JP2003518265A - 高耐薬品性を有するリソグラフ印刷版 - Google Patents
高耐薬品性を有するリソグラフ印刷版Info
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Abstract
(57)【要約】
リソグラフ印刷部材として有用な画像形成可能なエレメントが開示されている。エレメントは、基材、下地層、及びトップ層を含む。下地層は、湿し水に対する耐性と攻撃的洗浄、例えばＵＶ洗浄に対する耐性の両方を提供する２つのポリマー物質の組み合わせを含む。下地層は、熱画像形成可能なエレメントにおいて、あるいは光化学的に画像形成可能なエレメントにおいて用いることができる。好ましくは第１のポリマー物質は、Ｎ−置換マレイミド、メタクリルアミド、及びメタクリル酸のコポリマーであり、第２のポリマー物質は（１）ペンダント尿素基を含むコポリマー、（２）ペンダントスルホンアミド基を含むコポリマー、又は（３）それらの組み合わせのいずれかである。前記２つのポリマーを含む化学組成物もクレームされている。
Description
【０００１】
本発明は、リソグラフ印刷に有用な画像形成可能なエレメントに関する。特に
、この発明は下地層が、湿し水に対する耐性と攻撃的洗浄に対する耐性の両方を
提供するポリマー物質の組み合わせを含む、リソグラフ印刷部材として有用な多
層エレメントに関する。
、この発明は下地層が、湿し水に対する耐性と攻撃的洗浄に対する耐性の両方を
提供するポリマー物質の組み合わせを含む、リソグラフ印刷部材として有用な多
層エレメントに関する。
【０００２】
リソグラフ印刷の分野は、油と水との非混和性に基づくものである。インキ受
容領域は、親水性表面の表面に作られる。表面を水で湿し、ついでインキを載せ
るとき、親水性バックグラウンド領域が水を保持し、インキをはじき、インキ受
容領域がインキを許容し、水をはじく。物質の表面にインキが、移され、ここで
画像が再生成される。典型的には、インキは最初に、中間ブランケットに移され
、これは次に、インキを物質の表面に移し、ここで画像が再生成される。
容領域は、親水性表面の表面に作られる。表面を水で湿し、ついでインキを載せ
るとき、親水性バックグラウンド領域が水を保持し、インキをはじき、インキ受
容領域がインキを許容し、水をはじく。物質の表面にインキが、移され、ここで
画像が再生成される。典型的には、インキは最初に、中間ブランケットに移され
、これは次に、インキを物質の表面に移し、ここで画像が再生成される。
【０００３】
リソグラフ印刷版は、典型的には、支持体上に適用された放射感受性コーティ
ングを含む。放射への露光の後に、コーティングの露光部分が溶解性になり、現
像工程で除去される場合、それはポジ型印刷版とよばれる。反対に、放射への露
光の後に、コーティングの露光部分が現像液に不溶性になり、非露光部分が現像
工程で除去される場合、それはネガ型印刷版とよばれる。各々の場合で、残存す
る放射感受性層の部分（すなわち画像領域）はインキ受容性である。
ングを含む。放射への露光の後に、コーティングの露光部分が溶解性になり、現
像工程で除去される場合、それはポジ型印刷版とよばれる。反対に、放射への露
光の後に、コーティングの露光部分が現像液に不溶性になり、非露光部分が現像
工程で除去される場合、それはネガ型印刷版とよばれる。各々の場合で、残存す
る放射感受性層の部分（すなわち画像領域）はインキ受容性である。
【０００４】
ポジ型リソグラフ印刷版の調製のための赤外線感受性画像エレメントが開示さ
れており、基材、水性アルカリ溶液下地層、及び放射感受性トップ層を含むもの
である。露光において、トップ層の露光領域は、水性アルカリに溶解性又は浸透
性になって、現像液がトップ層に浸透でき、下地層を除き、下の基材が露光され
るようになる。現像液に溶解性の下地層の上に、現像液に不溶性のトップ層がコ
ーティングされるシステムが作られた。露光後、両方の層を、露光領域で現像液
で除去し、下の基材の親水性表面が現れる。
れており、基材、水性アルカリ溶液下地層、及び放射感受性トップ層を含むもの
である。露光において、トップ層の露光領域は、水性アルカリに溶解性又は浸透
性になって、現像液がトップ層に浸透でき、下地層を除き、下の基材が露光され
るようになる。現像液に溶解性の下地層の上に、現像液に不溶性のトップ層がコ
ーティングされるシステムが作られた。露光後、両方の層を、露光領域で現像液
で除去し、下の基材の親水性表面が現れる。
【０００５】
使用時に、リソグラフ印刷部材は、湿し水に接触する。さらに、印刷部材は、
しばしば、攻撃的ブランケット洗浄、例えば「ＵＶ洗浄」に供されて、紫外線硬
化性インキを除去する。しかしながら、これらのシステムの多くは、湿し水及び
／又は攻撃的ブランケット洗浄のいずれかに対する耐性を、制限するものである
。こうして、これらの問題を受けることのない、リソグラフ印刷部材として有用
な、改善された画像形成可能なエレメントの必要性が存在する。
しばしば、攻撃的ブランケット洗浄、例えば「ＵＶ洗浄」に供されて、紫外線硬
化性インキを除去する。しかしながら、これらのシステムの多くは、湿し水及び
／又は攻撃的ブランケット洗浄のいずれかに対する耐性を、制限するものである
。こうして、これらの問題を受けることのない、リソグラフ印刷部材として有用
な、改善された画像形成可能なエレメントの必要性が存在する。
【０００６】
一の態様において、本発明は、多層の画像形成可能なエレメントであって、下
地層が湿し水と攻撃的洗浄、例えばＵＶ洗浄の両方に耐性なものである。エレメ
ントは、 ａ）親水性表面を含む基材； ｂ）親水性表面上の下地層；及び ｃ）下地層上のトップ層 を含む画像形成可能なエレメントであって、トップ層はインキ受容性であり、 下地層は水性アルカリ現像液に溶解性であり、 下地層は少なくとも第１のポリマー物質と第２のポリマー物質との組み合わせを
含み、 トップ層は第３のポリマー物質を含み、かつ 下地層の耐薬品性パラメーターが約０．４を超えるものである。
地層が湿し水と攻撃的洗浄、例えばＵＶ洗浄の両方に耐性なものである。エレメ
ントは、 ａ）親水性表面を含む基材； ｂ）親水性表面上の下地層；及び ｃ）下地層上のトップ層 を含む画像形成可能なエレメントであって、トップ層はインキ受容性であり、 下地層は水性アルカリ現像液に溶解性であり、 下地層は少なくとも第１のポリマー物質と第２のポリマー物質との組み合わせを
含み、 トップ層は第３のポリマー物質を含み、かつ 下地層の耐薬品性パラメーターが約０．４を超えるものである。
【０００７】
トップ層の性質に主に依存して、エレメントは光化学的又は熱的に画像形成さ
れることができる。他の層、例えば放射吸収層が、エレメントに存在することが
できるが、典型的には他の層は存在しない。
れることができる。他の層、例えば放射吸収層が、エレメントに存在することが
できるが、典型的には他の層は存在しない。
【０００８】
他の態様では、本発明は、画像形成可能なエレメントの下地層として有用な組
成物である。他の態様では、本発明は露光され現像されたエレメントであり、リ
ソグラフ印刷部材に用いられることができる。他の態様では、本発明は、リソグ
ラフ部材を形成する方法である。さらに他の態様では、本発明は、リソグラフ印
刷部材を用いた印刷の方法である。
成物である。他の態様では、本発明は露光され現像されたエレメントであり、リ
ソグラフ印刷部材に用いられることができる。他の態様では、本発明は、リソグ
ラフ部材を形成する方法である。さらに他の態様では、本発明は、リソグラフ印
刷部材を用いた印刷の方法である。
【０００９】
本発明は、リソグラフ印刷版の前駆体として有用な画像形成可能なエレメント
である。エレメントは、親水性基材、下地層及びトップ層を含む。下地層は、ポ
リマー物質のユニークな組み合わせを含み、これは驚くほど湿し水と攻撃的洗浄
、例えばＵＶ洗浄の両方に対して耐性を提供する。リソグラフ印刷の分野で知ら
れたいずれのトップ層も、本発明の下地層とともに用いることができる。
である。エレメントは、親水性基材、下地層及びトップ層を含む。下地層は、ポ
リマー物質のユニークな組み合わせを含み、これは驚くほど湿し水と攻撃的洗浄
、例えばＵＶ洗浄の両方に対して耐性を提供する。リソグラフ印刷の分野で知ら
れたいずれのトップ層も、本発明の下地層とともに用いることができる。
【００１０】
エレメントが、放射ビームで、典型的には約８００ｎｍ乃至約１２００ｎｍの
範囲で画像状に露光されて、画像形成される場合、エレメントは、画像形成放射
を吸収する。トップ層、下地層のいずれか、又は両方が、画像形成放射を吸収す
ることができるか、及び／又は別個の画像形成放射吸収層がエレメントに存在で
きる。エレメントが光化学的に又はサーマルヘッドに露光されて画像形成される
なら、エレメントが８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲の放射を吸収することは
必要でない。
範囲で画像状に露光されて、画像形成される場合、エレメントは、画像形成放射
を吸収する。トップ層、下地層のいずれか、又は両方が、画像形成放射を吸収す
ることができるか、及び／又は別個の画像形成放射吸収層がエレメントに存在で
きる。エレメントが光化学的に又はサーマルヘッドに露光されて画像形成される
なら、エレメントが８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲の放射を吸収することは
必要でない。
【００１１】
親水性基材
親水性基材、すなわち少なくとも一の親水性表面を含む基材（基板）は、従来
リソグラフ印刷版を調製するために用いられているいずれの物質でもよい支持体
を含む。支持体は、強く、安定で、柔軟性があるものが好ましい。色の記録がフ
ルカラーイメージで記録されるように、使用条件において寸法の変化に耐性であ
るべきである。典型的には、自立できる物質であればよく、例えばポリマーフィ
ルム、セラミック、金属、又は硬い紙、又はこれらの物質のいずれかの積層体で
ある。紙の支持体は典型的には、高分子材料で「飽和され」て耐水性、寸法安定
性及び強度を与えられる。
リソグラフ印刷版を調製するために用いられているいずれの物質でもよい支持体
を含む。支持体は、強く、安定で、柔軟性があるものが好ましい。色の記録がフ
ルカラーイメージで記録されるように、使用条件において寸法の変化に耐性であ
るべきである。典型的には、自立できる物質であればよく、例えばポリマーフィ
ルム、セラミック、金属、又は硬い紙、又はこれらの物質のいずれかの積層体で
ある。紙の支持体は典型的には、高分子材料で「飽和され」て耐水性、寸法安定
性及び強度を与えられる。
【００１２】
金属支持体は、アルミニウム、亜鉛、チタン、及びこれらの合金を含む。好ま
しい金属支持体は、アルミニウムシートである。アルミニウムシートの表面は従
来知られている方法で処理されていてもよく、例えば物理的研磨、電解研磨、化
学研磨、陽極酸化で処理されていてもよく、その後化学的手段、例えば、水での
処理、又はリン酸塩、ケイ酸塩、又はポリカルボン酸の溶液での処理により、コ
ンディショニングされて、親水性表面を生成することができる。
しい金属支持体は、アルミニウムシートである。アルミニウムシートの表面は従
来知られている方法で処理されていてもよく、例えば物理的研磨、電解研磨、化
学研磨、陽極酸化で処理されていてもよく、その後化学的手段、例えば、水での
処理、又はリン酸塩、ケイ酸塩、又はポリカルボン酸の溶液での処理により、コ
ンディショニングされて、親水性表面を生成することができる。
【００１３】
表面が粗面化される場合、平均粗さＲａは、好ましくは０．１乃至０．８μｍ
の範囲である。表面が表面粗さ０．１μｍ乃至２μｍの粗面化基材は、Bhambra
，WO97/19819(PCT/GB96/02883);Bhambra，WO98/52769(PCT/GB98/01500)；Bhambr
a，WO98/52768(PCT/GB/98/01496)に開示されている。これらの基材では、支持体
が、２つの特定の物質、好ましくはアルミナ及び二酸化チタンの混合物を含む親
水性層でコーティングされている。アルミナ粒子の平均粒径は、１μｍ乃至５μ
ｍの範囲である。二酸化チタンの平均粒径は、好ましくは０．１μｍ乃至０．５
μｍの範囲である。
の範囲である。表面が表面粗さ０．１μｍ乃至２μｍの粗面化基材は、Bhambra
，WO97/19819(PCT/GB96/02883);Bhambra，WO98/52769(PCT/GB98/01500)；Bhambr
a，WO98/52768(PCT/GB/98/01496)に開示されている。これらの基材では、支持体
が、２つの特定の物質、好ましくはアルミナ及び二酸化チタンの混合物を含む親
水性層でコーティングされている。アルミナ粒子の平均粒径は、１μｍ乃至５μ
ｍの範囲である。二酸化チタンの平均粒径は、好ましくは０．１μｍ乃至０．５
μｍの範囲である。
【００１４】
有用なポリマーフィルムはポリエステルフィルム（例えば、E.I.du Pont de N
emours Co.,Wilmington,DEにより市販されているMylar(登録商標)ポリエチレン
テレフタレートフィルム）及びポリエチレンナフタネート）を含む。好ましいポ
リマーフィルムはポリエチレンテレフタレートである。
emours Co.,Wilmington,DEにより市販されているMylar(登録商標)ポリエチレン
テレフタレートフィルム）及びポリエチレンナフタネート）を含む。好ましいポ
リマーフィルムはポリエチレンテレフタレートである。
【００１５】
基材は、支持体だけからなるものでもよく、又は１以上の任意の下塗り及び/
又は接着層を含むことができる。典型的には、ポリマーフィルムは、一面又は両
面にサブコーティングを含み、表面特性を改変して、表面の親水性を強め、それ
に連続する層への接着を改善し、紙の基材の平面性を改善するなどを行なう。こ
の層又は複数の層の性質は、基材及びこれに続くコーティング層の組成物による
。下塗り層の物質の例は、接着促進物質であり、例えばアルコキシシラン、アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン及び
エポキシ官能性ポリマー、並びに光画像フィルムのポリエステルベースで用いら
れる従来の下塗り物質である。
又は接着層を含むことができる。典型的には、ポリマーフィルムは、一面又は両
面にサブコーティングを含み、表面特性を改変して、表面の親水性を強め、それ
に連続する層への接着を改善し、紙の基材の平面性を改善するなどを行なう。こ
の層又は複数の層の性質は、基材及びこれに続くコーティング層の組成物による
。下塗り層の物質の例は、接着促進物質であり、例えばアルコキシシラン、アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン及び
エポキシ官能性ポリマー、並びに光画像フィルムのポリエステルベースで用いら
れる従来の下塗り物質である。
【００１６】
基材の背面（すなわち下地層とトップ層の反対の面）は、帯電防止剤及び／又
はスリップ層又はマット層でコーティングされて、画像形成可能なエレメントの
取り扱いと「感触」を改善してもよい。
はスリップ層又はマット層でコーティングされて、画像形成可能なエレメントの
取り扱いと「感触」を改善してもよい。
【００１７】
支持体は、印刷からの消耗に耐えるために十分な厚さを有し、印刷フォームを
包むために十分な薄さを有するべきである。ポリエチレンテレフタレート又はポ
リエチレンナフタネートは、典型的に１００乃至３１０μｍの厚さを有し、好ま
しくは約１７５μｍである。アルミニウムシートは典型的には、約１００乃至約
６００μｍの厚さを有する。
包むために十分な薄さを有するべきである。ポリエチレンテレフタレート又はポ
リエチレンナフタネートは、典型的に１００乃至３１０μｍの厚さを有し、好ま
しくは約１７５μｍである。アルミニウムシートは典型的には、約１００乃至約
６００μｍの厚さを有する。
【００１８】
下地層
下地層すなわち第１層は、基材の親水性表面上にある。それは、水性アルカリ
現像液に溶解性又は分散性で、現像液により除去されて、基材の下の親水性表面
が露光されなければならない。現像液のスラッジを防止するためには、下地層は
、水性アルカリ現像液に、分散性であるよりも溶解性であることが好ましい。好
ましくは、それは完全に水性の現像液、すなわち有機溶媒が添加されていないも
のに溶解性である。さらに、湿し水と攻撃的洗浄、例えばUV洗浄の両方に耐性で
なければならない。
現像液に溶解性又は分散性で、現像液により除去されて、基材の下の親水性表面
が露光されなければならない。現像液のスラッジを防止するためには、下地層は
、水性アルカリ現像液に、分散性であるよりも溶解性であることが好ましい。好
ましくは、それは完全に水性の現像液、すなわち有機溶媒が添加されていないも
のに溶解性である。さらに、湿し水と攻撃的洗浄、例えばUV洗浄の両方に耐性で
なければならない。
【００１９】
湿し水と、攻撃的洗浄の両方に対して、下地層の耐える能力は、下記に定義さ
れる耐薬品性パラメーター（CRP）で評価することができる： ＣＲＰ＝［（１００−ａ）（１００−ｂ）］／１０4 （ａは８０重量％ジアセトンアルコール／２０重量％水での１分間％浸漬ロス
の％であり、 ｂは８０重量％２−ブトキシエタノール／２０重量％水での１分間％浸漬ロス
の％である。）
