトラ−n−ブチルアンモ
ニウム塩に変換することができる。そのスルホン酸テトラ−n−ブチルアンモニ
ウム塩は、相間移動条件下で、式(VIII)の化合物(Zはブロミド、クロリ
ドまたはヨーダイドであることが好ましい)を直接変換することにより形成する
ことができる。しかしながら、この系で通常の条件(すなわち、相間移動性カチ
オンの式(VIII)の化合物に対する割合が1:1よりも小さい)下での相間
移動触媒作用は、スルホン酸塩とブロミドのイオンが形成され始めるや否や、そ
のイオンは触媒性カチオンを有機相中に隔離し、反応が終わるため、生成物の収
量は乏しい結果となる。1当量よりも大きな相間移動性カチオンを用いた場合、
すなわち相間移動性カチオンの式(VIII)の化合物に対する割合が>1:1
である場合に、収量の改良が得られることが判明した。したがって、本発明のさ
らなる態様は、式(VIa)の化合物の調製法であって、式(VIII)の化合
物を式(IX):
【化18】 [式中、Rは上記と同意義である] で示される化合物に、テトラ‐n‐ブチルアンモニウムカチオンの式(VIII
)の化合物の対する割合が1:1よりも大きい相間移動条件下で変換することを
含む、方法を提供する。好ましくは、約2当量(すなわち相間移動性カチオンの
式(VIII)の化合物に対する割合が約2:1である)の相間移動性カチオン
を用いて反応が完全に起こるようにする。
【0021】 スルホン酸塩の塩化スルホニルへの変換は、アセトニトリルおよびテトラヒド
ロチオフェン‐1,1‐ジオキシド中のオキシ塩化リンを高温で用いて行うこと
ができる(Abdellaouiら、Synth.Commun.1995、25(9) 1303)。スル
ホン酸テトラ−n−ブチルアンモニウムの場合には、塩化スルホニルは、好まし
くは−20℃またはそれ以下の低温条件下で五塩化リンまたはトリホスゲンなど
の塩素化剤を用い、好ましくはそのスルホン酸塩を塩素化剤に添加することで調
製される。 出発物質および他の試薬は市販されているか、または周知および慣用的な方法
により合成することができる。非天然アミノ酸の前駆体は文献に記載の方法を用
いて調製することができる。例えば、(R)-2-tert-ブトキシカルボニルアミノ-
3-アミノプロピオン酸の調製が、Zhang、Kauffman、Pesti、Yin、J.Org.Chem.
1997、62、6918に記載されている。
【0022】 アルファアリールグリシンは、Petasis、Goodman、Zavialov、Tetrahedron、
1997、53、16463に記載の方法を用いて調製することができる。アリ
ールグリシンを調製する別法が、Zaugg、Synthesis、1984、85で検討され
ている。置換アリールグリシンは、Buchwaldにより記載されている方法(例えば
、 Wolfe、Tomori、Sadighi、Yin、Buchwald、J.Org.Chem.、2000、65、
1158)を用いて対応するトリフレートまたはハライドより調製することがで
きる。 セリンから由来のβ−ラクトン、例えばN-(tert-ブトキシカルボニル)-セリ
ン β-ラクトンを一連のヘテロサイクリルを用いて開環し、非天然のアミノ酸誘
導体を得ることができる(Pansare、Arnold、Vederas、Org.Syn. 1992、7
0、10)。例えば、ピラゾールと反応させて置換β-(ピラゾール-1-イル)-ア
ラニン誘導体を得る。
【0023】 アミノ酸前駆体を調製するのに必要な官能基修飾は適当な保護を要求する可能
性がある。例えば、ヒドロキシル基をインサイチュでシリル化することでN−ト
リチル保護を導入することが、Dolence、Lin、Miller、J.Med.Chem. 1991、
34、956に記載されている。ヒドロキシル基の存在下、tert-ブチルエステ
ルとしてのカルボキシル基の選択的保護は、O-tert-ブチル N,N'-ジイソプロ
ピルイソウレアを用いて行うことができる(Maguireら、J.Org.Chem.、1990
、55、948)。
【0024】 本発明の化合物の立体異性体を含む異性体は、かかる異性体の混合物として、
または個々の異性体として調製することができる。個々の異性体はいずれか適当
な方法により調製することができ、例えば、個々の立体異性体はキラル基質より
出発する立体特異的化学合成方法により、あるいはジアステレオマーの混合物を
既知の方法を用いて分離することにより調製することができる。ラセミ体は合成
のいずれか適当な段階で分離することができる。キラル分取用HPLC法を用い
て最終生成物を分離してもよい。適当な基質に対する酵素的分割を行ってもよい
。例えば、アリールグリシンは、対応するN−ホルミル誘導体をアシラーゼIで
選択的加水分解に付すことで単一のエナンチオマーに分離することができる。
【0025】 好ましい態様において、本発明は式(IA):
【化19】 の化合物を提供する。
【0026】 化合物は実質的に純粋な形態にて単離されることが好ましい。 本明細書において言及する可溶性ヒトCD23の形成の阻害剤は有用な医薬特
性を有する。好ましくは、該活性化合物を医薬上許容される組成物として投与す
る。 該組成物は経口投与に適することが好ましい。しかし、気道障害を治療するた
めに、例えばスプレー、エアロゾルの形態の他の投与方法または吸入用の他の慣
用的方法;あるいは心不全を患っている患者のための非経口投与に適合させるこ
ともできる。別の投与方法は舌下投与または経皮投与を包含する。 該組成物は錠剤、カプセル、散剤、顆粒、ロゼンジ、坐剤、復元性散剤または
液体調製物、例えば経口または滅菌性非経口溶液または懸濁液の形態であっても
よい。
【0027】 投与のコンシステンシーを得るために、本発明の組成物は単位投与形であるこ
とが好ましい。 経口投与用の単位投与形は錠剤およびカプセルとすることができ、結合剤、例
えばシロップ、アカシア、ゼラチン、ソルビトール、トラガカントまたはポリビ
ニルピロリドン;充填剤、例えばラクトース、ショ糖、トウモロコシ澱粉、リン
酸カルシウム、ソルビトールまたはグリシン;錠剤滑沢剤、例えばステアリン酸
マグネシウム;崩壊剤、例えば澱粉、ポリビニル-ピロリドン、澱粉グリコール
酸ナトリウムもしくは微結晶セルロース;またはラウリル硫酸ナトリウムなどの
医薬上許容される湿潤剤などの慣用的な賦形剤を含有し得る。
【0028】 固体経口用組成物は、ブレンド、充填、錠剤化などの従来の方法によって得る
ことができる。繰返しブレンド操作を用いて、大量の充填剤を用いたこれらの組
成物全体に有効成分を分配することができる。かかる操作はもちろん当該分野に
おいて慣用的である。錠剤は、特に腸溶性コーティング剤を用いる一般的な製薬
慣習での周知な方法により被覆することができる。 経口用液体調製物は、例えば、エマルジョン、シロップまたはエリクシルの形
態とし、あるいは使用する前に水または他の適当な担体で復元する乾燥製品とし
て投与することができる。かかる液体調製物は、沈殿防止剤、例えば、ソルビト
ール、シロップ、メチルセルロース、ゼラチン、ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、ステアリン酸アルミニウムゲル、硬化食用油脂;
乳化剤、例えば、レシチン、ソルビタンモノオレエートまたはアカシア;非水性
ビヒクル(食用油を含んでいてもよい)、例えば、アーモンド油、分画ココヤシ
油、グリセリンのエステルなどの油性エステル、プロピレングリコールまたはエ
チルアルコール;保存剤、例えば、p-ヒドロキシ安息香酸メチルもしくはプロ
ピルまたはソルビン酸のごとき従来の添加剤を含有してもよく;所望により、従
来の矯味矯臭剤または着色剤を含有してもよい。
【0029】 非経口用投与の場合、該化合物および滅菌ビヒクルを利用して液体単位投与形
を調製し、使用する濃度に応じて、ビヒクルに懸濁させるか、または溶解させる
ことができる。溶液の調製において、該化合物を注射用水に溶かし、滅菌濾過し
て適当なバイアルまたはアンプルに充填し、密封することができる。有利には、
局所麻酔薬、保存剤および緩衝化剤などのアジュバントをビヒクルに溶かすこと
ができる。安定性の強化のために、組成物をバイアルに充填した後に凍結させ、
減圧下で水を除去することができる。非経口用懸濁液は、化合物をビヒクルに溶
解させる代わりに懸濁させ、滅菌処理を濾過により行うことができないことを除
いて、実質的に同じ方法により調製される。該化合物は滅菌ビヒクルに懸濁させ
る前に酸化エチレンに曝すことにより滅菌処理することができる。界面活性剤ま
たは湿潤剤を組成物に配合し、化合物の均一な分散を進めることが有利である。
【0030】 本願発明の組成物はまた、適当には、スナフもしくはエアロゾルまたは噴霧器
用の溶液のように、あるいは吸入用微粉末として気道に投与するために、単独で
またはラクトースなどの不活性担体と組み合わせて服用してもよい。かかる場合
、活性化合物の粒子は、適当には、50ミクロンより小さな、好ましくは10ミ
クロンより小さな粒径を有し、例えば1ないし50ミクロン、1ないし10ミク
ロンまたは1ないし5ミクロンの範囲にある粒径を有する。適当ならば、少量の
他の抗喘息薬および気管支拡張薬、例えばイソプレナリン、イソエタリン、サル
ブタモール、フェニレフリンおよびエフェドリンなどの交感神経興奮作用性アミ
ン;テオフィリンおよびアミノフィリンなどのキサンチン誘導体およびプレドニ
ソロンなどのコルチコステロイド、ACTHなどの副腎刺激剤を配合することも
できる。 該組成物は、投与方法に応じて、0.1重量%ないし99重量%、好ましくは
10ないし60重量%の有効成分を含有することができる。吸入投与用の好まし
い範囲は10ないし99%、特に60ないし99%、例えば90、95または9
9%である。
【0031】 微結晶粉末処方は、計量投与量として、または適当な肺活性化装置を用いて、
エアロゾルにて投与するのが適当である。 適宜計量されたエアロゾル処方は、通常の噴射剤、エタノールなどの共溶媒、
オレイルアルコールなどの界面活性剤、オレイルアルコールなどの滑沢剤、硫酸
カルシウムなどの乾燥剤および塩化ナトリウムなどの密度調節剤を含む。 噴霧器での使用に適する溶液は、所望により、例えばpH4−7に緩衝化され
ていてもよく、20mg/mlまでであるが、より一般的には0.1ないし10
mg/mlの化合物を含有する、標準的な噴霧装置で用いられる、等張滅菌溶液
である。
【0032】 本発明の化合物の有効量は、その相対的効力、治療すべき障害の重篤度、患者
の体重に依存するであろう。適当には、本発明の単位投与形の組成物は0.1な
いし1000mgの本発明の化合物(吸入の場合、0.001ないし10mg)
を、より一般的には1ないし500mgの、例えば1ないし25または5ないし
500mgの化合物を含有してもよい。かかる組成物は、70mgの成人の場合
で日用量が1mgないし1gであり、より詳しくは5ないし500mgであるよ
うに、一日に1ないし6回、より一般的には一日に2ないし4回投与することが
できる。これは約1.4x10−2mg/kg/日ないし14mg/kg/日の
範囲にあり、より詳しくは約7x10−2mg/kg/日ないし7mg/kg/
日の範囲にある。 以下の実施例を用いて本発明を説明するが、何ら本発明を限定するものではな
い。
【0033】 生物学的試験方法 操作1:試験化合物の可溶性CD23の放出を阻害する能力を以下の操作を用い
て研究した。 RPMI8866細胞膜CD23切断活性アッセイ: RPMI8866細胞、高レベルのCD23を発現するヒト・エプスタイン−
バール(Epstein−Barr)ウイルス形質転換されたB−細胞系(Sarfatiら、Immu
nology 60[1987]539−547)からの原形質膜を水性抽出法を用いて
精製する。均質化緩衝液(20mM HEPES pH 7.4、150mM NaC
l、1.5mM MgCl、1mM DTT)に懸濁させた細胞をパール噴射容器
中Nキャビテーションにより破壊し、他の膜と混合した原形質膜の画分を10
000xgでの遠心分離操作により回収する。湿細胞1−3g当たり2mlの0
.2Mリン酸カリウム(pH7.2)を用いて軽質ペレットを再び懸濁させ、核
ペレットを捨てる。膜蛋白10−15mg当たり合計16gの0.25Mシュー
クロースでの、デキストラン500(6.4%w/w)とポリエチレングリコー
ル(PEG)5000(6.4%w/w)(ref)の間に分配させることによ
り膜をさらに分画する[MorreおよびMorre、BioTechniques 7、946−957
(1989)]。1000xgで軽く遠心分離処理に付すことで相を分離させ、
PEG相(上相)を集め、20mMリン酸カリウム緩衝液(pH7.4)で3な