れる耐薬品性パラメーター（CRP）で評価することができる： ＣＲＰ＝［（１００−ａ）（１００−ｂ）］／１０4 （ａは８０重量％ジアセトンアルコール／２０重量％水での１分間％浸漬ロス
の％であり、 ｂは８０重量％２−ブトキシエタノール／２０重量％水での１分間％浸漬ロス
の％である。）
【００２０】
８０重量％ジアセトンアルコール／２０重量％水での１分間浸漬ロスは、ＵＶ
洗浄に対する耐性を試験する。８０重量％２−ブトキシエタノール（Butyl CELL
OSOLVE（登録商標）溶剤）／２０重量％水での１分間％浸漬ロスは、アルコール
サブ湿し水に対する耐性を試験する。実施例に記載するように、１分間浸漬ロス
は、基材上をポリマー物質の層で、典型的には、コーティング重量約１．５ｇ／
ｍ2で、コーティングし、コーティングされた基材を適当な溶媒に室温で１分間
浸漬し、コーティングされた表面を乾燥し、基材に存在するポリマー物質の合計
重量に対するパーセントとして重量損失を測定することにより、測定される。
洗浄に対する耐性を試験する。８０重量％２−ブトキシエタノール（Butyl CELL
OSOLVE（登録商標）溶剤）／２０重量％水での１分間％浸漬ロスは、アルコール
サブ湿し水に対する耐性を試験する。実施例に記載するように、１分間浸漬ロス
は、基材上をポリマー物質の層で、典型的には、コーティング重量約１．５ｇ／
ｍ2で、コーティングし、コーティングされた基材を適当な溶媒に室温で１分間
浸漬し、コーティングされた表面を乾燥し、基材に存在するポリマー物質の合計
重量に対するパーセントとして重量損失を測定することにより、測定される。
【００２１】
耐薬品性パラメーターは、約０．４を超えるべきであり、好ましくは約０．５
を超え、さらに好ましくは約０．６を超える。好ましい場合は、耐薬品性パラメ
ーターは少なくとも約０．６５以上とすることができる。各溶媒での１分間浸漬
ロスは、約６０％未満であるべきであり、好ましくは約４０％未満、より好まし
くは約３５％未満である。好ましくは、一の溶媒の１分間浸漬ロスは約４０％未
満であり、より好ましくは約３０％未満であり、より好ましくは約２０％未満で
あり、最も好ましくは約１０％未満である。より好ましくは、他の溶媒中での１
分間浸漬ロスが、約６０％未満であるべきであり、好ましくは約４０％未満、よ
り好ましくは約３５％未満である。
を超え、さらに好ましくは約０．６を超える。好ましい場合は、耐薬品性パラメ
ーターは少なくとも約０．６５以上とすることができる。各溶媒での１分間浸漬
ロスは、約６０％未満であるべきであり、好ましくは約４０％未満、より好まし
くは約３５％未満である。好ましくは、一の溶媒の１分間浸漬ロスは約４０％未
満であり、より好ましくは約３０％未満であり、より好ましくは約２０％未満で
あり、最も好ましくは約１０％未満である。より好ましくは、他の溶媒中での１
分間浸漬ロスが、約６０％未満であるべきであり、好ましくは約４０％未満、よ
り好ましくは約３５％未満である。
【００２２】
単一のポリマー物質を含む下地層はこれらの要求を満足することができる。耐
薬品性は、２以上のポリマー物質の組み合わせの使用により改善することができ
る。
薬品性は、２以上のポリマー物質の組み合わせの使用により改善することができ
る。
【００２３】
８０重量％ジアセトンアルコール／２０重量％水に耐性な第１のポリマー物質
と、８０重量％２−ブトキシエタノール／２０重量％水に耐性な第２のポリマー
物質との組み合わせは、驚くべきことに、層に対して、両方の溶媒に良好な耐性
を付与する。好ましくは、第１のポリマー物質は、８０重量％ジアセトンアルコ
ール／２０重量％水での、１分間浸漬ロスが約２０％未満であり、より好ましく
は約１０％未満であり、最も好ましくは約５％未満であり、第２のポリマー物質
は、８０重量％２−ブトキシエタノール／２０重量％水での、１分間浸漬ロスが
約２０％未満であり、より好ましくは約１０％未満であり、最も好ましくは約５
％未満である。
と、８０重量％２−ブトキシエタノール／２０重量％水に耐性な第２のポリマー
物質との組み合わせは、驚くべきことに、層に対して、両方の溶媒に良好な耐性
を付与する。好ましくは、第１のポリマー物質は、８０重量％ジアセトンアルコ
ール／２０重量％水での、１分間浸漬ロスが約２０％未満であり、より好ましく
は約１０％未満であり、最も好ましくは約５％未満であり、第２のポリマー物質
は、８０重量％２−ブトキシエタノール／２０重量％水での、１分間浸漬ロスが
約２０％未満であり、より好ましくは約１０％未満であり、最も好ましくは約５
％未満である。
【００２４】
有用な第１のポリマー物質は,水性アルカリ現像液に溶解性で、８０重量％ジ
アセトンアルコール／２０重量％水に耐性なコポリマーである。好ましくはそれ
らは、カルボン酸、特にアクリル酸又はメタクリル酸の重合から由来するもの；
Ｎ−置換環状イミド、例えばＮ−フェニルメレイミド由来のマレイミド；及びア
ミド、特にアクリルアミド及びメタクリルアミドから由来するものからなる群よ
り選ばれる少なくとも一の官能基を含む。より好ましくは、コポリマーに二の官
能基が存在するものであり、最も好ましいのは、コポリマーに三の官能基がすべ
て存在するものである。
アセトンアルコール／２０重量％水に耐性なコポリマーである。好ましくはそれ
らは、カルボン酸、特にアクリル酸又はメタクリル酸の重合から由来するもの；
Ｎ−置換環状イミド、例えばＮ−フェニルメレイミド由来のマレイミド；及びア
ミド、特にアクリルアミド及びメタクリルアミドから由来するものからなる群よ
り選ばれる少なくとも一の官能基を含む。より好ましくは、コポリマーに二の官
能基が存在するものであり、最も好ましいのは、コポリマーに三の官能基がすべ
て存在するものである。
【００２５】
特に有用な第１のポリマー物質は、Ｎ−置換マレイミド類、特にＮ−フェニル
メレイミド；メタクリルアミド類、特にメタクリルアミド；及びアクリル酸及び
／又はメタクリル酸、特にメタクリル酸を含むコポリマーである。他の親水性モ
ノマー、例えばヒドロキシエチルメタクリレートも、メタクリルアミド全体の一
部に代えて用いることができる。他のアルカリ現像液溶解性モノマー、例えばア
クリル酸は、メタクリル酸全体の一部に代えて用いることができる。
メレイミド；メタクリルアミド類、特にメタクリルアミド；及びアクリル酸及び
／又はメタクリル酸、特にメタクリル酸を含むコポリマーである。他の親水性モ
ノマー、例えばヒドロキシエチルメタクリレートも、メタクリルアミド全体の一
部に代えて用いることができる。他のアルカリ現像液溶解性モノマー、例えばア
クリル酸は、メタクリル酸全体の一部に代えて用いることができる。
【００２６】
このタイプの好ましいポリマー物質は、Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリル
アミド、及びメタクリル酸のコポリマーであり、より好ましくは、約２５乃至約
７５モル％、好ましくは約３５乃至約６０モル％のＮ−フェニルマレイミド；約
１０乃至約５０モル％、好ましくは約１５乃至約４０モル％のメタクリルアミド
；及び約５乃至約３０モル％、好ましくは約１０乃至約３０モル％のメタクリル
酸を含むものである。
アミド、及びメタクリル酸のコポリマーであり、より好ましくは、約２５乃至約
７５モル％、好ましくは約３５乃至約６０モル％のＮ−フェニルマレイミド；約
１０乃至約５０モル％、好ましくは約１５乃至約４０モル％のメタクリルアミド
；及び約５乃至約３０モル％、好ましくは約１０乃至約３０モル％のメタクリル
酸を含むものである。
【００２７】
有用な第２のポリマー物質は、水性アルカリ現像液に溶解性で、８０重量％２
−ブトキシエタノール／２０重量％水に耐性のコポリマーである。好ましくは、
それらは、ニトリル、特にアクリロニトリル又はメタクリロニトリルの重合に由
来するもの；及びスルホンアミドからなる群より選ばれる少なくとも一の官能基
を含む。
−ブトキシエタノール／２０重量％水に耐性のコポリマーである。好ましくは、
それらは、ニトリル、特にアクリロニトリル又はメタクリロニトリルの重合に由
来するもの；及びスルホンアミドからなる群より選ばれる少なくとも一の官能基
を含む。
【００２８】
特に有用な第２のポリマー物質は、８０重量％２−ブトキシエタノール／２０
重量％水に耐性であり、側鎖に尿素結合（すなわちペンダント尿素基）を有する
モノマーを含む水性アルカリ現像液溶解性コポリマーであり、例えば、Ishizuka
,米国特許第５，７３１，１２７号に開示されている。これらのコポリマーは約
１０乃至８０重量％、好ましくは約２０乃至８０重量％の一般式： ［ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯ2−Ｘ−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−Ｚ］ （式中、Ｒは−Ｈ又は−ＣＨ3；Ｘは二価の連結基；Ｙは置換又は非置換の二価
の芳香族基；及びＺは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2である） で表される一以上のモノマーを含む。
重量％水に耐性であり、側鎖に尿素結合（すなわちペンダント尿素基）を有する
モノマーを含む水性アルカリ現像液溶解性コポリマーであり、例えば、Ishizuka
,米国特許第５，７３１，１２７号に開示されている。これらのコポリマーは約
１０乃至８０重量％、好ましくは約２０乃至８０重量％の一般式： ［ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯ2−Ｘ−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−Ｚ］ （式中、Ｒは−Ｈ又は−ＣＨ3；Ｘは二価の連結基；Ｙは置換又は非置換の二価
の芳香族基；及びＺは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2である） で表される一以上のモノマーを含む。
【００２９】
Ｒは好ましくはＣＨ3である。好ましくは、Ｘが置換又は非置換のアルキレン
基、置換又は非置換のフェニレン［Ｃ6Ｈ4］基、又は置換又は非置換ナフタレン
［Ｃ10Ｈ6］基；例えば、−（ＣＨ2）n−（ｎは２乃至８）；１，２−、１，３
−、及び１，４−フェニレン；及び１，４−、２，７−及び１，８−ナフタレン
である。より好ましくはＸは非置換であり、より好ましくはｎは２又は３であり
、最も好ましくは、Ｘが−（ＣＨ2ＣＨ2）−である。好ましくはＹは置換又は非
置換のフェニレン基または置換または非置換のナフタレン基；例えば１，２−、
１，３−及び１，４−フェニレン；及び１，４−、２，７−、及び１，８−ナフ
タレンである。より好ましくはＹは非置換であり、最も好ましくは非置換の１，
４−フェニレンである。Ｚは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2であり、好
ましくは−ＯＨである。
基、置換又は非置換のフェニレン［Ｃ6Ｈ4］基、又は置換又は非置換ナフタレン
［Ｃ10Ｈ6］基；例えば、−（ＣＨ2）n−（ｎは２乃至８）；１，２−、１，３
−、及び１，４−フェニレン；及び１，４−、２，７−及び１，８−ナフタレン
である。より好ましくはＸは非置換であり、より好ましくはｎは２又は３であり
、最も好ましくは、Ｘが−（ＣＨ2ＣＨ2）−である。好ましくはＹは置換又は非
置換のフェニレン基または置換または非置換のナフタレン基；例えば１，２−、
１，３−及び１，４−フェニレン；及び１，４−、２，７−、及び１，８−ナフ
タレンである。より好ましくはＹは非置換であり、最も好ましくは非置換の１，
４−フェニレンである。Ｚは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2であり、好
ましくは−ＯＨである。
【００３０】
好ましいモノマーは、
［ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ2−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−ｐ−Ｃ6Ｈ4−
Ｚ］ （式中Ｚは、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2であり、好ましくは−ＯＨ
）である。
Ｚ］ （式中Ｚは、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2であり、好ましくは−ＯＨ
）である。
【００３１】
コポリマーの合成において、一以上の尿素基含有モノマーを用いることができ
る。コポリマーは、２０乃至９０重量％の他の重合可能なモノマー、例えばＮ−
置換マレイミド、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル
酸エステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、及びメ
タクリルアミドも含む。
る。コポリマーは、２０乃至９０重量％の他の重合可能なモノマー、例えばＮ−
置換マレイミド、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル
酸エステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、及びメ
タクリルアミドも含む。
【００３２】
アクリルアミド及び／又はメタクリルアミドに加えて、６０モル％を超え、９
０モル％以下のアクリロニトリル及び／又はメタクリロニトリルを含むコポリマ
ーは、優れた物理的特性を提供する。より好ましくは、アルカリ現像液溶解性コ
ポリマーは、モノマーを含む３０乃至７０重量％尿素基；２０乃至６０重量％の
アクリロニトリル又はメタクリロニトリル、好ましくはアクリロニトリル；及び
５乃至２５重量％のアクリルアミド又はメタクリルアミド、好ましくはメタクリ
ルアミドを含む。
０モル％以下のアクリロニトリル及び／又はメタクリロニトリルを含むコポリマ
ーは、優れた物理的特性を提供する。より好ましくは、アルカリ現像液溶解性コ
ポリマーは、モノマーを含む３０乃至７０重量％尿素基；２０乃至６０重量％の
アクリロニトリル又はメタクリロニトリル、好ましくはアクリロニトリル；及び
５乃至２５重量％のアクリルアミド又はメタクリルアミド、好ましくはメタクリ
ルアミドを含む。
【００３３】
８０重量％２−ブトキシエタノール／２０重量％水に耐性な、特に有用な第２
のポリマー物質の他の基は、約１０乃至９０モル％のスルホンアミドモノマー単
位を含む、水性アルカリ現像液溶解性コポリマーを含むもの、特にＮ−（ｐ−ア
ミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、及び／又は対応するアクリルアミドを含むものである。ペンダントスルホ
ンアミド基を含む、有用なアルカリ現像液溶解性ポリマー物質、それらの調製方
法、及びそれらの調製に有用なモノマーは、Aoshima,米国特許第５，１４１，８
３８号に開示されている。特に有用なポリマー物質は、（１）スルホンアミドモ
ノマー単位、特にＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド；（
２）アクリロニトリル及び／又はメタクリロニトリル；及び（３）メチルメタク
リレート及び／又はメチルアクリレートを含む。
のポリマー物質の他の基は、約１０乃至９０モル％のスルホンアミドモノマー単
位を含む、水性アルカリ現像液溶解性コポリマーを含むもの、特にＮ−（ｐ−ア
ミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、及び／又は対応するアクリルアミドを含むものである。ペンダントスルホ
ンアミド基を含む、有用なアルカリ現像液溶解性ポリマー物質、それらの調製方
法、及びそれらの調製に有用なモノマーは、Aoshima,米国特許第５，１４１，８
３８号に開示されている。特に有用なポリマー物質は、（１）スルホンアミドモ
ノマー単位、特にＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド；（
２）アクリロニトリル及び／又はメタクリロニトリル；及び（３）メチルメタク
リレート及び／又はメチルアクリレートを含む。
【００３４】
前記ポリマー物質は、水性アルカリ現像液に溶解性である。さらに、それらは
下地層のコーティング溶媒として用いることができる、極性溶媒、例えばエチレ
ングリコールモノメチルエーテルに、溶解性である。しかしながら、それらは、
下地層を溶解することなしに、下地層の上にトップ層をコーティングする溶媒と
して用いられる、極性の低い溶媒、例えば２−ブタノン（メチルエチルケトン）
には、ほとんど溶解しない。
下地層のコーティング溶媒として用いることができる、極性溶媒、例えばエチレ
ングリコールモノメチルエーテルに、溶解性である。しかしながら、それらは、
下地層を溶解することなしに、下地層の上にトップ層をコーティングする溶媒と
して用いられる、極性の低い溶媒、例えば２−ブタノン（メチルエチルケトン）
には、ほとんど溶解しない。
【００３５】
これらのポリマー物質は、周知の方法、例えばフリーラジカル重合により、調
製することができる。それらの側鎖に尿素結合を有するアルカリ現像液溶解性コ
ポリマーの合成は、例えば、Ishizuka、米国特許第５，７３１，１２７号に開示
されている。