いし5倍に希釈し、100000xgで遠心分離に付し、その相中にある膜を回
収する。そのペレットをリン酸塩−緩衝化セイラインに再び懸濁させる。それは
3ないし4倍豊富な原形質膜ならびに他の細胞膜(例えば、リソソーム、ゴルジ
)からなる。その膜をアリコートに分け、−80℃で貯蔵する。6.6%デキス
トラン/PEGでの分画により10倍豊富な原形質膜を得る。
【0034】 分画した膜を37℃で4時間までインキュベートしてCD23のフラグメント
を得、そのアッセイをP30994からの5μM調製物1(Preparation1)を
用いてクエンチした後に、0.2ミクロンのデュラポール(Durapore)フィルタ
ープレート(ミリポール(Millipore))で濾過することにより膜より分離する
。その膜より放出されたsCD23を、ザ・バインディング・サイト(The Bind
ing Site)(英国、バーミンガム)からのEIAキットを用いて、あるいはサン
ドウィッチEIAにおける捕獲抗体としてMHM6抗CD23mAb[Roweら、
Int.J.Cancer、29、373−382(1982)]または別の抗CD23mA
bを利用する同様のキットを用いて測定する。総容量50μlのリン酸緩衝セイ
ライン中で0.5μgの膜蛋白により製造された可溶性CD23の量をEIAに
より測定し、種々の濃度の阻害剤の存在下で製造された量と比較する。阻害剤は
水またはジメチルスルホキシド(DMSO)の溶液中に製造され、その最終DM
SO濃度は最大2%である。IC50を、阻害剤の不存在下でインキュベートし
た対照との間のsCD23の違いに対して、sCD23の50%産生阻害が観察
される濃度として、曲線適合操作により決定する。
【0035】 結果 実施例の化合物はすべて1μM以下のIC50値を示した。
【0036】 操作2: 試験化合物のコラゲナーゼを阻害する能力を以下の操作により研究した。 コラゲナーゼ阻害アッセイ: 化合物のコラゲナーゼの阻害剤として作用する効能を、CawstonおよびBarrett
の方法(Anal.Biochem. 99、340−345、1979)(出典明示により本
明細書の一部とする)により測定した。該方法によれば、試験すべき阻害剤の1
mM溶液またはその希釈液を37℃で18時間コラーゲンおよび(15mM塩化
カルシウム、0.05%Brij35200mM塩化ナトリウムおよび0.02
%アジ化ナトリウムを含有する150mMトリス(pH7.6)で緩衝化した)
イー・コリよりクローンし、発現させて精製した滑液線維芽細胞から由来のヒト
組換えコラゲナーゼと一緒にインキュベートした。該コラーゲンは、Cawstonお
よびMurphy法(Enzymology 80、711、1981に記載の方法)に従って調
製したアセチル化H1型ウシコラーゲンであった。試料を遠心分離に付し、非
消化コラーゲンを沈殿させ、加水分解を測定するのにシンチレーションカウンタ
ーでアッセイするために放射活性の上澄のアリコートを取り出した。1mM阻害
剤またはその希釈体の存在下でのコラゲナーゼ活性を阻害剤を欠く対照における
活性と比較し、その結果をコラゲナーゼの50%を阻害する濃度(IC50)と
して報告した。
【0037】 結果 実施例5、6、9、12、14、27、28、29、31、33、38、42
、43、56および69は10μM以上のIC50を示した。
【0038】 中間体の調製 調製例1:ナフタレン-2-イルメタンスルホニルクロリド 工程1:ナフタレン-2-イルメタンスルホン酸ナトリウム 2-ブロモメチル-ナフタレン(70g)をジオキサン(350ml)に溶かし
、水(500ml)中の亜硫酸ナトリウム(240g)で処理した。混合物を3
0分間加熱還流した。冷却後、白色固体が得られ、それを濾過し、エーテルで洗
浄し、乾燥させて標記のメタンスルホン酸塩(69g)を得た。
【0039】 工程2:ナフタレン-2-イルメタンスルホニルクロリド テトラヒドロチオフェン-1,1-ジオキシド(96ml)中のナフタレン-2-
イルメタンスルホン酸ナトリウム(12g)に、アセトニトリル(48ml)お
よびオキシ塩化リン(24ml)を加え、その混合物を加熱した。内部温度が1
00℃に達した時に、未反応出発物質を濾過し、熱濾液を氷上に注いだ。褐色固
体を濾過し、ヘキサンで洗浄して標記化合物(5.5g)を得た。
【0040】 調製例2:ベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホニルクロリド 工程1:5-ブロモメチルベンゾ[b]チオフェン 5-メチルベンゾ[b]チオフェン(37g)、N-ブロモスクシンイミド(46
g)およびテトラクロロメタン(400ml)を4時間還流し、冷却して濾過し
た。濾液を蒸発させて得られた残渣をヘキサンから結晶化させ、標記の化合物(
40g)を得た。
【0041】 工程2:ベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホン酸テトラ-n-ブチルアンモニ
ウム 5-ブロモメチルベンゾ[b]チオフェン(40g)、硫酸水素テトラ-n-ブチ
ルアンモニウム(135g)、水酸化ナトリウム(14g)、亜硫酸ナトリウム
(45g)、ジクロロメタン(300ml)および水(300ml)の混合物を
一夜激しく攪拌した。有機層を乾燥(MgSO)させ、蒸発させ、THF(1
30ml)に溶かし、再び蒸発させて再びTHF(130ml)に溶かした。エ
ーテル(200ml)を添加して当モル量のテトラ‐n‐ブチルアンモニウムブ
ロミドを含有する結晶性の標記化合物(132g)を得た。
【0042】 工程3:ベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホニルクロリド 工程2からのベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホン酸テトラ‐n‐ブチル
アンモニウム(30g)のジクロロメタン(150ml)中溶液を、−20℃の
内部温度の五塩化リン(8.3g)のジクロロメタン(150ml)中冷却懸濁
液に加えた。該溶液を室温に加温し、室温で15分間維持し、ついでシリカゲル
床を通して濾過し、酢酸エチル:ヘキサン(1:1)で洗浄した。合した溶出物
をトルエンに溶かし、得られた溶液を再びシリカゲルを介して濾過し、さらにト
ルエンで溶出した。溶出物を蒸発させてヘキサンから結晶化させ、標記化合物(
7.5g)を得た。1HNMR δ(CDCl)7.95(1H,d,J=8Hz)、
7.94(1H,s)、7.54(1H,d,J=6Hz)、7.43(1H,d,J=8Hz)
、7.38(1H,d,J=6Hz)、4.99(2H,s)。同様の方法にて、2-ブロ
モメチルナフタレンからナフタレン-2-メタンスルホニルクロリドを調製した。
【0043】 調製例3:インダン-2-メタンスルホニルクロリド 工程1:2-ブロモメチルインダン 0℃での2-ヒドロキシメチルインダン(1.0g)のジクロロメタン(25m
l)中溶液をトリエチルアミン(1.0ml)および塩化メタンスルホニル(0.
6ml)と反応させた。30分後、該溶液を塩酸、水性炭酸水素ナトリウムおよ
びブラインで洗浄し、乾燥(MgSO)させて蒸発させた。得られた粗メシレ
ートをアセトン(25ml)に溶かし、臭化リチウム(1.8g)を加えた。一
夜還流した後、混合物を冷却して濾過し、濾液を蒸発させ、ついで水とヘキサン
の間に分配させた。ヘキサン層をシリカゲルを通して濾過し、蒸発させて標記化
合物(0.49g)を得た。
【0044】 工程2:インダン-2-メタンスルホン酸テトラ‐n‐ブチルアンモニウム 2-ブロモメチルインダン(0.49g)、亜硫酸ナトリウム(0.32g)、
エタノール(5ml)および水(10ml)の混合物を一夜還流し、ついで冷却
し、硫酸水素テトラ‐n‐ブチルアンモニウム(0.80g)、水酸化ナトリウ
ム(0.09g)、ジクロロメタン(20ml)および水(20ml)を加えた
。混合物を10分間攪拌した後、有機層を分離し、乾燥(MgSO)させ、蒸
発させて標記化合物(0.95g)を得た。
【0045】 工程3:インダン-2-メタンスルホニルクロリド インダン-2-メタンスルホン酸テトラ‐n‐ブチルアンモニウム(0.90g
)のジクロロメタン(20ml)中溶液をDMF(1滴)およびトリホスゲン(
0.30g)で処理した。2時間後、該溶液を蒸発させ、残渣を酢酸エチル:ヘ
キサン(1:1)で溶出するシリカゲルを介して濾過し、標記化合物(0.32
g)を得た。同様にして、R-2-ヒドロキシメチル-1,2,3,4-テトラヒドロ
ナフタレンからR-(1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-イル)メタンスル
ホニルクロリドを;5-ブロモメチルベンゾ[b]チオフェンからベンゾ[b]チオ
フェン-5-メタンスルホニルクロリドを;およびナフタレン-2-メタンスルホン
酸テトラ‐n‐ブチルアンモニウムからナフタレン-2-メタンスルホニルクロリ
ドを調製した。
【0046】 調製例4:ベンゾ[b]チオフェン-6-メタンスルホニルクロリド 工程1:6-ヒドロキシメチルベンゾ[b]チオフェン 0℃でのベンゾ[b]チオフェン-6-カルボン酸(1.3g)のTHF(10m
l)中溶液を、水素化アルミニウムリチウム(30ml、THF中1M)で処理
した。0℃で1時間および室温で1時間経過した後、過剰量の酢酸エチルを加え
、ついで反応混合物を塩酸とエーテルの間に分配した。有機層を乾燥(MgSO )させ、蒸発させて残渣をヘキサン:酢酸エチルから結晶化させて標記化合物
(0.7g)を得た。
【0047】 工程2:6-ブロモメチルベンゾ[b]チオフェン オキシ臭化リン(2.7g)を還流温度での6-ヒドロキシメチルベンゾ[b]チ
オフェン(0.7g)のエーテル(50ml)中溶液に添加した。還流温度で3
時間経過した後、該溶液を水、水性炭酸水素ナトリウムおよびブラインで洗浄し
、乾燥(MgSO)させ、蒸発させて標記化合物(0.7g)を得た。 工程3:ベンゾ[b]チオフェン-6-メタンスルホン酸テトラ‐n‐ブチルアンモ
ニウムを調製例2、工程2の方法に従って調製した。 工程4:ベンゾ[b]チオフェン-6-メタンスルホニルクロリドを調製例2、工程
3の方法に従って調製した。
【0048】 調製例5:2-フルオロベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホニルクロリド 工程1:2-フルオロ-5-メチルベンゾ[b]チオフェン −10℃での5-メチルベンゾ[b]チオフェン(4.0g)のジエチルエーテル
(50ml)中溶液をn−ブチルリチウム(19ml、ヘキサン中1.6M)で
処理した。−10℃で1時間経過した後、THF(20ml)中のN-フルオロ
ベンゼンスルホンイミド(10.4g)を添加した。室温で1時間経過した後、
混合物を水性塩化アンモニウムおよびヘキサンの間に分配し、有機層を乾燥(M
gSO)させ、蒸発させてクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)に付
して標記化合物(1.9g)を得た。 工程2:2-フルオロベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホニルクロリドを調
製例2に記載の方法を用いて2-フルオロ-5-メチルベンゾ[b]チオフェンより
調製した。
【0049】 調製例6:3-フルオロベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホニルクロリド 工程1:5-メチルベンゾ[b]チオフェン-2-カルボン酸 −10℃での5-メチルベンゾ[b]チオフェン(6.1g)のジエチルエーテル
(50ml)中溶液をn−ブチルリチウム(25ml、ヘキサン中1.6M)で
処理した。−10℃で1時間経過した後、該溶液を固形二酸化炭素上に注ぎ、つ
いで放置して蒸発させた。水およびジエチルエーテルを加えた。水層を希塩酸で
酸性化し、さらなるジエチルエーテルで抽出して標記化合物(5.4g)を得た
【0050】 工程2:5-メチル-3-フルオロベンゾ[b]チオフェン-2-カルボン酸 −70℃での5-メチルベンゾ[b]チオフェン-2-カルボン酸(1.0g)のT
HF(15ml)中溶液をn−ブチルリチウム(7.0ml、ヘキサン中1.6
M)で処理した。−70℃で1時間経過した後、THF(5ml)中のN-フル
オロベンゼンスルホンイミド(2.4g)を加えた。室温で1時間経過した後、
混合物を希塩酸およびジエチルエーテルの間に分配した。有機層を乾燥(MgS
)させ、蒸発させて残渣をジクロロメタンから結晶化し、標記化合物(0.
75g)を得た。
【0051】 工程3:3-フルオロ-5-メチルベンゾ[b]チオフェン 5-メチル-3-フルオロベンゾ[b]チオフェン-2-カルボン酸(0.75g)、
銅粉末(0.50g)およびキノリン(5ml)を180℃に30分間加熱し、
ついで冷却し、希塩酸およびヘキサンの間に分配した。有機層を乾燥(MgSO )させ、蒸発させてクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)に付し、標
記化合物(1.9g)を得た。 工程4:3-フルオロベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホニルクロリドを、
調製例2に記載の方法を用いて3-フルオロ-5-メチルベンゾ[b]チオフェンか
ら調製した。
【0052】 調製例7:6-フルオロベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホニルクロリド 工程1:2,4-ジフルオロ-3-トリメチルシリルトルエン 0℃でのジイソプロピルアミン(7.5ml)のTHF(100ml)中溶液
に、n-ブチルリチウム(31ml、ヘキサン中1.6M)を添加した。−10
℃で10分間経過した後、その溶液を−70℃に冷却し、2,4-ジフルオロトル
エン(5.7ml)を添加し、−70℃で1時間経過した後、クロロトリメチル
シラン(6.9ml)を添加した。室温で1時間経過した後、混合物を水性塩化
アンモニウムとヘキサンの間に分配し、有機層を乾燥(MgSO)させ、蒸発
させて標記化合物(8.8g)を得た。
【0053】 工程2:2,4-ジフルオロ-3-トリメチルシリル-5-メチルベンゾアルデヒド −70℃での2,4-ジフルオロ-3-トリメチルシリルトルエン(1.0g)の
THF(10ml)中溶液をTMEDA(0.8ml)およびs-ブチルリチウム
(4.0ml、シクロヘキサン中1.3M)で処理した。−70℃で1時間経過
した後、DMF(0.4ml)を添加し、つづいて酢酸を、ついで水を添加した
。混合物を水性クエン酸とジエチルエーテルの間の分配した。有機層を乾燥(M
gSO)させ、蒸発させて標記化合物(0.80g)を得た。
【0054】 工程3:2,4-ジフルオロ-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジリデンロダニ
ン 2,4-ジフルオロ-3-トリメチルシリル-5-メチルベンゾアルデヒド(0.9
g)、ロダニン(0.5g)、酢酸ナトリウム(1.3g)および酢酸(5ml)
を1時間還流し、ついで冷却して水中に注いだ。標記化合物を黄色斜方体(1.
3g)として分離した。
【0055】 工程4: 2-メルカプト-3-(2,4-ジフルオロ-5-メチルフェニル)-プロペン
酸 2,4-ジフルオロ-3-トリメチルシリル-5-メチルベンジリデンロダニン(0
.34g)の水性水酸化ナトリウム(2.5M、5ml)中溶液を1時間70℃に
加熱し、ついで水で希釈し、ジクロロメタンで洗浄し、ついで酸性化してジエチ
ルエーテルで抽出した。有機層を乾燥(MgSO)させ、蒸発させて標記化合
物(0.17g)を得た。
【0056】 工程5:5-メチル-6-フルオロベンゾ[b]チオフェン-2-カルボン酸 2-メルカプト-3-(2,4-ジフルオロ-5-メチルフェニル)-プロペン酸(1.
7g)のDMSO(20ml)中溶液に、tert-ブトキシカリウム(1.7g)を
加えた。60℃で18時間経過した後、該溶液を水性クエン酸とジエチルエーテ
ルの間に分配した。有機層を乾燥(MgSO)させ、蒸発させて標記化合物(
1.1g)を得た。 工程6:6-フルオロ-5-メチルベンゾ[b]チオフェンを、調製例6、工程3の
方法により調製した。 工程7:6-フルオロベンゾ[b]チオフェン-5-メタンスルホニルクロリドを、
調製例2に記載の方法を用いて6-フルオロ-5-メチルベンゾ[b]チオフェンか
ら調製した。
【0057】 実施例 実施例1:(R)-N-ヒドロキシ-4-メチル-2-(ナフタレン-2-イルメタンスル
ホニルアミノ)-ペンタン酸アミド
【化20】
【0058】 工程1:(R)-4-メチル-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-ペ
ンタン酸tert-ブチルエステル 室温でのアルゴン下にある(R)-2-アミノ-4-メチル-ペンタン酸tert-ブチ
ルエステル塩酸塩(0.81g、3.62ミリモル)およびDMAP(0.32g
、2.62ミリモル)のピリジン(16ml)中混合物に、ナフタレン-2-イル-
メタンスルホニルクロリド(1.47g、6.27ミリモル)を5分間にわたって
少しずつ加えた。反応物を一夜攪拌し、ついで酢酸エチル(50ml)に溶かし
、2N HCl(150ml)で2回洗浄した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム
、水で洗浄し、乾燥(NaSO)させ、濃縮して粗生成物を得、それをクロ
マトグラフィー(シリカゲル、段階的勾配0−40%酢酸エチル/ヘキサン)に
付して精製し、白色固体として標記化合物(0.61g)を得た。MS電子噴射
(−veイオン)=390(M−H)。HNMR δ(CDCl):7.8
8(1H,m)、7.83(3H,m)、7.55(1H,m)、7.50(2H,m)、
4.63(1H,d、J=9.1Hz)、4.40(2H,s)、3.86(1H,m)、
1.70(1H,m)、1.46(9H,s)、1.45(2H,m)、0.87(3H,
d,J=6.5Hz)、0.83(3H,d,J=6.6Hz)。
【0059】 工程2:(R)-4-メチル-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-ペ
ンタン酸 (R)-4-メチル-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-ペンタン
酸tert-ブチルエステル(0.59g、1.50ミリモル)のDCM/TFA(3:
2)(5ml)中溶液を室温で4時間攪拌した。溶媒を蒸発させた。クロロホル
ムと、ついでトルエンと一緒に共沸蒸留に付して標記化合物(0.51g)を得
た。MS電子噴射(+veイオン)=358(M+Na);MS電子噴射(−
veイオン)334(M−H)。HNMR δ(CDCl):7.83(4
H,m)、5.35(3H,m)、4.68(1H,d,J=9.1Hz)、4.45(2H
,s)、3.94(1H,m)、1.66(1H,m)、1.47(2H,m)、0.84(
3H,d,J=6.5Hz)、0.80(3H,d,J=6.5Hz)。酸プロトンは観察
されない。
【0060】 工程3:(R)-N-ヒドロキシ-4-メチル-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホ
ニルアミノ)-ペンタン酸アミド (R)-4-メチル-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-ペンタン
酸(0.30g、0.89ミリモル)、EDC(0.34g、1.78ミリモル)お
よびHOAT(0.24g、1.78ミリモル)の混合物を、アルゴン下、室温で
10分間、乾燥DMF(5ml)中で攪拌した。ヒドロキシルアミン塩酸塩(0
.19g、2.67ミリモル)およびN-メチルモルホリン(0.29ml、2.6
7ミリモル)を添加し、反応混合物を4時間攪拌した。溶媒を蒸発させ、残渣を
酢酸エチルと水の間に分配した。有機層を10%クエン酸、飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液、飽和食塩水で洗浄し、乾燥(NaSO)させ、濃縮して橙色固体
を得た。粗製混合物を分取用HPLCに付して精製し、標記化合物を白色固体(
0.078g)として得た。MS電子噴射(+veイオン)351(M+H)、
373(M+Na)。MS電子噴射(−veイオン)349(M−H)。 HNMR δ(DMSO−d):10.85(1H,s)、9.00(1H,s)、
7.91(4H,m)、7.52(4H,m)、4.42(1H,d,J=13.6Hz)、
4.35(1H,d,J=13.6Hz)、1.70(1H,m)、1.50(1H,m)、
1.40(2H,t,J=7.3Hz)、0.8(3H,s)、0.77(3H,s)。
【0061】 実施例2:(R)-N-ヒドロキシ-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミ
ノ)-2-フェニル-アセトアミド
【化21】
【0062】 工程1:(R)-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-2-フェニル-酢
酸 (R)-フェニルグリシン(0.245g)にDMF(1ml)、ピリジン(1
ml)を加え、つづいてBSTFA(0.86ml)を加えた。混合物を60℃
に加温した。30分後、該溶液を0℃に冷却し、ナフタレン-2-イル-メタンス
ルホニルクロリド(0.3g)のDMF(1ml)中溶液を滴下し、つづいてE
N(0.175ml)を滴下した。反応混合物を室温で2時間放置した。ポ
リマースカベンジャーPS−イソシアネート(0.5g)を該反応混合物に添加
した。10分後、該スカベンジャーを濾過した。水性硫酸水素カリウムを濾液に
添加して黄色固体を得、それを濾過し、乾燥させて標記化合物(0.4g)を得
た。
【0063】 工程2:(R)-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-N-(t-ブチルジ
メチルシリルオキシ)-2-フェニル-酢酸 (R)-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-2-フェニル-酢酸(0.