製することができる。それらの側鎖に尿素結合を有するアルカリ現像液溶解性コ
ポリマーの合成は、例えば、Ishizuka、米国特許第５，７３１，１２７号に開示
されている。
【００３６】
下地層は、１以上の他のポリマー物質を、その添加が下地層の耐薬品性および
溶解特性を損ねない限りにおいて、含むことができる。他のポリマー物質が存在
する場合、ノボラック樹脂が好ましく、それは、現像後の焼き付け工程による印
刷数の耐刷力を改善するために添加することができる。
溶解特性を損ねない限りにおいて、含むことができる。他のポリマー物質が存在
する場合、ノボラック樹脂が好ましく、それは、現像後の焼き付け工程による印
刷数の耐刷力を改善するために添加することができる。
【００３７】
下地層は、放射、好ましくは８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲の放射、すな
わち熱により画像形成可能なエレメントの画像形成のために通常用いられる範囲
の放射を吸収することができる。吸収剤は、「光熱変換物質」とも称され、下地
層に存在することができる。光熱変換物質は、放射を吸収し、それを熱に変換す
る。光熱変換物質は紫外線、可視光、及び/又は赤外線放射を吸収し、それを熱
に変換する。ポリマー物質の１つはそれ自身吸収部分を含む（すなわち光熱変換
物質）が、典型的には、光熱変換物質は別個の化合物である。
わち熱により画像形成可能なエレメントの画像形成のために通常用いられる範囲
の放射を吸収することができる。吸収剤は、「光熱変換物質」とも称され、下地
層に存在することができる。光熱変換物質は、放射を吸収し、それを熱に変換す
る。光熱変換物質は紫外線、可視光、及び/又は赤外線放射を吸収し、それを熱
に変換する。ポリマー物質の１つはそれ自身吸収部分を含む（すなわち光熱変換
物質）が、典型的には、光熱変換物質は別個の化合物である。
【００３８】
画像形成放射吸収剤は、染料または顔料のいずれでもよく、例えば、スクアリ
リウム、メロシアニン、インドリジン、ピリリウム、又は金属ジオチオリンクラ
スの染料または顔料でもよい。吸収性顔料の例は、プロジェット９００、プロジ
ェット８６０、及びプロジェット８３０（すべてZenecaから市販されている）で
ある。カーボンブラック顔料も用いることができる。それらの広い吸収バンドの
ために、カーボンブラックベースの版は、広範囲のピーク放出波長を有する多重
赤外画像形成装置で用いることができる。
リウム、メロシアニン、インドリジン、ピリリウム、又は金属ジオチオリンクラ
スの染料または顔料でもよい。吸収性顔料の例は、プロジェット９００、プロジ
ェット８６０、及びプロジェット８３０（すべてZenecaから市販されている）で
ある。カーボンブラック顔料も用いることができる。それらの広い吸収バンドの
ために、カーボンブラックベースの版は、広範囲のピーク放出波長を有する多重
赤外画像形成装置で用いることができる。
【００３９】
染料、特に水性アルカリ現像液に溶解性の染料は、不溶性物質による現像液の
スラッジ化を防止するために好ましい。染料は例えば、インドアニリン染料、オ
キソノール染料、ポルフィリン誘導体、アントラキノン染料、メロスチリル染料
、ピリリウム化合物及びスクアリリウム誘導体から選ばれることができる。放射
吸収性染料は、多くの開示及びその分野の特許出願に開示され、例えばNagasaka
,EP0.823,327;Van Damme,EP0,908,397;DeBoer,米国特許第４，９７３，５７２号
；Jandrue,米国特許第５，２４４，７１１号；及びChapman,米国特許第５，４０
１，６１８号に開示されている。有用な吸収性染料の例には、ADS-830A及びADS-
1064（共にAmerican Dye Source, Montreal,カナダ）EC2117(FEW,Wolfen,ドイツ
から市販)、Cyasorb IR99 及びCyasorb IR 165（共にGlendale Protective Tech
nologyから市販）、Epolite IV-62B及びEpolite III-178（共にEpolineから市販
）、PINA-780（Allied Signal Corporationから市販）、SpectraIR 830A及びSpe
ctraIR 840A（共にSpectra Colorsから市販）が含まれる。
スラッジ化を防止するために好ましい。染料は例えば、インドアニリン染料、オ
キソノール染料、ポルフィリン誘導体、アントラキノン染料、メロスチリル染料
、ピリリウム化合物及びスクアリリウム誘導体から選ばれることができる。放射
吸収性染料は、多くの開示及びその分野の特許出願に開示され、例えばNagasaka
,EP0.823,327;Van Damme,EP0,908,397;DeBoer,米国特許第４，９７３，５７２号
；Jandrue,米国特許第５，２４４，７１１号；及びChapman,米国特許第５，４０
１，６１８号に開示されている。有用な吸収性染料の例には、ADS-830A及びADS-
1064（共にAmerican Dye Source, Montreal,カナダ）EC2117(FEW,Wolfen,ドイツ
から市販)、Cyasorb IR99 及びCyasorb IR 165（共にGlendale Protective Tech
nologyから市販）、Epolite IV-62B及びEpolite III-178（共にEpolineから市販
）、PINA-780（Allied Signal Corporationから市販）、SpectraIR 830A及びSpe
ctraIR 840A（共にSpectra Colorsから市販）が含まれる。
【００４０】
下地層に吸収剤が存在する場合、下地層の吸収剤の量は、一般的には、画像形
成波長において、少なくとも０．０５、好ましくは約０．５乃至約２の吸光度を
提供するために十分な量である。当業者に周知のごとく、特定の吸光度を創出す
るために必要な吸収剤の量は、下地層の厚みと、画像形成に用いた波長における
吸収剤の吸光係数から、Beers Lawを用いて決定することができる。放射によっ
て画像形成される熱画像形成可能なエレメントについては、下地層が画像形成放
射を吸収するエレメントが好ましい。
成波長において、少なくとも０．０５、好ましくは約０．５乃至約２の吸光度を
提供するために十分な量である。当業者に周知のごとく、特定の吸光度を創出す
るために必要な吸収剤の量は、下地層の厚みと、画像形成に用いた波長における
吸収剤の吸光係数から、Beers Lawを用いて決定することができる。放射によっ
て画像形成される熱画像形成可能なエレメントについては、下地層が画像形成放
射を吸収するエレメントが好ましい。
【００４１】
下地層は、典型的には、下地層中の第１と第２のポリマー物質の全重量に対し
て、約１０重量％乃至約９０重量％の第１のポリマー物質と、約１０重量％乃至
約９０重量％の第２のポリマー物質とを含む。好ましくは、下地層は、下地層中
の第１と第２のポリマー物質の全重量に対して、約４０重量％乃至約８５重量％
の第１のポリマー物質と、約１５重量％乃至約６０重量％の第２のポリマー物質
とを含む。第１と第２のポリマー物質は併せて典型的には、下地層中の第１と第
２のポリマー物質の全重量に対して、下地層の少なくとも５０重量％、好ましく
は少なくとも６０重量％、より好ましくは約６５重量％である。下地層に他のポ
リマー物質が存在するとき、典型的には、下地層中の全てのポリマー物質の全重
量に対して、約２０重量％以下、好ましくは約１乃至約２０重量％の他のポリマ
ー物質が、下地層に存在しても良い。下地層が画像形成放射を吸収するように調
製されたとき、典型的には、下地層が、下地層の全重量に対して、少なくとも約
０．１重量％の吸収剤、好ましくは約１乃至３０重量％の吸収剤を含む。
て、約１０重量％乃至約９０重量％の第１のポリマー物質と、約１０重量％乃至
約９０重量％の第２のポリマー物質とを含む。好ましくは、下地層は、下地層中
の第１と第２のポリマー物質の全重量に対して、約４０重量％乃至約８５重量％
の第１のポリマー物質と、約１５重量％乃至約６０重量％の第２のポリマー物質
とを含む。第１と第２のポリマー物質は併せて典型的には、下地層中の第１と第
２のポリマー物質の全重量に対して、下地層の少なくとも５０重量％、好ましく
は少なくとも６０重量％、より好ましくは約６５重量％である。下地層に他のポ
リマー物質が存在するとき、典型的には、下地層中の全てのポリマー物質の全重
量に対して、約２０重量％以下、好ましくは約１乃至約２０重量％の他のポリマ
ー物質が、下地層に存在しても良い。下地層が画像形成放射を吸収するように調
製されたとき、典型的には、下地層が、下地層の全重量に対して、少なくとも約
０．１重量％の吸収剤、好ましくは約１乃至３０重量％の吸収剤を含む。
【００４２】
これらのポリマー物質の組み合わせは、水性アルカリ現像液に可溶性である。
さらに、それらは典型的には、極性溶媒及び溶媒混合物、例えばメチルラクテー
ト/メタノール/ジオキソラン（１５：４２．５：４２．５重量％）混合物（下地
層についてのコート溶媒として用いることができる）に可溶性である。しかしな
がら、それらは、極性の低い溶媒や溶媒混合物、例えばアセトン（下地層を溶解
せずに下地層の上にトップ層のコーティングするときの溶媒として用いることが
できる）にはあまり溶けない。
さらに、それらは典型的には、極性溶媒及び溶媒混合物、例えばメチルラクテー
ト/メタノール/ジオキソラン（１５：４２．５：４２．５重量％）混合物（下地
層についてのコート溶媒として用いることができる）に可溶性である。しかしな
がら、それらは、極性の低い溶媒や溶媒混合物、例えばアセトン（下地層を溶解
せずに下地層の上にトップ層のコーティングするときの溶媒として用いることが
できる）にはあまり溶けない。
【００４３】
トップ層
トップ層すなわち第２層は、その下の水性アルカリ現像液溶解性下地層を、水
性アルカリ現像液から保護する。リソグラフ印刷の分野で知られているいずれの
トップ層も、本発明の下地層とともに用いることができる。トップ層はインキ受
容性であり、第３のポリマー物質を含む。
性アルカリ現像液から保護する。リソグラフ印刷の分野で知られているいずれの
トップ層も、本発明の下地層とともに用いることができる。トップ層はインキ受
容性であり、第３のポリマー物質を含む。
【００４４】
熱画像形成可能なエレメント
一の実施態様において、第３のポリマー物質はインキ受容性で、約７以上のｐ
Ｈの水溶液に不溶性であり、有機溶媒又はアプロティック溶媒などの溶媒に可溶
性又は分散性である。このタイプの有用なポリマー物質は、アクリル酸ポリマー
類とコポリマー類；ポリスチレン；スチレンアクリル酸コポリマー類；ポリエス
テル類、ポリアミド類；ポリウレア類；ポリウレタン類；ニトロセルロース類；
エポキシ樹脂類；及びそれらの組み合わせを含む。好ましいものは、ポリメチル
メタクリレート及びポリスチレンである。これらのポリマー物質は水性アルカリ
現像液に溶解性でないが、画像形成可能なエレメントの一部が熱に露光されると
き、それらは選択的に現像液に浸透性になり、それにより除去される。
Ｈの水溶液に不溶性であり、有機溶媒又はアプロティック溶媒などの溶媒に可溶
性又は分散性である。このタイプの有用なポリマー物質は、アクリル酸ポリマー
類とコポリマー類；ポリスチレン；スチレンアクリル酸コポリマー類；ポリエス
テル類、ポリアミド類；ポリウレア類；ポリウレタン類；ニトロセルロース類；
エポキシ樹脂類；及びそれらの組み合わせを含む。好ましいものは、ポリメチル
メタクリレート及びポリスチレンである。これらのポリマー物質は水性アルカリ
現像液に溶解性でないが、画像形成可能なエレメントの一部が熱に露光されると
き、それらは選択的に現像液に浸透性になり、それにより除去される。
【００４５】
下地層が画像形成放射を吸収するシステムは、米国出願番号第０９/３０１，
８６６号［PCT/US99/12689］に開示されている。トップ層が画像形成放射を吸収
するシステムは、欧州特許公開EP０８６４４２０号に開示されている。
８６６号［PCT/US99/12689］に開示されている。トップ層が画像形成放射を吸収
するシステムは、欧州特許公開EP０８６４４２０号に開示されている。
【００４６】
他の態様において、第３のポリマー物質はインキ受容性であり、水性アルカリ
現像液に溶解するが、トップ層は、画像形成の前は水性アルカリ現像液に不溶性
である。しかしながら、トップ層は、画像形成の後、水性アルカリ現像液に可溶
性になる。水に不溶性であるが、水性アルカリ現像液に溶解する第３のポリマー
物質は、現像液のスラッジ化を防止するために用いられる。
現像液に溶解するが、トップ層は、画像形成の前は水性アルカリ現像液に不溶性
である。しかしながら、トップ層は、画像形成の後、水性アルカリ現像液に可溶
性になる。水に不溶性であるが、水性アルカリ現像液に溶解する第３のポリマー
物質は、現像液のスラッジ化を防止するために用いられる。
【００４７】
フェノール性ヒドロキシル基を含むポリマー、すなわちフェノール樹脂は、好
ましい。好ましくはポリマー物質は、光安定性、水に不溶性、水性アルカリ現像
液に溶解性のフィルム形成ポリマー物質であり、複数のフェノール性ヒドロキシ
ル基を、ポリマーバックボーン又はペンダント基に有するものである。フェノー
ル基は、トップ層に対して、水性アルカリ現像液溶解性を与え、また、溶解抑制
成分と熱不安定な複合体を形成すると考えられる。ノボラック樹脂、レゾール樹
脂、ペンダントフェノール基を含むアクリル酸樹脂、及びポリビニルフェノール
樹脂は好ましいフェノール樹脂である。ノボラック樹脂はより好ましい。
ましい。好ましくはポリマー物質は、光安定性、水に不溶性、水性アルカリ現像
液に溶解性のフィルム形成ポリマー物質であり、複数のフェノール性ヒドロキシ
ル基を、ポリマーバックボーン又はペンダント基に有するものである。フェノー
ル基は、トップ層に対して、水性アルカリ現像液溶解性を与え、また、溶解抑制
成分と熱不安定な複合体を形成すると考えられる。ノボラック樹脂、レゾール樹
脂、ペンダントフェノール基を含むアクリル酸樹脂、及びポリビニルフェノール
樹脂は好ましいフェノール樹脂である。ノボラック樹脂はより好ましい。
【００４８】
ノボラック樹脂は市販されており、当業者に良く知られたものである。それら
は典型的には、フェノール、例えば、フェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾールなどと、アルデヒド、例えばホルムアルデヒド、パラホル
ムアルデヒド、アセトアルデヒドなどとの、又はケトン、例えばアセトンとの、
酸触媒存在下での、縮合反応により調製される。重量平均分子量は、典型的には
約１，０００乃至１５，０００である。典型的なノボラック樹脂は、例えば、フ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノ
ール−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−ｔ−ブチルフェノール−ホルム
アルデヒド樹脂、及びピロガロール−アセトン樹脂を含む。特に有用なノボラッ
ク樹脂は、当業者に周知の条件を用いて、ｍ−クレゾール、ｍ−クレゾールとｐ
−クレゾールの混合物、又はフェノールと、ホルムアルデヒドとの反応により調
製される。
は典型的には、フェノール、例えば、フェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾールなどと、アルデヒド、例えばホルムアルデヒド、パラホル
ムアルデヒド、アセトアルデヒドなどとの、又はケトン、例えばアセトンとの、
酸触媒存在下での、縮合反応により調製される。重量平均分子量は、典型的には
約１，０００乃至１５，０００である。典型的なノボラック樹脂は、例えば、フ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノ
ール−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−ｔ−ブチルフェノール−ホルム
アルデヒド樹脂、及びピロガロール−アセトン樹脂を含む。特に有用なノボラッ
ク樹脂は、当業者に周知の条件を用いて、ｍ−クレゾール、ｍ−クレゾールとｐ
−クレゾールの混合物、又はフェノールと、ホルムアルデヒドとの反応により調
製される。
【００４９】
他の有用なフェノール樹脂は、フェノール性ヒドロキシル基を有するポリビニ
ル化合物を含む。そのような化合物は、例えば、ポリヒドロキシスチレン及びヒ
ドロキシスチレンの反復単位を含むコポリマー、及び置換されたヒドロキシスチ
レンの反復単位を含むポリマー及びコポリマーを含む。
ル化合物を含む。そのような化合物は、例えば、ポリヒドロキシスチレン及びヒ
ドロキシスチレンの反復単位を含むコポリマー、及び置換されたヒドロキシスチ
レンの反復単位を含むポリマー及びコポリマーを含む。
【００５０】
この実施態様において、トップ層は好ましくは、水性現像液に溶解性のポリマ
ー物質の溶解抑制成分として機能する化合物を含む。いかなる理論又は説明に縛
られるものではないが、溶解抑制成分は、「可逆性不溶化剤」、すなわち、現像
液中のポリマー物質の溶解性を可逆的に抑制する化合物であると考えられている
。溶解抑制成分は、第３のポリマー物質に存在するフェノール性ヒドロキシル基
との水素結合のアクセプター部位に作用すると考えられている極性の官能基を有
している。アクセプター部位は、高電子密度を有する原子を含むものであり、好
ましくは電気陰性度第一行の元素、特に炭素、窒素及び酸素を含むものである。
水性アルカリ現像液に溶解する溶解抑制成分が好ましい。
ー物質の溶解抑制成分として機能する化合物を含む。いかなる理論又は説明に縛
られるものではないが、溶解抑制成分は、「可逆性不溶化剤」、すなわち、現像
液中のポリマー物質の溶解性を可逆的に抑制する化合物であると考えられている
。溶解抑制成分は、第３のポリマー物質に存在するフェノール性ヒドロキシル基
との水素結合のアクセプター部位に作用すると考えられている極性の官能基を有
している。アクセプター部位は、高電子密度を有する原子を含むものであり、好
ましくは電気陰性度第一行の元素、特に炭素、窒素及び酸素を含むものである。
水性アルカリ現像液に溶解する溶解抑制成分が好ましい。
【００５１】
溶解抑制成分は、別個の溶解阻害化合物でもよい。代替的に、又は付加的に、
第３のポリマー物質は、フェノール基に加えて極性基を含むことができ、こうし
て、ポリマー物質と溶解抑制成分の両方として機能することができる。有用な溶
解性阻害化合物は、 West,米国特許第５，７０５，３０８号；Parsons,WO97/39
894;Bernett,WO97/07986[PCT/GB96/01973];Nagasaka,EP0823327;Miyake,EP09096
27;West,WO98/42507;Nguyen,WO99/11458に開示されている。
第３のポリマー物質は、フェノール基に加えて極性基を含むことができ、こうし
て、ポリマー物質と溶解抑制成分の両方として機能することができる。有用な溶
解性阻害化合物は、 West,米国特許第５，７０５，３０８号；Parsons,WO97/39
894;Bernett,WO97/07986[PCT/GB96/01973];Nagasaka,EP0823327;Miyake,EP09096
27;West,WO98/42507;Nguyen,WO99/11458に開示されている。
【００５２】
溶解抑制成分は、水性アルカリ現像液にポリマー物質が溶解する速度を、可逆
的に減少させると考えられている。いかなる理論又は説明に縛られるものではな
いが、熱分解性複合体が、溶解抑制成分とポリマー物質との間に形成されると考
えられる。典型的には、約８００ｎｍ乃至約１２００ｎｍの画像形成放射に、画
像状に露光されることにより、又はサーマルヘッドにより、エレメントが加熱さ
れるとき、熱分解性複合体が破壊される。現像液は、非露光領域に浸透するより
もずっと速く、トップ層の露光領域に浸透する。下にある下地層の領域は、トッ
プ層の露光領域と共に除去され、下にある基材の親水性表面が現れる。
的に減少させると考えられている。いかなる理論又は説明に縛られるものではな
いが、熱分解性複合体が、溶解抑制成分とポリマー物質との間に形成されると考
えられる。典型的には、約８００ｎｍ乃至約１２００ｎｍの画像形成放射に、画
像状に露光されることにより、又はサーマルヘッドにより、エレメントが加熱さ
れるとき、熱分解性複合体が破壊される。現像液は、非露光領域に浸透するより
もずっと速く、トップ層の露光領域に浸透する。下にある下地層の領域は、トッ
プ層の露光領域と共に除去され、下にある基材の親水性表面が現れる。
【００５３】
一般的に、そのような化合物は、少なくとも０．５、好ましくは少なくとも５
の「阻害ファクター」を有するべきである。与えられた化合物の阻害ファクター
は、Shihら、Macromolecules,27,3330(1994)により記載された方法を用いて容易
に測定することができる。阻害ファクターは、コーティング中の阻害剤の濃度の
関数として現像速度の対数をプロットすることにより得られる線の傾きである。
現像速度は、Meyerhofer,IEEE Trans. Electron Devices, ED-27,921(1980)によ
り記載されたように、レーザー干渉法により測定することが便利である。
の「阻害ファクター」を有するべきである。与えられた化合物の阻害ファクター
は、Shihら、Macromolecules,27,3330(1994)により記載された方法を用いて容易
に測定することができる。阻害ファクターは、コーティング中の阻害剤の濃度の
関数として現像速度の対数をプロットすることにより得られる線の傾きである。
現像速度は、Meyerhofer,IEEE Trans. Electron Devices, ED-27,921(1980)によ
り記載されたように、レーザー干渉法により測定することが便利である。
【００５４】
有用な極性基は、例えば、ジアゾ基；ジアゾニウム基；ケト基；スルホン酸エ
ステル基；リン酸エステル基；トリアリールメタン基；オニウム基、例えばスル
ホニウム、ヨードニウム、及びホスホニウム；窒素原子が複素環内に取りこまれ
ている基；正に荷電した原子を含む基、特に正に荷電した窒素原子を含む基、典
型的には第４級窒素原子を含む基、すなわちアンモニウム基を含む基、を含む。
他の極性基を含む化合物、例えばエーテル、アミン、アゾ、ニトロ、フェロセニ
ウム、スルホキシド、スルホン、及びジスルホンを含む化合物も、溶解抑制成分
として有用かもしれない。再生アセタール又はケタール基を有するモノマー又は
ポリマーのアセタール、少なくとも一のオルソカルボン酸エステルまたはアミド
基を有するモノマー又はポリマーのオルソカルボン酸エステル、エノールエーテ
ル、N-アシルイミノカーボネート、環状アセタール又はケタール、β-ケトエス
テル又はβ−ケトアミドは、溶解抑制成分として有用であり得る。芳香族基、例
えばフェニル、置換フェニル、例えばp-メチルフェニル及びナフチルを含む化合
物は、特に有用である。
ステル基；リン酸エステル基；トリアリールメタン基；オニウム基、例えばスル
ホニウム、ヨードニウム、及びホスホニウム；窒素原子が複素環内に取りこまれ
ている基；正に荷電した原子を含む基、特に正に荷電した窒素原子を含む基、典
型的には第４級窒素原子を含む基、すなわちアンモニウム基を含む基、を含む。
他の極性基を含む化合物、例えばエーテル、アミン、アゾ、ニトロ、フェロセニ
ウム、スルホキシド、スルホン、及びジスルホンを含む化合物も、溶解抑制成分
として有用かもしれない。再生アセタール又はケタール基を有するモノマー又は
ポリマーのアセタール、少なくとも一のオルソカルボン酸エステルまたはアミド
基を有するモノマー又はポリマーのオルソカルボン酸エステル、エノールエーテ
ル、N-アシルイミノカーボネート、環状アセタール又はケタール、β-ケトエス
テル又はβ−ケトアミドは、溶解抑制成分として有用であり得る。芳香族基、例
えばフェニル、置換フェニル、例えばp-メチルフェニル及びナフチルを含む化合
物は、特に有用である。
【００５５】
溶解阻害剤化合物として有用であるジアゾ基を含む化合物は、例えばｏ−ジア
ゾナフトキノン（すなわち、キノンジアジド）、例えば、分子量が約５０００未
満のバラスト部分にｏ−ジアゾナフトキノン部分が付着している化合物を含む。
典型的には、これらの化合物は、４−又は５−位置にモノ又はポリヒドロキシフ
ェニル化合物を有する、ハロゲノスルホニル基、典型的にはスルホニルクロリド
基を有する１，２−ナフトキノンジアジドの反応により調製される。好ましい反
応性化合物はスルホニルクロリドまたはエステルである；スルホニルクロリドは
もっとも好ましい。これらの化合部は、例えば、Photoreactve Polymers: the S
cience and Technology of Resists, A.Reiser,Wiley, New York,1989,pp.179-2
25のChp.5記載されている。
ゾナフトキノン（すなわち、キノンジアジド）、例えば、分子量が約５０００未
満のバラスト部分にｏ−ジアゾナフトキノン部分が付着している化合物を含む。
典型的には、これらの化合物は、４−又は５−位置にモノ又はポリヒドロキシフ
ェニル化合物を有する、ハロゲノスルホニル基、典型的にはスルホニルクロリド
基を有する１，２−ナフトキノンジアジドの反応により調製される。好ましい反
応性化合物はスルホニルクロリドまたはエステルである；スルホニルクロリドは
もっとも好ましい。これらの化合部は、例えば、Photoreactve Polymers: the S
cience and Technology of Resists, A.Reiser,Wiley, New York,1989,pp.179-2
25のChp.5記載されている。
【００５６】
有用な化合物は、以下のものを含むがこれに制限されない：２，４−ビス（２
−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）
−ベンゾフェノン；２−ジ−アゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタ
レン−スルホニルオキシ−２，２−ビスヒドロキシフェニルプロパンモノエステ
ル；２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホン酸の
ヘキサヒドロキシベンゾフェノンヘキサエステル；２，２’−ビス（２−ジアゾ
−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェニ
ル；２，２’，４，４’−テトラキス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オ
キソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェニル；２，３，４−トリス（２
−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）
ベンゾフェノン；２，４−ビス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−
４−ナフタレンスルホニルオキシ）ベンゾフェノン；２−ジアゾ−１，２−ジヒ
ドロ−１−オキソー４−ナフタレンスルホニルオキシ−２，２’−ビスヒドロキ
シフェニルプロパンモノエステル；２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ
−４−ナフタレンスルホン酸のヘキサヒドロキシベンゾフェノンヘキサエステル
；２，２’−ビス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−ナフタレ
ンスルホニルオキシ）ビフェニル；２，２’，４，４’−テトラキス（２−ジア
ゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソー４−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェ
ニル；２，３，４−トリス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−
ナフタレンスルホニルオキシ）ベンゾフェノン及び、その分野で知られているそ
の他のもの、例えば、Mizutani,米国特許第５，１４３，８１６号に記載されて
いるもの。
−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）
−ベンゾフェノン；２−ジ−アゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタ
レン−スルホニルオキシ−２，２−ビスヒドロキシフェニルプロパンモノエステ
ル；２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホン酸の
ヘキサヒドロキシベンゾフェノンヘキサエステル；２，２’−ビス（２−ジアゾ
−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェニ
ル；２，２’，４，４’−テトラキス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オ
キソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェニル；２，３，４−トリス（２
−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−５−ナフタレンスルホニルオキシ）
ベンゾフェノン；２，４−ビス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−
４−ナフタレンスルホニルオキシ）ベンゾフェノン；２−ジアゾ−１，２−ジヒ
ドロ−１−オキソー４−ナフタレンスルホニルオキシ−２，２’−ビスヒドロキ
シフェニルプロパンモノエステル；２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ
−４−ナフタレンスルホン酸のヘキサヒドロキシベンゾフェノンヘキサエステル
；２，２’−ビス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−ナフタレ
ンスルホニルオキシ）ビフェニル；２，２’，４，４’−テトラキス（２−ジア
ゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソー４−ナフタレンスルホニルオキシ）ビフェ
ニル；２，３，４−トリス（２−ジアゾ−１，２−ジヒドロ−１−オキソ−４−
ナフタレンスルホニルオキシ）ベンゾフェノン及び、その分野で知られているそ
の他のもの、例えば、Mizutani,米国特許第５，１４３，８１６号に記載されて
いるもの。
【００５７】
ポリマーのｏ−ジアゾナフトキノン化合物は、ｏ−ジアゾナフトキノン部分を
含む反応性誘導体と、ヒドロキシル又はアミノ基などの適当な反応性基を含むポ
リマー物質との反応により形成された誘導樹脂を含む。これらの誘導樹脂を形成
する適当なポリマー物質は、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェノ
ール、ヒドロキシ含有モノマーのアクリル酸及びメタクリル酸コポリマー、例え
ば、ビニルフェノール及び２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリビニルア
ルコールなどを含む。代表的な反応性誘導体は、スルホン酸及びカルボン酸、ｏ
−ジアゾナフトキノン部分のエステルまたはアミドを含む。ｏ−ジアゾナフトキ
ノン部分を有する化合物でのフェノール樹脂の変性は、周知であり、West,米国
特許第５，７０５，３０８号及び５，７０５，３２２号に記載されている。ジア
ゾナフトキノン部分を含む化合物で変性された樹脂の例は、Ｐ−３０００、ピロ
ガロール／アセトン樹脂のナフトキノンジアジド（ＰＣＡＳ，フランス）である
。
含む反応性誘導体と、ヒドロキシル又はアミノ基などの適当な反応性基を含むポ
リマー物質との反応により形成された誘導樹脂を含む。これらの誘導樹脂を形成
する適当なポリマー物質は、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェノ
ール、ヒドロキシ含有モノマーのアクリル酸及びメタクリル酸コポリマー、例え
ば、ビニルフェノール及び２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリビニルア
ルコールなどを含む。代表的な反応性誘導体は、スルホン酸及びカルボン酸、ｏ
−ジアゾナフトキノン部分のエステルまたはアミドを含む。ｏ−ジアゾナフトキ
ノン部分を有する化合物でのフェノール樹脂の変性は、周知であり、West,米国
特許第５，７０５，３０８号及び５，７０５，３２２号に記載されている。ジア
ゾナフトキノン部分を含む化合物で変性された樹脂の例は、Ｐ−３０００、ピロ
ガロール／アセトン樹脂のナフトキノンジアジド（ＰＣＡＳ，フランス）である
。
【００５８】
溶解阻害化合物として有用である、正に荷電された（すなわち第４級化）窒素
原子を含む化合物は、例えばテトラアルキルアンモニウム化合物、キノリニウム
化合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合物、及びイミダゾール化
合物を含む。代表的なテトラアルキルアンモニウム溶解阻害剤化合物は、テトラ
プロピルアンモニウムブロミド；テトラエチルアンモニウムブロミド；テトラプ
ロピルアンモニウムクロリド；及びトリメチルアルキアンモニウムクロリド及び
トリメチルアルキアンモニウムブロミド、例えばトリメチルオクチルアンモニウ
ムブロミド及びトリメチルデシルアンモニウムクロリドを含む。代表的なトリア
リールメタン染料溶解阻害剤化合物はエチルバイオレット、クリスタルバイオレ
ット、マラカイトグリーン、ブリリアントグリーン、ビクトリアブルーＢ、ビク
トリアブルーＲ、及びビクトリアピュアブルーＢ０を含む。
原子を含む化合物は、例えばテトラアルキルアンモニウム化合物、キノリニウム
化合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合物、及びイミダゾール化
合物を含む。代表的なテトラアルキルアンモニウム溶解阻害剤化合物は、テトラ
プロピルアンモニウムブロミド；テトラエチルアンモニウムブロミド；テトラプ
ロピルアンモニウムクロリド；及びトリメチルアルキアンモニウムクロリド及び