2g)のジクロロメタン(2ml)中溶液を、0℃でのジクロロメタン(0.5
ml)中のO-t-ブチルジメチルシリルヒドロキシルアミン(0.124g)お
よびEDC-メチオダイド(0.249g)と反応させた。室温で2時間経過後、
該溶液を水性炭酸水素ナトリウムで処理した。有機層を分離し、乾燥(MgSO )させ、濃縮乾固させた。残渣を酢酸エチル/ヘキサン(1:1)に再び溶か
し、シリカゲルのプラグを介して濾過し、酢酸エチル/ヘキサン(1:1)で溶
出させ、標記化合物(0.1g)を得た。
【0064】 工程3:(R)-N‐ヒドロキシ-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ
)-2-フェニル-アセトアミド THF(0.3ml)中の(R)-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ
)-N-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-2-フェニル酢酸(0.1g)を、TB
AF(0.3ml;THF中1M溶液)と反応させた。30分経過した後、混合
物をメタノールで希釈し、SCXカラムに通し、メタノールで溶出した。メタノ
ールフラクションを合し、シリカゲル(0.2g)に吸着させ、クロマトグラフ
ィー操作(Sep-Pakシリカゲルカートリッジ、段階的勾配、0−10%メタノー
ル/DCM)に付して精製し、標記化合物を黄色固体(15mg)として得た。
MS電子噴射(−veイオン)370(M−H);HNMR δ(CD
D)7.63-7.8(3H,m)、7.58(1H,d)、7.28-7.44(3H,m)、
7.15-7.3(5H,m)、4.32および4.27(2H,AB,J=14Hz)。
【0065】 実施例3:(R)-N-ヒドロキシ-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミ
ノ)-4-フェニル-ブチラミド
【化22】
【0066】 工程1:(R)-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-4-フェニル酪
酸 (R)-4-フェニル-ラ酪酸(0.37g)に、DMF(1ml)、ピリジン(
1ml)つづいてBSTFA(1.1ml)を添加した。混合物を60℃に加温
した。30分後、溶液を0℃に冷却し、ナフタレン-2-イル-メタンスルホニル
クロリド(0.5g)のDMF(1ml)中溶液を滴下し、つづいてNEt
0.29ml)を滴下した。反応混合物を室温で2時間放置し、ついで酢酸エチ
ルと1NHClの間に分配した。有機層を濃縮し、残渣をクロマトグラフィー操
作(Sep-Pakシリカゲルカートリッジ、段階的勾配、0−10%メタノール/D
CM)に付して精製し標記化合物(0.34g)を得た。
【0067】 工程2:(R)-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-N-(t-ブチルジ
メチルシリルオキシ)-4-フェニル-ブチラミド (R)-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-4-フェニル-酪酸(
0.34g)のジクロロメタン(5ml)中溶液をアルゴン下で0℃に冷却し、
ジクロロメタン(1ml)中のO-t-ブチルジメチルシリルヒドロキシルアミン
(0.196g)およびジクロロメタン(1ml)中のEDC-メチオダイド(0
.396g)と反応させた。室温で2時間経過した後、該溶液を蒸発乾固させた
。残渣を酢酸エチルに溶かし、水性炭酸水素ナトリウムで洗浄した。有機層をブ
ラインで洗浄し、乾燥(MgSO)させ、濃縮して乾固させた。残渣をフラッ
シュクロマトグラフィー(シリカゲル、1:1 酢酸エチル/ヘキサン)に付して
精製し、標記化合物(0.32g)を得た。
【0068】 工程3:(R)-N-ヒドロキシ-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)
-4-フェニル-ブチラミド 乾燥THF(2ml)中の(R)-N-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-2-(
ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-4-フェニル-ブチラミド(0.3
2g)をTBAF(0.6ml;THFの1M溶液)と反応させた。30分後、
溶液を蒸発乾固させ、残渣を酢酸エチルと水性クエン酸(10%)の間に分配し
た。有機層をブラインで洗浄し、蒸発乾固させた。残渣をクロマトグラフィー操
作(Sep-Pakシリカゲルカートリッジ、段階的勾配、0−10%メタノール/D
CM)に付して精製し、標記化合物(0.1g)を得た。MS電子噴射(−ve
イオン)396.9(M−H)。HNMR δ(DMSO-d):10.8(
1H,s)、9.03(1H,s,J=1.6Hz)、7.91(2H,m)、7.65(1
H,d,J=7.65Hz)、7.53(2H,m)、7.26(2H,m)、7.19(1H
,d,J=1.2Hz)、7.14(2H,m)、4.47および4.41(2H,ABq)、
3.73(1H,ddd,J=7,7,7Hz)、2.4-2.5(2H,m)、1.82(2H
,m)。
【0069】 以下の実施例の化合物を実施例2および実施例3に記載の操作により調製した
HNMRスペクトルおよびマススペクトルは表に列挙する構造式と一致した
【0070】
【表1】
【表2】
【表3】 N.B.実施例8および24の化合物はラセミ体として調製した。
【0071】 実施例28:(R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ
)-N-ヒドロキシ-2-フェニルアセトアミド
【化23】
【0072】 工程1:R-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-2-フ
ェニル酢酸 55℃での(R)-フェニルグリシン(0.38g)のピリジン(5ml)およ
びDMF(5ml)中懸濁液をBSTFA(1.35ml)で処理した。55℃
で30分間経過した後、溶液を0℃に冷却し、ベンゾ[b]チオフェン-5-メタン
スルホニルクロリド(0.75g)のDMF(2ml)中溶液を添加した。 室温でさらに2時間経過した後、酢酸エチルおよび水性硫酸水素カリウムを加え
、有機層を乾燥(MgSO)させて蒸発させた。残りをエーテルから結晶化さ
せて標記化合物(0.40g)を得た。
【0073】 工程2:(R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N
-(t-ブチルジメチルシリルオキシ)-2-フェニルアセトアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-2-フェ
ニル酢酸(0.40g)のジクロロメタン(5ml)中溶液を0℃でO-t-ブチ
ルジメチルシリルヒドロキシルアミン(0.18g)およびEDC-メチオジン(
0.36g)と反応させた。室温で2時間経過した後、溶液を酢酸エチルおよび
水性炭酸水素ナトリウムで処理した。有機層を乾燥(MgSO)させ、蒸発さ
せて残りをクロマトグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン)により精
製して標記化合物(0.37g)を得た。
【0074】 工程3:R-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-ヒ
ドロキシ-2-フェニルアセトアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-(t-
ブチルジメチルシリルオキシ)-2-フェニルアセトアミド(0.35g)のTHF
(5ml)中溶液をTBAF(1ml、THF中1M溶液)と反応させた。30
分経過後、該溶液を酢酸エチルで希釈し、水、水性炭酸水素ナトリウムおよびブ
ラインで洗浄し、乾燥(MgSO)させ、蒸発させた。残りをメタノールに溶
かし、SCXカチオン交換カラムに通し、さらにメタノールで溶出した。溶出液
を蒸発させ、そしてエーテルから結晶化させて標記化合物(0.17g)を得た
。MS電子噴射(−veイオン)374(M−H、100%)。HNMR
δ(DMSO-d)11.0(1H,bs)、9.0.(1H,bs)、8.13(1H,
d,J=8Hz)、7.91(1H,d,J=8Hz)、7.77(1H,d,J=6Hz)
、7.70(1H,s)、7.2-7.4(8H,m)、4.85(1H,d,J=9Hz)
、4.28(2H,ABq)。
【0075】 実施例29:(R)-2-フェニル-2-[(R)-1-(1,2,3,4-テトラヒドロナフタ
レン-2-イル)メタンスルホニルアミノ]-N-ヒドロキシアセトアミド
【化24】 標記化合物を実施例28について記載されている方法を用いてR-(1,2,3,
4-テトラヒドロナフタレン-2-イル)メタンスルホニルクロリドから調製した(
収率)。MS電子噴射(−veイオン)747(2M−H、45%)、373
(M−H、100%)。
【0076】 実施例30:(R)-2-(インダン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-2-フェニル
-N-ヒドロキシアセトアミド
【化25】 標記化合物を実施例28について記載されている方法を用いてインダン-2-メ
タンスルホニルクロリドから調製した。
【0077】 実施例31:(R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)
-N-ヒドロキシ-3-(1H−インドール-3-イル)プロピオンアミド
【化26】
【0078】 工程1:(R)-2(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-3-(
1H−インドール-3-イル)-プロピオン酸 (R)-トリプトファン(0.3g)をDMF(1ml)およびピリジン(1ml
)に溶かし、BSTFA(0.85ml)と反応させた。混合物を60℃に加温
した。60℃で30分間経過した後、その溶液を0℃に冷却し、ベンゾ[b]チオ
フェン-5-メタンスルホニルクロリド(0.3g)のDMF(1ml)中溶液を
滴下した。反応混合物を室温で攪拌しながら2時間放置し、ついでメタノール(
1ml)で処理した。ついで、該溶液をボンド・エルートPSAカラムに通した
。最初、メタノール(30ml)で溶出した後、THF中4%TFA(20ml
)で生成物を溶出した。そのTHF溶液を乾固させ、ヘキサンでトリチュレート
して標記化合物(0.3g)を得た。
【0079】 工程2:(R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-
ヒドロキシ-3-(1H−インドール-3-イル)プロピオンアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-3-(1H
−インドール-3-イル)-プロピオン(0.17g)をDMF(4ml)に溶かし
た。固体HOAT(0.06g)およびEDC(0.168g)を加え、その混合
物を室温で10分間攪拌した。分離フラスコ中、DMF(3ml)中のヒドロキ
シルアミン塩酸塩(0.091g)を攪拌し、つづいてN-メチルモルホリン(0
.145ml)を添加した。ついで、活性化したプロピオン酸を該ヒドロキシル
アミン溶液に滴下し、室温で2時間攪拌した。蒸発によりDMFを除去した後、
残りをクエン酸と(10%)と酢酸エチルの間に分配した。有機層を炭酸水素ナ
トリウムおよびブラインで洗浄し、ついで乾燥(MgSO)させて濃縮した。
エーテルでトリチュレートし、標記化合物を固体(0.052g)として得た。
MS電子噴射(−veイオン)427.8(M−H);MS電子噴射(+veイ
オン)429.9(M+H)。HNMR δ(DMSO-d) 10.86(1
H,s)、10.79(1H,s)、7.82(1H,d,J=8Hz)、7.76(1H,d,
J=5.48)、7.66(1H,s)、7.64(1H,d,J=2.3Hz)、7.58(
1H,d,J=7.76)、7.41(1H,d,J=5.28Hz)、7.33(1H,d,
J=7.92Hz)、7.15-7.01(4H,m)、4.10(1H,d J=13.72
Hz)、4.00(1H,m)、3.89(1H,d J=13.72Hz)、3.02(1H,
dd)、2.85(1H,dd)。
【0080】 以下の化合物を実施例31に記載の方法により調製した。HNMRスペクト
ルおよび質量スペクトルは表に示される構造式と一致した。
【化27】
【0081】
【表4】 N.B. 実施例38の化合物はラセミ体として調製された。
【0082】 実施例38:(R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)
-N-ヒドロキシ-4-フェニル-ブチラミド
【化28】
【0083】 工程1:(R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イル メタンスルホニルアミノ)-4
-フェニル-酪酸 (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イル メタンスルホニルアミノ)-4-フェ
ニル-酪酸を実施例31、工程1に従って調製した。
【0084】 工程2:(R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-
ヒドロキシ-4-フェニルブチラミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-4‐フェ
ニル-酪酸(0.1g)をDCM(1.5ml)に懸濁させ、0℃で攪拌した。塩
化オキサリル(0.0245ml)を加え、つづいてDMF(0.0199ml)
を加えて、反応混合物を0℃で30分間攪拌した。分離フラスコ中、THF(4
ml)および水(1ml)の混合液中のヒドロキシルアミン塩酸塩(0.070
9g)を0℃で攪拌した。ジエチルアミノポリスチレン樹脂(1.2g)をこの
攪拌しているヒドロキシルアミン塩酸塩に加え、0℃で20分間攪拌した。つい
で、酸クロリド溶液を該ヒドロキシルアミン溶液に0℃で滴下し、得られた混合
物を室温で15時間攪拌した。ついで、反応混合物を濾過し、濾液をジエチルア
ミノポリスチレン樹脂(1.2g)で処理し、再び濾過した。濾液施をSCXカ
チオン交換支持体(2g)で処理した。そのSCXを濾過し、ついで濾液を蒸発
させ、トルエンと一緒に共沸混合し、淡クリーム色固体(61.5mg)として
標記化合物を得た。MS電子噴射(−veイオン)402.6(M−H)。
HNMR、δ(DMSO-d)8.00(1H,m)、7.96(1H,s)、7.9
0(1H,m)、7.78(1H,d,J=5.6Hz)、7.70(1H,m)、7.61(1
H,m)、7.48(1H,d,J=5.6)、7.38(1H,dd,J=1.6,4.8)、
7.29(2H,m)、71.6(3H,m)、4.38(2H,Abq)、3.71(1H,m
)、1.80(2H,m)、0.87(2H,m)。
【0085】 以下の化合物を実施例38に記載の方法により調製した。HNMRスペクト
ルおよび質量スペクトルは表に示される構造式と一致した。
【化29】
【0086】
【表5】
【0087】 実施例44:R-2-(ベンゾ[b]チオフェン-6-イルメタンスルホニルアミノ)-
N-ヒドロキシ-2-フェニルアセトアミド
【化30】 標記化合物を実施例31に記載の方法を用いて調製した。中間体であるカルボ
ン酸の調製は実施例28(工程1)の方法を用いて行った。
【0088】 実施例45:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−3−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソインドール−
2−イル)−N−ヒドロキシプロピオンアミド
【化31】
【0089】 工程1:(R)−2−トリチルアミノ−3−(1,3−ジオキソ−1,3−ジ
ヒドロ−イソインドール−2−イル)プロピオン酸t−ブチルエステル 乾燥THF(10ml)中のにおける(R)−2−トリチルアミノ−3−ヒド
ロキシプロピオン酸t−ブチルエステル(0.4g)をアルゴン下、トリフェニ
ルホスフィン(0.26g)で処理し、次いでジエチルアゾジカルボキシレート
(0.16ml)を滴下処理した。溶液を室温で攪拌し、次いで、濃縮乾固させ
た。残渣をエーテル(20ml)中に溶解し、水(3x20ml)、次いでブラ
イン(20ml)で洗浄した。有機層を乾燥(NaSO)および濃縮させた
。クロマトグラフィー(シリカゲル、段階勾配0−20% 酢酸エチル/ヘキサ
ン)による精製により副題化合物を白色泡沫として得た(0.36g)。
【0090】 工程2:(R)−2−アミノ−3−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−
イソインドール−2−イル)プロピオン酸t−ブチルエステル トリイソプロピルシラン(0.2ml)を含有するDCM(20ml)中にお
ける(R)−2−トリチルアミノ−3−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ
−イソインドール−2−イル)プロピオン酸t−ブチルエステル(0.36g)
をTFA(0.4ml)で滴下処理した。30分後、溶液を濃縮乾固させた。ペ
ンタン/エーテルでのトリチュレーションにより、副題化合物のトリフルオロ酢
酸塩を得た(0.24g)。乾燥ジオキサン(20ml)中におけるトリフルオ
ロ酢酸塩をHCl(20mlのジオキサン中4N溶液)で処理し、得られた懸濁
液を室温で5時間攪拌した。混合物を濃縮し、次いで、トルエンを逐次加えて共
沸蒸留に付した。エーテルを用いるトリチュレーションにより、副題化合物の塩
酸塩を得た(0.18g)。
【0091】 工程3:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−3−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソインドール−2−
イル)プロピオン酸t−ブチルエステル DCM(8ml)中における(R)−2−アミノ−3−(1,3−ジオキソ−
1,3−ジヒドロ−イソインドール−2−イル)プロピオン酸t−ブチルエステ
ル塩酸塩(0.11g)をナフタレン−2−イル−メタンスルホニル塩化物(0
.091g)を分割して加えて処理した。ピリジン(2ml)を滴下し、混合物
を室温で5時間攪拌した。反応物を濃縮乾固させ、次いで、トルエンを逐次加え
て共沸蒸留に付した。残渣を酢酸エチル(10ml)および水(10ml)の間
に分配した。有機層を水(2x10ml)、ブライン(10ml)で洗浄し、乾
燥させ(NaSO)、濃縮した。残渣をクロマトグラフィー(シリカゲル、
段階勾配0−5% エタノール/DCM)によって精製した。エーテルを用いる
トリチュレーションにより、副題化合物を白色固体として得た(0.064g)
【0092】 工程4:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−3−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソインドール−2−
イル)プロピオン酸 (R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ)
−3−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソインドール−2−イル)プ
ロピオン酸t−ブチルエステル(0.064g)を氷温度にてTFA(95%)
で処理し、10℃以下で3時間維持した。溶液を濃縮乾固し、トルエンを逐次加
えて共沸蒸留に付して副題化合物を白色固体として得た(0.058g)。
【0093】 工程5:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−3−(1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロ−イソインドール−2−
イル)−N−ヒドロキシプロピオンアミド 実施例31に記載の方法を用いて標記化合物を調製した。MS電子噴射(−v
eイオン)458(M−H). HNMR δ(DMSO−d):10.
93(1H,brs)、9.06(1H,brs)、7.98(1H,d,J5
.2Hz)、7.85(5H,m)、7.78(1H,d、J5.6)、7.4
5(1H,d、J5.2)、7.29(1H,dd,J1.6,8.4)、4.
40(2H,ABq)、4.12(1H、t、J7.2)、3.71−3.85
(2H,m).
【0094】 下記の実施例の化合物は、実施例31に記載の方法によって調製された。
NMRスペクトルおよびマススペクトルは構造と一致した。 実施例46
【化32】 実施例47
【化33】
【0095】 実施例48:(R)−3−ベンゾ[b]チオフェン−3−イル−2−(ベンゾ
[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ)−N−ヒドロキシ−プロ
ピオンアミド
【化34】 工程1:(R)−3−ベンゾ[b]チオフェン−3−イル−2−(ベンゾ[b
]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ)−プロピオン酸 (R)−2−アミノ−3−ベンゾ[b]チオフェン−3−イル−プロピオン酸
から、実施例31、工程1の方法を用いて調製した。Bond Elut NH カラム上における固相抽出による粗生産物の精製により、副題化合物を得た(収
率54%)。MS 電子噴射(−veイオン)430(M−H). 工程2:(R)−3−ベンゾ[b]チオフェン−3−イル−2−(ベンゾ[b
]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ)−N−ヒドロキシ−プロピオ
ンアミド 実施例31、工程2の方法を用いて調製した。反応の完了後、DMFを除去し
、残渣を水性炭酸水素ナトリウムおよび酢酸エチルの間に分配した。有機層を乾
燥(MgSO)および濃縮した。クロマトグラフィー(シリカゲル、段階勾配
0−100% 酢酸エチル/ヘキサン)による粗生産物の精製により、標記化合
物をクリーム色の固体として得た(27mg)。MS電子噴射 444.7(M
−H).HNMR δ(DMSO−d)10.91(1H,br s)、
8.99(1H,s)、7.98(1H,d、J 8Hz)、7.90(1H,
d、J 8.4Hz)、7.84(1H,d、J 7.6Hz)、7.77(1
H,d、J 5.2Hz)、7.72(1H,s)、7.42(4H,m)、7
.18(1H,d、J 8.4Hz)、4.12(2H、ABq)、4.09(
1H,t、J 7.6Hz)、3.21(1H,m)、3.18(1H,m).
【0096】 実施例49:(2R,3R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタ
ンスルホニルアミノ)−3−メチル−ペンタン酸−N−ヒドロキシアミド
【化35】
【0097】 工程1:(2R,3R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンス
ルホニルアミノ)−3−メチル−ペンタン酸 実施例48、工程1の方法を用いて調製した(収率64%)。MS 電子噴射
(−veイオン)339.9(M−H). 工程2:(2R,3R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンス
ルホニルアミノ)−3−メチル−ペンタン酸−N−ヒドロキシアミド 実施例31、工程2の方法を用いて調製した。反応の完了後、DMFを蒸発に
より除去し、飽和水性NaHCOを加えた。得られた沈殿物をろ過し、乾燥さ
せて標記化合物をクリーム色の固体として得た(0.14g)。MS電子噴射3
54.8(M−H).HNMR δ(DMSO−d)10.81(1H,
s)、9.02(1H,s)、7.98(1H,d、J 8.4Hz)、7.8
6(1H,s)、7.78(1H,d、J 5.6Hz)、7.46(2H,d
、J 5.6Hz)、7.35(1H,dd、J 8.2Hz、1.6Hz)、
4.31(2H、ABq)、3.46(1H,t、J 8Hz)、1.62(1
H,m)、1.53(1H,m)、1.09(1H,m)、0.80(6H,m
).
【0098】 実施例50:(2R,3S)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタ
ンスルホニルアミノ−3−ヒドロキシ−4−メチル−ペンタン酸N−ヒドロキシ
アミド
【化36】
【0099】 標記化合物を(2R,3S)−2−アミノ−3−ヒドロキシ−4−メチル−ペ
ンタン酸から、実施例48の方法を用いて調製した(クリーム色の固体、30m
g)。MS電子噴射(+veイオン)372.9(M+H).HNMR δ
(DMSO−d)10.78(1H,br s)、8.94(1H,br s
)、7.99(1H,d、J 8Hz)、7.90(1H,s)、7.78(1
H,d、J 5.6Hz)、7.47(1H,d、J 5.6Hz)、7.38
(1H,d、J 8.4Hz)、4.81(1H,br s)、4.41(2H
、ABq)、3.80(1H,d、J 5.2Hz)、1.64(1H,m)、
0.89(6H,m).
【0100】 実施例51:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−3−tert−ブトキシ−N−ヒドロキシ−プロピオンアミド
【化37】
【0101】 工程1:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−3−tert−ブトキシ−プロピオン酸 Myriad PSにおいて(R)−2−アミノ−3−tert−ブトキシ−
プロピオン酸から、実施例31、工程1に記載の方法を用いて調製した(収率5
2%).MS電子噴射(−veイオン)370.0(M−H). 工程2:(R)2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルア
ミノ)−3−tert−ブトキシ−N−ヒドロキシ−プロピオンアミド (R)2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ)−
3−tert−ブトキシ−プロピオン酸から、実施例38、工程2の方法を用い
て調製した。反応混合物をジエチルアミノポリスチレン樹脂で処理し、次いでろ
過し、ろ液を蒸発乾固させた。残渣をBiotage Parallex HPL
C上で精製して標記化合物を白色固体として得た(6mg)。MS電子噴射(−
veイオン)385.1(M−H).HNMR δ(DMSO−d)10
.71(1H,s)、9.00(1H,s)、7.99(1H,d、J 8.3
Hz)、7.87(1H,s)、7.79(1H,d、J 5.4Hz)、7.
47(2H,m)、7.36(1H,dd、J 8.3Hz、1.48Hz)、
4.43(2H,s)、3.79(1H,m)、3.43(1H,m)、3.2
9(1H,m)、1.09(9H,s).
【0102】 実施例52:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ−N−ヒドロキシ−4−モルホリン−4−イル−4−オキソ−ブチラ
ミド
【化38】
【0103】 工程1:(R)−2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−4−モルホリン
−4−イル−4−オキソ−酪酸tertブチルエステル (R)−2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−コハク酸 1−tert
−ブチルエステル(0.5g)のDCM(15ml)中溶液に、HOAT(0.