トリメチルアルキアンモニウムブロミド、例えばトリメチルオクチルアンモニウ
ムブロミド及びトリメチルデシルアンモニウムクロリドを含む。代表的なトリア
リールメタン染料溶解阻害剤化合物はエチルバイオレット、クリスタルバイオレ
ット、マラカイトグリーン、ブリリアントグリーン、ビクトリアブルーＢ、ビク
トリアブルーＲ、及びビクトリアピュアブルーＢ０を含む。
【００５９】
第４級複素環化合物は、溶解阻害剤として有用である。代表的イミダゾリン化
合物は、モナゾリンＣ，モナゾリンＯ、モナゾリンＣＹ、及びモナゾリンＴを含
み、これらはMona Industriesにより製造されている。代表的なキノリニウム溶
解阻害剤化合物は、１−エチルー２−メチルキノリニウムイオジド、１−エチル
−４−メチルキノリニウムイオジド、１−エチルー４−メチルキノリニウムイオ
ジド及び、Qinoldine Blueなどのキノリニウム部分を含むシアニン染料を含む。
代表的なベンゾチアゾリウム化合物は３−エチル２−（３Ｈ）ベンゾチアゾリデ
ン）−２−メチル−１−（プロピル）ベンゾチアゾリウムカチオン染料及び３−
エチル−ー−２−メチルベンゾチアゾリウムイオジドを含む。適当なピリジニウ
ム溶解阻害剤化合物又はセチルピリジニウムブロミドド及びエチルビオロゲンジ
カチオンを含む。
合物は、モナゾリンＣ，モナゾリンＯ、モナゾリンＣＹ、及びモナゾリンＴを含
み、これらはMona Industriesにより製造されている。代表的なキノリニウム溶
解阻害剤化合物は、１−エチルー２−メチルキノリニウムイオジド、１−エチル
−４−メチルキノリニウムイオジド、１−エチルー４−メチルキノリニウムイオ
ジド及び、Qinoldine Blueなどのキノリニウム部分を含むシアニン染料を含む。
代表的なベンゾチアゾリウム化合物は３−エチル２−（３Ｈ）ベンゾチアゾリデ
ン）−２−メチル−１−（プロピル）ベンゾチアゾリウムカチオン染料及び３−
エチル−ー−２−メチルベンゾチアゾリウムイオジドを含む。適当なピリジニウ
ム溶解阻害剤化合物又はセチルピリジニウムブロミドド及びエチルビオロゲンジ
カチオンを含む。
【００６０】
ジアゾニウム塩は、溶解性阻害剤化合物として有用であり、例えば置換及び非
置換のジフェニルアミンジアゾニウム塩、例えばメトキシ置換ジフェニルアミン
ジアゾニウムヘキサフルオロボレートを含む。これらの化合物は、前加熱しない
版で特に有用である。
置換のジフェニルアミンジアゾニウム塩、例えばメトキシ置換ジフェニルアミン
ジアゾニウムヘキサフルオロボレートを含む。これらの化合物は、前加熱しない
版で特に有用である。
【００６１】
溶解性阻害剤化合物として有用な代表的なスルホン酸エステルは、エチルベン
ゼンスルホネート、ｎ−ヘキシルベンゼンスルホネート、エチルｐ−トルエンス
ルホネート、ｔ−ブチルｐ−トルエンスルホネート、及びフェニルＰ−トルエン
スルホネートを含む。代表的なリン酸エステルは、トリメチルホスフェート、ト
リエチルホスフェート、及びトリクレシルホスフェートを含む。有用なスルホン
は、芳香族基を有するもの、例えばジフェニルスルホンを含む。有用なアミンは
芳香族基を有するもの、例えばジフェニルアミン及びトリフェニルアミンを含む
。
ゼンスルホネート、ｎ−ヘキシルベンゼンスルホネート、エチルｐ−トルエンス
ルホネート、ｔ−ブチルｐ−トルエンスルホネート、及びフェニルＰ−トルエン
スルホネートを含む。代表的なリン酸エステルは、トリメチルホスフェート、ト
リエチルホスフェート、及びトリクレシルホスフェートを含む。有用なスルホン
は、芳香族基を有するもの、例えばジフェニルスルホンを含む。有用なアミンは
芳香族基を有するもの、例えばジフェニルアミン及びトリフェニルアミンを含む
。
【００６２】
溶解阻害剤化合物として有用なケトを含む化合物は、例えばアルデヒド;ケト
ン、特に芳香族ケトン；及びカルボン酸エステルを含む。代表的は芳香族ケトン
は、キサントン、フラバノン、フラボン、２，３−ジフェニル−１−インデノン
、１’−（２’−アセトナフトニル）ベンゾエート、α−及びβ−ナフトフラボ
ン、２，６−ジフェニル−４Ｈ−ピラン−４−オン及び２，６−ジフェニル−４
Ｈ−チオピラン−４−オンを含む。代表的なカルボン酸エステルはエチルベンゾ
エート、n-ヘプチルベンゾエート、フェニルベンゾエートを含む。
ン、特に芳香族ケトン；及びカルボン酸エステルを含む。代表的は芳香族ケトン
は、キサントン、フラバノン、フラボン、２，３−ジフェニル−１−インデノン
、１’−（２’−アセトナフトニル）ベンゾエート、α−及びβ−ナフトフラボ
ン、２，６−ジフェニル−４Ｈ−ピラン−４−オン及び２，６−ジフェニル−４
Ｈ−チオピラン−４−オンを含む。代表的なカルボン酸エステルはエチルベンゾ
エート、n-ヘプチルベンゾエート、フェニルベンゾエートを含む。
【００６３】
溶解は溶解阻害剤化合物の好ましい基は、染料でもあるものであり、特にトリ
アリールメタン染料、例えばエチルバイオレットである。これらの化合物は、コ
ントラスト染料として作用することができ、現像された画像形成可能なエレメン
ト中の画像領域から、非画像領域を区別する。
アリールメタン染料、例えばエチルバイオレットである。これらの化合物は、コ
ントラスト染料として作用することができ、現像された画像形成可能なエレメン
ト中の画像領域から、非画像領域を区別する。
【００６４】
溶解阻害化合物がトップ層に存在するとき、その量は広く変えることができる
が、層の全乾燥組成物重量に対して、一般的には少なくとも約０．１重量％、典
型的には０．５乃至３０重量％、好ましくは１乃至１５重量％である。
が、層の全乾燥組成物重量に対して、一般的には少なくとも約０．１重量％、典
型的には０．５乃至３０重量％、好ましくは１乃至１５重量％である。
【００６５】
代替的にあるいは付加的に、ポリマー物質は、ポリマー物質に存在するヒドロ
キシ基との水素結合のアクセプター部位として極性基を含むことができ、それに
より溶解抑制成分として機能することができる。当業者に周知の方法を用いて、
ポリマー物質のヒドロキシル基の一部を変性して、極性基、例えば、カルボン酸
エステル、例えばベンゾエートエステル；ホスフェートエステル；エーテル、例
えばフェニルエーテル；及びスルホン酸エステル、例えばメチルスルホネート、
フェニルスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート（トシレート）、及びｐ−ブ
ロモフェニルスルホネート（ブロシレート）を導入することができる。
キシ基との水素結合のアクセプター部位として極性基を含むことができ、それに
より溶解抑制成分として機能することができる。当業者に周知の方法を用いて、
ポリマー物質のヒドロキシル基の一部を変性して、極性基、例えば、カルボン酸
エステル、例えばベンゾエートエステル；ホスフェートエステル；エーテル、例
えばフェニルエーテル；及びスルホン酸エステル、例えばメチルスルホネート、
フェニルスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート（トシレート）、及びｐ−ブ
ロモフェニルスルホネート（ブロシレート）を導入することができる。
【００６６】
ポリマー物質のヒドロキシル基の変性は、その分子量を増加し、ヒドロキシル
基の数を減少し、典型的には、ポリマー物質の現像液中の溶解性と溶解速度の両
方を減少する。変性のレベルは、ポリマー物質がと溶解抑制成分として作用する
ほど高いことが重要であるが、熱画像形成の後、ポリマー物質は現像液に溶解す
るほど高くするべきでない。必要とされる変性の程度は、ポリマー物質の性質と
ポリマー物質に導入された極性基を含む部分の性質によるが、典型的には、ヒド
ロキシル基の約０．５乃至約５モル％、好ましくは約１モル乃至３モル％が変性
されるであろう。これらの変性ポリマー物質は、第３のポリマー物質及び溶解抑
制成分の両方として作用することができる。それらは、トップ層で単独で用いる
ことができ、又はそれらは他のポリマー物質及び/又は溶解抑制成分と組み合わ
せることができる。
基の数を減少し、典型的には、ポリマー物質の現像液中の溶解性と溶解速度の両
方を減少する。変性のレベルは、ポリマー物質がと溶解抑制成分として作用する
ほど高いことが重要であるが、熱画像形成の後、ポリマー物質は現像液に溶解す
るほど高くするべきでない。必要とされる変性の程度は、ポリマー物質の性質と
ポリマー物質に導入された極性基を含む部分の性質によるが、典型的には、ヒド
ロキシル基の約０．５乃至約５モル％、好ましくは約１モル乃至３モル％が変性
されるであろう。これらの変性ポリマー物質は、第３のポリマー物質及び溶解抑
制成分の両方として作用することができる。それらは、トップ層で単独で用いる
ことができ、又はそれらは他のポリマー物質及び/又は溶解抑制成分と組み合わ
せることができる。
【００６７】
極性基を含み、溶解抑制成分として機能するポリマー物質の好ましい基の１つ
は、フェノール性ヒドロキシル基の一部がスルホン酸エステル、好ましくはフェ
ニルスルホネート又はｐ−トルエンスルホネートに変換された変性フェノール性
ポリマー物質である。変性は、例えば、第３級アミンなどの塩基の存在下、ｐ−
トルエンスルホニルクロリドなどのスルホニルクロリドと、ポリマー物質との反
応により行なうことができる。好ましいポリマー物質は、１乃至３モル％、好ま
しくは約１．５乃至約２．５モル％のヒドロキシル基がフェニルスルホネート又
はｐ−トルエンスルホネート（トシル）基に変換された変性ノボラック樹脂であ
る。
は、フェノール性ヒドロキシル基の一部がスルホン酸エステル、好ましくはフェ
ニルスルホネート又はｐ−トルエンスルホネートに変換された変性フェノール性
ポリマー物質である。変性は、例えば、第３級アミンなどの塩基の存在下、ｐ−
トルエンスルホニルクロリドなどのスルホニルクロリドと、ポリマー物質との反
応により行なうことができる。好ましいポリマー物質は、１乃至３モル％、好ま
しくは約１．５乃至約２．５モル％のヒドロキシル基がフェニルスルホネート又
はｐ−トルエンスルホネート（トシル）基に変換された変性ノボラック樹脂であ
る。
【００６８】
極性基で変性したフェノール性ポリマー（例えば、いくつかのヒドロキシル基
がスルホン酸エステル基で、又はジアゾナフトキノン部分を含む基で変性したポ
リマー）が水性アルカリ現像液で溶解性であるが、１以上のこれらの物質を含む
、又はこれから本質的になる層が、水性アルカリ現像液に「不溶性」であること
は、ことは、当業者により理解されるであろう。これは、層の溶解性及び不溶性
が、層の画像領域及び非画像領域が現像液に溶解する相対速度により決められる
ためである。本質的に１以上のこれらの変性フェノールポリマー物質からなる、
又はそれを含む層を、画像状に熱に露出した後、層の露出領域は、非露出領域よ
りも速く水性アルカリ現像液に溶解する。現像工程が適当な時間に行なわれるな
ら、露出領域は除去され、非露出領域は残存して、非露出領域からなる画像が形
成される。こうして露出領域は水性現像液中で「溶解性」であり、非露出領域は
水性アルカリ現像液中で「不溶性」である。
がスルホン酸エステル基で、又はジアゾナフトキノン部分を含む基で変性したポ
リマー）が水性アルカリ現像液で溶解性であるが、１以上のこれらの物質を含む
、又はこれから本質的になる層が、水性アルカリ現像液に「不溶性」であること
は、ことは、当業者により理解されるであろう。これは、層の溶解性及び不溶性
が、層の画像領域及び非画像領域が現像液に溶解する相対速度により決められる
ためである。本質的に１以上のこれらの変性フェノールポリマー物質からなる、
又はそれを含む層を、画像状に熱に露出した後、層の露出領域は、非露出領域よ
りも速く水性アルカリ現像液に溶解する。現像工程が適当な時間に行なわれるな
ら、露出領域は除去され、非露出領域は残存して、非露出領域からなる画像が形
成される。こうして露出領域は水性現像液中で「溶解性」であり、非露出領域は
水性アルカリ現像液中で「不溶性」である。
【００６９】
溶解抑制成分は、それ自体、熱画像形成可能なエレメントの画像形成に典型的
に用いられる範囲である、約６００ｎｍ乃至約８００ｎｍの範囲の放射、及び８
００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲の放射に感受性、すなわち光反応性、ではない
と考えられる。もし、放射が画像形成に用いられ、それが下地層（すなわち、下
地層が画像形成放射吸収剤を含む）に吸収されるなら、溶解抑制成分は、好まし
くは、画像形成放射を大量に吸収するべきではない。画像形成放射は、トップ層
を通過して、その下にある下地層中の吸収剤により吸収され得るべきである。こ
のように、トップ層による画像形成放射の吸収が望ましくなければ、染料が溶解
抑制成分として用いられるとき、エレメントが放射により画像形成され、放射が
下地層で吸収されるなら、染料は画像形成波長で大量に吸収するべきではない。
好ましくは、画像形成放射吸収剤は、約８００乃至１２００ｎｍの範囲で、可視
光の範囲（すなわち約３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍ）よりも、強く吸収する。
に用いられる範囲である、約６００ｎｍ乃至約８００ｎｍの範囲の放射、及び８
００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲の放射に感受性、すなわち光反応性、ではない
と考えられる。もし、放射が画像形成に用いられ、それが下地層（すなわち、下
地層が画像形成放射吸収剤を含む）に吸収されるなら、溶解抑制成分は、好まし
くは、画像形成放射を大量に吸収するべきではない。画像形成放射は、トップ層
を通過して、その下にある下地層中の吸収剤により吸収され得るべきである。こ
のように、トップ層による画像形成放射の吸収が望ましくなければ、染料が溶解
抑制成分として用いられるとき、エレメントが放射により画像形成され、放射が
下地層で吸収されるなら、染料は画像形成波長で大量に吸収するべきではない。
好ましくは、画像形成放射吸収剤は、約８００乃至１２００ｎｍの範囲で、可視
光の範囲（すなわち約３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍ）よりも、強く吸収する。
【００７０】
トップ層は、露光された及び/又は現像されたエレメントの可視検査を容易に
するために染料を含むことができる。プロセシングの間、露光領域を非露光領域
から区別するためのプリントアウト染料（が使用できる）。コントラスト染料は
、現像板で非露光領域を画像形成領域から区別する。もし、エレメントが、画像
形成放射により画像形成され、下地層に画像形成放射が吸収されるなら、染料は
画像形成波長で強く吸収されるべきでない。
するために染料を含むことができる。プロセシングの間、露光領域を非露光領域
から区別するためのプリントアウト染料（が使用できる）。コントラスト染料は
、現像板で非露光領域を画像形成領域から区別する。もし、エレメントが、画像
形成放射により画像形成され、下地層に画像形成放射が吸収されるなら、染料は
画像形成波長で強く吸収されるべきでない。
【００７１】
トップ層は、放射、好ましくは約８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲、つまり
通常熱画像形成可能なエレメントを画像形成するために用いられる放射の範囲の
放射を吸収してもよい。吸収剤は、「光熱変換物質」とも称され、トップ層に存
在することができる。光熱変換物質は、放射を吸収してそれを熱に変換する。光
熱変換物質は、紫外線、可視光線、および/または赤外線放射を吸収し、それを
熱に変換する。ポリマー物質はそれ自体、吸収部分を含む、すなわち光熱変換物
質であるが、典型的には光熱変換物質は、別個の化合物である。光熱変換物質と
して有用な物質は、上述したものである。
通常熱画像形成可能なエレメントを画像形成するために用いられる放射の範囲の
放射を吸収してもよい。吸収剤は、「光熱変換物質」とも称され、トップ層に存
在することができる。光熱変換物質は、放射を吸収してそれを熱に変換する。光
熱変換物質は、紫外線、可視光線、および/または赤外線放射を吸収し、それを
熱に変換する。ポリマー物質はそれ自体、吸収部分を含む、すなわち光熱変換物
質であるが、典型的には光熱変換物質は、別個の化合物である。光熱変換物質と
して有用な物質は、上述したものである。
【００７２】
光化学画像形成可能なエレメント
光化学画像形成可能なエレメントのトップ層は、ポジ型光画像可能な組成物を
含む。光画像可能な組成物は、フェノール樹脂及びｏ−ジアゾナフトキノン（ナ
フトキノンジアジド）部分を含む物質、すなわちｏ−ジアゾナルトキノン化合物
及び／又はｏ−ジアゾナフトキノン部分で変性したフェノール樹脂、又はこれら
の物質の混合物を含む。ｏ−ジアゾナフトキノン（ジアゾナフトキノン）部分を
含む物質を含む光画像形成可能な組成物は、多くの特許および刊行物に記載され
ており、例えば、Schmidt,米国特許第３，０４６，１１０号、第３，０４６，１
１１号、第３，０４６，１１５号、第３，０４６，１１８号、及び第３，０４６
，１２０号；Sus,米国特許第３，０４６，１１９号及び第３，０４６，１２２号
；及びRauner、米国特許第３，６４７，４４３号；並びにPhotoreactive Polyme
rs: the Science and Technology of Resists, A. Reiser, Wiley, New York, 1