55g)、EDC(0.73g)およびモルホリンm(0.149g)を加え、
反応物を室温で2時間攪拌させた。溶媒を蒸発により除去し、油状残渣を水性重
炭酸ナトリウムおよび酢酸エチルの間に分配した。二相混合物をヒドロマトリッ
クス固定相に通して水層を保持した。有機層を濃縮して副題化合物を白色固体と
して得た(0.55g)。
【0104】 工程2:(R)−2−アミノ−4−モルホリン−4−イル−4−オキソ−酪酸
塩酸塩 (R)−2−tert−−ブトキシカルボニルアミノ−4−モルホリン−4−
イル−4−オキソ−酪酸tert−ブチルエステル(0.5g)を乾燥DCM(
5ml)中に溶解し、次いでジオキサン(4ml)中における4N HClを加
えた。反応物を室温で一晩攪拌させた。溶媒を蒸留によって除去して副題化合物
を白色固体として得た。 工程3:(R)−2(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルア
ミノ)−4−モルホリン−4−イル−4−オキソ−酪酸 実施例48、工程1の方法を用いて調製した(収率34%)。MS電子噴射(
+veイオン)412.8(M+H)。
【0105】 工程4:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−N−ヒドロキシ−4−モルホリン−4−イル−4−オキソ−ブチラミ
ド 実施例31、工程2の方法を用いて調製した。標記化合物は、ヘキサン/エー
テルを用いるトリチュレーションの後に白色固体として得られた(収率39%)
。MS電子噴射(+veイオン)427.8(M+H).HNMR δ(D
MSO−d)10.79(1H,s)、8.97(1H,s)、7.98(1
H,d、J 8Hz)、7.86(1H,s)、7.79(1H,d、J 5.
6Hz)、7.46(2H,d、J 5.6Hz)、7.35(1H,d、J
8Hz)、4.46(2H,s)、4.20(1H,d、J 6.8Hz)、3
.54(4H,m)、3.44(2H,m)、3.40(2H,m)、2.67
(2H,m)
【0106】 実施例53:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−5−モルホリン−4−イル−5−オキソ−ペンタン酸N−ヒドロ
キシアミド
【化39】
【0107】 工程1:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)ペンタン二酸−1−tert−ブチルエステル (R)−2−アミノ−ペンタン二酸1−tert−ブチルエステルから実施例
48、工程1に記載の方法を用いて調製した(収率15%).MS電子噴射(−
ve イオン)411.9(M−H)。
【0108】 工程2:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−5−モルホリン−4−イル−5−オキソ−ペンタン酸−tert−ブ
チルエステル (R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ)
ペンタン二酸−1−tert−ブチルエステル(0.3g)のDMF(3ml)
中溶液をHOAT(0.1g)、EDC(0.278g)およびモルホリン(0
.063g)で処理した。反応物を室温で2時間攪拌した。溶媒を蒸発により除
去し、残渣を水性重炭酸ナトリウムおよび酢酸エチルの間に分配した。有機層を
乾燥(MgSO)および濃縮した。静置により残渣を固化させて副題化合物を
得た(収率100%).MS電子噴射(−veイオン)480.9(M−H
。 工程3:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−5−モルホリン−4−イル−5−オキソペンタン酸 (R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ)
−5−モルホリン−4−イル−5−オキソペンタン酸−tert−ブチルエステ
ルから実施例52、工程2に記載の方法を用いて調製した(収率89%).MS
電子噴射(−veイオン)424.9(M−H)。 工程4:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−5−モルホリン−4−イル−5−オキソ−ペンタン酸N−ヒドロキシ
アミド (R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ)
−5−モルホリン−4−イル−5−オキソペンタン酸から実施例31、工程2に
記載の方法を用いて調製した。後処理の後、粗反応混合物をBiotage P
arallex HPLC上で精製して標記化合物を白色固体として得た(20
mg)。MS電子噴射(+veイオン)441.9(M+H)、MS電子噴射
(−veイオン)439.9(M−H).HNMR δ(DMSO−d
10.77(s、1H)、8.99(1H,br s)、7.98(1H,d、
J 8.4Hz)、7.88(1H,s)、7.78(1H,d、J 5.6H
z)、7.52(1H,d、J 8.8Hz)、7.46(1H,d、J 5.
6Hz)、7.37(1H,dd、J 8.4Hz、1.6Hz)、4.39(
2H,s)、3.72(1H,dd、J 15.2Hz、7.2Hz)、3.5
4(4H,m)、2.31(4H,m)、1.81(4H,m).
【0109】 実施例54:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−2−(4−フルオロフェニル)−N−ヒドロキシ−アセトアミド
【化40】
【0110】 工程1:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−2−(4−フルオロ−フェニル)−酢酸 (R)−4−フルオロフェニルグリシンから実施例31、工程1の方法を用い
て調製した(95%収率)。MS電子噴射(−veイオン)477.9(M−H ). 工程2:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−2−(4−フルオロ−フェニル)−N−ヒドロキシ−アセトアミド Myriad PSにおいて実施例38、工程2の方法を用いて調製した。粗
反応混合物をBiotage Parallex HPLC上で精製して標記化合
物を得た(15.7mg)。MS電子噴射(−veイオン)392.9(M−H ).HNMR δ(DMSO−d)10.91(1H ,br s)、9
.02(1H,br s)、7.93(1H,d、J 8Hz)、7.77(1
H,d、J 5.6Hz)、7.71(1H,s)、7.42(4H,m)、7
.26(1H,dd、J 8.2Hz、1.6Hz)、7.15(1H,t、J
8.8Hz)、4.83(1H,s)、4.41(2H、ABq).キラル純度
:ee>99%.
【0111】 実施例55:(R,S)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンス
ルホニルアミノ)−2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−N−ヒドロキ
シ−アセトアミド (R,S)−3−クロロ−4−フルオロフェニルグリシンから実施例54の方
法を用いて調製した。
【化41】
【0112】 実施例56:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−2−(4−イソプロピルフェニル)−N−ヒドロキシ−アセトア
ミド
【化42】
【0113】 工程1:(R,S)−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−2−(4−イソプロピル−フェニル)−酢酸を、実施例31の工程1
の方法を使用して、4−イソプロピルフェニルグリシンから調製した(0.41
g)。 MS電子噴射(−veイオン)401.9(M−H) 工程2:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−2−(4−イソプロピル−フェニル)−N−ヒドロキシ−アセトアミ
ドを実施例38の工程2と同様の方法で調製した。粗ラセミ生成物をキラル分離
用HPLCを使用して1つのエナンチオマーに分離した。カラム内をゆっくりと
移動する成分を含むフラクションから白色固体として標記化合物を得た。 MS電子噴射(−veイオン)416.9(M−H);光学純度:ee>9
9.9%;[α] 22=−47°(c0.1、MeOH);HNMRδ(D
MSO−d)10.90(1H,s)、9.03(1H,s)、8.04(1
H,brs)、7.93(1H,d、J8.4Hz)、7.77(1H,d、J
5.6Hz)、7.70(1H,s)、7.39(1H,d、J4.8Hz)、
7.33(2H,d、J8.4Hz)、7.24(1H,dd、J8.4Hz、
1.6Hz)、7.20(2H,d、J8.4Hz)4.81(1H,s)、4
.30(2H、ABq)、2.87(1H,m)、1.19(6H,d、J6.
8Hz)
【0114】 実施例57:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−2−(3−フルオロフェニル)−N−ヒドロキシ−アセトアミド
【化43】
【0115】 工程1:(R,S)−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−2−(3−フルオロ−フェニル)−酢酸を実施例31の工程1の方法
を使用して(R,S)−3−フルオロフェニルグリシンから調製した(淡黄色固
体、1.23g) MS電子噴射(−veイオン)377.9(M−H) 工程2:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−2−(3−フルオロ−フェニル)−N−ヒドロキシ−アセトアミドを
実施例38の工程2記載と同様の方法を使用してMyriad PSにおいて調
製した。粗ラセミ生成物をキラル分離用HPLCを使用して1つのエナンチオマ
ーに分離した(32mg)。 MS電子噴射(−veイオン)392.8(M−H)、光学純度:ee>9
3%、[α] 22=−61°(c0.1、MeOH)、HNMRδ(DMS
O−d)10.99(1H,s)、9.11(1H,s)、8.23(1H,
d、J9.2Hz)、7.93(1H,d、J8.4Hz)、7.77(1H,
d、J5.2Hz)、7.72(1H,s)、7.38(2H,m)、7.23
(3H,m)、7.12(1H,m)、4.86(1H,d、J9.2Hz)、
4.34(2H、ABq)
【0116】 実施例58:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−N−ヒドロキシ−
アセトアミド
【化44】
【0117】 工程1:(R,S)−N−ホルミル−4−トリフルオロメトキシフェニルグリ
シン 蟻酸(100ml)中の(R,S)−4−トリフルオロメトキシフェニルグリ
シン(5.0g)の溶液に、無水酢酸(20ml)を加えた。55℃で18時間
後、残渣を蒸発し水から再結晶して適当な化合物(3.8g)を得た。 工程2:(R)−N−ホルミル−4−トリフルオロメトキシフェニルグリシン 0.1Mの水性リン酸緩衝液(pH7、1リットル)中の(R,S)−N−ホ
ルミル−4−トリフルオロメトキシフェニルグリシン(3.8g)溶液をアシラ
ーゼI(ブタの腎臓から得たIII等級、7000単位/mg、40mg)で処
理した。室温で14日後、溶液を2NのHClで処理し、酢酸エチルで抽出した
。有機層を乾燥(MgSO)で乾燥し、蒸発し、残渣をジエチルエーテルから
結晶化し、適当な化合物(2.1g)を得た。 [α] 20−144°(c1、MeOH) 工程3:(R)−4−トリフルオロメトキシフェニルグリシン塩酸塩 (R)−N−ホルミル−4−トリフルオロメトキシフェニルグリシン(1.0
g)および塩酸(5M、20ml)の混合物を30分間還流し、ついで蒸発し、
残渣をジエチルエーテルから結晶化することにより適当な化合物(0.7g)を
得た。 [α] 20−78°(c1、1MのHCl水溶液)。
【0118】 工程4:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−酢酸を、実施例31の
工程1記載の方法を使用してMyriad PSにおいて調製した(0.15g
)。 MS電子噴射(−veイオン)459.0(M−H) 工程5:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−2−(4−トリフルオロメトキシフェニル)−N−ヒドロキシ−アセ
トアミドを、実施例38の工程2と同様の方法を使用して調製した。粗生成物を
クロマトグラフィー(SeP−Pak シリカゲルカートリッジ、段階勾配0〜
10%MeOH/DCM)を使用して精製した。生成物を含むフラクションを乾
燥するまで蒸発させ、メタノール(10ml)中に溶解し、ジエチルアミノメチ
ルポリエチレン樹脂(3g)を詰めたカラムを通して微量のヒドロキシアミン塩
酸塩を除去した。収集したフラクションを濃縮して、標記化合物(10mg)を
得た。 MS電子噴射(−veイオン)458.9(M−H)、光学純度:ee>9
9%、HNMRδ(DMSO−d)10.94(1H,brs)、9.09
(1H,s)、7.92(d、1H,d、J8.4Hz)、7.77(1H,d
、J5.6Hz)、7.73(1H,s)、7.50(2H,d、J8.8Hz
)、7.38(1H,d、J5.2Hz)、7.33(2H,d、J8.4Hz
)7.26(1H,dd、J8Hz、1.6Hz)4.88(1H,s)、4.3
5(2H、ABq)
【0119】 実施例59:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−N−ヒドロキシ−2−(4−トリフルオロメタン−スルホニルオ
キシフェニル)−アセトアミド
【化45】
【0120】 工程1:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−2−(4−ヒドロキシフェニル)酢酸−tert−ブチルエステル 乾燥DCM(15ml)中の(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イ
ルメタンスルホニルアミノ)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−酢酸(2.0
g)の溶液をO−tert−ブチル−N,N’−ジイソプロピルイソ尿素(0.