989,178-225頁の第５章に記載されている。いかなる理論又は説明に縛られるも
のではないが、これらの系における画像識別は、反応速度効果に基づくものと考
えられる。露光領域は、非露光領域よりも速く塩基性現像液中で溶解する。現像
は、現像液中に露光領域を溶解するために十分長い間行なわれるが、非露光領域
を溶解するほど長く行なわない。こうして露光領域は、現像液中に「溶解性」で
あり、非露光領域は現像液中に「不溶性」であるとして記載されている。
含む。光画像可能な組成物は、フェノール樹脂及びｏ−ジアゾナフトキノン（ナ
フトキノンジアジド）部分を含む物質、すなわちｏ−ジアゾナルトキノン化合物
及び／又はｏ−ジアゾナフトキノン部分で変性したフェノール樹脂、又はこれら
の物質の混合物を含む。ｏ−ジアゾナフトキノン（ジアゾナフトキノン）部分を
含む物質を含む光画像形成可能な組成物は、多くの特許および刊行物に記載され
ており、例えば、Schmidt,米国特許第３，０４６，１１０号、第３，０４６，１
１１号、第３，０４６，１１５号、第３，０４６，１１８号、及び第３，０４６
，１２０号；Sus,米国特許第３，０４６，１１９号及び第３，０４６，１２２号
；及びRauner、米国特許第３，６４７，４４３号；並びにPhotoreactive Polyme
rs: the Science and Technology of Resists, A. Reiser, Wiley, New York, 1
989,178-225頁の第５章に記載されている。いかなる理論又は説明に縛られるも
のではないが、これらの系における画像識別は、反応速度効果に基づくものと考
えられる。露光領域は、非露光領域よりも速く塩基性現像液中で溶解する。現像
は、現像液中に露光領域を溶解するために十分長い間行なわれるが、非露光領域
を溶解するほど長く行なわない。こうして露光領域は、現像液中に「溶解性」で
あり、非露光領域は現像液中に「不溶性」であるとして記載されている。
【００７３】
ｏ−ジアゾナフトキノン部分を含む有用な物質、すなわちｏ−ジアゾナフトキ
ノン化合物及びｏ−ジアゾナフトキノン部分で変性したフェノール樹脂は、上述
のものを含むが、これに制限されるものではない。
ノン化合物及びｏ−ジアゾナフトキノン部分で変性したフェノール樹脂は、上述
のものを含むが、これに制限されるものではない。
【００７４】
トップ層は、フェノール樹脂も含む。有用なフェノール樹脂は前記のものであ
る。ノボラック樹脂が好ましい。
る。ノボラック樹脂が好ましい。
【００７５】
トップ層は、ｏ−ジアゾナフトキノン（ナフトキノンジアジド）部分を含む物
質、すなわちｏ−ジアゾナフトキノン化合物及び／又はｏ−ジアゾナフトキノン
部分で変性したフェノール樹脂、又はこれらの物質の混合物を含む。層に存在す
るｏ−ジアゾナフトキノン部分、ｏ−ジアゾナフトキノン化合物中、及び／又は
ｏ−ジアゾナフトキノン部分で変性された樹脂中に存在できるものの量は、典型
的には、少なくとも約１重量％、より典型的には１ないし３０重量％である。
質、すなわちｏ−ジアゾナフトキノン化合物及び／又はｏ−ジアゾナフトキノン
部分で変性したフェノール樹脂、又はこれらの物質の混合物を含む。層に存在す
るｏ−ジアゾナフトキノン部分、ｏ−ジアゾナフトキノン化合物中、及び／又は
ｏ−ジアゾナフトキノン部分で変性された樹脂中に存在できるものの量は、典型
的には、少なくとも約１重量％、より典型的には１ないし３０重量％である。
【００７６】
トップ層は、露光及び／又は現像されたエレメントの可視的検査を助ける染料
を含むことができる。プロセシングの間、露光領域を非露光領域から区別するた
めのプリントアウト染料（を使うことができる）。化学放射にさらされる酸を生
成する化合物、たとえばハロゲン含有トリアジンは、プリントアウト画像を創出
するために存在することができる。コントラスト染料は、現像板で非露光領域を
画像領域から区別する。
を含むことができる。プロセシングの間、露光領域を非露光領域から区別するた
めのプリントアウト染料（を使うことができる）。化学放射にさらされる酸を生
成する化合物、たとえばハロゲン含有トリアジンは、プリントアウト画像を創出
するために存在することができる。コントラスト染料は、現像板で非露光領域を
画像領域から区別する。
【００７７】
画像形成可能なエレメントの調製
画像形成可能なエレメントは、親水性基質の親水性表面の上の下地層に連続的
に適用すること、ついで、従来のコーティング又は積層法を用いて、下地層の上
にトップ層を適用することにより、調製することができる。しかしながら、下地
層とトップ層の混合を避けることが重要である。
に適用すること、ついで、従来のコーティング又は積層法を用いて、下地層の上
にトップ層を適用することにより、調製することができる。しかしながら、下地
層とトップ層の混合を避けることが重要である。
【００７８】
下地層、すなわち第１層は、いかなる従来法を用いても、親水性基材の上に適
用することができる。典型的には、成分は、適当なコーティング溶媒に分散され
、又は溶解され、得られる混合物は、従来の方法、例えばスピンコーティング、
バーコーティング、グラビアコーティング、又はローラーコーティングによりコ
ーティングされる。トップ層すなわち第２の層は、下地層の上に、典型的には下
地層の表面に、前記で列挙したようなあらゆる従来の方法により、適用すること
ができる。「溶媒」なる用語は、溶媒の混合物、特に有機溶媒の混合物を含む。
用することができる。典型的には、成分は、適当なコーティング溶媒に分散され
、又は溶解され、得られる混合物は、従来の方法、例えばスピンコーティング、
バーコーティング、グラビアコーティング、又はローラーコーティングによりコ
ーティングされる。トップ層すなわち第２の層は、下地層の上に、典型的には下
地層の表面に、前記で列挙したようなあらゆる従来の方法により、適用すること
ができる。「溶媒」なる用語は、溶媒の混合物、特に有機溶媒の混合物を含む。
【００７９】
下地層をコーティングするために、及びトップ層をコーティングするために用
いられる溶媒の選択は、ポリマー物質の性質と層に存在する他の成分に依存する
。下地層上にトップ層をコーティングするときに、下地層が溶解してトップ層と
混合することを防止するために、トップ層は、第１と第２のポリマー物質が本質
的に不溶性である溶媒からコーティングされるべきである。こうして、トップ層
のコーティング溶媒は、トップ層が形成され得るように第３のポリマー物質が十
分に溶解性であり、第１と第２のポリマー物質が本質的に不溶性である溶媒であ
るべきである。典型的には、第１と第２のポリマー物質は、より極性の溶媒に溶
解性で、極性の低い溶媒に不溶性で、下地層をコーティングするために用いられ
る溶媒は、トップ層をコーティングするために用いられる溶媒よりも、極性が高
いであろう。その結果、トップ層は、典型的には、トルエン又は２−ブタノンな
どの従来の有機溶媒からコーティングされることができる。中間乾燥工程、すな
わち、下地層の上にトップ層をコーティングする前に、下地層を乾燥して、コー
ティング溶媒を除くことは、層の混合を防止するために用いることができる。
いられる溶媒の選択は、ポリマー物質の性質と層に存在する他の成分に依存する
。下地層上にトップ層をコーティングするときに、下地層が溶解してトップ層と
混合することを防止するために、トップ層は、第１と第２のポリマー物質が本質
的に不溶性である溶媒からコーティングされるべきである。こうして、トップ層
のコーティング溶媒は、トップ層が形成され得るように第３のポリマー物質が十
分に溶解性であり、第１と第２のポリマー物質が本質的に不溶性である溶媒であ
るべきである。典型的には、第１と第２のポリマー物質は、より極性の溶媒に溶
解性で、極性の低い溶媒に不溶性で、下地層をコーティングするために用いられ
る溶媒は、トップ層をコーティングするために用いられる溶媒よりも、極性が高
いであろう。その結果、トップ層は、典型的には、トルエン又は２−ブタノンな
どの従来の有機溶媒からコーティングされることができる。中間乾燥工程、すな
わち、下地層の上にトップ層をコーティングする前に、下地層を乾燥して、コー
ティング溶媒を除くことは、層の混合を防止するために用いることができる。
【００８０】
コーティング工程の間、下地層の溶解を防止するために、トップ層を、水性分
散液としてコーティングすることができる。あるいは、下地層、トップ層、又は
両方の層を層の成分の溶融混合物から、従来の押出コーティング方法により、適
用することができる。典型的には、そのような溶融混合物は揮発性の有機溶媒を
含まない。
散液としてコーティングすることができる。あるいは、下地層、トップ層、又は
両方の層を層の成分の溶融混合物から、従来の押出コーティング方法により、適
用することができる。典型的には、そのような溶融混合物は揮発性の有機溶媒を
含まない。
【００８１】
画像形成
画像形成は、当業者に周知の方法、例えば紫外線放射、可視光放射、近赤外線
放射、又は赤外線放射での露光により、又はサーマルヘッドにより、行なわれる
。一般的には、用いられる画像形成の方法は、主にトップ層の性質に依存する。
しかしながら、近赤外線又は赤外線範囲の放射での画像形成のために、適当な波
長で吸収するエレメントが好ましい。
放射、又は赤外線放射での露光により、又はサーマルヘッドにより、行なわれる
。一般的には、用いられる画像形成の方法は、主にトップ層の性質に依存する。
しかしながら、近赤外線又は赤外線範囲の放射での画像形成のために、適当な波
長で吸収するエレメントが好ましい。
【００８２】
熱画像形成可能なエレメントは、エレメントにより吸収される波長領域に調節
された近赤外線又は赤外線放出を放出するレーザー又は一連のレーザーで、画像
形成されることができる。赤外線放射、典型的には、約８００ｎｍ乃至約１２０
０ｎｍの範囲の赤外線放射は、熱画像形成可能なエレメントを画像形成するため
に用いることができる。画像形成は、約８３０ｎｍ又は約１０５６ｎｍで放出す
るレーザーで行なうことが便利である。適当な市販の装置は、イメージセッター
、例えばCreo Trendsetter（CREO CORP., British Coloumbia,カナダ、から市販
されている）及びGerber Crescent 42T (Gerber Corporationから市販されてい
る)を含む。
された近赤外線又は赤外線放出を放出するレーザー又は一連のレーザーで、画像
形成されることができる。赤外線放射、典型的には、約８００ｎｍ乃至約１２０
０ｎｍの範囲の赤外線放射は、熱画像形成可能なエレメントを画像形成するため
に用いることができる。画像形成は、約８３０ｎｍ又は約１０５６ｎｍで放出す
るレーザーで行なうことが便利である。適当な市販の装置は、イメージセッター
、例えばCreo Trendsetter（CREO CORP., British Coloumbia,カナダ、から市販
されている）及びGerber Crescent 42T (Gerber Corporationから市販されてい
る)を含む。
【００８３】
あるいは、熱画像形成可能なエレメントは、サーマル印刷ヘッドを含む従来の
装置を用いて画像形成することができる。画像形成可能なエレメントと共に、使
用に適した画像形成装置は、少なくとも一のサーマルヘッドを含むが、通常サー
マルヘッドアレイ、例えば、熱ファックス機及びサブリメーションプリンターに
用いられるTDKモデルNo.LV5416を含むであろう。露出（露光）がサーマルヘッド
で行なわれるとき、エレメントが赤外線放射を吸収することは必要でない。しか
しながら、赤外線放射を吸収するエレメントは、サーマルヘッドで画像形成され
ることができる。
装置を用いて画像形成することができる。画像形成可能なエレメントと共に、使
用に適した画像形成装置は、少なくとも一のサーマルヘッドを含むが、通常サー
マルヘッドアレイ、例えば、熱ファックス機及びサブリメーションプリンターに
用いられるTDKモデルNo.LV5416を含むであろう。露出（露光）がサーマルヘッド
で行なわれるとき、エレメントが赤外線放射を吸収することは必要でない。しか
しながら、赤外線放射を吸収するエレメントは、サーマルヘッドで画像形成され
ることができる。
【００８４】
いずれかの場合も、画像形成は、典型的には、直接デジタル画像形成により行
なわれる。画像シグナルは、ビットマップデータファイルとして、コンピュータ
ーに保存される。そのようなファイルは、ラスターイメージプロセッサ（ＲＯＰ
）又は他の適当な手段により作製することができる。例えば、ＲＩＰは、ページ
記述言語でインプットデータを受容することができ、それは画像形成可能なエレ
メントへの転写に必要とされる全ての特徴を規定するものであり、あるいはペー
ジ記述言語及び１以上の画像データファイルの組み合わせとして受容する。ビッ
トマップは、色調、スクリーン周波数及び角度を規定するために、構築される。
なわれる。画像シグナルは、ビットマップデータファイルとして、コンピュータ
ーに保存される。そのようなファイルは、ラスターイメージプロセッサ（ＲＯＰ
）又は他の適当な手段により作製することができる。例えば、ＲＩＰは、ページ
記述言語でインプットデータを受容することができ、それは画像形成可能なエレ
メントへの転写に必要とされる全ての特徴を規定するものであり、あるいはペー
ジ記述言語及び１以上の画像データファイルの組み合わせとして受容する。ビッ
トマップは、色調、スクリーン周波数及び角度を規定するために、構築される。
【００８５】
光化学画像形成のために、エレメントは、トップ層の光反応性成分又は成分類
により吸収される光源、例えば炭素アークランプ、水銀ランプ、キセノンランプ
、タングステンランプ、金属ハライドランプ、又は適当な波長を放出するレーザ
ーからの化学放射に画像状に露光される。５位置で置換されたｏ−ジアゾナフト
キノンは、典型的には、３５０ｎｍ及び４００ｎｍで吸収する。４−位置で置換
されたジアゾナフトキノンは、典型的には、３１０ｎｍと３９０ｎｍで吸収する
。画像状露光は、典型的には、フォトマスクを通して、行なわれるが、適当な波
長で放出するレーザーでの直接デジタル露光もまた利用可能である。
により吸収される光源、例えば炭素アークランプ、水銀ランプ、キセノンランプ
、タングステンランプ、金属ハライドランプ、又は適当な波長を放出するレーザ
ーからの化学放射に画像状に露光される。５位置で置換されたｏ−ジアゾナフト
キノンは、典型的には、３５０ｎｍ及び４００ｎｍで吸収する。４−位置で置換
されたジアゾナフトキノンは、典型的には、３１０ｎｍと３９０ｎｍで吸収する
。画像状露光は、典型的には、フォトマスクを通して、行なわれるが、適当な波
長で放出するレーザーでの直接デジタル露光もまた利用可能である。
【００８６】
画像形成可能なエレメントの画像形成は、画像形成済みエレメントを作製し、
これは画像及び非画像領域の潜像を含む。現像済みエレメントを形成するための
露光されたエレメントの現像は、トップ層と下地層の露光領域を除去し、下地層
の基材の親水性表面を露光することにより、潜像を画像に変換する。画像形成可
能なエレメントは、露光領域で第１層とトップ層が除去されて、下方の親水性基
材の親水性表面を露光する「ポジ型」であり、こうして露光領域は非インク受容
領域となる。
これは画像及び非画像領域の潜像を含む。現像済みエレメントを形成するための
露光されたエレメントの現像は、トップ層と下地層の露光領域を除去し、下地層
の基材の親水性表面を露光することにより、潜像を画像に変換する。画像形成可
能なエレメントは、露光領域で第１層とトップ層が除去されて、下方の親水性基
材の親水性表面を露光する「ポジ型」であり、こうして露光領域は非インク受容
領域となる。
【００８７】
露光されたエレメントは、適当な現像液中で現像化される。現像液は、相補的
な非露光領域を実質的に変化させずにトップ層の露光領域と下地層の下方領域の
両方に浸透でき溶解できるいかなる液体又は溶液でも良い。
な非露光領域を実質的に変化させずにトップ層の露光領域と下地層の下方領域の
両方に浸透でき溶解できるいかなる液体又は溶液でも良い。
【００８８】
有用な現像液は、約７以上のｐＨを有する水性溶液である。好ましい現像液は
、約８乃至約１３．５の間、典型的には、少なくとも約１１、好ましくは少なく
とも約１２のｐＨを有するものである。完全に水性な現像液、すなわち、有機溶
媒が添加されていないものが好ましい。有用な水性アルカリ現像液は、市販の現
像液、例えばＰＣ３０００，ＰＣ９５５、及びＰＣ９０００を含み、水性アルカ
リ現像液はKodak Polychrome Graphics LLCにより市販されている。
、約８乃至約１３．５の間、典型的には、少なくとも約１１、好ましくは少なく
とも約１２のｐＨを有するものである。完全に水性な現像液、すなわち、有機溶
媒が添加されていないものが好ましい。有用な水性アルカリ現像液は、市販の現
像液、例えばＰＣ３０００，ＰＣ９５５、及びＰＣ９０００を含み、水性アルカ
リ現像液はKodak Polychrome Graphics LLCにより市販されている。
【００８９】
典型的には、水性アルカリ現像液は、トップ層を、現像液を含むアプリケータ
ーで擦るか、または拭くことにより画像形成済みエレメントに適用される。ある
いは、画像形成済みエレメントは、現像液でブラシすることができ、又は現像液
は、露光領域を除去するために十分な力でトップ層をスプレーすることによりエ