316g)を45分にわたって滴下して処理した。3時間後、反応混合物を濾過
し、濾液をシリカに吸収さえ、(Sep−Pak シリカゲルカートリッジ、ヘ
キサン酢酸エチル、酢酸エチルの段階勾配3%)により精製し、標記化合物を得
た(0.6g)。 MS電子噴射(−veイオン)431.9(M−H) 工程2:(R)(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ
)−(4−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)−酢酸tert−ブ
チルエステル 乾燥MeCN(15ml)中の(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−
イルメタンスルホニルアミノ)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−酢酸−te
rt−ブチルエステル(0.5g)の溶液をヒューニッヒ塩基(0.178g)
で処理した。反応混合物を0℃に冷却し、ついで、N−フェニル−トリフリミド
(0.5g)を滴下し、一晩撹拌し続けた。粗反応混合物をシリカに吸収させ、
クロマトグラフィー(Sep−Pak シリカゲルカートリッジ、ヘキサン/酢
酸エチル、酢酸エチルの段階勾配3%)により精製した。生成物を24%の酢酸
エチル/ヘキサンで溶出し、蝋質の固体(0.37g)を得た。 MS電子噴射(−veイオン)563.75(M−H
【0121】 工程3:(R)(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ
)−(4−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)−酢酸を実施例52
の工程2を使用して調製した(白色固体、0.1g)。 MS電子噴射(−veイオン)507.9(M−H) 工程4:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−N−ヒドロキシ−2−(4−トリフルオロメタン−スルホニルオキシ
フェニル)−アセトアミドを、実施例38の工程2と同様の方法を使用して調製
した。処理後、粗固体をBiotage Parallex HPLCで精製し
、白色固体として標記化合物を得た(6mg)。 MS電子噴射(−veイオン)507.9(M−H)、HNMRδ(DM
SO−d)10.99(1H,s)、9.14(1H,s)、8.28(1H
,d、J9.2Hz)、7.92(1H,d、J8Hz)、7.77(1H,d
、J5.2Hz)、7.73(1H,s)、7.56(2H,d、J8.8Hz
)、7.47(2H,d、J8.8Hz)、7.39(1H,d、J5.2Hz
)、7.25(1H,dd、J8.4Hz、1.6Hz)、4.90(1H,d
、J8.8Hz)、4.37(2H、ABq)
【0122】 以下の実施例の化合物を実施例31記載の方法により調製した。HNMRス
ペクトルおよび質量スペクトルは表に与えられた構造に一致した。
【化46】
【0123】
【表6】
【0124】 実施例65:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−N−ヒドロキシ−3−(トルエン−4−スルホニルアミノ)−プ
ロピオンアミド
【化47】
【0125】 工程1:(R)−2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−3−(トルエン
−4−スルホニルアミノ)−プロピオン酸 1,4−ジオキサン(40ml)および水(20ml)中の(R)−2−te
rt−ブトキシカルボニル−3−アミノプロピオン酸(2.0g)の溶液にトリ
エチルアミン(6.9ml)ついでトルエン−4−スルホニルクロリド(2.2
g)を加えた。ついで、溶液を室温で24時間撹拌し、濃縮し、ついで、炭酸水
素ナトリウム水溶液と酢酸エチル間で分配した。有機層を乾燥(MgSO)し
、蒸発して標記化合物(2.4g)を得た。 工程2:(R)−2−アミノ−3−(トルエン−4−スルホニルアミノ)−プ
ロピオン酸塩酸塩 ジクロロメタン(40ml)中の(R)−2−tert−ブトキシカルボニル
アミノ−3−(トルエン−4−スルホニルアミノ)−プロピオン酸(2.3g)
の溶液に、1,4−ジオキサン(10ml)中の4Mの塩酸水溶液を加えた。室
温で2時間後、混合物を蒸発し、得られた残渣をジエチルエーテルから結晶化し
、標記化合物(1.8g)を得た。 HNMRδ(DMSO−d):8.4(3H,bs)、8.1(1H,b
s)、7.4および7.7(4H,ABq)、3.9(1H,m)、3.6(3
H,s)および3.2(2H,m)
【0126】 工程3:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−3−(トルエン−4−スルホニルアミノ)−プロピオン酸 (R)−2−アミノ−3−(トルエン−4−スルホニルアミノ)−プロピオン
酸塩酸塩(0.36g)、ピリジン(1ml)、およびDMF(1ml)の混合
物に、BSTFA(1.3ml)を加えた。室温で30分後、透明な溶液を0℃
に冷却し、DMF(2ml)中のベンゾ[b]チオフェン−5−メタンスルホニ
ルクロリド(0.9g)の溶液を加えた。室温で1時間撹拌後、反応混合物を実
施例31に記載の方法を使用してBondElutPSAカラムでの固相抽出に
より精製し、標記化合物(0.36g)を得た。 工程4:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−N−ヒドロキシ−3−(トルエン−4−スルホニルアミノ)−プロピ
オンアミドを、実施例31の工程2の方法に従って調製し、55%の収率で得た
。 電子噴射MS(−veイオン)482(M−H、100%)、HNMRδ
(DMSO−d):11.0(1H,bs)、9.1(1H,bs)、7.3
−8.0(11H,m)、4.4(2H,ABq)、3.9(1H,m)、3.
0(1H,m)、2.8(1H,m)、2.3(3H,s)
【0127】 以下の実施例の化合物を実施例65記載の方法により調製した。HNMRス
ペクトルおよび質量スペクトルは表に与えられた構造に一致した。
【化48】
【0128】
【表7】 実施例69:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)−N−ヒドロキシ−3−(フェニルメタンスルホニルアミノ)−プ
ロピオンアミド
【化49】
【0129】 工程1:(R)−2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−3−(フェニル
メタンスルホニルアミノ)−プロピオン酸 ピリジン(5ml)およびDMF(5ml)中の(R)−2−tert−ブト
キシカルボニル−3−アミノプロピオン酸(1.0g)の溶液を、BSTFA(
3.9ml)で処理した。室温で30分後、反応物を0℃に冷却し、DMF(2
ml)中のフェニルメタンスルホニルクロリド(0.9g)の溶液を加えた。室
温で1時間撹拌後、反応混合物を1Mのクエン酸と酢酸エチル間で分配した。有
機層を水およびブラインで洗浄し、乾燥(MgSO)し、蒸発させた。クロマ
トグラフィー(シリカゲル、ジクロロメタン−メタノール)により標記化合物(
0.5g)を得た。 工程2:(R)−2−アミノ−3−(フェニルメタンスルホニルアミノ)−プ
ロピオン酸塩酸塩を実施例65の工程2の方法により調製した。
【0130】 工程3:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−3−(フェニルメタンスルホニルアミノ)−プロピオン酸を実施例6
5の工程3の方法により調製した。 工程4:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−N−ヒドロキシ−3−(フェニルメタンスルホニルアミノ)−プロピ
オンアミド実施例31の工程2により、収率8%で調製した。 電子噴射MS(−veイオン)482(M−H、100%)、HNMRδ
(DMSO−d):10.9(1H,bs)、9.1(1H,bs)、7.3
−8.0(12H,m)、4.5(2H,s)、4.4(2H,s)、3.9(
1H,m)、3.2(1H,m)、および3.0(1H,m)
【0131】 実施例70:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホ
ニルアミノ)N−ヒドロキシ−3−ピラゾール−1−イル−プロピオンアミド
【化50】
【0132】 工程1:(R)−2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−3−ピラゾール
−1−イル−プロピオン酸 ピラール(0.185g、2.7mmol)をMeCN(9ml)に溶解し、
MeCN(12ml)中のN−Boc−D−セリンβ−ラクトン(Vederas, Arn
old, Kalantar, J. Am. Chem. Soc. 1985, 107, 7105)(0.5g)に加え、つ
いで50℃で一晩撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、粗油状物質(630mg)
を得、これをメタノール中に溶解し、BondElutPSAカラムに移した。
カラムをメタノールで洗浄し、ついで4%TFA/THFで溶出して、標記化合
物(280mg)を得た。 工程2:(R)−2−アミノ−3−ピラゾール−1−イル−プロピオン酸塩酸
塩 DCM(6ml)中の(R)−2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−3
−ピラゾール−1−イル−プロピオン酸(230mg)溶液をジオキサン(4m
l)中の4MのHClで処理し、4時間撹拌し続けた。溶媒を蒸発し、標記化合
物(152mg)を得た。
【0133】 工程3:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)−3−ピラゾール−1−イル−プロピオン酸 DMF(1ml)およびピリジン(1ml)中の(R)−2−アミノ−3−ピ
ラゾール−1−イル−プロピオン酸塩酸塩(84mg)をBSTFA(0.46
ml)で処理し、ついで室温で1時間撹拌した。ついで、反応混合物を0℃に冷
却し、DMF(1ml)中のベンゾ[b]チオフェン−5−メタンスルホニルク
ロリド(120mg)を加えた。反応混合物を2時間撹拌し続け、ついでメタノ
ール(1ml)でクエンチした。溶液を、メタノールで洗浄し、ついで、4%T
FA/THFで溶出するBond Elut PSAカラムでの固相抽出により
精製し、標記化合物(57mg)を得た。 工程4:(R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニル
アミノ)N−ヒドロキシ−3−ピラゾール−1−イル−プロピオンアミド (R)−2−(ベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタンスルホニルアミノ)
−3−ピラゾール−1−イル−プロピオン酸(100mg)をDMF(2ml)
に溶解し、EDC(104mg)およびHOAT(37mg)で処理し、5分間
撹拌した。別のフラスコにおいて、DMF(1ml)中のヒドロキシルアミン塩
酸塩(57mg)をNMM(0.086ml)で処理し、5分間撹拌した。活性
化した酸の溶液をヒドロキシルアミンに滴下し、室温で2時間撹拌した。溶媒を
蒸発させ、炭酸水素ナトリウムおよび酢酸エチルを加えた。層を分離し、水相を
酢酸エチルで洗浄した。有機相を乾燥(MgSO)し、濃縮して、得られた粗
油状物質をBiotage Parallex HPLCで精製し、標記化合物
(14mg)を得た。 HNMRδ(DMSO−d)10.94(1H,brs)、9.10(1
H,brs)、7.94(1H,d、J8Hz)、7.78(1H,m)、7.
75(1H,s)、7.65(1H,m)、7.51(1H,s)、7.45(
1H,m)7.22(1H,m)、6.25(1H,m)、4.25(3H,m
)、4.07(2H、Abq).