レメントに適用することができる。いずれの場合も、現像されたエレメントが作
製される。
ーで擦るか、または拭くことにより画像形成済みエレメントに適用される。ある
いは、画像形成済みエレメントは、現像液でブラシすることができ、又は現像液
は、露光領域を除去するために十分な力でトップ層をスプレーすることによりエ
レメントに適用することができる。いずれの場合も、現像されたエレメントが作
製される。
【００９０】
現像されたエレメント、典型的にはリソグラフ印刷部材又は印刷版は、（１）
下地層とトップ層が除去されて、下にある親水性基材の表面が現れる領域、（２
）下地層とトップ層が除去されない相補領域を含む。下地層とトップ層の両方が
除去されない領域は、インキ受容性であり、画像形成の間に露光されなかった領
域に対応する。
下地層とトップ層が除去されて、下にある親水性基材の表面が現れる領域、（２
）下地層とトップ層が除去されない相補領域を含む。下地層とトップ層の両方が
除去されない領域は、インキ受容性であり、画像形成の間に露光されなかった領
域に対応する。
【００９１】
所望の場合、現像後の焼き付け工程は、印刷数の耐刷力を増加させるために用
いることができる。焼き付けは、例えば、約７乃至１０分間、約２２０℃乃至約
２４０℃で行なうことができる。
いることができる。焼き付けは、例えば、約７乃至１０分間、約２２０℃乃至約
２４０℃で行なうことができる。
【００９２】
本発明の有利な特性は、以下の実施例により示されるが、これらは本発明を例
示するものであり、これらにより本発明が制限されるものではない。
示するものであり、これらにより本発明が制限されるものではない。
【００９３】
用語解説
・２８−２９３０
ビニルアセテート／クロトネート／ビニルネオデカノエートコポリマー（Na
tinal Starch and Chemical Co.） ・１０７７ アルキル置換ノボラック樹脂（Schenectady Int., Schenectady, NY, USA）
・Ａ−２１ ９０：１０のトルエン／ブタノール中のポリエチルメタクリレートの３０％
溶液（Rohm & Haas） ・ＡＤＳ−８３０Ａ 赤外線吸収染料（λmax＝８３０ｎｍ）（American Dye Source, Montreal,
カナダ） ・コポリマー１ Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリルアミド、及びメタクリル酸のコポリマ
ー（４０：３５：２５モル％） ・エチルバイオレット Ｃ．Ｉ．４２６００；ＣＡＳ２３９０−５９−２（λmax＝５９６ｎｍ） ［（ｐ−（ＣＨ3ＣＨ2）2ＮＣ6Ｈ4）3Ｃ+Ｃｌ-］ ・ＨＲＳ０２ アルキル置換ノボラック樹脂 ・ＬＢ７４４ クレゾールノボラック樹脂（Bakelite, Iserlohn-Letmathe, ドイツ） ・ＰＭＰ２３４ ＡＰＫ−２３４，アクリロニトリル、及びメタクリルアミドのコポリマー（
４０：５０：１０重量％）。ＡＰＫ−２３４は、以下の構造を有する尿素置換モ
ノマーである： ［ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ2−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−ｐ−Ｃ6Ｈ4−
ＯＨ］ ・Ｐ−３０００ ピロガロール／−アセトン樹脂のナフトキノンジアジド（ＰＣＡＳ，フラン
ス） ・ＰＵコポリマー Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、アクリロニトリ
ル、及びメチルメタクリレート（３４／２４／４２モル％＝６０．５／９．３／
３０．２重量％）のコポリマー ・Scriptset 540 無水マレイン酸／−スチレンコポリマーのエチルハーフエステル（Monsanto
,St.Louis,MO） ・ＳＤ−１４０Ａ ノボラック樹脂（Borden Chemical,Columbus,OH,USA） ・トリアジンＢ ２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシ−１−ナフチル）
−１，３，５−トリアジン（ＰＣＡＳ，フランス）
tinal Starch and Chemical Co.） ・１０７７ アルキル置換ノボラック樹脂（Schenectady Int., Schenectady, NY, USA）
・Ａ−２１ ９０：１０のトルエン／ブタノール中のポリエチルメタクリレートの３０％
溶液（Rohm & Haas） ・ＡＤＳ−８３０Ａ 赤外線吸収染料（λmax＝８３０ｎｍ）（American Dye Source, Montreal,
カナダ） ・コポリマー１ Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリルアミド、及びメタクリル酸のコポリマ
ー（４０：３５：２５モル％） ・エチルバイオレット Ｃ．Ｉ．４２６００；ＣＡＳ２３９０−５９−２（λmax＝５９６ｎｍ） ［（ｐ−（ＣＨ3ＣＨ2）2ＮＣ6Ｈ4）3Ｃ+Ｃｌ-］ ・ＨＲＳ０２ アルキル置換ノボラック樹脂 ・ＬＢ７４４ クレゾールノボラック樹脂（Bakelite, Iserlohn-Letmathe, ドイツ） ・ＰＭＰ２３４ ＡＰＫ−２３４，アクリロニトリル、及びメタクリルアミドのコポリマー（
４０：５０：１０重量％）。ＡＰＫ−２３４は、以下の構造を有する尿素置換モ
ノマーである： ［ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ2−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−ｐ−Ｃ6Ｈ4−
ＯＨ］ ・Ｐ−３０００ ピロガロール／−アセトン樹脂のナフトキノンジアジド（ＰＣＡＳ，フラン
ス） ・ＰＵコポリマー Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、アクリロニトリ
ル、及びメチルメタクリレート（３４／２４／４２モル％＝６０．５／９．３／
３０．２重量％）のコポリマー ・Scriptset 540 無水マレイン酸／−スチレンコポリマーのエチルハーフエステル（Monsanto
,St.Louis,MO） ・ＳＤ−１４０Ａ ノボラック樹脂（Borden Chemical,Columbus,OH,USA） ・トリアジンＢ ２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシ−１−ナフチル）
−１，３，５−トリアジン（ＰＣＡＳ，フランス）
【００９４】
【化１】
【００９５】
［比較例１］
この例は、ＰＵコポリマーの下地層の溶媒耐性を示す。ＰＵコポリマー（５ｇ
）とＡＤＳ−８３０Ａ染料（０．９ｇ）を１００ｇのメタノール／−ジオキソラ
ン／メチルラクテート混合物（４３：４３：１４重量％）に溶解した。混合物は
、標準リソグラフ基材上にコーティング重量１．５ｇ／ｍ2でスピンコートした
。基材は、電気化学的に研磨し、陽極酸化し、ポリビニルリン酸でコーティング
したアルミニウムシートであった。
）とＡＤＳ−８３０Ａ染料（０．９ｇ）を１００ｇのメタノール／−ジオキソラ
ン／メチルラクテート混合物（４３：４３：１４重量％）に溶解した。混合物は
、標準リソグラフ基材上にコーティング重量１．５ｇ／ｍ2でスピンコートした
。基材は、電気化学的に研磨し、陽極酸化し、ポリビニルリン酸でコーティング
したアルミニウムシートであった。
【００９６】
下地層の溶媒耐性は、２つの異なる溶媒混合物中の浸漬ロスを測定した。浸漬
前と特定の時間の間、室温で浸漬及び乾燥後の１ｄｍ2版の重量変化を測定する
ことにより、浸漬を測定した。重量損失をコーティングの全重量で除することに
より浸漬ロスを算出した。
前と特定の時間の間、室温で浸漬及び乾燥後の１ｄｍ2版の重量変化を測定する
ことにより、浸漬を測定した。重量損失をコーティングの全重量で除することに
より浸漬ロスを算出した。
【００９７】
ＵＶ洗浄に対する耐性をテストするために調製された８０重量％ジアセトンア
ルコール／２０重量％水中のの１分間の浸漬ロスは約１００％であった。アルコ
ール塩基性湿し水に対する耐性をテストするために調製された８０重量％２−ブ
トキシエタノール／２０重量％水中のの１分間の浸漬ロスは約０％であった。こ
のことは、層が、湿し水に耐性であるが、ＵＶ洗浄に耐性でないことを示唆して
いる。
ルコール／２０重量％水中のの１分間の浸漬ロスは約１００％であった。アルコ
ール塩基性湿し水に対する耐性をテストするために調製された８０重量％２−ブ
トキシエタノール／２０重量％水中のの１分間の浸漬ロスは約０％であった。こ
のことは、層が、湿し水に耐性であるが、ＵＶ洗浄に耐性でないことを示唆して
いる。
【００９８】
トップ層用のコーティング溶液は、１２．４７ｇのＡ−２１を１９０ｇのトル
エンに溶解することにより、調製した。ＰＭＰ−１１００ポリ（テトラフルオロ
エチレン）粒子（０．２２ｇ）（DuPont,Wilmington,DE）を、５分間の高剪断混
合を用いて、溶液に分散した。コーティングを、下地層の上に、コーティング重
量０．５ｇ／ｍ2でコーティングして、熱で画像形成可能なエレメントを作製し
た。
エンに溶解することにより、調製した。ＰＭＰ−１１００ポリ（テトラフルオロ
エチレン）粒子（０．２２ｇ）（DuPont,Wilmington,DE）を、５分間の高剪断混
合を用いて、溶液に分散した。コーティングを、下地層の上に、コーティング重
量０．５ｇ／ｍ2でコーティングして、熱で画像形成可能なエレメントを作製し
た。
【００９９】
熱画像形成可能なエレメントを、Creo Trendsetter（８３０ｎｍを放射するレ
ーザーダイオードアレイを有する熱露光装置）上で、８．５Ｗの出力と１１６．
３ｒｐｍのドラム速度で、（１６０ｍＪ／ｃｍ2の露光に対応する）画像状に露
光した。画像形成エレメントは、Ｔ−１５３現像液（Kodak Polychrome Graphic
s）で現像し、露光領域を除いた。画像の耐薬品性を調べるために、画像形成済
みエレメントを８０：２０重量％ジアセトンアルコール／水の混合物で拭いた。
画像は本質的に拭き除かれた。
ーザーダイオードアレイを有する熱露光装置）上で、８．５Ｗの出力と１１６．
３ｒｐｍのドラム速度で、（１６０ｍＪ／ｃｍ2の露光に対応する）画像状に露
光した。画像形成エレメントは、Ｔ−１５３現像液（Kodak Polychrome Graphic
s）で現像し、露光領域を除いた。画像の耐薬品性を調べるために、画像形成済
みエレメントを８０：２０重量％ジアセトンアルコール／水の混合物で拭いた。
画像は本質的に拭き除かれた。
【０１００】
［比較例２］
この例は、ＰＭＰ−２３４の下地層の溶媒耐性を示す。比較例１の方法に従っ
て、ジアセトンアルコール／水中の１分間の浸漬ロスは１００％であった。２−
ブトキシエタノール／水中の１分間の浸漬ロスは０％であった。このことは、層
が湿し水に耐性であるが、ＵＶ洗浄に耐性でないことを示唆している。
て、ジアセトンアルコール／水中の１分間の浸漬ロスは１００％であった。２−
ブトキシエタノール／水中の１分間の浸漬ロスは０％であった。このことは、層
が湿し水に耐性であるが、ＵＶ洗浄に耐性でないことを示唆している。
【０１０１】
画像形成済みエレメントを比較例１に記載したように調製した。画像の耐薬品
性を調べるために、画像形成済みエレメントをジアセトンアルコール／水の混合
物で拭いた。画像は本質的に拭き除かれた。
性を調べるために、画像形成済みエレメントをジアセトンアルコール／水の混合
物で拭いた。画像は本質的に拭き除かれた。
【０１０２】
［比較例３］
この例は、コポリマー１の下地層の溶媒耐性を示す。比較例１の方法に従って
、 ジアセトンアルコール／水中の１分間の浸漬ロスは０％であった。２−ブトキシ
エタノール／水中の１分間の浸漬ロスは１００％であった。このことは、層がＵ
Ｖ洗浄に耐性であるが、湿し水に耐性でないことを示唆している。
、 ジアセトンアルコール／水中の１分間の浸漬ロスは０％であった。２−ブトキシ
エタノール／水中の１分間の浸漬ロスは１００％であった。このことは、層がＵ
Ｖ洗浄に耐性であるが、湿し水に耐性でないことを示唆している。
【０１０３】
画像形成済みエレメントを比較例１に記載したように調製した。画像の耐薬品
性を調べるために、画像形成済みエレメントをジアセトンアルコール／水の混合
物で拭いた。画像は本質的に拭き除かれた。
性を調べるために、画像形成済みエレメントをジアセトンアルコール／水の混合
物で拭いた。画像は本質的に拭き除かれた。
【０１０４】
［実施例１］
この例は、コポリマー１とＰＵコポリマーの７５：２５重量比の混合物を含む
下地層の溶媒耐性を示す。比較例１の方法に従い、３．７５ｇのコポリマー１、
１．２５ｇのＰＵコポリマー、０．９ｇのＡＤＳ−８３０Ａを１００ｇのメタノ
ール／ジオキソラン／メチルラクテート混合物（４３：４３：１４重量％）に溶
解した。混合物は、標準リソグラフ基材上にコーティング重量１．５ｇ／ｍ2で
スピンコートした。
下地層の溶媒耐性を示す。比較例１の方法に従い、３．７５ｇのコポリマー１、
１．２５ｇのＰＵコポリマー、０．９ｇのＡＤＳ−８３０Ａを１００ｇのメタノ
ール／ジオキソラン／メチルラクテート混合物（４３：４３：１４重量％）に溶
解した。混合物は、標準リソグラフ基材上にコーティング重量１．５ｇ／ｍ2で
スピンコートした。
【０１０５】
比較例１の方法に従って、ジアセトンアルコール／水中の１分間の浸漬ロスは
３２％であった。２−ブトキシエタノール／水中の１分間の浸漬ロスは１％であ
った。耐薬品性パラメーターは０．６７であった。
３２％であった。２−ブトキシエタノール／水中の１分間の浸漬ロスは１％であ
った。耐薬品性パラメーターは０．６７であった。
【０１０６】
画像形成済みエレメントを現像液９５６（Kodak Polychrome Graphics）で現
像した以外は、画像形成済みエレメントを比較例１に記載したように調製した。
画像形成済みエレメントをジアセトンアルコール／水の混合物で拭いた。画像は
本質的にそのままであった。画像形成エレメントを２−ブトキシエタノール／水
の混合物で拭いた。画像は本質的にそのままであった。
像した以外は、画像形成済みエレメントを比較例１に記載したように調製した。
画像形成済みエレメントをジアセトンアルコール／水の混合物で拭いた。画像は
本質的にそのままであった。画像形成エレメントを２−ブトキシエタノール／水
の混合物で拭いた。画像は本質的にそのままであった。
【０１０７】
［実施例２］
この例は、コポリマー１とＰＭＰ−２３４の８０：２０重量比の混合物を含む
下地層の溶媒耐性を示す。比較例１の方法に従い、４．０ｇのコポリマー１、１
．０ｇのＰＮＰ−２３４、０．９ｇのＡＤＳ−８３０Ａを１００ｇのメタノール
／ジオキソラン／メチルラクテート／ジメチルホルムアミド混合物（４３：４３
：７：７重量％）に溶解した。混合物は、標準リソグラフ基材上にコーティング
重量１．５ｇ／ｍ2でスピンコートした。
下地層の溶媒耐性を示す。比較例１の方法に従い、４．０ｇのコポリマー１、１
．０ｇのＰＮＰ−２３４、０．９ｇのＡＤＳ−８３０Ａを１００ｇのメタノール
／ジオキソラン／メチルラクテート／ジメチルホルムアミド混合物（４３：４３
：７：７重量％）に溶解した。混合物は、標準リソグラフ基材上にコーティング
重量１．５ｇ／ｍ2でスピンコートした。
【０１０８】
比較例１の方法に従って、ジアセトンアルコール／水中の１分間の浸漬ロスは
３２％であった。２−ブトキシエタノール／水中の１分間の浸漬ロスは１％であ
った。耐薬品性パラメーターは０．６７であった。
３２％であった。２−ブトキシエタノール／水中の１分間の浸漬ロスは１％であ
った。耐薬品性パラメーターは０．６７であった。
【０１０９】
画像形成済みエレメントを実施例１に記載したように調製した。画像形成済み
エレメントをジアセトンアルコール／水の混合物で拭いた。画像は本質的にその
ままであった。画像形成済みエレメントを２−ブトキシエタノール／水の混合物
で拭いた。画像は本質的にそのままであった。
エレメントをジアセトンアルコール／水の混合物で拭いた。画像は本質的にその
ままであった。画像形成済みエレメントを２−ブトキシエタノール／水の混合物
で拭いた。画像は本質的にそのままであった。
【０１１０】
［実施例３］
この実施例は、溶解抑制成分を含むトップ層を有する熱画像形成可能なエレメ
ントを示す。Ｐ−３０００（４．４２ｇ）、ＨＲＳ０２（０．８８５ｇ）、ＳＤ
−１４０Ａ（８．８５ｇ）、エチルバイオレット（０．０１７ｇ）、及びトリア
ジンＢ（０．１３ｇ）を、トルエン（１３０ｇ）及び２−メトキシプロパノール
（５６ｇ）の混合物中に溶解した。混合物は、実施例１で作製されたコーティン
グされた基材の下地層上に８０ｒｐｍの速度で、コーティング重量１．６ｇ／ｍ 2 でスピンコートし、熱画像形成可能なエレメントを作製した。
ントを示す。Ｐ−３０００（４．４２ｇ）、ＨＲＳ０２（０．８８５ｇ）、ＳＤ
−１４０Ａ（８．８５ｇ）、エチルバイオレット（０．０１７ｇ）、及びトリア
ジンＢ（０．１３ｇ）を、トルエン（１３０ｇ）及び２−メトキシプロパノール
（５６ｇ）の混合物中に溶解した。混合物は、実施例１で作製されたコーティン
グされた基材の下地層上に８０ｒｐｍの速度で、コーティング重量１．６ｇ／ｍ 2 でスピンコートし、熱画像形成可能なエレメントを作製した。
【０１１１】
熱画像形成可能なエレメントは、Creo Trendsetter（８３０ｎｍを放射するレ
ーザーダイオードアレイを有する熱露光装置）上で、８．５Ｗの出力と１２０ｒ
ｐｍのドラム速度で、画像状に露光した。
ーザーダイオードアレイを有する熱露光装置）上で、８．５Ｗの出力と１２０ｒ
ｐｍのドラム速度で、画像状に露光した。
【０１１２】
画像形成済みエレメントは、現像液９５６、ネガの現像液、で浸漬したソフト
パッドで拭くことにより、現像した。トップ層と下地層の両方が、熱露光領域で
除去された。非露光領域はそのまま残った。画像形成済みエレメントは、インチ
当たり２００ラインペアのスクリーン線数、２乃至９８％のドット解像度で優れ
た解像度を示した。
パッドで拭くことにより、現像した。トップ層と下地層の両方が、熱露光領域で
除去された。非露光領域はそのまま残った。画像形成済みエレメントは、インチ
当たり２００ラインペアのスクリーン線数、２乃至９８％のドット解像度で優れ
た解像度を示した。
【０１１３】
画像形成エレメントも、１：８の希釈度（ポジ現像液、Kodak Polychrome Gra
phics Japan）で現像液ＰＤ１で現像した。画像形成エレメントは優れた解像度
を示した。
phics Japan）で現像液ＰＤ１で現像した。画像形成エレメントは優れた解像度
を示した。
【０１１４】
［実施例４−１１］
一連の熱画像形成可能なエレメントを異なるトップ層で調製した。各ケースで
、表１に示されるポリマー物質（１．３１．ｇ）、Ｐ−３０００（０．６６ｇ）
、エチルバイオレット（０．００５ｇ）、及びトリアジンＢ（０．０１６２ｇ）
を、２−メトキシプロパノール（６７ｇ）、トルエン（１４．７ｇ）、及び２−
ブタノン（１４．７ｇ）の混合物に溶解した。
、表１に示されるポリマー物質（１．３１．ｇ）、Ｐ−３０００（０．６６ｇ）
、エチルバイオレット（０．００５ｇ）、及びトリアジンＢ（０．０１６２ｇ）
を、２−メトキシプロパノール（６７ｇ）、トルエン（１４．７ｇ）、及び２−
ブタノン（１４．７ｇ）の混合物に溶解した。
【０１１５】
【表１】
【０１１６】
得られた混合物は、各々、８０ｒｐｍの速度で、実施例１で作製されたコーテ
ィングされた基材の下地層上にスピンコートした。得られた熱画像形成可能なエ
レメントは、実施例３に記載したように、各々露光し、現像液９５６で現像化さ
れた。画像形成されたエレメントの各々は良好な画像を作った。
ィングされた基材の下地層上にスピンコートした。得られた熱画像形成可能なエ
レメントは、実施例３に記載したように、各々露光し、現像液９５６で現像化さ
れた。画像形成されたエレメントの各々は良好な画像を作った。
【０１１７】
［実施例１２］
この実施例は、トップ層が溶解抑制成分を含むエレメントを示す。ＬＢ７４４
（４．８５ｇ）とエチルバイオレット（０．１５ｇ）を、２０ｇの２−メトキシ
プロパノールと４０ｇのトルエンの混合物に溶解した。混合物を、実施例１で作
製された、コーティングされた基材の下地層の上に８０ｒｐｍの速度で、コーテ
ィング重量１．２ｇ／ｍ2でスピンコートし、熱画像可能なエレメントを作製し
た。実施例３に記載したように、得られた熱画像形成可能なエレメントを露光し
、９５６現像液で現像した。良好な画像が得られた。
（４．８５ｇ）とエチルバイオレット（０．１５ｇ）を、２０ｇの２−メトキシ
プロパノールと４０ｇのトルエンの混合物に溶解した。混合物を、実施例１で作
製された、コーティングされた基材の下地層の上に８０ｒｐｍの速度で、コーテ
ィング重量１．２ｇ／ｍ2でスピンコートし、熱画像可能なエレメントを作製し
た。実施例３に記載したように、得られた熱画像形成可能なエレメントを露光し
、９５６現像液で現像した。良好な画像が得られた。
【０１１８】
［実施例１３］
この実施例は、コポリマー１の調製を記載している。メチルグリコール（１Ｌ
）を、スターラー、温度計、窒素入り口、及び還流濃縮器を備えた丸底フラスコ
に入れた。メタクリル酸（５５．７４ｇ）、Ｎ−フェニルマレイミド（１８１．
４８ｇ）、及びメタクリルアミド（７７．１３ｇ）を添加し、攪拌しながら溶解
した。２，２−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（０．４２５ｇ）を添
加し、反応混合物を６０℃に加熱し、約２４時間攪拌した。ついで約５Ｌのメタ
ノールを添加し、沈澱したコポリマーをろ過し、メタノールで２回洗浄し、オー
ブンで、４０℃２日間乾燥した。
）を、スターラー、温度計、窒素入り口、及び還流濃縮器を備えた丸底フラスコ
に入れた。メタクリル酸（５５．７４ｇ）、Ｎ−フェニルマレイミド（１８１．
４８ｇ）、及びメタクリルアミド（７７．１３ｇ）を添加し、攪拌しながら溶解
した。２，２−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（０．４２５ｇ）を添
加し、反応混合物を６０℃に加熱し、約２４時間攪拌した。ついで約５Ｌのメタ
ノールを添加し、沈澱したコポリマーをろ過し、メタノールで２回洗浄し、オー
ブンで、４０℃２日間乾燥した。
【０１１９】
このタイプの他の物質を、この一般的な方法にしたがって調製することができ
る。例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリルアミド、及びメタクリル酸（
４５：３５：２０モル％）のコポリマーを、メチルグリコール（８００ｍＬ）中
、メタクリル酸（３６．１２ｇ）Ｎ−フェニルマレイミド（１６５．４ｇ）、メ
タクリアミド（６２．５ｇ）、及びＡＩＢＮ（３．４ｇ）の反応により調製する
ことができる。
る。例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリルアミド、及びメタクリル酸（
４５：３５：２０モル％）のコポリマーを、メチルグリコール（８００ｍＬ）中
、メタクリル酸（３６．１２ｇ）Ｎ−フェニルマレイミド（１６５．４ｇ）、メ
タクリアミド（６２．５ｇ）、及びＡＩＢＮ（３．４ｇ）の反応により調製する
ことができる。
【０１２０】
もし重合が１，３−ジオキソラン中で行なわれるなら、再沈澱を防止すること
ができる場合がある。モノマーは１，３−ジオキソランに溶解性であるが、ポリ
マー物質は不溶性で、反応の間に沈澱する。
ができる場合がある。モノマーは１，３−ジオキソランに溶解性であるが、ポリ
マー物質は不溶性で、反応の間に沈澱する。
【０１２１】
本発明の以上の説明に基づき、特許請求の範囲とその均等物をクレームする。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ジャンビン・ファン
アメリカ合衆国・ニュージャージー・
07075・ウッドリッジ・ジェイ・ストリー
ト・201
(72)発明者 ニシス・マーカント
アメリカ合衆国・ニュージャージー・
07047・ノース・バーゴン・ナインスィ−
ファースト・ストリート・1514
(72)発明者 マティアス・ヤレク
ドイツ・37154・ノートハイム・ノイシュ
タート・57
Ｆターム(参考） 2H025 AA06 AB03 AC01 AC08 AD03
BE01 BJ01 CB29 CC11 CC20
DA40 FA17 FA29 FA30
2H096 AA06 BA10 CA05 EA02 EA04
GA08 HA01
Claims (32)
- 【請求項１】 ａ）親水性表面を含む基材； ｂ）親水性表面上の下地層；及び ｃ）下地層上のトップ層 を含む画像形成可能なエレメントであって、 前記トップ層はインキ受容性であり、 前記下地層は水性アルカリ現像液に溶解性であり、 前記下地層は少なくとも第１のポリマー物質と第２のポリマー物質との組み合わ
せを含み、 前記トップ層は第３のポリマー物質を含み、かつ 前記下地層の耐薬品性パラメーターが約０．４を超える画像形成可能なエレメン
ト。 - 【請求項２】 前記下地層が、第１のポリマー物質と第２のポリマー物質を
含み、下地層中の第１のポリマー物質と第２のポリマー物質の合計重量に対して
、第１のポリマー物質は約１０重量％から約９０重量％、第２のポリマー物質は
約１０重量％から約９０重量％であり、 ８０重量％ジアセトンアルコール/２０重量％水における、前記第１のポリマ
ー物質の１分間浸漬ロスが、２０％未満であり ８０重量％２−ブトキシエタノール/２０重量％水における、前記第２のポリ
マー物質の１分間浸漬ロスが、２０％未満である、請求項１記載のエレメント。 - 【請求項３】 前記下地層の耐薬品性パラメーターが、約０．５を超える、
請求項１又は２記載のエレメント。 - 【請求項４】 ８０重量％ジアセトンアルコール/２０重量％水における、
前記第１のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、１０％未満であり、 ８０重量％２−ブトキシエタノール/２０重量％水における、前記第２のポリ
マー物質の１分間浸漬ロスが、１０％未満である、請求項１乃至３のいずれか１
項記載のエレメント。 - 【請求項５】 前記下地層の耐薬品性パラメーターが、約０．６を超える、
請求項１乃至４のいずれか１項記載のエレメント。 - 【請求項６】 ８０重量％ジアセトンアルコール/２０重量％水における、
前記第１のポリマー物質の１分間浸漬ロスが、５％未満であり、 ８０重量％２−ブトキシエタノール/２０重量％水における、前記第２のポリ
マー物質の１分間浸漬ロスが、５％未満である、請求項１乃至５のいずれか１項
記載のエレメント。 - 【請求項７】 前記エレメントが、約８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲の
放射を吸収する請求項１乃至６のいずれか１項記載のエレメント。 - 【請求項８】 前記下地層がさらに、約８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲
の放射を吸収する吸収剤を、約１重量％乃至約３０重量％含む、請求項７記載の
エレメント。 - 【請求項９】 前記第３のポリマー物質が、フェノール性のヒドロキシル基
を含み、トップ層が少なくとも一の溶解抑制成分を含む請求項１乃至８のいずれ
か１項記載のエレメント。 - 【請求項１０】 前記第３のポリマー物質が、ノボラック樹脂である請求項
９記載のエレメント。 - 【請求項１１】 前記トップ層が、ｏ−ジアゾナフトキノン部分を含む化合
物を含む請求項１乃至１０記載のエレメント。 - 【請求項１２】 前記下地層がさらに、ノボラック樹脂を含み、前記下地層
中の第１のポリマー物質、第２のポリマー物質、及びノボラック樹脂の合計重量
に対して、ノボラック樹脂が約１乃至約２０重量％である、請求項１乃至１１記
載のエレメント。 - 【請求項１３】 第１のポリマー物質が、カルボン酸、Ｎ−置換環状イミド
、及びアミドらなる群より選択される少なくとも一の官能基を含み、 第２のポリマー物質が、ニトリル及びスルホンアミドからなる群より選択される
少なくとも一の官能基を含む、請求項１乃至１２記載のエレメント。 - 【請求項１４】 第１のポリマー物質が、Ｎ−置換マレイミド、メタクリル
アミド、及びメタクリル酸を含む、コポリマーであり、 第２のポリマー物質が、（１）ペンダント尿素基を含むコポリマー、（２）ペン
ダントスルホンアミド基を含むコポリマー、又は（３）又はそれらの組み合わせ
のいずれかである、請求項１乃至１３のエレメント。 - 【請求項１５】 第１のポリマー物質が、約２５乃至約７５モル％のＮ−フ
ェニルマレイミド；約１０乃至約５０モル％のメタクリルアミド；及び約５乃至
約３０モル％のメタクリル酸を含む請求項１４記載のエレメント。 - 【請求項１６】 第１のポリマー物質が、約３５乃至約６０モル％のＮ−フ
ェニルマレイミド；約１５乃至約４０モル％のメタクリルアミド；及び約１０乃
至約３０モル％のメタクリル酸を含む請求項１４記載のエレメント。 - 【請求項１７】 第２のポリマー物質が、下式： ［ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯ2−Ｘ−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−Ｚ］ （式中、Ｒは−Ｈ又は−ＣＨ3；Ｘは二価の連結基；Ｙは置換又は非置換の二価
の芳香族基；及びＺは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2である） で表される１以上のモノマーを約２０乃至８０重量％含む請求項１乃至１６記載
のエレメント。 - 【請求項１８】 ＲがＣＨ3；Ｘが−（ＣＨ2ＣＨ2）−；Ｙが非置換の１，
４−フェニレン：及びＺが−ＯＨである、請求項１７記載のエレメント。 - 【請求項１９】 第２のポリマー物質が約１０乃至９０モル％のスルホンア
ミドモノマー単位；アクリロニトリル又はメタクリロニトリル；及びメチルメタ
クリレート又はメチルアクリレートを含む、請求項１乃至１６記載のエレメント
。 - 【請求項２０】 下地層の耐薬品性パラメーターが少なくとも約０．６５で
ある請求項１乃至１９記載のエレメント。 - 【請求項２１】 （１）請求項１乃至１９のいずれか１項記載の画像形成可
能なエレメントを画像形成して、画像形成されたエレメントを形成する工程であ
って、該画像形成可能なエレメントは、 ａ）親水性表面を含む基材； ｂ）親水性表面上の下地層；及び ｃ）下地層上のトップ層 を含む画像形成可能なエレメントであって、 前記トップ層はインキ受容性であり、 前記下地層は水性アルカリ現像液に溶解性であり、 前記下地層は少なくとも第１のポリマー物質と第２のポリマー物質との組み合わ
せを含み、 前記トップ層は第３のポリマー物質を含み、かつ 前記下地層の耐薬品性パラメーターが約０．４を超えるものである工程；及び （２） 画像形成されたエレメントを、水性アルカリ現像液で現像して、画像形
成及び現像済みエレメントを形成し、画像形成及び現像済みエレメントは画像を
含むものである工程； を含む、画像形成方法。 - 【請求項２２】 工程（２）の後に、さらに （３）画像形成及び現像済みエレメントを焼き付ける工程 を含む請求項２１記載の方法。
- 【請求項２３】 紫外線又は可視光放射でエレメントを露光して画像形成を
行なう、請求項２１又は２２記載の方法。 - 【請求項２４】 サーマルヘッドで画像形成を行なう、請求項２１又は２２
記載の方法。 - 【請求項２５】 請求項２１乃至２４のいずれか１項記載の方法で調製され
た、リソグラフ印刷部材として有用な画像形成及び現像済みエレメント。 - 【請求項２６】 第１のポリマー物質と第２のポリマー物質の組み合わせを
少なくとも５０重量％含む組成物であって、前記組み合わせは、組成物中の第１
のポリマー物質と第２のポリマー物質の合計重量に対して、約１０重量％乃至約
９０重量％の第１のポリマー物質と、約１０重量％乃至約９０重量％の第２のポ
リマー物質の組み合わせを含むものであり、 第１のポリマー物質が、約２５乃至約７５モル％のＮ−フェニルマレイミド；
約１０乃至約５０モル％のメタクリルアミド；及び約５乃至約３０モル％のメタ
クリル酸を含み；及び 第２のポリマー物質が（１）下式： ［ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯ2−Ｘ−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ−Ｚ］ （式中、Ｒは−Ｈ又は−ＣＨ3；Ｘは二価の連結基；Ｙは置換又は非置換の二価
の芳香族基；及びＺは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、又は−ＳＯ2ＮＨ2である） で表される１以上のモノマーを約２０乃至８０重量％、 又は（２）約１０乃至９０モル％のスルホンアミドモノマー単位；アクリロニト
リル又はメタクリロニトリル；及びメチルメタクリレート又はメチルアクリレー
トのいずれかを含むものである、 組成物。 - 【請求項２７】 第１のポリマー物質が、約３５乃至約６０モル％のＮ−フ
ェニルマレイミド；約１５乃至約４０モル％のメタクリルアミド；及び約１０乃
至約３０モル％のメタクリル酸を含む請求項２６記載の組成物。 - 【請求項２８】 前記組成物が、（１）一般式： ［ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ2−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−ｐ−Ｃ6Ｈ4−
ＯＨ］ で表される１以上のモノマーを約２０乃至８０重量％含むもの、 又は （２）Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド；アクリロニト
リル；及び（３）メチルメタクリレートを含むもの のいずれかである請求項２７記載の組成物。 - 【請求項２９】 組成物がさらに約１ないし約２０重量％のノボラック樹脂
を含む請求項２６乃至２８記載の組成物。 - 【請求項３０】 組み合わせが少なくも約６０重量％の組み合わせを含む請
求項２６乃至２９記載の組成物。 - 【請求項３１】 組み合わせが少なくも約６５重量％の組み合わせを含む請
求項２６乃至２９記載の組成物。 - 【請求項３２】 組成物がさらに、約８００ｎｍ乃至１２００ｎｍの範囲の
放射を吸収する吸収剤を、約１重量％乃至約３０重量％含む、請求項２６乃至３
１記載の組成物。
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