【0134】 以下の実施例の化合物を実施例70記載の方法により調製した。HNMRお
よび質量スペクトルは表に与えられた構造に一致した。
【化51】
【0135】
【表8】
【0136】 実施例74:(R)−2−(2−フルオロベンゾ[b]チオフェン−5−イル
メタンスルホニルアミノ)−N−ヒドロキシ−2−フェニルアセトアミド
【化52】
【0137】 工程1:(R)−2−(2−フルオロベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタ
ンスルホニルアミノ)−2−フェニル酢酸を実施例65の工程3の方法により調
製した。 工程2:(R)−2−(2−フルオロベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタ
ンスルホニルアミノ)−N−ヒドロキシ−2−フェニル−アセトアミドを実施例
38の工程2の方法により、収率38%で調製した。 電子噴射MS(−veイオン)393(M−H、65%)、229(100
%)、HNMRδ(DMSO−d):11.0(1H,bs)、9.0(1
H,bs)、8.2(1H,bs)、7.0−7.8(9H,m)、4.9(1
H,s)、4.2(2H,ABq)
【0138】 実施例75:(R)−2−(3−フルオロベンゾ[b]チオフェン−5−イル
メタンスルホニルアミノ)−N−ヒドロキシ−2−フェニルアセトアミド
【化53】 工程1:(R)−2−(3−フルオロベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタ
ンスルホニルアミノ)−2−フェニル酢酸を実施例65の工程3の方法により調
製した。 工程2:(R)−2−(3−フルオロベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタ
ンスルホニルアミノ)−N−ヒドロキシ−2−フェニル−アセトアミドを、実施
例38の工程2の方法により収率15%で調製した。 電子噴射MS(−veイオン)393(M−H、25%)165(100%
)、HNMRδ(DMSO−d):11.0(1H,s)、9.0(1H,
s)、8.2(1H,d)、7.2−7.9(9H,m)、4.8(1H,d)
、4.2(2H,ABq)
【0139】 実施例76:(R)−2−(6−フルオロベンゾ[b]チオフェン−5−イル
メタンスルホニルアミノ)−N−ヒドロキシ−2−フェニルアセトアミド
【化54】 工程1:(R)−2−(6−フルオロベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタ
ンスルホニルアミノ)−2−フェニル酢酸を実施例65の工程3の方法を使用し
て調製した。 工程2:(R)−2−(6−フルオロベンゾ[b]チオフェン−5−イルメタ
ンスルホニルアミノ)−N−ヒドロキシ−2−フェニル−アセトアミドを実施例
38の工程2の方法を使用して収率17%で調製した。 電子噴射MS(−veイオン)393(M−H、68%)、165(100
%)、HNMRδ(DMSO−d):11.0(1H,s)、9.0(1H
,s)、8.3(1H,d)、7.3−7.9(9H,m)、4.9(1H,m
)、4.2(2H,ABq)
【0140】 略語 シリカ結合Bond Elut PSAはVarian社から得た。 シリカ結合Bond Elut NHはVarian社から得た。 BSTFAはN,O−ビストリメチルシリルトリフルオロアセトアミドである
。 DCMはジクロロメタンである。 ジエチルアミノポリスチレン樹脂はFLUKA社から得た。 DMFは、N,N−ジメチルホルムアミドである。 EDCは1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩
酸塩である。 EDCはメチオジド1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボ
ジイミドメチオジンである。 HOATは1−ヒドロキシ−7−アザベンゾトリアゾールである。 NMMはN−メチルモルホリンである。 NMPは1−メチル−2−ピロリジノンである。 PSイソシアネートはポリマー対応イソシアネートであり、Argonaut
社から得た。 SePはWaters Technologies社のPakシリカゲルカー
トリッジである。 rtは室温である。 SCXは結合したシリカカチオンであり、Varian社から得た。 TBAFはテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオライドである。 TFAはトリフルオロ酢酸である。 THFはテトラヒドロフランである。 TMEDAはN,N,N’N’−テトラメチレンジアミンである。 トリチルはトリフェニルメチルである。
【0141】 HPLC条件 分析および分離キラルHPLC分離は、ChiralPakADカラムおよび
エタノール/ヘキサン溶出液を使用して行った。 分離は、溶媒A(水中0.1%のTFA)および溶媒B(アセトニトリル中0
.1%のTFA)、勾配(10〜100%アセトニトリル)で溶出するBiot
age Parallex HPLCで行った。 自動合成をMettler Toledo社のMyriad PSで行った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 31/4155 A61K 31/4155 4H006 31/5377 31/5377 A61P 1/14 A61P 1/14 7/00 7/00 7/04 7/04 9/10 9/10 25/00 25/00 25/28 25/28 29/00 29/00 29/02 29/02 31/00 31/00 37/02 37/02 37/06 37/06 37/08 37/08 43/00 105 43/00 105 C07C 303/12 C07C 303/12 311/19 311/19 C07D 209/20 C07D 209/20 209/24 209/24 333/16 333/16 333/24 333/24 333/52 333/52 333/60 333/60 333/62 333/62 409/12 409/12 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE,TR),OA(BF ,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW, ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ, MD,RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM, AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,B Z,CA,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK ,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE, GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,J P,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR ,LS,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK, MN,MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,R O,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ, VN,YU,ZA,ZW (72)発明者 ゴードン・ブルートン イギリス、シーエム19・5エイダブリュ ー、エセックス、ハーロウ、サード・アベ ニュー、ニュー・フロンティアーズ・サイ エンス・パーク・サウス、スミスクライ ン・ビーチャム・ファーマシューティカル ズ (72)発明者 アンドリュー・フォーラー イギリス、シーエム19・5エイダブリュ ー、エセックス、ハーロウ、サード・アベ ニュー、ニュー・フロンティアーズ・サイ エンス・パーク・サウス、スミスクライ ン・ビーチャム・ファーマシューティカル ズ (72)発明者 バリー・シドニー・オーレック イギリス、シーエム19・5エイダブリュ ー、エセックス、ハーロウ、サード・アベ ニュー、ニュー・フロンティアーズ・サイ エンス・パーク・サウス、スミスクライ ン・ビーチャム・ファーマシューティカル ズ (72)発明者 キショア・ケイ・ラナ イギリス、シーエム19・5エイダブリュ ー、エセックス、ハーロウ、サード・アベ ニュー、ニュー・フロンティアーズ・サイ エンス・パーク・サウス、スミスクライ ン・ビーチャム・ファーマシューティカル ズ (72)発明者 グラハム・ウォーカー イギリス、シーエム19・5エイダブリュ ー、エセックス、ハーロウ、サード・アベ ニュー、ニュー・フロンティアーズ・サイ エンス・パーク・サウス、スミスクライ ン・ビーチャム・ファーマシューティカル ズ Fターム(参考) 4C023 BA01 EA08 EA11 4C063 AA01 BB07 CC94 DD06 DD07 DD22 EE01 4C086 AA01 AA03 AA04 BB02 BB03 BC11 BC14 BC36 BC73 GA04 GA07 GA09 MA01 MA04 NA14 ZA01 ZA07 ZA15 ZA16 ZA51 ZA53 ZA69 ZB07 ZB08 ZB11 ZB13 ZB21 ZB32 4C204 BB01 CB03 DB19 EB02 FB01 FB02 GB01 4C206 AA01 AA03 AA04 JA11 MA01 MA04 NA14 ZA01 ZA07 ZA15 ZA16 ZA51 ZA53 ZA69 ZB07 ZB08 ZB11 ZB13 ZB21 ZB32 4H006 AA01 AA02 AA03 AB20 AB22 AB23 AC53 AC61 BA65

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I): 【化1】 [式中、 Rは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリールま
    たはヘテロサイクリルであり;および Rはビサイクリルまたはヘテロビサイクリルを意味する] で示される化合物。
  2. 【請求項2】 式(IA): 【化2】 [式中、 Rは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリールま
    たはヘテロサイクリルであり;および Rはビサイクリルまたはヘテロビサイクリルを意味する] で示される化合物。
  3. 【請求項3】 Rがイソブチル、フェニル、4-ヒドロキシフェニル、4‐
    フルオロフェニル、4‐イソプロピルフェニル、3‐フルオロフェニル、インド
    ール-3-イルメチル、ベンゾチオフェン‐3‐イル、ベンゾチオフェン-3-イル
    メチル、4‐トリフルオロメトキシフェニル、4‐トリフルオロメタンスルホニ
    ルオキシフェニル、フェニルメタンスルホニルアミノメチル、フェネチルまたは
    フタルイミドメチルであるか、および/またはRが2-ナフチル、(R)-1,2,
    3,4-テトラヒドロナフタレン-2-イル、フッ素で置換されていてもよいベンゾ
    チオフェン-5-イル、ベンゾチオフェン‐6‐イルまたはインダン‐2‐イルで
    ある、請求項1または請求項2記載の化合物。
  4. 【請求項4】 (R)-N-ヒドロキシ-4-メチル-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルア
    ミノ)-ペンタン酸アミド (R)-N-ヒドロキシ-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-2-フ
    ェニル-アセトアミド (R)-N-ヒドロキシ-2-(ナフタレン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-4-フ
    ェニル-ブチラミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-ヒドロ
    キシ-2-フェニルアセトアミド (R)-2-フェニル-2-[(R)-1-(1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-イ
    ル)メタンスルホニルアミノ]-N-ヒドロキシアセトアミド (R)-2-(インダン-2-イルメタンスルホニルアミノ)-2-フェニル-N-ヒドロ
    キシアセトアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-ヒドロ
    キシ-3-(1H-インドール-3-イル)プロピオンアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-ヒドロ
    キシ-4-フェニル-ブチラミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-6-イルメタンスルホニルアミノ)-N-ヒドロ
    キシ-2-フェニルアセトアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-ヒドロ
    キシ-2-(4‐ヒドロキシフェニル)アセトアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-3‐(1,
    3‐ジオキソ‐1,3‐ジヒドロ‐イソインドール‐2‐イル)‐N-ヒドロキシ-
    プロピオンアミド (R)-3-(ベンゾ[b]チオフェン-3-イル‐2‐(ベンゾ[b]チオフェン‐5‐
    イルメタンスルホニルアミノ)-N-ヒドロキシ-プロピオンアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-2‐(4‐
    フルオロフェニル)‐N-ヒドロキシ-アセトアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-2‐(4‐
    イソプロピルフェニル)‐N-ヒドロキシ-アセトアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-2‐(4‐
    トリフルオロメトキシフェニル)‐N-ヒドロキシ-アセトアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-ヒドロ
    キシ-2-(4‐トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニル)‐アセトアミド (R)-2-(ベンゾ[b]チオフェン-5-イルメタンスルホニルアミノ)-N-ヒドロ
    キシ-3-(フェニルメタンスルホニルアミノ)‐プロピオンアミド からなる群より選択される化合物。
  5. 【請求項5】 s−CD23の過剰産生が関与している障害の治療または予
    防用の医薬を製造するための上記した請求項のいずれかに記載の化合物の使用。
  6. 【請求項6】 s−CD23の過剰産生が関与している障害の治療または予
    防方法であって、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の化合物をその治療ま
    たは予防を必要とするヒトまたはヒト以外の哺乳動物に投与することを含む、方
    法。
  7. 【請求項7】 s−CD23の過剰産生が関与している障害を治療または予
    防するための医薬組成物であって、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の化
    合物を含み、そのための医薬上許容される担体を含んでいてもよい、医薬組成物
  8. 【請求項8】 TNFが介在している症状を治療または予防するための医薬
    の製造における請求項1ないし4のいずれか1項に記載の化合物の使用。
  9. 【請求項9】 TNFが介在している症状の治療または予防方法であって、
    請求項1ないし4のいずれか1項に記載の化合物をその治療または予防を必要と
    するヒトまたはヒト以外の哺乳動物に投与することを含む、方法。
  10. 【請求項10】 TNFが介在している症状を治療または予防するための医
    薬組成物であって、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の化合物を含み、そ
    のための医薬上許容される担体を含んでいてもよい、医薬組成物。
  11. 【請求項11】 請求項1ないし3のいずれか1項に記載の化合物の製法で
    あって、 (a)式(II): 【化3】 [式中、RおよびRは上記と同意義であり、Xは保護基である] で示される化合物を脱保護するか、または (b)式(III): 【化4】 [式中、RおよびRは上記と同意義である] で示される化合物をヒドロキシルアミンまたはその塩と反応させるか、または (c)式(I)の化合物を上記した式(I)の異なる化合物に変換する、 ことを含む方法。
  12. 【請求項12】 式(II): 【化5】 [式中、RおよびRは上記と同意義であり、Xは保護基を意味する] で示される化合物。
  13. 【請求項13】 式(III): 【化6】 [式中、RおよびRは上記と同意義である] で示される化合物。
  14. 【請求項14】 式(VIa): 【化7】 で示される化合物の製法であって、式(VIII): R-CH-Z (VIII) で示される化合物を、式(IX): 【化8】 で示される化合物に、テトラ‐n‐ブチルアンモニウムカチオンの式(VIII
    )の化合物の対する割合が1:1よりも大きい相間移動条件下で変換することを
    含む、方法。
  15. 【請求項15】 テトラ‐n‐ブチルアンモニウムカチオンの式(VIII
    )の化合物の対する割合が約2:1である、請求項14記載の方法。
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